JP3481433B2 - ウエハ洗浄装置 - Google Patents
ウエハ洗浄装置Info
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Description
関するものである。
は、以下に示すようなものがあった。
成図、図8はそのウエハ洗浄槽へのウエハのセット前の
状態を示す斜視図、図9はそのウエハ洗浄槽内にセット
されるウエハ保持治具の斜視図、図10はそのウエハ洗
浄槽へのウエハのセット状態を示す斜視図である。
ハ、102は洗浄槽、103はポンプ、104はフィル
タ、105は配管、106は洗浄液である。
102にウエハ101を浸漬し洗浄を行う構成であっ
た。
図8及び図9に示すように、ウエハ201はロボット2
04のアーム205に把持されて、洗浄槽202内に配
置されるウエハ保持治具203に位置決めされた後、図
10に示すように、ウエハ201は、そのウエハ保持治
具203にセットされる。
た従来のウエハ洗浄装置では、ウエハの大口径化に伴
い、膨大な排気、薬品、純水、排水が必要であり、ま
た、供給される電力の消費も大きくなり、工場の設備も
大きくなる。
洗浄を行う場合には、ウエハの表裏に超音波を照射でき
ない等の問題点があった。
素化するとともに、省エネルギー化を図ることができる
ウエハ洗浄装置を提供することを目的とする。
成するために、 〔1〕ウエハ洗浄装置において、洗浄されるウエハの厚
さ及び口径より大きい間隙を有し、前記間隙に前記ウエ
ハが配置される洗浄セルと、前記間隙の断面積よりも大
きい断面積を有し、洗浄液を前記間隙に導入する配管と
を備え、前記洗浄液が排出される前記洗浄セルの排出側
には、前記間隙に導入される前記洗浄液にかかる圧力を
高めるためのバルブが設けられているようにしたもので
ある。
浄セルとウエハの間隙及び配管中にある微小な洗浄液で
洗浄を行うことができ、純水、薬品、電気(ヒータ用)
排液、排気等を極小化することができ、工場のファシリ
ティを小さくすることができる。
の圧力が上昇することにより、洗浄液の反応を向上さ
せ、洗浄力を向上させることができる。
おいて、前記洗浄セルには、前記ウエハを保持する保持
部が設けられているようにしたものである。
ハ洗浄装置において、前記洗浄セルの上下面に超音波発
振用振動子を有するようにしたものである。
ウエハの表裏に垂直に超音波が当たるため、微粒子の除
去効率を向上させることができる。
記載のウエハ洗浄装置において、前記洗浄セルは、前記
ウエハが配置される洗浄セル本体と、前記ウエハを覆う
蓋体とを有するようにしたものである。
て図面を参照しながら詳細に説明する。
浄装置の要部斜視図、図2はそのウエハ洗浄装置の蓋体
を外した内部を示す斜視図、図3はそのウエハ洗浄装置
の模式断面図、図4はそのウエハ洗浄システムの概略構
成図である。
エハ洗浄装置は、洗浄液3が通る配管2とウエハ1をセ
ットする洗浄セル6から構成されており、この洗浄セル
6は厚みが極めて薄く構成されている。つまり、ウエハ
1の厚さ及び口径より大きい間隙を持つ洗浄セル6にウ
エハ1(枚葉式)をセットする。そこで、配管2は洗浄
セル6の断面積より大きい断面積を有するので、洗浄セ
ル6内には洗浄液3を配管2の圧力より高い圧力を付与
して供給し、ウエハ1に対して圧力がかかるように供給
する。
1が大口径化しても、洗浄セル6とウエハ1の間隙及び
配管2中にある微小な洗浄液3で洗浄を行うことができ
るので、従来の問題点であった、純水、薬品、電気(ヒ
ータ用)排液、排気等を極小化することができ、工場の
設備を小型化することができる。
ように、洗浄セル6内にウエハ保持部10が配置されて
おり、そのウエハ保持部10にウエハ1が保持されてセ
ットされ、それに蓋体7を被せる。8はその蓋体7の取
っ手、9はウエハ保持部10の頭部10Aに嵌まる開口
である。
外されて、そのウエハ1はロボットのアーム(図示な
し)で把持されて、または吸着アームにより吸着され
て、次の工程に搬送される。なお、ここでは、洗浄のみ
の工程について述べたが、洗浄後に引続き、乾燥を行う
ようにしてもよい。
について図1〜図4を参照しながら説明する。
は、フィルタ5を介して配管2から厚みの薄い断面積の
小さい洗浄セル6中のウエハ1に圧力がかかるようにし
て流れる。そこでは、配管2中にある微小な洗浄液3で
効率的にウエハ1の洗浄を行うことができる。
ンプ4に戻されて、送り出され、フィルタ5で清浄化さ
れて、洗浄セル6におけるウエハ1の洗浄を行う。
あるが、洗浄セル6において洗浄を行った洗浄液3は、
排液とするようにしてもよい。
る。
浄装置の模式構成図である。なお、第1実施例と同じ部
分には同じ符号を付してその説明は省略する。
エハ洗浄装置において、洗浄セル6の洗浄液3出口側に
バルブ11を設け、洗浄液3の流れを停止させ、洗浄セ
ル6内に更に圧力を印加するようにしたものである。
1をセットし、所望の洗浄液3で洗浄セル6内が満たさ
れたら、バルブ11により、洗浄液3の流れを停止させ
る。洗浄液3の流れを停止することにより、洗浄セル6
内の圧力が上昇する。
ル6内の圧力が上昇することにより、H2SO4とH2
O2、NH4OHとH2O2、HClとH2O2等の洗
浄液の反応を向上させ、洗浄力を向上させることができ
る。
る。
浄装置の模式構成図である。なお、第1実施例と同じ部
分には同じ符号を付してその説明は省略する。
のウエハ洗浄装置において、ウエハ1の表側及び裏側に
超音波発振用振動子21を配置するようにしたものであ
る。
1をセットし、洗浄液3を供給することにより、ウエハ
1を洗浄する。その洗浄の際に、超音波発振用振動子2
1をウエハの表裏側に配置して、これを駆動して超音波
振動により洗浄力を高める。
の表裏側に垂直に超音波が当たるため、微粒子の除去効
率を更に向上させることができる。
した例を説明したが、液体及び気体のレーザー微粒子測
定装置の測定セルに、本洗浄セルの構造を用いれば、同
じサンプリング量で微粒子の測定確率が向上する。
のではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能
であり、これらを本発明の範囲から排除するものではな
い。
よれば、以下のような効果を奏することができる。
ハが大口径化しても、洗浄セルとウエハの間隙及び配管
中にある微小な洗浄液で洗浄を行うことができ、純水、
薬品、電気(ヒータ用)排液、排気等を極小化すること
ができ、工場の設備の小型化を図ることができる。
より、洗浄液の反応を向上させ、洗浄力を向上させるこ
とができる。
(1)の効果に加えて、ウエハの表裏に垂直に超音波が
当たるため、微粒子の除去効率を向上させることができ
る。
部斜視図である。
示す斜視図である。
式断面図である。
の概略構成図である。
式構成図である。
式構成図である。
る。
態を示す斜視図である。
持治具の斜視図である。
を示す斜視図である。
Claims (4)
- 【請求項1】 洗浄されるウエハの厚さ及び口径より大
きい間隙を有し、前記間隙に前記ウエハが配置される洗
浄セルと、前記間隙の断面積よりも大きい断面積を有
し、洗浄液を前記間隙に導入する配管とを備え、前記洗
浄液が排出される前記洗浄セルの排出側には、前記間隙
に導入される前記洗浄液にかかる圧力を高めるためのバ
ルブが設けられていることを特徴とするウエハ洗浄装
置。 - 【請求項2】 請求項1記載のウエハ洗浄装置におい
て、前記洗浄セルには、前記ウエハを保持する保持部が
設けられていることを特徴とするウエハ洗浄装置。 - 【請求項3】 請求項1又は2に記載のウエハ洗浄装置
において、前記洗浄セルの上下面に超音波発振用振動子
を有することを特徴とするウエハ洗浄装置。 - 【請求項4】 請求項1〜3のいずれか1項記載のウエ
ハ洗浄装置において、前記洗浄セルは、前記ウエハが配
置される洗浄セル本体と、前記ウエハを覆う蓋体とを有
することを特徴とするウエハ洗浄装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28030897A JP3481433B2 (ja) | 1997-10-14 | 1997-10-14 | ウエハ洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP28030897A JP3481433B2 (ja) | 1997-10-14 | 1997-10-14 | ウエハ洗浄装置 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002358288A Division JP3648226B2 (ja) | 2002-12-10 | 2002-12-10 | ウエハの洗浄方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH11121415A JPH11121415A (ja) | 1999-04-30 |
JP3481433B2 true JP3481433B2 (ja) | 2003-12-22 |
Family
ID=17623191
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP28030897A Expired - Fee Related JP3481433B2 (ja) | 1997-10-14 | 1997-10-14 | ウエハ洗浄装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3481433B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8206548B2 (en) | 2007-03-29 | 2012-06-26 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002224627A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-13 | Tokyo Electron Ltd | 基板の洗浄方法および装置 |
JP2007136248A (ja) * | 2004-12-10 | 2007-06-07 | Arakawa Chem Ind Co Ltd | 薄板状部品洗浄用治具、洗浄装置および洗浄方法 |
-
1997
- 1997-10-14 JP JP28030897A patent/JP3481433B2/ja not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US8206548B2 (en) | 2007-03-29 | 2012-06-26 | Dainippon Screen Mfg. Co., Ltd. | Substrate processing apparatus and substrate processing method |
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JPH11121415A (ja) | 1999-04-30 |
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