JPH0260219B2 - - Google Patents
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- JPH0260219B2 JPH0260219B2 JP61044118A JP4411886A JPH0260219B2 JP H0260219 B2 JPH0260219 B2 JP H0260219B2 JP 61044118 A JP61044118 A JP 61044118A JP 4411886 A JP4411886 A JP 4411886A JP H0260219 B2 JPH0260219 B2 JP H0260219B2
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- JP
- Japan
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- gallium arsenide
- arsenide layer
- gate
- gaas
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- Expired
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-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10D—INORGANIC ELECTRIC SEMICONDUCTOR DEVICES
- H10D30/00—Field-effect transistors [FET]
- H10D30/01—Manufacture or treatment
- H10D30/015—Manufacture or treatment of FETs having heterojunction interface channels or heterojunction gate electrodes, e.g. HEMT
Landscapes
- Junction Field-Effect Transistors (AREA)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61044118A JPS62202564A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP61044118A JPS62202564A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS62202564A JPS62202564A (ja) | 1987-09-07 |
JPH0260219B2 true JPH0260219B2 (enrdf_load_stackoverflow) | 1990-12-14 |
Family
ID=12682688
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP61044118A Granted JPS62202564A (ja) | 1986-03-03 | 1986-03-03 | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS62202564A (enrdf_load_stackoverflow) |
Families Citing this family (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2615714B2 (ja) * | 1987-12-09 | 1997-06-04 | 富士通株式会社 | ヘテロ接合電界効果トランジスタ |
JPH02148740A (ja) * | 1988-11-29 | 1990-06-07 | Fujitsu Ltd | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2915003B2 (ja) * | 1989-06-14 | 1999-07-05 | 株式会社日立製作所 | 電界効果トランジスタの製造方法 |
US5213011A (en) * | 1991-04-05 | 1993-05-25 | Mazda Motor Corporation | Power transmission device for vehicle |
JP3237503B2 (ja) * | 1996-02-19 | 2001-12-10 | 日産自動車株式会社 | 摩擦車式無段変速機 |
JP3147009B2 (ja) | 1996-10-30 | 2001-03-19 | 日本電気株式会社 | 電界効果トランジスタ及びその製造方法 |
JP3237573B2 (ja) * | 1997-06-05 | 2001-12-10 | 日産自動車株式会社 | 摩擦車式無段変速機 |
JP3450155B2 (ja) | 1997-06-11 | 2003-09-22 | Necエレクトロニクス株式会社 | 電界効果トランジスタとその製造方法 |
CN103985747B (zh) * | 2014-05-27 | 2017-03-29 | 中国科学技术大学 | GaAs/AlGaAs半导体异质结结构的霍尔棒及其制作方法 |
-
1986
- 1986-03-03 JP JP61044118A patent/JPS62202564A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS62202564A (ja) | 1987-09-07 |
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