JPH0255408A - 誘電体フィルタの製造方法 - Google Patents
誘電体フィルタの製造方法Info
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- JPH0255408A JPH0255408A JP20665288A JP20665288A JPH0255408A JP H0255408 A JPH0255408 A JP H0255408A JP 20665288 A JP20665288 A JP 20665288A JP 20665288 A JP20665288 A JP 20665288A JP H0255408 A JPH0255408 A JP H0255408A
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- Pending
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Landscapes
- Control Of Motors That Do Not Use Commutators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、共振器間を容量で結合する誘電体フィルタの
製造方法に係るもので、特に一体膜された誘電体ブロッ
クを用いた誘電体フィルタの製造方法に関するものであ
る。
製造方法に係るもので、特に一体膜された誘電体ブロッ
クを用いた誘電体フィルタの製造方法に関するものであ
る。
マイクロ波帯に用いるフィルタ、共用器等として誘電帯
共振器を用いたフィルタが各方面で用いられるようにな
っている。
共振器を用いたフィルタが各方面で用いられるようにな
っている。
従来、円筒形の誘電体同軸TEM共振器を容量で結合し
たフィルタが一般的であったが、最近、誘電体ブロック
内に複数の共振子ユニットを形成した誘電体フィルタが
用いられるようになっている。
たフィルタが一般的であったが、最近、誘電体ブロック
内に複数の共振子ユニットを形成した誘電体フィルタが
用いられるようになっている。
第4図はそのようなブロック形の誘電体フィルタを示す
斜視図であり、誘電体ブロック40に貫通孔41を形成
し、この貫通孔41に導体膜を形成して内導体としてい
る。誘電体ブロック40の表面には開放端面42を除い
て導体膜43が形成され、外導体となっている。これに
よって、二個の共振子ユニットが一体に形成されたもの
である。なお、共振子ユニット間には結合孔45が形成
されており、この結合孔45内はきn体膜が形成されて
いない。
斜視図であり、誘電体ブロック40に貫通孔41を形成
し、この貫通孔41に導体膜を形成して内導体としてい
る。誘電体ブロック40の表面には開放端面42を除い
て導体膜43が形成され、外導体となっている。これに
よって、二個の共振子ユニットが一体に形成されたもの
である。なお、共振子ユニット間には結合孔45が形成
されており、この結合孔45内はきn体膜が形成されて
いない。
このような誘電体フィルタは共振子ユニット間が容量お
よび磁気的に結合されている。したがって、各共振子ユ
ニットの特性の調整は個別に行うことができず、周波数
特性の調整が非常に困難であった。また、特性の異なる
フィルタごとに金型を変える必要もあり、その上、結合
孔に導体膜を形成しないので、工数、コストの面で大き
な問題があった。個別の共振器を用いる場合には、組立
の工数、強度、安定性等の問題があった。
よび磁気的に結合されている。したがって、各共振子ユ
ニットの特性の調整は個別に行うことができず、周波数
特性の調整が非常に困難であった。また、特性の異なる
フィルタごとに金型を変える必要もあり、その上、結合
孔に導体膜を形成しないので、工数、コストの面で大き
な問題があった。個別の共振器を用いる場合には、組立
の工数、強度、安定性等の問題があった。
本発明は、磁気的な結合をなくした一体形の誘電体フィ
ルタを得ようとするものである。これによって、個々の
共振ユニットおよび結合の調整を容易に使用とするもの
である。
ルタを得ようとするものである。これによって、個々の
共振ユニットおよび結合の調整を容易に使用とするもの
である。
また、組立が容易で、かつ信頼性の高い誘電体フィルタ
を得ようとするものである。
を得ようとするものである。
さらに、少ない工数でこのような優れた特性の誘電体フ
ィルタを得ようとするものである。
ィルタを得ようとするものである。
本発明は、誘電体ブロックの表面、内導体に加えて、共
振子ユニット間に形成した貫通孔にも同時に導体膜を形
成することによって、上記の課題を解決するものである
。
振子ユニット間に形成した貫通孔にも同時に導体膜を形
成することによって、上記の課題を解決するものである
。
すなわち、誘電体ブロック内に複数の共振子ユニットを
具え、該共振子ユニット間に導体膜が形成された貫通孔
を具えた誘電体フィルタの製造方法において、該共振子
ユニットの内導体が形成される貫通孔と該共振子ユニッ
ト間に形成された貫通孔を具えた誘電体ブロックを電極
ペース1−に浸漬し、あるいはメッキ処理を施して表面
および各貫通孔内に導体膜を形成し、その移譲貫通孔の
一端側の誘電体ブロックの表面を研磨することに特徴を
有するものである。
具え、該共振子ユニット間に導体膜が形成された貫通孔
を具えた誘電体フィルタの製造方法において、該共振子
ユニットの内導体が形成される貫通孔と該共振子ユニッ
ト間に形成された貫通孔を具えた誘電体ブロックを電極
ペース1−に浸漬し、あるいはメッキ処理を施して表面
および各貫通孔内に導体膜を形成し、その移譲貫通孔の
一端側の誘電体ブロックの表面を研磨することに特徴を
有するものである。
また、共振子ユニット間の貫通孔に接して誘電体ブロッ
ク表面に凹部を形成しておき、この凹部の導体膜を研磨
後も残して、貫通孔内の導体膜を短絡させるものである
。
ク表面に凹部を形成しておき、この凹部の導体膜を研磨
後も残して、貫通孔内の導体膜を短絡させるものである
。
共振子ユニット間に貫通孔が形成され、この貫通孔内に
導体膜が形成されて両端が短絡されると共振子ユニット
間の磁気的結合が遮断される。そのために、貫通孔の導
体膜と外導体が導通されるとともに、開放端面に貫通孔
の導体膜と導通ずる導体膜を形成して外導体と接続し、
全体として短絡路を形成したものである。
導体膜が形成されて両端が短絡されると共振子ユニット
間の磁気的結合が遮断される。そのために、貫通孔の導
体膜と外導体が導通されるとともに、開放端面に貫通孔
の導体膜と導通ずる導体膜を形成して外導体と接続し、
全体として短絡路を形成したものである。
以下、図面を参照して、本発明の実施例について説明す
る。
る。
第1図に示したように、直方体の誘電体ブロック10に
は共振子ユニットの内導体が形成される貫通孔11が所
定の間隔を置いて形成される。共振子ユニット間に貫通
孔11と同じ向きに伸びる貫通孔15が形成される。な
お、この貫通孔15は図のように共振子ユニットを結ぶ
方向に対して直角の方向に幅が広くなるように、断面が
長方形となるようにするのが望ましい。また、ごの貫通
孔45の位置する部分の誘電体ブロック10の表面に、
この表面を横切る凹部17を形成しておく。
は共振子ユニットの内導体が形成される貫通孔11が所
定の間隔を置いて形成される。共振子ユニット間に貫通
孔11と同じ向きに伸びる貫通孔15が形成される。な
お、この貫通孔15は図のように共振子ユニットを結ぶ
方向に対して直角の方向に幅が広くなるように、断面が
長方形となるようにするのが望ましい。また、ごの貫通
孔45の位置する部分の誘電体ブロック10の表面に、
この表面を横切る凹部17を形成しておく。
次に、第2図のように、誘電体ブロック10の全面に導
体膜を形成する。貫通孔11内には内導体となる導体膜
が、誘電体ブロックの外周面には外導体と成る電極膜1
3がそれぞれ形成される。また、貫通孔15内にも同様
に導体膜が形成される。
体膜を形成する。貫通孔11内には内導体となる導体膜
が、誘電体ブロックの外周面には外導体と成る電極膜1
3がそれぞれ形成される。また、貫通孔15内にも同様
に導体膜が形成される。
」−記のように、導体膜の形成は外周面、貫通孔内と誘
電体ブロック全体に行われるので、従来のように結合孔
部分を寒く必要はない。したがって誘電体ブロック全体
を銀等の導体ペーストに浸漬したり、銅等のメッキ液に
浸ずことができる。したがって、導体膜の形成の工数は
極めて少なくすることが可能である。
電体ブロック全体に行われるので、従来のように結合孔
部分を寒く必要はない。したがって誘電体ブロック全体
を銀等の導体ペーストに浸漬したり、銅等のメッキ液に
浸ずことができる。したがって、導体膜の形成の工数は
極めて少なくすることが可能である。
導体膜は、乾燥−焼付等の処理が施される。その後、第
3図のように、凹部17が形成された表面が研磨される
。この研磨によって、共振子ユニットの長さが所定の共
振周波数に合致する寸法とされる。研磨によって、この
表面は誘電体材料が露出し、これを開放端面とする。こ
の表面の裏側の面は導体膜が形成されたままとされ、短
絡端面となる。
3図のように、凹部17が形成された表面が研磨される
。この研磨によって、共振子ユニットの長さが所定の共
振周波数に合致する寸法とされる。研磨によって、この
表面は誘電体材料が露出し、これを開放端面とする。こ
の表面の裏側の面は導体膜が形成されたままとされ、短
絡端面となる。
凹部17に形成された導体膜は研磨が終了した後も残す
。そのために、凹部の深さは共振子ユニットの研磨の寸
法よりも大きくしておかなければならない。この凹部に
残った導体膜は、貫通孔15内の導体膜と導通している
とともに、外導体13とも導通している。すなわち、貫
通孔15内の導体膜は両端が短絡されたことになる。
。そのために、凹部の深さは共振子ユニットの研磨の寸
法よりも大きくしておかなければならない。この凹部に
残った導体膜は、貫通孔15内の導体膜と導通している
とともに、外導体13とも導通している。すなわち、貫
通孔15内の導体膜は両端が短絡されたことになる。
このようにして製造された誘電体ブロックに入出力結合
手段を取り伺ければ、誘電体フィルタが得られる。共振
子ユニット間の導体膜によって、共振子ユニット間の磁
気的な結合は遮断される。
手段を取り伺ければ、誘電体フィルタが得られる。共振
子ユニット間の導体膜によって、共振子ユニット間の磁
気的な結合は遮断される。
したがって、容量的結合のみが共振器間の結合の要素と
なる。
なる。
本発明によれば、磁気的な結合が遮断されたプロ、り形
の誘電体フィルタが得られる。これにより、個々の共振
子の調整、結合の調整が容易な誘電体フィルタが実現さ
れる。
の誘電体フィルタが得られる。これにより、個々の共振
子の調整、結合の調整が容易な誘電体フィルタが実現さ
れる。
また、遮断のための導体膜の形成は、内導体、外導体の
形成と同時に行うことができるので、製造工程を簡略化
することができる。
形成と同時に行うことができるので、製造工程を簡略化
することができる。
さらに、一体膜されたプロ・ツク形の磁気的結合の遮断
されたフィルタを得ることができ、組立、信頼性等の面
でも有利である。
されたフィルタを得ることができ、組立、信頼性等の面
でも有利である。
第1図から第3図は本発明の実施例を示す斜視図であり
、第4図は従来の誘電体フィルタの例を示す斜視図であ
る。 10・・・・・・誘電体プロ・ツク 11・・・・・・貫通孔 15・・・・・・貫通孔 17・・・・・・四部
、第4図は従来の誘電体フィルタの例を示す斜視図であ
る。 10・・・・・・誘電体プロ・ツク 11・・・・・・貫通孔 15・・・・・・貫通孔 17・・・・・・四部
Claims (6)
- (1)誘電体ブロック内に複数の共振子ユニットを具え
、該共振子ユニット間に導体膜が形成された貫通孔を具
えた誘電体フィルタの製造方法において、該共振子ユニ
ットの内導体が形成される貫通孔と該共振子ユニット間
に形成された貫通孔を具えた誘電体ブロックを電極ペー
ストに浸漬して表面および貫通孔内に導体膜を形成し、
その後該貫通孔の一端側の誘電体ブロックの表面を研磨
することを特徴とする誘電体フィルタの製造方法。 - (2)誘電体ブロック内に複数の共振子ユニットを具え
、該共振子ユニット間に導体膜が形成された貫通孔を具
えた誘電体フィルタの製造方法において、該共振子ユニ
ットの内導体が形成される貫通孔と該共振子ユニット間
に形成された貫通孔を具えた誘電体ブロックにメッキ処
理を施して表面および貫通孔内に導体膜を形成し、その
後該貫通孔の一端側の誘電体ブロックの表面を研磨する
ことを特徴とする誘電体フィルタの製造方法。 - (3)該共振子ユニット間の貫通孔の少なくとも一端側
に接して該誘電体ブロックの表面を横切る凹部を形成し
た後に導体膜を形成する請求項第1項または第2項記載
の誘電体フィルタの製造方法。 - (4)該凹部の形成された誘電体ブロックの表面を研磨
して誘電体を露出させて開放端面を形成する請求項第3
項記載の誘電体フィルタの製造方法。 - (5)該凹部の形成された誘電体ブロックの表面を研磨
して誘電体を露出させて開放端面を形成するとともに、
該凹部の表面に導体膜を残す請求項第3項記載の誘電体
フィルタの製造方法。 - (6)該凹部の形成された誘電体ブロックの表面を研磨
して誘電体を露出させて開放端面を形成するとともに、
該凹部の表面に該貫通孔内の導体膜および外導体と導通
した導体膜を残す請求項第3項記載の誘電体フィルタの
製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20665288A JPH0255408A (ja) | 1988-08-20 | 1988-08-20 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20665288A JPH0255408A (ja) | 1988-08-20 | 1988-08-20 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0255408A true JPH0255408A (ja) | 1990-02-23 |
Family
ID=16526896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20665288A Pending JPH0255408A (ja) | 1988-08-20 | 1988-08-20 | 誘電体フィルタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0255408A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03254203A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Fujitsu Ltd | 誘電体フィルタ |
JPH03254202A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Fujitsu Ltd | 誘電体共振器及びそれを用いたフィルタ |
JPH06196909A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-07-15 | Siemens Matsushita Components Gmbh & Co Kg | マイクロ波・セラミックスフィルタの金属被覆処理方法 |
JPH07162205A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-06-23 | Electron & Telecommun Res Inst | 誘電体フィルタ |
JPH0739102U (ja) * | 1991-03-29 | 1995-07-14 | 太陽誘電株式会社 | 誘電体共振器 |
KR100319474B1 (ko) * | 1998-10-29 | 2002-01-09 | 무라타 야스타카 | 유전체 필터, 유전체 듀플렉서 및 통신기 장치 |
-
1988
- 1988-08-20 JP JP20665288A patent/JPH0255408A/ja active Pending
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03254203A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Fujitsu Ltd | 誘電体フィルタ |
JPH03254202A (ja) * | 1990-03-02 | 1991-11-13 | Fujitsu Ltd | 誘電体共振器及びそれを用いたフィルタ |
JPH0739102U (ja) * | 1991-03-29 | 1995-07-14 | 太陽誘電株式会社 | 誘電体共振器 |
JPH06196909A (ja) * | 1992-08-31 | 1994-07-15 | Siemens Matsushita Components Gmbh & Co Kg | マイクロ波・セラミックスフィルタの金属被覆処理方法 |
JPH07162205A (ja) * | 1993-10-08 | 1995-06-23 | Electron & Telecommun Res Inst | 誘電体フィルタ |
KR100319474B1 (ko) * | 1998-10-29 | 2002-01-09 | 무라타 야스타카 | 유전체 필터, 유전체 듀플렉서 및 통신기 장치 |
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