JPH0254778A

JPH0254778A - 画像板とその製造方法

Info

Publication number: JPH0254778A
Application number: JP20656588A
Authority: JP
Inventors: Yoshinori Hirama; 平間　義教; Tatsuo Ishibashi; 達男石橋
Original assignee: Nissha Printing Co Ltd
Current assignee: Nissha Printing Co Ltd
Priority date: 1988-08-19
Filing date: 1988-08-19
Publication date: 1990-02-23
Also published as: JPH0561354B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】【産業上の利用分野】

この発明は、各種表示や装飾などに用いるのに適したも
のであって、特に表面の耐熱性・耐候性に優れている画
像板とその製造方法に関するものである。

【従来の技術】

従来、記念碑・循・陶板・墓石・ショーウィンドー・銘
板・タイルなどに写真画像や文字・デザイン画などを表
現するには、次のようなものがあった。１、エツチング法：銅板などの素材表面にエツチングレジスト層を形成し、
塩化第二鉄などのエッチャントで金属の不要部分を溶解
除去する方法。２、アルフォト法：陽極酸化アルミナの微細孔中に形成されたハロゲン化銀
（アルフォトブレー日を選択露光し、現像・定着などの
写真処理を経て銀画像を形成する方法。３、転写法：写真画像を印刷法により転写シート上に形成し、この印
刷画像を適当な基板に転写する方法。

【発明が解決しようとする課題］しかし、前記した従来の画像板には、それぞれ次のよう
な問題点がある。１、エツチング法は、金属表面の不要部分を溶解除去す
ることにより画像を形成するため、画像部と非画像部と
のコントラストが低い。このため、コントラストを高く
するために、さらに着色を必要とする。また、耐蝕性を
高めるためには、耐蝕性の酸化皮膜を形成するか、オー
バーコート材を被覆する必要がある。２、アルフォト法は、使用する基板が陽極酸化アルミナ
に限定されるため、形成される銀画像の背景は銀白色に
限られる。したがって、その他の色を必要とする場合は
、着色する必要がある。３、転写法は、−度転写シートに印刷された写真画像を
再度基板に転写する必要があり、製造工程が多くなる。この発明の目的は、以上のような問題点を解決し、耐熱
性を有する基板上に耐熱性・耐候性を有する写真画像が
形成された画像板とその製造方法を提供することにある
。【課題を解決するための手段】この発明は、以上のような問題点を解決するために、次
のような構成とした。すなわち、この発明の画像板は、
支持体上に形成された多孔性無機物質からなる無機透明
層の内部が、銅より貴なる金属によって化学メッキされ
て黒色部を呈するように構成した。また、この発明の画像板の製造方法は、支持体上に形成
された多孔性無機物質からなる無機透明層の上にあらか
じめレジスト層を形成し、次いで銅より貴なる金属にて
化学メッキを行い、次いで金属光沢部とレジスト層を除
去してパターン化された黒色部を得るように構成した。また、この発明の画像板の他の製造方法としては、支持
体上に形成された多孔性無機物質からなる無機透明層に
銅より貴なる金属にて化学メッキを行い、次いで金属光
沢部を除去し、次いで黒色を呈している無機透明層の上
にレジスト層を形成し、次いで漂白・定着処理を行って
不要な黒色部を透明化し、次いでレジスト層を除去して
バタン化された黒色部を得るように構成した。以下、図面を参照しながら、この発明をさらに詳しく説
明する。第１図はこの発明の画像板の一例を示す断面図である。第２〜３図はこの発明の画像板の製造工程を示す断面図
である。１は支持体、２は無機透明層、３は黒色部、４
は金属光沢部、５はレジスト層をそれぞれ示す。支持体１としては無機透明層２を形成可能な耐熱性を有
するものであればどんなものでもよい。たとえば、ガラス・セラミック・石・金属などを使用す
ることができる。後工程で無機透明層２を形成する際の
焼成工程に耐え得るものであれば、プラスチックであっ
てもよい。このような支持体ｌ上に、多孔性無機物質からなる無機
透明層２が形成されている。無機透明層２を形成する方
法としては、以下に示すゾルゲル法の利用が適している
。すなわち、一般弐Ｍ（ＯＲ＋）、（ＯＲ，）、Ｘ、Ｙ
、・（ただし、１式中、ｈはマグネシウム・カルシウム
・ジルコニウム・チタニウム・ハフニウム・ゲルマニウ
ム・インドリウム・アルミニウム・ガリウム・スズ・ケ
イ素からなる群より選ばれた少なくとも一つの元素を示
す、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ水素原子・アルキル基・
アシル基を示し、それらは同一であっても異なっていて
もよい。Ｘ−Ｙはそれぞれ水素原子・塩素原子または水
酸基を示し、それらは同一であっても異なっていてもよ
い、曽・ｎ’ｐ’ｑはＯ〜８の整数でありかつｍ＋ｎ＋
ｐ＋ｑはＨの原子価に等しい、）で表わされる化合物の
水性液を加水分解し、さらに解膠して得たゾルを支持体
ｌに塗布し、焼成することにより得られるものである。一般式■で示される化合物の例としては、テトラエチル
シリケート・アルミニウムトリイソプロポキシド・チタ
ンテトラブトキシド・ジルコニウムテトラブトキシドあ
るいはこれらの部分加水分解物などがある。また、水性
液は必要量の水、および塩酸・硫酸・硝酸・酢酸などの
加水分解の触媒、およびアルコールなどを含むものであ
る。このゾルを支持体ｌ上に塗布する方法には、バーコ
ーティング法・ロールコーティング法・スピンナーコー
ティング法・ディッピング法などの方法がある。上記し
たようなゾルを支持体１上に塗布したのち乾燥し、２０
０〜９００°Ｃの温度で焼成することにより無機透明層
２を得ることができる。焼成温度は、支持体１の耐熱性
にしたがって設定することができる。焼成温度が高い方
が、形成される無機透明層２の硬度が高くなる。また、
無機透明層２の膜厚は、０．５〜ＩＯμｍが適当゛であ
る。以上のようにして形成された無機透明層２に化学メッキ
を行い、次いで金属光沢部４を除去することによって無
機透明層２の内部に黒色部３が形成される。化学メッキは、銅より貴なる金属で行われる。銅より貴なる金属としては、金・銀・パラジウム・白金
・ロジウム・ルテニウムがある。ここで、銅より貴なる
金属を用いる理由は、メッキ後、金属光沢を呈している
部分４の除去が容易で、かつ除去後、下地の黒色部３の
光学濃度が３．０以上を示すからである。化学メッキは公知の方法を用いて行うことができ、たと
えばｒ無電解メッキｊ　（神戸徳蔵著）によれば、銀メ
ッキ浴として以下に示すｌ液と２液を１：１に混合した
ものを用いることができる。１液：硝酸銀　　　　　　　　　　　２０ｇアンモニア水　　　　　　　　適量水　　　　　　　　　　　　　　　　１０００ａｌｌｚ
液：酒石酸ナトリウムカリウム１００　ｇ　／３００ｄ水を加えて　　　　　　全量７００ｄ上記の銀メッキ浴に無機透明層２が形成された支持体１
を浸漬し、無機透明層２上に金属光沢が現われてきたら
ただちにメッキ浴から引き上げ、純水中で金属光沢部４
を除去する。金属光沢部４を除去するには、たとえば、布・紙・ゴム
ベラなどの柔らがいものを用いて無機透明層２の表面上
に析出した金属光沢部４を拭き取ればよい。この操作に
より、金属光沢部４のみが剥離し、下の無機透明層２中
に含浸した金属は金属光沢をまったく有さない黒色部３
となる。したがって、黒色部３は無機透明層２の内部に
形成され、無機透明層２の表面は平滑性に優れたものと
なる。なお、得られた黒色部３の断面を光学顕微鏡で調
べた結果、無機透明層２の表面から最深部の支持体１と
の界面まで黒色が浸透していた。ここで黒色部３を写真画像などのパターンに表現するに
は、特定部分を網点状にパターン化する方法を用いると
よい、黒色部３は、黒色に着色されるかされないかの２
階調表現しかできないので、所望の図柄を網点状に分解
して表現するようにすればよい、なお、文字など、網点
て表現する必要のないものは所望のパターンに形成すれ
ばよい。上記のように黒色部３をパターン化して形成するには、
レジスト層５を利用する方法がある（第２図参照）、レ
ジスト層５を無機透明層２上に形成したのち（第２図す
参照）化学メッキを行い（第２図Ｃ参照）、次いで金属
光沢部４とともにレジスト層５を除去して（第２図Ｃ参
照）、特定部分にのみ黒色部３を形成するのである。レジスト層５として、たとえば感光性レジストを使用す
る場合、用いる感光性レジストとしては、ポジ型あるい
はネガ型のいずれを使用してもよい。感光性レジストを無機透明層２上に塗布する方法には、
たとえばスピンナーコーティング法・ロールコーティン
グ法・バーコーチインク法・ディッピング法などがある
。感光性レジストを無機透明Ｊｉ２に塗布した後、適当
な温度で乾燥し、適当なフォトマスクを用いて露光する
。露光後、用いた感光性レジストに応じた現像液で現像
を行ってレジスト層５を得る。この際、無機透明層２は
、現像液の種類が、酸・アルカリ・有機溶媒・水のどれ
であっても影響を受けない。現像後、必要ならばさらに
ボストベークを行ってもよい、また、高解像度を要求し
ないならば、レジストとして通常のメッキレジストを用
い、印刷法によってレジスト層５を形成するようにして
もよい。また、無機透明層２の特定部分を黒色にする他の方法と
して漂白・定着処理を利用する方法がある（第３図参照
）。まず、支持体１上の無機透明層２の全面に銅より貴
なる金属にて化学メッキを行う（第３図す参照）。次い
で析出した金属光沢部４を除去して不透明な黒色部３を
得る（第３図Ｃ参照）。次いで無機透明層２の表面に感
光性レジストや印刷レジストなどでレジスト層５を形成
しく第２図Ｃ参照）、次いでレジスト層５で覆われてい
ない黒色部３を漂白する（第３図Ｃ参照）。漂白には一般に写真処理の際に用いられる漂白液を利用
することができる。たとえば、ｒ写真のボゲントブンク
Ｊ　（林−男・宮本五部・保積英次共編）にある以下に
示す漂白液を用いる。漂白液：重クロム酸カリウム　　　　　１０ｇ塩酸　　　　　　　　　　　　３０ｇ明パン　　　　　　　　　　　５０ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　１０００ｊｔ１
！この漂白液に１〜１０分間浸漬した後水洗する。漂白によって無機透明層２中に浸透・析出して黒色を呈
している金属粒子を水溶性の金属塩とし、さらに定着処
理によりこの金属塩を溶解除去することによって、黒色
が消失し、無機透明層２に化学メッキを行う前の透明性
が回復するのである。定着処理には一般に写真処理の際に用いられる定着液を
利用することができる。たとえば、以下に示す定着液を
用いることができる。定着液：チオ硫酸ナトリウム　　　　　２４０ｇ亜硫酸ナトリウ
ム　　　　　　　３ｇ氷硝酸　　　　　　　　　　　　５− 明バン　　　　　　　　　　　　６ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　ｉｆ水洗後
、レジスト層５を除去すれば（第２図Ｃ参照）、特定部
分に黒色部３が形成された無機透明層２が得られる。

【実施例】

実長１１− アルミニウムイソプロポキシドを加水分解・縮重合する
ことによって得られた透明なゾル液を、洗浄・乾燥した
ソーダガラス板上に、ロールコータ−を用いて塗布した
。これを７０°Ｃにて３０分間乾燥後、４００°Ｃにて
２時間焼成し、４μｍ厚の透明な無機透明層を得た。こ
の上に、Ａｚ−１３５０（ヘキスト社製）ポジ型レジス
トをスピナーを用いて塗布し乾燥した。フォトマスクを
介して１０秒間露光した後、現像・ポストベークを行っ
てレジスト層を形成した。次いで、次に示すメッキ液（１液：２液＝１：１で混合
したもの）に５分間浸漬した。１液：硝酸銀　　　　　　　　　　　１２ｇアンモニア水　　　　　　　　適量水　　　　　　　　　　　　　　　　５００ｄ２液：酒石酸ナトリウムカリウム　１２０ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　５００Ｈ１ソー
ダガラス板をメッキ液から引き上げた後、ただちにレジ
スト剥離液に浸漬し、布で無機透明層表面を拭き取って
、レジスト層および金属光沢部を除去して画像板を得た
。得られた黒色部の光学濃度は４．０以上であった。また、黒色部と透明部の間に段差はなく、黒色部は完全
に無機透明層内部に浸透していた。１施、１１実施例１と同様のレジスト層を有するソーダガラス板を
、次に示す金メッキ浴（１液：２液：３液−４：１０：
１で混合したもの）に１０分間浸漬した。１液：塩化金　　　　　　　　　　　４５ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　２００ｄ２液：水酸化ナトリウム　　　　　　１０ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　　５０ｄ３液：ホルムアルデヒド　　　　　　３５ｇブドウ糖　　　　　　　　　　　　５゜アルコール　　
　　　　　　　４０ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０−ソーダ
ガラス板をメッキ液から引き上げた後、実施例１と同様
に、レジスト層および金属光沢部を除去して画像板を得
た。得られた黒色部の光学濃度は３．０以上であった。実施例３実施例１と同様のレジスト層を有するソーダガラス板を
、次に示す恨メッキ浴（１液：２液−１：１で混合した
もの）に５分間浸漬した。１液：硝酸銀　　　　　　　　　　　３．５ｇアンモニア水　
　　　　　　　適量水　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０成水酸化
ナトリウム　　　　　２．５ｇ２液ニブドウ糖　　　　　　　　　　　　５ｇ酒石酸　　　　
　　　　　　　４ｇアルコール　　　　　　　　１００　ｇ水　　　　　　
　　　　　　　　　　１０００ａ＋ｆｆｉソーダガラス
板をメッキ液から引き上げた後、実施例１と同様に、レ
ジスト層および金属光沢部を除去して画像板を得た。得られた黒色部の光学濃度は３．５以上であった。！施桝土実施例１と同様に無機透明層を有するソーダガラス板を
、実施例１に示した銀メッキ浴から引き上げた後、水浴
中で表面金属光沢部を布で拭き取り、水洗後、７０°Ｃ
で１時間乾燥した。この上に、ポジ型レジストを塗布し
、露光・現像を行った後、以下に示す漂白液に５分間浸
漬した。漂白液：重クロム酸カリウム　　　　　　４ｇ３％塩酸　　　　　　　　　　　５ｄ水　　　　　　　　　　　　　　　　　２００ｍこれを
引き上げた後、水洗し、以下に示す定着液に浸漬した。定着液：チオ硫酸ナトリウム　　　　　２４０ｇ亜硫酸ナトリウ
ム　　　　　　　３ｇ氷酢酸　　　　　　　　　　　５− 明バン　　　　　　　　　　　６ｇ水　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２その後、
レジストを剥離し水洗、乾燥した。得られた黒色部の光
学濃度は３．５以上であり、漂白部はメッキ前の透明性
を示した。

【発明の効果】

この発明の画像板は、支持体上に形成された多孔性無機
物質からなる無機透明層の特定部分が、銅より貴なる金
属によって化学メッキされて黒色を呈するように構成さ
れているので、耐熱性および耐候性に優れた画像を有す
る＝また、画像はきわめて透明性に優れた無機透明層に
形成されているので、透明部分は支持体の色を損なうこ
となく鮮明に画像と下地とを表現することができる。また、この発明の画像板の製造方法は、支持体上に形成
された多孔性無機物質からなる無機透明層の上にあらか
じめレジスト層を形成し、次いで胴より貴なる金属にて
化学メッキを行い、次いで金属光沢部とレジスト層を除
去してパターン化された黒色部を得るように、あるいは
支持体上に形成された多孔性無機物質からなる無機透明
層に銅より貴なる金属にて化学メッキを行い、次いで金
属光沢部を除去し、次いで黒色を呈している無機透明層
の上にレジスト層を形成し、次いで漂白・定着処理を行
って不要な黒色部を透明化し、次いでレジスト層を除去
してパターン化された黒色部を得るように構成されてい
るので、上記の画像板を、少ない工程で容易に得ること
ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明の画像板の一例を示す断面図である。第２〜３図はこの発明の画像板の製造工程を示す断面図
である。１・・・支持体、２・・・無機透明層、３・・・黒色部
、４・・・金属光沢部、５・・・レジスト層。特許出願人　日本写真印刷株式会社第図第図１・・・支持体２・・・無機透明層３・・・黒色部４・・・金属光沢部５・・・レジスト層

Claims

【特許請求の範囲】１、支持体（１）上に形成された多孔性無機物質からな
る無機透明層（２）の内部が、銅より貴なる金属によっ
て化学メッキされて黒色部（３）を呈していることを特
徴とする画像板。２、支持体（１）上に形成された多孔性無機物質からな
る無機透明層（２）が、銅より貴なる金属によってその
内部を化学メッキされて網点形状にパターン化された黒
色部（３）を呈していることを特徴とする画像板。３、無機透明層（２）が、一般式Ｍ（ＯＲ＿１）＿ｍ（ＯＲ＿２）＿ｍＸ＿ｐＹ＿ｑ・・
・ I （ただし、 I 式中、Ｍはマグネシウム・カルシウ
ム・ジルコニウム・チタニウム・ハフニウム・ゲルマニ
ウム・イットリウム・アルミニウム・ガリウム・スズ・
ケイ素からなる群より選ばれた少なくとも一つの元素を
示す、Ｒ＿１およびＲ＿２はそれぞれ水素原子・アルキ
ル基・アシル基を示し、それらは同一であっても異なっ
ていてもよい。Ｘ・Ｙはそれぞれ水素原子・塩素原子ま
たは水酸基を示し、それらは同一であっても異なってい
てもよい。ｍ・ｎ・ｐ・ｑは０〜８の整数でありかつｍ
＋ｎ＋ｐ＋ｑはＭの原子価に等しい。）で表わされる化
合物から生成したゾルを塗布し焼成することにより得ら
れたものである請求項１または２記載の画像板。４、銅より貴なる金属が、金・銀・パラジウム・白金・
ロジウム・ルテニウムからなる群より選ばれた少なくと
も一つの元素である請求項１または２記載の画像板。５、支持体（１）上に形成された多孔性無機物質からな
る無機透明層（２）の上にあらかじめレジスト層（５）
を形成し、次いで銅より貴なる金属にて化学メッキを行
い、次いで金属光沢部（４）とレジスト層（５）を除去
してパターン化された黒色部（３）を得ることを特徴と
する画像板の製造方法。６、支持体（１）上に形成された多孔性無機物質からな
る無機透明層（２）に銅より貴なる金属にて化学メッキ
を行い、次いで金属光沢部（４）を除去し、次いで黒色
を呈している無機透明層（２）の上にレジスト層（５）
を形成し、次いで漂白・定着処理を行って不要な黒色部
（３）を透明化し、次いでレジスト層（５）を除去して
パターン化された黒色部（３）を得ることを特徴とする
画像板の製造方法。