JP3100633B2 - 着色パターンを示すアノード膜を製造するための方法及びその膜を組み入れた構造 - Google Patents
着色パターンを示すアノード膜を製造するための方法及びその膜を組み入れた構造Info
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Description
【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明はパターン、プリントあるいは他のしるしを
形成する、目に見えて異なる色、明度、色相あるいは色
密度（以後、一般に着色パターンという）の領域を有す
るアノード膜の形成、及びそのような膜を組み入れた構
造に関する。
形成する、目に見えて異なる色、明度、色相あるいは色
密度（以後、一般に着色パターンという）の領域を有す
るアノード膜の形成、及びそのような膜を組み入れた構
造に関する。
背景技術 陽極酸化は、物体の修飾的な魅力を改善し、及び／ま
たは、表面の耐久性を改良する目的のために、アルミニ
ウムあるいは陽極酸化可能なアルミニウム合金でできた
（あるいはそれで被覆された）物体に関して行われる表
面処理としてよく知られたものである。手順は、アノー
ドとしてアルミニウム物体を用いた、硫酸、燐酸、シュ
ウ酸などの強酸を含む電解質中で実行される電気分解を
含む。電気分解が進むにつれ、酸化アルミニウムのアノ
ード膜が金属表面で成長し、その膜の厚さは電気分解が
続くにつれ増加する。アノード膜の成長と酸化電解質に
よる酸化物の溶解の間の競合により、膜の外側の表面か
ら内側に、金属物体に向かって延びる空孔を有する膜が
生成される。しかしながら、空孔の最も内側の端は、密
度の高い無孔のアノード酸化物の非常に薄いバリヤー層
により、常に金属表面から分離される。無孔のアノード
膜が所望の場合は、陽極酸化をより弱い酸性電解質中で
実行することができるが、このようにすると、陽極酸化
手順に使用する電圧に依存して、非常に薄い膜しか製造
することができない。そのため、多孔性の膜の形成がよ
り一般的である。
たは、表面の耐久性を改良する目的のために、アルミニ
ウムあるいは陽極酸化可能なアルミニウム合金でできた
（あるいはそれで被覆された）物体に関して行われる表
面処理としてよく知られたものである。手順は、アノー
ドとしてアルミニウム物体を用いた、硫酸、燐酸、シュ
ウ酸などの強酸を含む電解質中で実行される電気分解を
含む。電気分解が進むにつれ、酸化アルミニウムのアノ
ード膜が金属表面で成長し、その膜の厚さは電気分解が
続くにつれ増加する。アノード膜の成長と酸化電解質に
よる酸化物の溶解の間の競合により、膜の外側の表面か
ら内側に、金属物体に向かって延びる空孔を有する膜が
生成される。しかしながら、空孔の最も内側の端は、密
度の高い無孔のアノード酸化物の非常に薄いバリヤー層
により、常に金属表面から分離される。無孔のアノード
膜が所望の場合は、陽極酸化をより弱い酸性電解質中で
実行することができるが、このようにすると、陽極酸化
手順に使用する電圧に依存して、非常に薄い膜しか製造
することができない。そのため、多孔性の膜の形成がよ
り一般的である。
このようにして陽極酸化された物体は、酸化物膜の厚
さにより、見かけ上は灰色（すなわち、その下の金属の
色であり、以後、一般に“無色の”または“澄んだ”と
いう）から白色の表面を有する。しかし、物体の美観を
改善するために、アノード膜を着色するために様々な手
順が開発されてきている。これらは金属（無機顔料）の
空孔への電着を含むいわゆるANOLOK（アルキャンアルミ
ニウム社の商標）法から、アノード膜の色付けを引き起
こす染料または有機顔料の使用にまで及ぶ。
さにより、見かけ上は灰色（すなわち、その下の金属の
色であり、以後、一般に“無色の”または“澄んだ”と
いう）から白色の表面を有する。しかし、物体の美観を
改善するために、アノード膜を着色するために様々な手
順が開発されてきている。これらは金属（無機顔料）の
空孔への電着を含むいわゆるANOLOK（アルキャンアルミ
ニウム社の商標）法から、アノード膜の色付けを引き起
こす染料または有機顔料の使用にまで及ぶ。
これらの着色手順は多くの目的のために適用され、う
まくいっていたが、これらの手順には一定の欠点があ
る。例えば、（我々の以前の、Sheaby達への1978年１月
３日の米国特許第4,066,816号及び1982年１月12日の第
4,310,586号に開示されているような）ANOLOK手順によ
り着色された物体は、色の一様性の欠如を示し、この手
順が制御の困難なものであると考えられる。有機顔料な
どにより着色された物体は紫外線にさらされると退色を
示し、そのため外側の（例えば、建築上のあるいは車体
の）塗装において広範囲に使用されてはいない。
まくいっていたが、これらの手順には一定の欠点があ
る。例えば、（我々の以前の、Sheaby達への1978年１月
３日の米国特許第4,066,816号及び1982年１月12日の第
4,310,586号に開示されているような）ANOLOK手順によ
り着色された物体は、色の一様性の欠如を示し、この手
順が制御の困難なものであると考えられる。有機顔料な
どにより着色された物体は紫外線にさらされると退色を
示し、そのため外側の（例えば、建築上のあるいは車体
の）塗装において広範囲に使用されてはいない。
更に、陽極酸化された物体の表面上に着色パターンを
製造したい場合には、表面の一定の領域を覆うための接
着マスクなどを使用するのに対し手段が通常取られ、他
の領域は着色処理を受ける。それからマスクは除去され
なければならないが、所望であれば、別の領域がマスク
され、そのために非着色領域自体も着色することができ
る。この手順は複雑で高価な手順であるばかりでなく、
廃棄された場合に環境問題を引き起こしかねないマスク
材料及び溶剤を使用しなければならない。
製造したい場合には、表面の一定の領域を覆うための接
着マスクなどを使用するのに対し手段が通常取られ、他
の領域は着色処理を受ける。それからマスクは除去され
なければならないが、所望であれば、別の領域がマスク
され、そのために非着色領域自体も着色することができ
る。この手順は複雑で高価な手順であるばかりでなく、
廃棄された場合に環境問題を引き起こしかねないマスク
材料及び溶剤を使用しなければならない。
1990年３月22日に出願され、1990年９月26日に公開番
号第０ 389 274 A2号として公開された我々の欧州特
許出願第90303069.0号では、電着などにより半−反射層
を膜中に含有させることにより干渉色が生成される多孔
性アノード膜を組み入れた光学干渉構造を製造するため
の方法が説明されている。析出金属を腐食耐性がよりよ
い貴金属で置き換えることにより、析出物は浸出に対し
より耐性があるようにすることができることが開示され
ている。しかしながら、この方法はパターンを有する膜
よりもむしろ、全体に一様な着色を有する膜を製造する
ためにのみ使用される。パターンが所望の場合、マスキ
ング技術を再び採用しなければならない。
号第０ 389 274 A2号として公開された我々の欧州特
許出願第90303069.0号では、電着などにより半−反射層
を膜中に含有させることにより干渉色が生成される多孔
性アノード膜を組み入れた光学干渉構造を製造するため
の方法が説明されている。析出金属を腐食耐性がよりよ
い貴金属で置き換えることにより、析出物は浸出に対し
より耐性があるようにすることができることが開示され
ている。しかしながら、この方法はパターンを有する膜
よりもむしろ、全体に一様な着色を有する膜を製造する
ためにのみ使用される。パターンが所望の場合、マスキ
ング技術を再び採用しなければならない。
そのため、この発明の目的は、色損失（退色）あるい
は色の一様性の損失をより受けにくいが十分な範囲の色
を供給する、パターンを有するアノード膜を製造するこ
とができる方法を提供することである。
は色の一様性の損失をより受けにくいが十分な範囲の色
を供給する、パターンを有するアノード膜を製造するこ
とができる方法を提供することである。
陽極酸化された表面に一時的に接着されるマスクを使
用するのに対する手段を取らずに、陽極酸化された表面
上に着色パターンを製造することのできる方法を提供す
ることもこの発明の目的であり、好ましい型の少なくと
も１つである。
用するのに対する手段を取らずに、陽極酸化された表面
上に着色パターンを製造することのできる方法を提供す
ることもこの発明の目的であり、好ましい型の少なくと
も１つである。
この発明の更に別の目的は、干渉効果により少なくと
も部分的に発色させる手順により、陽極酸化された表面
上に着色パターンを製造する方法を提供することであ
る。
も部分的に発色させる手順により、陽極酸化された表面
上に着色パターンを製造する方法を提供することであ
る。
本発明の開示 この発明の１つの観点によれば、着色パターンを示す
アノード膜を組み入れた構造を製造する方法であって、
アルミニウム及び陽極酸化可能なアルミニウム合金から
なるグループから選択される陽極酸化可能な金属ででき
たあるいは被覆された基板表面を陽極酸化し、その下の
金属表面上に形成され、空孔を有することが好ましいア
ノード膜を製造する工程と、非貴金属の半−反射層を上
記膜上あるいは膜内に析出させ、該半−反射層からの反
射の寄与により、光の干渉を含む効果により目に見える
色が生成する工程と、マスクレス技術により上記膜の制
限した領域を貴金属化合物の溶液に接触させ、少なくと
も部分的に上記制限された領域内の上記非貴金属を上記
貴金属で置き換え、上記膜の他の領域の該非貴金属は影
響されないままにしておく工程とを含む方法を提供す
る。
アノード膜を組み入れた構造を製造する方法であって、
アルミニウム及び陽極酸化可能なアルミニウム合金から
なるグループから選択される陽極酸化可能な金属ででき
たあるいは被覆された基板表面を陽極酸化し、その下の
金属表面上に形成され、空孔を有することが好ましいア
ノード膜を製造する工程と、非貴金属の半−反射層を上
記膜上あるいは膜内に析出させ、該半−反射層からの反
射の寄与により、光の干渉を含む効果により目に見える
色が生成する工程と、マスクレス技術により上記膜の制
限した領域を貴金属化合物の溶液に接触させ、少なくと
も部分的に上記制限された領域内の上記非貴金属を上記
貴金属で置き換え、上記膜の他の領域の該非貴金属は影
響されないままにしておく工程とを含む方法を提供す
る。
本発明の別の観点によれば、パターンを有するアノー
ド膜を組み入れた構造であって、金属基板と、該基板の
上に位置するアノード膜と、上記膜上あるいは内のその
制限された領域内にあり貴金属の析出物からなる半−反
射層とを含み、上記半−反射層は光の干渉を含む効果に
より目に見える色の発色に寄与し、上記膜は、上記制限
された領域の色とは異なる色を示す、上記制限された領
域以外の領域を含む構造を提供する。
ド膜を組み入れた構造であって、金属基板と、該基板の
上に位置するアノード膜と、上記膜上あるいは内のその
制限された領域内にあり貴金属の析出物からなる半−反
射層とを含み、上記半−反射層は光の干渉を含む効果に
より目に見える色の発色に寄与し、上記膜は、上記制限
された領域の色とは異なる色を示す、上記制限された領
域以外の領域を含む構造を提供する。
本発明の更に別の観点によれば、着色されたパターン
を有するフレキシブルな薄膜であって、薄いフレキシブ
ルな金属基板と、該基板の上に位置するアノード膜と、
上記膜上あるいは内のその制限された領域内にあり貴金
属の析出物からなる半−反射層とを含み、上記半−反射
層は光の干渉を含む効果による目に見える色の発色に寄
与し、上記膜は、上記制限された領域の色とは異なる色
を示す、上記制限された領域以外の領域を含み、更に上
記アノード膜の上に位置しそれを支持する透明のフレキ
シブルな材料の層を含む膜を提供する。
を有するフレキシブルな薄膜であって、薄いフレキシブ
ルな金属基板と、該基板の上に位置するアノード膜と、
上記膜上あるいは内のその制限された領域内にあり貴金
属の析出物からなる半−反射層とを含み、上記半−反射
層は光の干渉を含む効果による目に見える色の発色に寄
与し、上記膜は、上記制限された領域の色とは異なる色
を示す、上記制限された領域以外の領域を含み、更に上
記アノード膜の上に位置しそれを支持する透明のフレキ
シブルな材料の層を含む膜を提供する。
この開示及び添付の請求の範囲全体を通して、異なる
色について説明した場合、この表現は、明瞭に異なる色
と同様、色の明度、色相あるいは単色の彩度の差を含
む、着色領域の認識できる差異ならばどんなものでも含
むことを意味すると認められるべきである。更に、“パ
ターン”という用語またはそれから派生する用語はすべ
て、抽象的な、不規則なまたは規則的なパターン、プリ
ント、マーキング、しるしであれば何でも、または、異
なる外観を有するアノード膜の領域の他の全ての形また
は配列をも含むことを意味すると認められるべきであ
る。
色について説明した場合、この表現は、明瞭に異なる色
と同様、色の明度、色相あるいは単色の彩度の差を含
む、着色領域の認識できる差異ならばどんなものでも含
むことを意味すると認められるべきである。更に、“パ
ターン”という用語またはそれから派生する用語はすべ
て、抽象的な、不規則なまたは規則的なパターン、プリ
ント、マーキング、しるしであれば何でも、または、異
なる外観を有するアノード膜の領域の他の全ての形また
は配列をも含むことを意味すると認められるべきであ
る。
更に、“マスクレス技術”という表現により、アノー
ド膜にマスクを接着する事前の適用を避ける、アノード
膜へ貴金属溶液を適用する技術を意味する。このような
マスクレス技術は貴金属溶液のアノード膜へのフレキソ
印刷、ゴムスタンピング、粗液滴のスプレ塗装、不規則
な点あるいは縞パターンを形成するためのパルススプレ
塗装、ペン、塗装用ブラシまたはスポンジによる適用、
ステンシルによるスプレ塗装、シルクスクリーニングな
どを含む。
ド膜にマスクを接着する事前の適用を避ける、アノード
膜へ貴金属溶液を適用する技術を意味する。このような
マスクレス技術は貴金属溶液のアノード膜へのフレキソ
印刷、ゴムスタンピング、粗液滴のスプレ塗装、不規則
な点あるいは縞パターンを形成するためのパルススプレ
塗装、ペン、塗装用ブラシまたはスポンジによる適用、
ステンシルによるスプレ塗装、シルクスクリーニングな
どを含む。
図面の簡単な説明 図１（Ａ）−（Ｅ）は本発明による好ましい基本方法
における、複数の工程後の、アルミニウム物体はその表
面領域での断面図である。
における、複数の工程後の、アルミニウム物体はその表
面領域での断面図である。
図２は第１の選択の追加工程後の、図１と同様の断面
図である。
図である。
図３は第２の選択の追加工程後の、図１と同様の断面
図である。
図である。
図４は金属物体から脱着可能なアノード膜を製造する
ための、陽極酸化中の最終電圧還元工程後の、図３と同
様の断面図である。
ための、陽極酸化中の最終電圧還元工程後の、図３と同
様の断面図である。
図５は金属物体から脱着され、反射金属の薄層を備え
た図４の膜を示す。
た図４の膜を示す。
図６は本発明の方法により形成されたパターンを有す
る構造の断面図であり、この構造では、金属は膜の空孔
内よりむしろアノード膜の頂上に析出される。
る構造の断面図であり、この構造では、金属は膜の空孔
内よりむしろアノード膜の頂上に析出される。
同じ構成要素は複数の図面を通して同じ参照数字で示
す。
す。
どの特別な図面の様々な構成要素も一定の比例に縮小
して描かれてはいないことに注意しなければならない。
して描かれてはいないことに注意しなければならない。
この発明を実行するための最良の様式 図１（Ａ）−（Ｅ）は本発明にかかる基本的な好まし
い方法の工程を示す。図１（Ａ）は、アノード膜の形成
のための基板として作用し、外表面12を有する、アルミ
ニウムまたは陽極酸化可能なアルミニウム合金でできた
または被覆された物体10を示す。この物体は、例えば、
薄いフレキシブルなの箔、ラミネート、プレート、シー
ト、押し出し、鋳造、形どられた構成要素または装飾の
理由（例えば装飾的な物体または包装として）あるいは
防御（例えば、建築のまたは自動車の適用において使用
するため）のどちらかのために陽極酸化を普通、受ける
種類の他の製造物体としても良い。
い方法の工程を示す。図１（Ａ）は、アノード膜の形成
のための基板として作用し、外表面12を有する、アルミ
ニウムまたは陽極酸化可能なアルミニウム合金でできた
または被覆された物体10を示す。この物体は、例えば、
薄いフレキシブルなの箔、ラミネート、プレート、シー
ト、押し出し、鋳造、形どられた構成要素または装飾の
理由（例えば装飾的な物体または包装として）あるいは
防御（例えば、建築のまたは自動車の適用において使用
するため）のどちらかのために陽極酸化を普通、受ける
種類の他の製造物体としても良い。
図１（Ｂ）に示されるように、基本的な手順では、物
体10は最初に、多孔性陽極酸化工程を受け、物体のその
下の外表面12の上にアノード膜11を形成する。その膜は
膜の外表面15から内側へ、金属物体10に向かって延びる
空孔14を有する。多孔性アノード膜の形成は、従来の様
式で、例えばその表面12を硫酸、燐酸またはクロム酸な
どの無機酸またはシュウ酸などの有機酸、またはそのよ
うな酸の混合物を含む電解質に浸し、その電解質と接触
した電極を備え、電極と物体間に電圧をかけることによ
り、達成することができる。電圧は、AC、DC、AC/DC、
高電圧、低電圧、傾斜電圧などとすることができ、通常
５−110Vの範囲である。しかしながら、陽極酸化の最終
工程は、空孔14の内側の端16が、空孔14中で後の金属の
電着が可能なように、適当な厚さの無孔アノード酸化物
のバリヤ薄層17により、金属物体10から分離されたまま
であるように行われなければならない。その結果、バリ
ヤ層17は20−500オングストロームの範囲の厚さを有
し、50−200オングストロームが好ましい。これは、物
体10が２−50ボルト、好ましくは５−20ボルト、の間の
電圧でアノードを形成し、少なくとも最後の数秒の陽極
酸化をDC条件下で実行することにより達成することがで
きる。
体10は最初に、多孔性陽極酸化工程を受け、物体のその
下の外表面12の上にアノード膜11を形成する。その膜は
膜の外表面15から内側へ、金属物体10に向かって延びる
空孔14を有する。多孔性アノード膜の形成は、従来の様
式で、例えばその表面12を硫酸、燐酸またはクロム酸な
どの無機酸またはシュウ酸などの有機酸、またはそのよ
うな酸の混合物を含む電解質に浸し、その電解質と接触
した電極を備え、電極と物体間に電圧をかけることによ
り、達成することができる。電圧は、AC、DC、AC/DC、
高電圧、低電圧、傾斜電圧などとすることができ、通常
５−110Vの範囲である。しかしながら、陽極酸化の最終
工程は、空孔14の内側の端16が、空孔14中で後の金属の
電着が可能なように、適当な厚さの無孔アノード酸化物
のバリヤ薄層17により、金属物体10から分離されたまま
であるように行われなければならない。その結果、バリ
ヤ層17は20−500オングストロームの範囲の厚さを有
し、50−200オングストロームが好ましい。これは、物
体10が２−50ボルト、好ましくは５−20ボルト、の間の
電圧でアノードを形成し、少なくとも最後の数秒の陽極
酸化をDC条件下で実行することにより達成することがで
きる。
空孔14は図１（Ｂ）に示されるようにその長さの端か
ら端まで均一の厚さとすることができるが、狭い外部と
より広い内部を有する空孔（図示せず）を製造すること
がより好ましい。これにより、より広い部分の金属析出
物がより大きい外表面を有し、これらの表面からより強
い反射が導かれ、このため、干渉効果が高められ、より
強い発色が起きる。この種のいわゆる“トックリ首”の
空孔は、電気分解手順の電解質部の酸を、腐食性の低い
酸（例えば硫酸）からより腐食性の高い酸（例えば燐
酸）に変えることにより製造することができる（この手
順の詳細に対しては、Sheasby達に対する我々の米国特
許第4,066,816号参照のこと）。
ら端まで均一の厚さとすることができるが、狭い外部と
より広い内部を有する空孔（図示せず）を製造すること
がより好ましい。これにより、より広い部分の金属析出
物がより大きい外表面を有し、これらの表面からより強
い反射が導かれ、このため、干渉効果が高められ、より
強い発色が起きる。この種のいわゆる“トックリ首”の
空孔は、電気分解手順の電解質部の酸を、腐食性の低い
酸（例えば硫酸）からより腐食性の高い酸（例えば燐
酸）に変えることにより製造することができる（この手
順の詳細に対しては、Sheasby達に対する我々の米国特
許第4,066,816号参照のこと）。
膜11は、適当な長さの時間、電気分解を実行すること
により、実質的には所望の厚さを有するように製造する
ことができる。装飾的な室内の適用のためには、膜はミ
リメートルの数千分の１（ミクロン）の厚さとすること
ができ、建築あるいは自動車への適用に対しては、膜は
25×10-3mm（25ミクロン）またはそれ以上までの厚さと
することができる。
により、実質的には所望の厚さを有するように製造する
ことができる。装飾的な室内の適用のためには、膜はミ
リメートルの数千分の１（ミクロン）の厚さとすること
ができ、建築あるいは自動車への適用に対しては、膜は
25×10-3mm（25ミクロン）またはそれ以上までの厚さと
することができる。
図１（Ｃ）に示される金属析出物18は、それから電着
技術により空孔14内にその内側の端に導入される。これ
は、例えば上述の我々の米国特許第4,066,816号におい
て説明されている手順により達成することができる。例
えば、陽極酸化された表面を、電解質として適当な金属
塩（例えば、ニッケル、コバルト、スズ、銅、銀、Sn−
Ni及びCu−Niなどの合金、カドミウム、鉄、鉛、マンガ
ン及びモリブデンの塩）の酸性溶液に浸し、対照電極
（例えば、グラファイト、ステンレス鋼、ニッケル、ス
ズまたは銅でできており、電解質は対応する金属塩を含
む）をその溶液と接触させて設け、その物体と対照電極
間に交流電圧を適用することができる。
技術により空孔14内にその内側の端に導入される。これ
は、例えば上述の我々の米国特許第4,066,816号におい
て説明されている手順により達成することができる。例
えば、陽極酸化された表面を、電解質として適当な金属
塩（例えば、ニッケル、コバルト、スズ、銅、銀、Sn−
Ni及びCu−Niなどの合金、カドミウム、鉄、鉛、マンガ
ン及びモリブデンの塩）の酸性溶液に浸し、対照電極
（例えば、グラファイト、ステンレス鋼、ニッケル、ス
ズまたは銅でできており、電解質は対応する金属塩を含
む）をその溶液と接触させて設け、その物体と対照電極
間に交流電圧を適用することができる。
図１（Ｃ）に示されるように、電着は通常、空孔14が
完全に充填されるまでは続けず、もしろ、析出物18の外
側の端19が500−3000オングストローム（0.05−0.3×10
-3mm）のオーダーの距離でその下の金属表面12（酸化物
／金属接触面）から分離されている半−反射面を集合的
に形成するまで続けられる。光学的な干渉がその後、析
出物18の表面19とその下の金属の表面12からの反射光の
間で起きる。この結果、干渉色が生成され、その外観は
２つの表面から反射される光の光路の差に大きく依存す
るが、部分的には析出物18の光吸収特性にも依存する。
この発明は、大部分が干渉効果による発色を基本として
いるので、少量の金属のみが析出される必要があり、そ
のため短期間及び／または低電圧析出が一般に使用され
る。その結果、電着金属の密度及び析出物の高さに依存
して、青−灰、黄−緑、だいだい及び紫を含む魅力的な
色の範囲が得られる。
完全に充填されるまでは続けず、もしろ、析出物18の外
側の端19が500−3000オングストローム（0.05−0.3×10
-3mm）のオーダーの距離でその下の金属表面12（酸化物
／金属接触面）から分離されている半−反射面を集合的
に形成するまで続けられる。光学的な干渉がその後、析
出物18の表面19とその下の金属の表面12からの反射光の
間で起きる。この結果、干渉色が生成され、その外観は
２つの表面から反射される光の光路の差に大きく依存す
るが、部分的には析出物18の光吸収特性にも依存する。
この発明は、大部分が干渉効果による発色を基本として
いるので、少量の金属のみが析出される必要があり、そ
のため短期間及び／または低電圧析出が一般に使用され
る。その結果、電着金属の密度及び析出物の高さに依存
して、青−灰、黄−緑、だいだい及び紫を含む魅力的な
色の範囲が得られる。
析出物18の空孔への導入に続いて、アノード膜11の表
面15の制限された領域がマスクレス技術により、0.05−
100g/lの濃度、好ましくは0.2−10g/lの、白金、パラジ
ウム、金など、好ましくはパラジウム、の貴金属の溶解
塩を含む溶液20に接触される。溶液20により接触される
空孔中の元々ある析出物18は貴金属の析出のためのシー
ドとして作用し、少なくとも一部は溶液中の貴金属と置
換される。結果として、図１（Ｅ）において陰のつけか
たの違いにより示されるように、処理された領域の析出
物21は未処理の領域の析出物18とは異なる。これらの違
いにより、光の吸収の差が生じ、処理及び未処理領域の
認められる色の差が生じる。今のところ、最も大きな色
の対照は析出物に銀を、貴金属接触溶液中にPd塩を使用
した場合に得られる。黄から紫への色の変化はその後、
貴金属溶液を適用すると製造することができる。
面15の制限された領域がマスクレス技術により、0.05−
100g/lの濃度、好ましくは0.2−10g/lの、白金、パラジ
ウム、金など、好ましくはパラジウム、の貴金属の溶解
塩を含む溶液20に接触される。溶液20により接触される
空孔中の元々ある析出物18は貴金属の析出のためのシー
ドとして作用し、少なくとも一部は溶液中の貴金属と置
換される。結果として、図１（Ｅ）において陰のつけか
たの違いにより示されるように、処理された領域の析出
物21は未処理の領域の析出物18とは異なる。これらの違
いにより、光の吸収の差が生じ、処理及び未処理領域の
認められる色の差が生じる。今のところ、最も大きな色
の対照は析出物に銀を、貴金属接触溶液中にPd塩を使用
した場合に得られる。黄から紫への色の変化はその後、
貴金属溶液を適用すると製造することができる。
必要な溶液20の量は非常に少ないため、及びその溶液
が電極等と接触する必要はないため、溶液20は表面15へ
マスクを接着する事前の適用の必要無く適用することが
できるが、表面15と例えば、スプレ塗装、はり塗りまた
は拭い操作により適用される溶液20間の接触領域を制限
するためにステンシルまたはシルクスクリーンなどの非
接着マスクを使用することができる。しかしながら、溶
液が、例えばフレキソ印刷、ゴムスタンピング、塗布、
フローイング、拭い操作、粗スプレ塗装（表面15上で分
離された液滴を形成する）またはパルススプレ塗装など
の適用領域を限定する技術により適用される場合、この
ような非接着マスクさえも必要ないだろう。適用される
溶液20は通常、非常に少量であるため、直ちに乾燥し、
そのため、パターンの不鮮明化は避けることができる。
更に、溶液が低濃度の貴金属を含有している場合は、貴
金属のほとんどが直ちに接触した析出物上に沈澱し、そ
の溶液から除去され、そのためその後の（例えば、脱イ
オン水を用いた）洗浄によりパターンが不鮮明になるこ
とはない。
が電極等と接触する必要はないため、溶液20は表面15へ
マスクを接着する事前の適用の必要無く適用することが
できるが、表面15と例えば、スプレ塗装、はり塗りまた
は拭い操作により適用される溶液20間の接触領域を制限
するためにステンシルまたはシルクスクリーンなどの非
接着マスクを使用することができる。しかしながら、溶
液が、例えばフレキソ印刷、ゴムスタンピング、塗布、
フローイング、拭い操作、粗スプレ塗装（表面15上で分
離された液滴を形成する）またはパルススプレ塗装など
の適用領域を限定する技術により適用される場合、この
ような非接着マスクさえも必要ないだろう。適用される
溶液20は通常、非常に少量であるため、直ちに乾燥し、
そのため、パターンの不鮮明化は避けることができる。
更に、溶液が低濃度の貴金属を含有している場合は、貴
金属のほとんどが直ちに接触した析出物上に沈澱し、そ
の溶液から除去され、そのためその後の（例えば、脱イ
オン水を用いた）洗浄によりパターンが不鮮明になるこ
とはない。
その結果得られる対照色のパターンを有する物体は、
所望であれば、更に処理工程を経ること無しに使用する
ことができ、このように得られた色は青銅色の上のこげ
茶、青の上の灰色、灰色の上の茶または黄色などを含
む。しかしながら、普通、例えば、中性pHでまたはその
付近での近沸騰水中への浸漬などの陽極酸化処理後に実
行される通常の空孔−密閉工程を採用することができ、
及び／または表面15は接着剤によりまたはヒートシール
により接着された防御透明膜（図示せず）で被覆するこ
とができる。このような膜は、通常、例えばポリエステ
ルなどでできた高分子シートとすることができる。
所望であれば、更に処理工程を経ること無しに使用する
ことができ、このように得られた色は青銅色の上のこげ
茶、青の上の灰色、灰色の上の茶または黄色などを含
む。しかしながら、普通、例えば、中性pHでまたはその
付近での近沸騰水中への浸漬などの陽極酸化処理後に実
行される通常の空孔−密閉工程を採用することができ、
及び／または表面15は接着剤によりまたはヒートシール
により接着された防御透明膜（図示せず）で被覆するこ
とができる。このような膜は、通常、例えばポリエステ
ルなどでできた高分子シートとすることができる。
貴金属析出物21は安定しており、このため、退色また
は色の一様性の損失も受けない。残りの析出物18は従来
のANOLOK処理における析出物と同様の永続性を有し、こ
のため、その後の処理工程中に浸出が起きることがあ
る。析出物18は、空孔密閉またはラミネート加工段階前
のクロメート溶液による最終洗浄により、浸出に対しよ
り耐性を有するように製造することができる。
は色の一様性の損失も受けない。残りの析出物18は従来
のANOLOK処理における析出物と同様の永続性を有し、こ
のため、その後の処理工程中に浸出が起きることがあ
る。析出物18は、空孔密閉またはラミネート加工段階前
のクロメート溶液による最終洗浄により、浸出に対しよ
り耐性を有するように製造することができる。
所望であれば、金属物体10の表面の前処理を行うこと
により、上述の基本手順により製造されたパターン物体
に、更に視覚効果を付与することができる。例えば、サ
テン仕上げを付与するためには苛性エッチングを使用す
ることができ、光輝仕上げを付与するためには機械的ま
たは化学的磨きを使用することができ、または半光沢仕
上げを付与するためにはサンドブラストを実行すること
ができる、などである。
により、上述の基本手順により製造されたパターン物体
に、更に視覚効果を付与することができる。例えば、サ
テン仕上げを付与するためには苛性エッチングを使用す
ることができ、光輝仕上げを付与するためには機械的ま
たは化学的磨きを使用することができ、または半光沢仕
上げを付与するためにはサンドブラストを実行すること
ができる、などである。
好ましい基本方法として説明した、図１に示される工
程は、それ自体で、魅力的なパターンを有する物体を製
造することができるが、追加の色、外観及び色の組み合
わせを製造するために、所望であれば、更なる工程及び
方法を実行することができる。
程は、それ自体で、魅力的なパターンを有する物体を製
造することができるが、追加の色、外観及び色の組み合
わせを製造するために、所望であれば、更なる工程及び
方法を実行することができる。
例えば、無色または白色の背景上に着色された領域を
有する構造は、図１（Ｅ）の構造の空孔密閉、二クロム
酸処理またはラミネート加工前に、非貴金属析出物を空
孔14から除去することにより製造すことができる。析出
物18は、例えば、実質的には貴金属析出物21に何の影響
も及ぼさないで析出物18を浸出させる酸化及び／または
酸性溶液に多孔質膜を暴露させることにより、除去する
ことができる。このような浸出工程は、広く発色は光の
干渉効果に依存しているという事実を考慮すると、析出
物18が通常はそれほど量が多くないので、困難ではな
い。更に、この工程が意図される場合、析出物のために
選択された金属は浸出に対し低い耐性を有することが好
ましく、例えばコバルトが挙げられる。
有する構造は、図１（Ｅ）の構造の空孔密閉、二クロム
酸処理またはラミネート加工前に、非貴金属析出物を空
孔14から除去することにより製造すことができる。析出
物18は、例えば、実質的には貴金属析出物21に何の影響
も及ぼさないで析出物18を浸出させる酸化及び／または
酸性溶液に多孔質膜を暴露させることにより、除去する
ことができる。このような浸出工程は、広く発色は光の
干渉効果に依存しているという事実を考慮すると、析出
物18が通常はそれほど量が多くないので、困難ではな
い。更に、この工程が意図される場合、析出物のために
選択された金属は浸出に対し低い耐性を有することが好
ましく、例えばコバルトが挙げられる。
酸性水溶液は浸出工程のために使用することができ、
構造は溶液に浸すかあるいはその溶液を膜11にスプレ塗
装するかまたは注ぐことができる。５％硝酸溶液は、非
貴金属析出物を浸出させるのに、ほんの１−５分必要で
ある。アノード酸化物膜が使用できないほどに損害を受
けなければ、他の酸、オキシダントなども使用すること
ができる。
構造は溶液に浸すかあるいはその溶液を膜11にスプレ塗
装するかまたは注ぐことができる。５％硝酸溶液は、非
貴金属析出物を浸出させるのに、ほんの１−５分必要で
ある。アノード酸化物膜が使用できないほどに損害を受
けなければ、他の酸、オキシダントなども使用すること
ができる。
結果的に得られる膜を図２に示す。図において、空の
空孔14を有する膜の領域は無色であり、析出物21を有す
る制限された領域は着色された外観を示す。制限された
領域内で生成することのできる色は基本的には我々の依
然の米国特許第4,068,816号に説明されているようなも
のである（特に実施例４及び５）。
空孔14を有する膜の領域は無色であり、析出物21を有す
る制限された領域は着色された外観を示す。制限された
領域内で生成することのできる色は基本的には我々の依
然の米国特許第4,068,816号に説明されているようなも
のである（特に実施例４及び５）。
密閉、ラミネート加工または二クロム酸処理の前に、
図１（Ｅ）の構造に対し更に陽極酸化工程を実行するこ
とにより、無色の背景に対し更に有色の範囲を有する構
造を製造することもできる。このような工程は、Sheasb
yたちへの我々の前の米国特許4,310,586号で開示されて
いる方法と同様である。更なる陽極酸化段階のために使
用される電解質は最初の陽極酸化工程のために上述した
ものの１つでもよいが、少なくとも部分的に非貴金属析
出物18を空孔14から浸出させるものであり、一方、貴金
属析出物21には影響を与えず、そのため、全体的な結果
は上述の簡単な処理と同様である。しかしながら、追加
の陽極酸化段階により膜11は厚くなり、残りの析出物21
のその下の金属表面12からの分離は大きくなる。これに
より、析出物21及び表面12により形成される半−反射表
面からの反射により生成される干渉効果が変化する。追
加の陽極酸化のために使用される電圧は存在するバリヤ
層17及び金属析出物18及び21により課せられる電気抵抗
を克服するのに十分なものでなければならない。一般
に、電圧は図１（Ｂ）の構造を形成するために使用され
る最終電圧と同じまたはより大きくなければならない。
図１（Ｅ）の構造に対し更に陽極酸化工程を実行するこ
とにより、無色の背景に対し更に有色の範囲を有する構
造を製造することもできる。このような工程は、Sheasb
yたちへの我々の前の米国特許4,310,586号で開示されて
いる方法と同様である。更なる陽極酸化段階のために使
用される電解質は最初の陽極酸化工程のために上述した
ものの１つでもよいが、少なくとも部分的に非貴金属析
出物18を空孔14から浸出させるものであり、一方、貴金
属析出物21には影響を与えず、そのため、全体的な結果
は上述の簡単な処理と同様である。しかしながら、追加
の陽極酸化段階により膜11は厚くなり、残りの析出物21
のその下の金属表面12からの分離は大きくなる。これに
より、析出物21及び表面12により形成される半−反射表
面からの反射により生成される干渉効果が変化する。追
加の陽極酸化のために使用される電圧は存在するバリヤ
層17及び金属析出物18及び21により課せられる電気抵抗
を克服するのに十分なものでなければならない。一般
に、電圧は図１（Ｂ）の構造を形成するために使用され
る最終電圧と同じまたはより大きくなければならない。
その結果得られる膜は図３に示される構造を有する。
析出物21の下の膜の厚さの増加（それぞれ、図２及び図
３の距離“x"及び“y"を比較せよ）により、上述の理由
のために追加の干渉色が生成される。このような干渉色
が製造されるために、析出物21の下で成長する膜11の追
加の層は１ミクロン以下、好ましくは0.05−0.75×10-3
mm（0.05−0.75ミクロン）、に維持されなければならな
い。このようにして得られる色は明るい青、赤、緑、
紫、オレンジなどであり、電着金属としばしば結合する
“泥色”または青銅色は入っていない。
析出物21の下の膜の厚さの増加（それぞれ、図２及び図
３の距離“x"及び“y"を比較せよ）により、上述の理由
のために追加の干渉色が生成される。このような干渉色
が製造されるために、析出物21の下で成長する膜11の追
加の層は１ミクロン以下、好ましくは0.05−0.75×10-3
mm（0.05−0.75ミクロン）、に維持されなければならな
い。このようにして得られる色は明るい青、赤、緑、
紫、オレンジなどであり、電着金属としばしば結合する
“泥色”または青銅色は入っていない。
所望であれば、着色背景上に着色領域を有する構造を
製造するために、更に別の方法を実行することができ
る。これは図１（ｅ）の構造であれば、その構造を改良
してパターンを有する領域及び背景領域の両方の着色範
囲を増加させることができる。これは、以下に示す様な
いくつかの方法で達成することができる。
製造するために、更に別の方法を実行することができ
る。これは図１（ｅ）の構造であれば、その構造を改良
してパターンを有する領域及び背景領域の両方の着色範
囲を増加させることができる。これは、以下に示す様な
いくつかの方法で達成することができる。
まず第一に、非貴金属析出物18を、上述の型のその後
の浸出工程またはその後の陽極酸化工程中に、一部分だ
け空孔14から浸出させる。析出物18の部分的な浸出は、
浸出に対し中程度の耐性を有する非貴金属、例えばSn−
Ni及びCu−Ni合金、を用いることにより、あるいは析出
物の完全な除去のために使用される酸より攻撃性の低い
浸出溶液または電解質中の酸を用いることにより、達成
することができる。その結果得られる構造は、しばしば
同じであるが彩度の低い色の背景上に着色されたパター
ンを呈示する。構造は図２及び図３のものと同様である
が、これらの図において示される空の空孔14が少量の析
出物を含む。
の浸出工程またはその後の陽極酸化工程中に、一部分だ
け空孔14から浸出させる。析出物18の部分的な浸出は、
浸出に対し中程度の耐性を有する非貴金属、例えばSn−
Ni及びCu−Ni合金、を用いることにより、あるいは析出
物の完全な除去のために使用される酸より攻撃性の低い
浸出溶液または電解質中の酸を用いることにより、達成
することができる。その結果得られる構造は、しばしば
同じであるが彩度の低い色の背景上に着色されたパター
ンを呈示する。構造は図２及び図３のものと同様である
が、これらの図において示される空の空孔14が少量の析
出物を含む。
この方法を更に改良したものにおいては、図１（Ｅ）
の構造が、図３の構造に導く方法におけるように、更に
陽極酸化を受けるようにすることができるが、更なる陽
極酸化は、非貴金属析出物18が空孔14からの完全に除去
される前に中断することができ、その後、完全な膜11は
貴金属塩溶液と接触することができ、部分的に浸出され
析出物18を貴金属と（少なくとも部分的に）置き換える
ことができる。それから、部分的に浸出された析出物を
更に損失すること無く、更なる陽極酸化工程を続けるこ
とができ、このため背景の色の彩度を維持する一方、厚
くされた膜11の製造によりパターンを有する領域及び背
景領域において追加の色が発生することが可能となる。
これは、最初の析出部18を形成する高酸耐性金属を使用
せずに、パターンを有する領域及び背景領域の両方にお
いてより大きな着色領域を製造することができるという
点で有利である。
の構造が、図３の構造に導く方法におけるように、更に
陽極酸化を受けるようにすることができるが、更なる陽
極酸化は、非貴金属析出物18が空孔14からの完全に除去
される前に中断することができ、その後、完全な膜11は
貴金属塩溶液と接触することができ、部分的に浸出され
析出物18を貴金属と（少なくとも部分的に）置き換える
ことができる。それから、部分的に浸出された析出物を
更に損失すること無く、更なる陽極酸化工程を続けるこ
とができ、このため背景の色の彩度を維持する一方、厚
くされた膜11の製造によりパターンを有する領域及び背
景領域において追加の色が発生することが可能となる。
これは、最初の析出部18を形成する高酸耐性金属を使用
せずに、パターンを有する領域及び背景領域の両方にお
いてより大きな着色領域を製造することができるという
点で有利である。
最後に、１つの色のパターンを異なる彩度を有する同
じ色の背景上に有する構造は、単に、図１（Ｅ）の構造
の表面全体を貴金属塩の希薄溶液と接触させることによ
り、製造することができる。これにより、少なくとも部
分的には残りの析出物18が貴金属に変換され、このた
め、浸出に対し耐性を持つものにされる一方、パターン
を有する領域と背景の間の色の彩度の違いは維持され
る。
じ色の背景上に有する構造は、単に、図１（Ｅ）の構造
の表面全体を貴金属塩の希薄溶液と接触させることによ
り、製造することができる。これにより、少なくとも部
分的には残りの析出物18が貴金属に変換され、このた
め、浸出に対し耐性を持つものにされる一方、パターン
を有する領域と背景の間の色の彩度の違いは維持され
る。
上記手順は全てアルミニウムまたはアルミニウム合金
でできたまたは被覆された物体（基板）上のパターンを
有する陽極酸化された表面の製造に関するものである。
しかしながら、本発明の方法は、アルミニウム含有物体
上に形成されたパターンを有するアノード膜構造をその
物体から分離してなる該膜構造を形成するために、使用
することができる。この発明は、以下に示されたように
して製造することのできる、このような分離されたパタ
ーンを有する膜の形成も含む。
でできたまたは被覆された物体（基板）上のパターンを
有する陽極酸化された表面の製造に関するものである。
しかしながら、本発明の方法は、アルミニウム含有物体
上に形成されたパターンを有するアノード膜構造をその
物体から分離してなる該膜構造を形成するために、使用
することができる。この発明は、以下に示されたように
して製造することのできる、このような分離されたパタ
ーンを有する膜の形成も含む。
以上で説明された構造、例えば図１（Ｅ）、図２、図
３の構造または部分的に浸出された構造、のいずれか１
つは、形成方法の最終陽極酸化工程の一部としてあるい
は弱められた層を金属／酸化物接触面12での構造に導入
する電圧減少手順を含む別の最終工程として、最終的な
陽極酸化段階を受けるようにすることができる。この種
の電圧減少手順は、1986年４月23日に公開された我々の
欧州特許出願第0,178,831号に開示されている。開始電
圧は、前に使用された最も高い陽極酸化電圧より高いま
たは同じでなければならない。電圧はそれから、ゼロに
近づくまで、連続的にあるいは段階的に減少される。膜
は電圧減少工程の間、または減少が進行している間、酸
性電解質中に浸漬される。この結果、例えば、図４（図
３の構造に関して電圧減少手順を実行した場合の結果を
示す）に示されるような空孔14の内側の端で、空孔の枝
分かれ減少が起きる。空孔14はその下の金属表面12に隣
接する多くの狭いチャネル14Aに分かれ、これにより、
バリヤ層17（図１（Ｂ））の厚さが減少し、膜11は非常
に容易に金属物体10から分離できるようになる。
３の構造または部分的に浸出された構造、のいずれか１
つは、形成方法の最終陽極酸化工程の一部としてあるい
は弱められた層を金属／酸化物接触面12での構造に導入
する電圧減少手順を含む別の最終工程として、最終的な
陽極酸化段階を受けるようにすることができる。この種
の電圧減少手順は、1986年４月23日に公開された我々の
欧州特許出願第0,178,831号に開示されている。開始電
圧は、前に使用された最も高い陽極酸化電圧より高いま
たは同じでなければならない。電圧はそれから、ゼロに
近づくまで、連続的にあるいは段階的に減少される。膜
は電圧減少工程の間、または減少が進行している間、酸
性電解質中に浸漬される。この結果、例えば、図４（図
３の構造に関して電圧減少手順を実行した場合の結果を
示す）に示されるような空孔14の内側の端で、空孔の枝
分かれ減少が起きる。空孔14はその下の金属表面12に隣
接する多くの狭いチャネル14Aに分かれ、これにより、
バリヤ層17（図１（Ｂ））の厚さが減少し、膜11は非常
に容易に金属物体10から分離できるようになる。
図４に示されるように、フレキシブルな透明被覆層25
が、その後、アノード膜に接着される。例えば高分子
（例えばポリエステルなどの）膜がヒートシールにより
または接着剤により適用される。そのフレキシブルな被
覆層25はその後、引っ張りまたは剥離により膜11を金属
物体10から分離するのに使用される。図５に示されるよ
うに、膜はいったん物体10から分離されると、スパッタ
リングまたは他の真空蒸着技術により、暴露される膜表
面に対し反対金属層26が適用され、発色のために必要な
反射を提供する。層26のために使用される金属はアルミ
ニウム含有金属である必要はなく、１ミクロンの厚さの
断片であればよいが、より大きな耐久性を所望の場合は
より厚くすることもできる。結果的に得られる構造はフ
レキシブルな透明層25と薄いフレキシブルな金属層26に
はさまれた分離アノード膜11を含む。発色表面はその位
置のままであるので、透明な膜25を通して観ると、膜11
は着色されたまたは無色の背景に対し、着色されたパタ
ーンを有するのは明らかである。このような構造を、例
えばパターンを有する包装膜として、使用することがで
きる。
が、その後、アノード膜に接着される。例えば高分子
（例えばポリエステルなどの）膜がヒートシールにより
または接着剤により適用される。そのフレキシブルな被
覆層25はその後、引っ張りまたは剥離により膜11を金属
物体10から分離するのに使用される。図５に示されるよ
うに、膜はいったん物体10から分離されると、スパッタ
リングまたは他の真空蒸着技術により、暴露される膜表
面に対し反対金属層26が適用され、発色のために必要な
反射を提供する。層26のために使用される金属はアルミ
ニウム含有金属である必要はなく、１ミクロンの厚さの
断片であればよいが、より大きな耐久性を所望の場合は
より厚くすることもできる。結果的に得られる構造はフ
レキシブルな透明層25と薄いフレキシブルな金属層26に
はさまれた分離アノード膜11を含む。発色表面はその位
置のままであるので、透明な膜25を通して観ると、膜11
は着色されたまたは無色の背景に対し、着色されたパタ
ーンを有するのは明らかである。このような構造を、例
えばパターンを有する包装膜として、使用することがで
きる。
最終的な問題点として、膜11が図１（Ｂ）に示される
ように１つの構造中で適当に薄く作られた場合、不連続
な（半−反射性の）金属層は、空孔14内に電着により析
出されるよりむしろ、膜11の外側の表面に適用される。
この種の層は、例えばスパッタリングまたは他の真空蒸
着技術により形成することができる。金属層のパターン
を有する領域はその後、貴金属溶液で処理することがで
き、それから前述のように追加の工程を実行することが
できる。図２の構造となる工程と同様の工程により、こ
のようにして製造された典型的な構造を図６に示す。こ
の場合、半−反射層27とその下の金属表面12の間の分離
は十分小さく（例えば１ミクロン以下）、干渉はこれら
の表面から反射された光の間で起きる。金属層27は暴露
される上に非常に薄いので、ラッカーまたは高分子膜な
どの透明材料でできた層29により防御されることが好ま
しい。
ように１つの構造中で適当に薄く作られた場合、不連続
な（半−反射性の）金属層は、空孔14内に電着により析
出されるよりむしろ、膜11の外側の表面に適用される。
この種の層は、例えばスパッタリングまたは他の真空蒸
着技術により形成することができる。金属層のパターン
を有する領域はその後、貴金属溶液で処理することがで
き、それから前述のように追加の工程を実行することが
できる。図２の構造となる工程と同様の工程により、こ
のようにして製造された典型的な構造を図６に示す。こ
の場合、半−反射層27とその下の金属表面12の間の分離
は十分小さく（例えば１ミクロン以下）、干渉はこれら
の表面から反射された光の間で起きる。金属層27は暴露
される上に非常に薄いので、ラッカーまたは高分子膜な
どの透明材料でできた層29により防御されることが好ま
しい。
膜11はこの発明の型においては非常に薄いことが必要
であるため、多孔性膜よりもむしろ無孔バリヤ層となる
陽極酸化手順を使用するのがよい。前述したように、こ
の型の無孔膜は、無酸または弱酸電解質中での陽極酸化
により製造することができ、バリヤ層の厚さは陽極酸化
工程のために使用される電圧により決定される。0.05−
0.25×10-3（0.05−0.25ミクロン）の範囲の厚さの膜が
このようにして製造することができる。
であるため、多孔性膜よりもむしろ無孔バリヤ層となる
陽極酸化手順を使用するのがよい。前述したように、こ
の型の無孔膜は、無酸または弱酸電解質中での陽極酸化
により製造することができ、バリヤ層の厚さは陽極酸化
工程のために使用される電圧により決定される。0.05−
0.25×10-3（0.05−0.25ミクロン）の範囲の厚さの膜が
このようにして製造することができる。
膜の厚さなどに依存して、この発明により製造される
パターンは時として二色性または光学的に可変なものと
なる（すなわち、パターンは異なる観察角度では異なる
色を示す）。このような効果はカラー写真複写などでは
再生できないので、これはある適用、例えば安全の適
用、に対しては非常に有効である。
パターンは時として二色性または光学的に可変なものと
なる（すなわち、パターンは異なる観察角度では異なる
色を示す）。このような効果はカラー写真複写などでは
再生できないので、これはある適用、例えば安全の適
用、に対しては非常に有効である。
この発明は下記の限定しない実施例により、より詳細
に説明する。
に説明する。
実施例１ この実施例では、無色の背景上の、明確な、光学的に
可変な着色パターンを製造した。
可変な着色パターンを製造した。
アルミニウム箔／ポリエステルラミネートを10V D
C、21℃で３分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化した。それ
から、洗浄し、更に２分間、10V DC、21℃で、1M H3P
O4中で再−陽極酸化した。良く洗浄した後、ニッケル
を、9V ACピーク、60Hzでの30秒の処理を用いて、標準
ニッケルANOLOK溶液（25g/lの硫酸ニッケル５水和物、2
0g/lの硫酸マグネシウム５水和物、25g/lのホウ酸、15g
/lの硫酸アンモニウム）から多孔質酸化物中に電着し
た。洗浄して空気乾燥した後、10g/lのPdCl2を含む溶液
を、フレキソ印刷を用いて、表面上に規定されたパター
ンでロール印刷した。乾燥後、ラミネートを再び、硫酸
溶液中に導入し、12.5V DCで130秒間、陽極酸化した。
それから、ラミネートを洗浄し、密閉した。
C、21℃で３分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化した。それ
から、洗浄し、更に２分間、10V DC、21℃で、1M H3P
O4中で再−陽極酸化した。良く洗浄した後、ニッケル
を、9V ACピーク、60Hzでの30秒の処理を用いて、標準
ニッケルANOLOK溶液（25g/lの硫酸ニッケル５水和物、2
0g/lの硫酸マグネシウム５水和物、25g/lのホウ酸、15g
/lの硫酸アンモニウム）から多孔質酸化物中に電着し
た。洗浄して空気乾燥した後、10g/lのPdCl2を含む溶液
を、フレキソ印刷を用いて、表面上に規定されたパター
ンでロール印刷した。乾燥後、ラミネートを再び、硫酸
溶液中に導入し、12.5V DCで130秒間、陽極酸化した。
それから、ラミネートを洗浄し、密閉した。
その結果得られた緑のパターンは、45゜の角度で観る
と紫色を呈した。
と紫色を呈した。
実施例２ この実施例では、無色の背景上の、明確な、青色のパ
ターンを製造した（予備の陽極酸化工程は無）。
ターンを製造した（予備の陽極酸化工程は無）。
アルミニウム箔／ポリエステルラミネートを10V D
C、21℃で１分半の間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良
く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、60Hzでの30
秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１
参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾
燥した後、2g/lのPdCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。乾燥後、ラミネートを、12.5V DCで90秒間、1.5M
21℃の硫酸中で陽極酸化した。それから、ラミネート
を洗浄し、密閉した。
C、21℃で１分半の間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良
く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、60Hzでの30
秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１
参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾
燥した後、2g/lのPdCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。乾燥後、ラミネートを、12.5V DCで90秒間、1.5M
21℃の硫酸中で陽極酸化した。それから、ラミネート
を洗浄し、密閉した。
実施例３ この実施例では、無色の背景上に、明確な、紫色のパ
ターンを製造した（単一酸陽極酸化であり、予備の陽極
酸化工程は無）。
ターンを製造した（単一酸陽極酸化であり、予備の陽極
酸化工程は無）。
アルミニウム箔／ポリエステルラミネートを10V D
C、21℃で１分半の間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良
く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、60Hzでの30
秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１
参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾
燥した後、2g/lのPdCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。乾燥後、ラミネートを、12.5V DCで８分間、初め
の酸中で陽極酸化した。それから、ラミネートを洗浄
し、密閉した。
C、21℃で１分半の間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良
く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、60Hzでの30
秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１
参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾
燥した後、2g/lのPdCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。乾燥後、ラミネートを、12.5V DCで８分間、初め
の酸中で陽極酸化した。それから、ラミネートを洗浄
し、密閉した。
実施例４ この実施例では、着色された背景上に、明確な、光学
的に可変なパターンを製造した。
的に可変なパターンを製造した。
アルミニウム箔／ポリエステルラミネートを15V D
C、21℃で２分間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗
浄した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの20秒
の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、0.5g/lのAuClを含む溶液を、フレキソ印刷を用
いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷した。
乾燥後、ラミネートを、15V DCで110秒間、21℃の1.5M
の硫酸中で陽極酸化した。この陽極酸化期間は10秒の点
で中断され、その時にラミネートは除去され、１分間30
0ppmのPdSO4溶液中に浸漬される。陽極酸化後、ラミネ
ートを洗浄し、密閉した。
C、21℃で２分間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗
浄した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの20秒
の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、0.5g/lのAuClを含む溶液を、フレキソ印刷を用
いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷した。
乾燥後、ラミネートを、15V DCで110秒間、21℃の1.5M
の硫酸中で陽極酸化した。この陽極酸化期間は10秒の点
で中断され、その時にラミネートは除去され、１分間30
0ppmのPdSO4溶液中に浸漬される。陽極酸化後、ラミネ
ートを洗浄し、密閉した。
その結果得られたピンクのパターンは、45゜の角度で
観ると、黄色に変化した。背景色もまたピンクであった
が、パターンに比べ彩度が低かった。
観ると、黄色に変化した。背景色もまたピンクであった
が、パターンに比べ彩度が低かった。
実施例５ この実施例では、無色の建築10級アルミニウム押し出
し成形品上のランダムな青銅色ドット／縞パターンを製
造した。
し成形品上のランダムな青銅色ドット／縞パターンを製
造した。
写真にフレームをつけるのに使用される型の合金6063
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で3
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、10ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、更に３分間、15V
DC、21℃で1M H3PO4中で再陽極酸化した。良く洗浄
した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの25秒の
処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、5g/lのPdCl2を含む溶液の小滴を、媒体の青銅
色の表面上に勢い良く塗り付けた。それから、押し出し
成形品を、20分間、酸性（pH2）洗浄水中に浸漬させ、
その間に全ての非接触金属析出物が膜から浸出した。そ
れから、押し出し成形品を沸騰水中で密閉した。
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で3
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、10ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、更に３分間、15V
DC、21℃で1M H3PO4中で再陽極酸化した。良く洗浄
した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの25秒の
処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、5g/lのPdCl2を含む溶液の小滴を、媒体の青銅
色の表面上に勢い良く塗り付けた。それから、押し出し
成形品を、20分間、酸性（pH2）洗浄水中に浸漬させ、
その間に全ての非接触金属析出物が膜から浸出した。そ
れから、押し出し成形品を沸騰水中で密閉した。
実施例６ この実施例では、無色の建築10級アルミニウム押し出
し成形品上の、はっきりした、彩度の高い青／灰色パタ
ーンを製造した。
し成形品上の、はっきりした、彩度の高い青／灰色パタ
ーンを製造した。
写真にフレームをつけるのに使用される型の合金6063
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で3
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、10ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、更に３分間、15V
DC、21℃で1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗浄し
た後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの75秒の処
理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参照）
から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥した
後、0.5g/lのAuClを含む溶液を、フレキソ印刷を用い
て、青／灰色表面上に規定されたパターンでロール印刷
した。それから、押し出し成形品を、４分間、５％ V/
V HNO3中に浸漬させ、その間に全ての非接触金属析出
物が膜から浸出した。それから、押し出し成形品を沸騰
水中で密閉した。
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で3
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、10ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、更に３分間、15V
DC、21℃で1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗浄し
た後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの75秒の処
理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参照）
から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥した
後、0.5g/lのAuClを含む溶液を、フレキソ印刷を用い
て、青／灰色表面上に規定されたパターンでロール印刷
した。それから、押し出し成形品を、４分間、５％ V/
V HNO3中に浸漬させ、その間に全ての非接触金属析出
物が膜から浸出した。それから、押し出し成形品を沸騰
水中で密閉した。
実施例７ この実施例では、無色の建築10級アルミニウム押し出
し成形品上の、はけ塗りした着色パターン（紫）を製造
した。
し成形品上の、はけ塗りした着色パターン（紫）を製造
した。
写真にフレームをつけるのに使用される型の合金6063
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で6
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、20ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、10V ACで３分
間、その後10V DCで１分間、１℃で1M H3PO4中で再陽
極酸化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピー
ク、60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK
溶液（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。
洗浄して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液
を、表面上にはっきりした領域ではけ塗りした。空気乾
燥した後、その製品を、120秒間、10V DCで、最初の硫
酸溶液中で陽極酸化した。それから、洗浄し、沸騰水中
で密閉した。
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で6
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、20ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、10V ACで３分
間、その後10V DCで１分間、１℃で1M H3PO4中で再陽
極酸化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピー
ク、60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK
溶液（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。
洗浄して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液
を、表面上にはっきりした領域ではけ塗りした。空気乾
燥した後、その製品を、120秒間、10V DCで、最初の硫
酸溶液中で陽極酸化した。それから、洗浄し、沸騰水中
で密閉した。
実施例８ この実施例では、着色された建築10級アルミニウム押
し出し成形品上の、はけ塗りした二重トーンの青銅色パ
ターンを製造した。
し出し成形品上の、はけ塗りした二重トーンの青銅色パ
ターンを製造した。
写真にフレームをつけるのに使用される型の合金6063
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で6
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、20ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、10V ACで３分
間、その後10V DCで１分間、21℃で1M H3PO4中で再陽
極酸化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピー
ク、60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK
溶液（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。
洗浄して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液
を、表面上にはっきりした領域で、はけ塗りした。それ
から、洗浄し、沸騰水中で密閉した。
押し出し成形品を苛性エッチングし、16V DC、21℃で6
0分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化し、20ミクロンのアノ
ード膜を製造した。それから洗浄し、10V ACで３分
間、その後10V DCで１分間、21℃で1M H3PO4中で再陽
極酸化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピー
ク、60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK
溶液（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。
洗浄して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液
を、表面上にはっきりした領域で、はけ塗りした。それ
から、洗浄し、沸騰水中で密閉した。
実施例９ この実施例では、アルミニウムホストから透明な高分
子材料に転写された、はっきりした、光学的に可変なパ
ターンを製造した。
子材料に転写された、はっきりした、光学的に可変なパ
ターンを製造した。
AA5657アルミニウムシートを洗浄し、10V DC、21℃
で１分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化た。それから洗浄
し、10V ACで1.5分間、30℃で1M H3PO4中で再陽極酸
化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、
60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液
（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄
して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液を、表
面上にはっきりしたパターンでフレキソ印刷した。空気
乾燥後、そのパネルを12.5V DCで140秒間、硫酸バス中
で陽極酸化し、その後、硫酸バス中に戻し、その間に、
12.5V DCで10秒間陽極酸化し、それから電圧を段階的
に、2.5分後に適用電圧がゼロになるまで減少させるこ
とにより、剥離可能な膜を製造した。パネルは更に1.5
分間浸漬させ、その後除去し、洗浄し乾燥させた。透明
な高分子をその後その表面にヒートシールし、そのパネ
ルをその後、多孔性酸化物がその高分子上のパターンを
有する析出物を含んだままで、剥離した。パターンを有
する領域中の干渉色は、膜表面に金属薄膜を真空蒸着す
ることにより再生された。
で１分間、1.5M H2SO4中で陽極酸化た。それから洗浄
し、10V ACで1.5分間、30℃で1M H3PO4中で再陽極酸
化した。良く洗浄した後、ニッケルを、9V ACピーク、
60Hzでの25秒の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液
（実施例１参照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄
して空気乾燥した後、0.5g/lのPdCl2を含む溶液を、表
面上にはっきりしたパターンでフレキソ印刷した。空気
乾燥後、そのパネルを12.5V DCで140秒間、硫酸バス中
で陽極酸化し、その後、硫酸バス中に戻し、その間に、
12.5V DCで10秒間陽極酸化し、それから電圧を段階的
に、2.5分後に適用電圧がゼロになるまで減少させるこ
とにより、剥離可能な膜を製造した。パネルは更に1.5
分間浸漬させ、その後除去し、洗浄し乾燥させた。透明
な高分子をその後その表面にヒートシールし、そのパネ
ルをその後、多孔性酸化物がその高分子上のパターンを
有する析出物を含んだままで、剥離した。パターンを有
する領域中の干渉色は、膜表面に金属薄膜を真空蒸着す
ることにより再生された。
パターンを有するプラスチック膜は緑色であり、45゜
の角度で観ると紫色に変わった。
の角度で観ると紫色に変わった。
実施例10 この実施例では、着色された背景上に、明確な、光学
的に可変なパターンを製造した。
的に可変なパターンを製造した。
アルミニウム箔／ポリエステルラミネートを15V D
C、21℃で２分間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗
浄した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの20秒
の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、0.5g/lのPtCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。この時、１分間、ラミネートを100ppmのPdSO4に浸
漬した。それから、ラミネートを120秒間、15V DCを用
いて、1.5M 21℃のH2SO4中で陽極酸化した。陽極酸化
後、そのラミネートを洗浄し、密閉した。
C、21℃で２分間、1M H3PO4中で陽極酸化した。良く洗
浄した後、ニッケルを、12V ACピーク、60Hzでの20秒
の処理を用いて、標準ニッケルANOLOK溶液（実施例１参
照）から多孔質酸化物中に電着した。洗浄して空気乾燥
した後、0.5g/lのPtCl2を含む溶液を、フレキソ印刷を
用いて、表面上に規定されたパターンでロール印刷し
た。この時、１分間、ラミネートを100ppmのPdSO4に浸
漬した。それから、ラミネートを120秒間、15V DCを用
いて、1.5M 21℃のH2SO4中で陽極酸化した。陽極酸化
後、そのラミネートを洗浄し、密閉した。
その結果得られたピンクのパターンは、45゜の角度で
観ると、黄色に変化した。背景色もまたピンであった
が、パターン領域に比べ彩度が低かった。
観ると、黄色に変化した。背景色もまたピンであった
が、パターン領域に比べ彩度が低かった。
産業上の利用性 この発明は、信頼性を持って工業技術により実行でき
る様式で、装飾用のまたは情報用のパターンをアルミニ
ウム物体の表面上に製造するために使用することができ
る。
る様式で、装飾用のまたは情報用のパターンをアルミニ
ウム物体の表面上に製造するために使用することができ
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭60−33394（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−33390（ＪＰ，Ａ) 特開 昭58−6996（ＪＰ，Ａ) (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C25D 11/18,11/22
Claims (22)
- 【請求項１】アルミニウム若しくは陽極酸化可能なアル
ミニウム合金から成る基板（10）又はアルミニウム若し
くは陽極酸化可能なアルミニウム合金により被覆された
基板（10）の表面（12）に、陽極酸化によりアノード膜
（11）を形成する工程と、 該アノード膜（11）の上または内部に、半反射性の非貴
金属層（18）を、光の干渉を含む効果により可視色を生
成するように析出させる工程と、 マスクレス技術により、上記アノード膜（11）の制限さ
れた領域を貴金属化合物の溶液（20）と接触させ、該制
限された領域内の上記非貴金属層（18）の少なくとも一
部を貴金属層（21）に置換させる工程を備えた、 着色パターンを示すアノード膜を有する構造を製造する
方法。 - 【請求項２】上記アノード膜を形成する工程は、上記ア
ノード膜（11）を多孔質とする条件において実行される
ことを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項３】上記非貴金属層（18）を析出させる工程に
おいて、上記アノード膜中の空孔（14）内に、非貴金属
を電着により析出させることを特徴とする請求項２記載
の方法。 - 【請求項４】上記マスクレス技術が、フレキソ印刷、ゴ
ムスタンピング、粗液滴のスプレ塗装、パルススプレ塗
装、ペン、ペンキブラシまたはスポンジによる塗布、ス
テンシルによるスプレ塗装またはシルクスクリーニング
から成る群から選択された１つであることを特徴とする
請求項１記載の方法。 - 【請求項５】上記非貴金属層（18）が、該非貴金属層の
上面（19）とその下の基板金属表面（12）との間の干渉
が起きる高さまで、上記空孔（14）内に析出されること
を特徴とする請求項３記載の方法。 - 【請求項６】更に、上記制限された領域外の上記アノー
ド膜（11）を、上記非貴金属層を浸出することのできる
溶液に接触させることを特徴とする請求項１記載の方
法。 - 【請求項７】上記貴金属層（21）に置換する工程の後
に、更に、上記非貴金属層を浸出することのできる電解
質中で上記構造を陽極酸化することにより、上記制限さ
れた領域外の上記非貴金属層（18）を除去すると共に、
上記貴金属層（21）とその下にある基板金属表面（12）
の間のアノード膜を厚膜化させることを特徴とする請求
項１記載の方法。 - 【請求項８】更に、上記制限された領域外のアノード膜
（11）を、上記非貴金属層（18）を部分的に浸出するこ
とのできる溶液と接触させることにより、上制限された
領域外の上記非貴金属層（18）を部分的に浸出させるこ
とを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項９】上記貴金属層（21）に置換する工程の後
に、更に、上記非貴金属層を部分的に浸出させることの
できる電解質中で上記構造を陽極酸化することにより、
上記制限された領域外の上記非貴金属層（18）を部分的
に除去すると共に、上記貴金属層（21）とその下にある
基板金属表面（12）の間のアノード膜を厚膜化させるこ
とを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１０】更に、上記アノード膜（11）を貴金属化
合物の希薄溶液と接触させることを特徴とする請求項１
記載の方法。 - 【請求項１１】更に、上記アノード膜をクロメート溶液
に接触させ、上記非貴金属層（18）を酸の浸出に対しよ
り大きな耐性を持つようにすることを特徴とする請求項
１記載の方法。 - 【請求項１２】更に、上記アノード膜（11）を、空孔密
閉工程にかけることを特徴とする請求項２記載の方法。 - 【請求項１３】上記非貴金属はニッケル、コバルト、
銅、銀、錫、カドミウム、鉄、鉛、マンガン、モリブデ
ンまたはそれらの合金であることを特徴とする請求項１
記載の方法。 - 【請求項１４】上記非貴金属はニッケル、コバルト、錫
またはそれらの合金であることを特徴とする請求項１記
載の方法。 - 【請求項１５】上記貴金属はパラジウム、金または白金
であることを特徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１６】上記貴金属はパラジウムであることを特
徴とする請求項１記載の方法。 - 【請求項１７】パターンを有するアノード膜を組み入れ
た表面構造を有する物体であって、 該表面構造が、金属基板（10）と、上記金属基板（10）
上に位置するアノード膜（11）と、上記アノード膜上ま
たは膜内に析出された、光の干渉を含む効果により可視
色を発色する半反射性の金属層（18、21）とを有し、 上記アノード膜（11）の制限された領域内における上記
金属層（21）が貴金属を含み、該制限された領域外にお
ける上記金属層（18）が非貴金属を含み、これにより、
上記制限された領域の内と外が異なる色を呈することを
特徴とする物体。 - 【請求項１８】パターンを有するアノード膜を組み入れ
た表面構造を有する物体であって、 該表面構造が、金属基板（10）と、上記金属基板（10）
上に位置するアノード膜（11）と、上記アノード膜上ま
たは膜内に析出された、光の干渉を含む効果により可視
色を発色する半反射性の貴金属層（21）とを有し、上記
アノード膜（11）の制限された領域内にのみ上記貴金属
層（21）が存在することにより、上記制限された領域の
内と外が異なる色を呈することを特徴とする物体。 - 【請求項１９】上記アノード膜は多孔性であることを特
徴とする請求項17又は18記載の物体。 - 【請求項２０】薄いフレキシブルな金属基板（26）と、
その金属基板（26）上に位置するアノード膜（11）と、
上記アノード膜上または膜内に析出された、光の干渉を
含む効果により可視色を発色する半反射性の金属層（1
8、21）を有するフレキシブルな薄膜構造であって、 上記アノード膜（11）の制限された領域内の上記金属層
（21）が貴金属を含み、該制限された領域外の上記金属
層（18）が非貴金属を含み、これにより、上記制限され
た領域の内と外が異なる色を呈することを特徴とするフ
レキシブルな薄膜構造。 - 【請求項２１】薄いフレキシブルな金属基板（26）と、
その金属基板（26）上に位置するアノード膜（11）と、
上記アノード膜上または膜内に析出された、光の干渉を
含む効果により可視色を発色する半反射性の貴金属層
（21）を有するフレキシブルな薄膜構造であって、 上記アノード膜（11）の制限された領域内にのみ上記貴
金属層（21）が存在することにより、上記制限された領
域の内と外が異なる色を呈することを特徴とするフレキ
シブルな薄膜構造。 - 【請求項２２】上記アノード膜は多孔性である請求項20
又は21記載の薄膜構造。
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