JPH0254449A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、書き換えが可能な光磁気記録媒体に関し、特
に耐食性の向上した新規な組成の非晶質（アモルファス
）磁性合金膜を記録層に持つ光磁気記録媒体に関するも
のである。

〔従来技術〕

近年、半導体レーザー光により磁気記録を行う光磁気記
録媒体が高密度記録用として種々研究され、また一部で
は商品化が行われる段階に至っている。特に高密度記録
用として使用されるためには磁性膜がその膜面に垂直な
方向に磁化容易軸を有することが必要とされる。従来、
これら光磁気記録媒体に用いられる磁性膜としては、Ｇ
ｄ−Ｃｏ。

Ｇｄ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｆｅ、Ｇｄ−Ｔｂ−Ｆｅ、Ｔｂ−Ｄ
ｙ−Ｆｅ等の非晶質合金を用いたもの等が知られている
が、これら非晶質合金磁性体を用いた光磁気記録媒体は
、記録感度が高く、半導体レーザー光によって高速度で
記録ができるという利点はあるものの、磁気光学効果が
十分満足できるものではないという問題点を有している
。

上記の点に鑑み、Ｔｂ−Ｆｅ−Ｃｏより成る３元系非晶
質磁性合金膜を用いた光磁気記録媒体が提案されている
。この記録媒体はカー回転角θｋが大きく磁気光学効果
を向上させることができる利点がある。ところが、この
記録媒体では、ｃｏの添加量によっては記録感度が低く
なる傾向がある。そこで本出願人は、特開昭５９−６１
０１１号公報において、Ｔｂ−Ｆｅ＝ＧｏにＤｙを添加
した４元系の非晶質磁性合金膜を用いることにより記録
感度と磁気光学効果の双方を向上させた光磁気記録媒体
を提案している。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、本出願人が先に提案したＴｂ−ｏｙ−Ｆ
ｅ−Ｃｏ４元系非晶質磁性合金膜を用いた光磁気記録媒
体では、記録感度及び磁気光学効果については優れた特
性を示しているものの、その耐食性、安定性に係わる問
題についてはまだ十分に解決されているとは言えない、
現状においては、磁性層を保護層ではさみ込む構造など
を用いることで１０年以上の耐食性の保証は十分にある
と言われているが、他の磁気記録媒体と比較して見ると
決して十分であるとは言えない。

本発明は以上の点に鑑み、記録感度及び磁気光学効果を
低下させずに、磁性膜自体に耐食性が付与され安定性の
向上した光磁気記録媒体を提供することを目的とする。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的を達成するため、本発明によれば、膜面と垂直
な方向に磁化容易軸を有し、かつ一般式％式％ （式中、０　、０　＜　ｘ　＜　１　、０．０．７≦ｙ
＜１．０．０．１＜ｚ＜０．３及び０　、０　＜　ａ　
＜　０　、２である。）で表わされる非晶質磁性合金膜
を記録層とする光磁気記録媒体が提供される。

ＴｂＦａにＩｎを添加するとＴｂＩｎの合金が生成され
、重希土類金属Ｔｂの酸化が防止され、ピンホール発生
等による特性劣化を防止できる等の効果がある。

ところが、この場合、膜表面及び膜中に存在する０、が
時間の経過とともにＦｅの酸化を促進し、磁気特性Ｘｓ
が変化してしまう。

本発明では上記の問題に着目し、耐食性の観点からする
と重希土類金属であるＴｂ　、　ｏｙに対しＩｎを添加
するとともに遷移金属であるＦｅに対してはＦａより酸
化しにくいＣｏを添加する形をとり、Ｉｎの添加により
Ｔｂ　、　Ｄｙ　、　Ｆｅの酸化を防止させ、Ｃｏの添
加によりさらにＦｅの酸化を減少させている。

上記一般式で示される本発明に係る非晶質磁性合金膜に
おいては、ｙが０．７未満になると記録感度が低下する
のでｙは０．７以上であるのが好ましい。

またＺが０．１以下になると保磁力及び磁気光学効果が
低下し、０．３以上になると保磁力、磁気光学効果共に
低下する。したがって０　、１　＜　ｚ　＜　０　、３
であるのが好ましい、一方、ａについては０．２以上に
なると磁気光学効果が低下するのでａは０．２未満であ
るのが好ましい。

次に本発明による光磁気記録媒体の構成について更に詳
細に説明する。

本発明の光磁気記録媒体は、基本的には基板上に上記一
般式で表わされる非晶質磁性合金膜からなる記録層を設
けて構成される。この場合、記録層は単独で用いてもよ
いし、第１図あるいは第２図に示すように記録層の片側
又は両側に保護層を設けて用いてもよい、さらにオーバ
ーコート層を用いることも可能である。これらの図中１
は基板、２は磁性層、３は保護層、４は保護層（下地層
）である。

基板としてはガラス、プラスチック、セラミックなどの
材料が使用され、この基板上に非晶質磁性合金膜よりな
る記録層が真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーテ
ィングなどの方法により０．０１〜１−の膜厚に形成さ
れる。このようにして形成された記録層は膜面と垂直な
方向に磁化されたいわゆる垂直磁化膜となる。保護層は
、ＴｉＮ　、　Ｓｉｔ　Ｎ４　＋ＡＱＮ　、ＣｒＮ　、
　ＴａＮ　、Ｓｉｎ、　、　ＳｉＯや樹脂などを用いて
形成される。樹脂により保護層を形成するときには塗布
法が使用され、それ以外の材料を用いるときには真空蒸
着、スパッタリング、反応スパッタリング、ＣＶｆｆな
どの方法が使用される。保護層は膜厚０．０ｌ−１ＯＩ
Ｊａ好ましくは０．１〜１．０ｐｍ程度に付着形成され
る。

〔実施例〕

以下に実施例をあげて本発明をさらに説明するが、本発
明はここに例示の実施例のみに限定されるものではない
。

ガラス基板上に記録層としてスパッタリング法により（
（Ｔｂｏ　−ｓ　ＤＹｓ　−ｓ　）ｓ　−ｍｓ　（Ｆｅ
、　、５ＣＯａ−１）。ａｔ＊）ｚ−ａＩｎ５で表わさ
れる組成の非晶質磁性合金膜を０．０８．の膜厚で形成
した。このときＩｎ添加量は０．０２〜０．１２まで０
．０２毎に変化させた。スパッタリングの条件としては
、残留ガス圧８Ｘ１０″″’　Ｔｏｒｒまで真空引きを
した後、Ａｒガスを導入しガス圧を２　Ｘ　１０−”　
Ｔｏｒｒとし、放電電力４００ｗにてスパッタを行った
。また作製した試料には保護膜、下地層は付与しなかっ
た。第３図に上記式で表わされる組成の非晶質磁性合金
膜についてＩｎ添加量を変化させた時のカー回転角θｋ
をプロットしたグラフを示す、この図から、カー回転角
θにはＩｎの添加量ａが約１０ａｔｏｍ％まであまり低
下が見られておらず使用上問題はなく、それ以上でも他
元素によるカー回転角θにの上昇効果があるので２０ａ
ｔｏｍ％程度までは支障をきたさないことがわかる。

次に上記と同様にして基板上に（ＣＴｂａ−ｓＤＹａ−
ｓ）。、２゜（Ｆａ、　、Ｃｏ０−ｔ）ｏ−ｔｓ）ｏ　
ｍ５ｓｒｎｏ　００＆の組成の記録層を持つ記録媒体を
作製し、実施例の記録媒体とした。

また上記実施例において記録層の組成をＴｂ０．。

Ｆｅ（１＋７、Ｔｂａ　、ｉ　（Ｆｅ、　、５ｃＯａ　
−１）Ｏ−７とした以外は同様にして記録媒体を得、比
較例の記録媒体とした。

以上のようにして作製した記録媒体を恒温恒湿槽にて温
度８０℃、湿度８錦の雰囲気中に所定時間保持した後、
透過率比Ｔ／Ｔｏ（Ｔは保持時間後の透過率、Ｔｏは初
期状態の透過率を示し、記録層がピンホールなどによる
腐食を受けた場合、この比は上昇する）を評価した。第
４図にその評価結果を示す。

この図より、Ｉｎを添加することでその耐食性が向上し
ていることがわかる。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように、本発明によれば。

ＴｂＤｙＦａＣｏＪ元系合金にＩｎを添加した組成の非
晶質磁性合金膜を記録層に用いたので、記録感度及び磁
気光学効果が向上し、かつ記録層自体の耐食性が向上し
保存安定性の優れた光磁気記録媒体の提供が可能となる
。

【図面の簡単な説明】 第１図及び第２図は本発明の光磁気記録媒体の構造例を
示す断面図、第３図は本発明による非晶質磁性合金膜に
ついてＩｎ添加量を変化させた時のカー回転角θｋをプ
ロットしたグラフ、第４図は本発明の実施例及び比較例
の記録媒体における保持時間と透過率比Ｔ／Ｔｏの関係
を示すグラフである。 １・・・基板、２・・・記録層、３，４・・・保護膜。 第 図 第２ 図 第４図 第３図 ４　　６　　　Ｅｌ　　　１０　　１２１ｎ＞ｆ−力Ｏ
１（ａｔｏｍ　％”） イ系、持時間（ｈヒ）

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）膜面と垂直な方向に磁化容易軸を有し、かつ、一
   般式 ｛（Ｔｂ＿ｘＤｙ＿１＿−＿ｘ）＿ｚ（Ｆｅ＿ｙＣｏ＿
   １＿−＿ｙ）＿１＿−＿ｚ｝＿１＿−＿ａＩｎ＿ａ（式
   中、０．０＜ｘ＜１．０、０．７≦ｙ＜１．０、０．１
   ＜ｚ＜０．３及び０．０＜ａ＜０．２である。） で表わされる非晶質磁性合金膜を記録層とする光磁気記
   録媒体。