JPS6348636A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、例えばレーザー光等の照射により、記録・消
去・再生が可能な光磁気記録媒体に関する。

〔従来の技術〕

従来の光磁気記録媒体において、記録媒体として例えば
、特開昭５７−９４９４８のように重希土預金Ｉｉ　Ｔ
　ｂ　、　Ｄ　ｙ　、　Ｇ　ｄのうち１種類以上および
？ｅまたはＣＯのうち１種類以上で形成された非晶質合
金が用いられてきた。

レーザー光のスホ′ットで記録層Ｐ加熱しながら、外部
磁界を１１０え反転磁区を形成することにより記録し、
記録時より低パワーの直弥ｔｊ４尤した上記レーザー光
のスポットを入射し、カー効果あるいはファラデー効果
を利用して再生を行なう、いわゆる光ａ気記録方式に用
いられる記＃媒体においては、少なくとも次の性質を崗
たすことが心安である。

１、　半導体レーザーで記録・消去を行なえる哩度にキ
ュリー温度が低く、通常の使用環境温度に比べて、キュ
リー温度が充分高いこと。

乙　記録媒体が、多結晶であると生ずる粒界ノイズ、単
結晶であると生ずる製造の困遜さを回避するため、記録
媒体が非晶寅であること。この場合、結晶化温度がキュ
リー温度に比べて光分高いことか必要である。

五　再生は、カー効果、ファラデー効果を利用するため
、上記の効果に起因するカー回転角、７アラデ一回転角
が大きいこと。

４、　垂直磁化膜であること。

そのため、上記のようなｍ″Ａ土類金属−這移金属非晶
貢合金が記録層として用ｐられてきた。

〔発明が；解決しようとする問題点〕

しかし、光磁気記録媒体として用いられるホ希土類−−
移金属非晶質合金には、次のような欠点がある。

１、　室温でのみかけ上の磁化が消失する補償組成付近
で重希土預金４と侮移金属は金属１１＋１化合物を作り
やすい。これらの金属間化合物は割れやすいため、合金
ターゲットを作製するには、特殊な技術が必要である。

２　補償組成上り古移金属が多い領域で：ま、遷移金属
中のＣＯを増加することにより、キュリー温度を上げつ
つもカー回転角、ファラデー回転角を著しく増大するこ
とができる。

ところが、ＣＯｆ換によりカー回転角、ファラデー回転
角を増大させると飽和記録に必要な磁場Ｈｗも大きくな
り、Ｈｗを小さく（１００エルステツド程度）できる組
成の範囲が非常に狭くなることが知られている。

一方、補償組成よりａ移金民が少ない領域では、上記の
ような磁気光学効果の向上はわずかであるが、粘和記録
に必要な最小の磁場Ｈｗを１００エルステツド程度にで
きる範囲は〃移金民が多い領域にあるものに比べて広く
、良生特性では劣るが記録・消去特性ではまさるといえ
ろ。

つまり通常、光磁気記録媒体の記録媒体とじて用いられ
る希土類−」移金属非晶貢合金においては、焔移金属が
補償組成より多い領域では、記録・消失特性の良いもの
を作製することは困難であり、少ない領域では再生特性
の良いものを作製することは困難であった。

光磁気記録媒体で記録・消去に用いられるバイアス日間
は−ｉｉ：’＄５００〜６００エルステッドを越えるこ
とはない。従って、光磁気記録媒体には数百エルステッ
ド程度の磁場で飽和記録ができるという特性は不可欠な
ものである。

そこで、本発明はこのように、好ましい特性を有する組
成範囲が狭いことからくる問題点を解決するもので、そ
の目的とするところは、従来作製が困難であった記録・
消去特性および再生特性ともにすぐれた光磁気記録媒体
を提供することにある。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の光磁気記録媒体は、基体上に形成され１．けｔ
報を光により記録・消失・再生できる記録媒体として、
軽希土預金［Ｓｍ、）Ｊｄ、Ｐｒ、Ｃｅのうち１種類以
上、重希土類金属Ｔｂ、Ｄｙ。

Ｇｄのうち１種類以上、追啓金属’Ｆ　ｅ　、　Ｃ０。

１１１のうち１種類以上およびＯｒ、Ｔｉ、Ａｆのうち
１種類以上からなることを特徴とし、上記記録媒体とし
て、２５℃における膜面に対して主直な方間の残留磁束
密度が１２００ガウス以下となることを特徴とする。

〔実施例１〕 実施例により、本発明の効果について述べる。

本実施例１および実！５例２．３で示す光磁気記録媒体
はすべて低周波溶解炉で溶解し鋳造したのち、直径８イ
ンチ、厚さ４消に成形したものをスパッタリング用ター
ゲットとした。

実際に記録層を作製するにあたり使用した合金ターゲッ
ト組成と試料番号の対応表を表１に、記録層組成と試料
番号の対応表２表２に示しである表　　１ 表１．２かられかるように、合金ターゲットからスパッ
タリングで得られる光磁気記録媒体においては、希土類
金属が合金ターゲットに含まれているよりも少なくなる
という傾向をもつ。但し、このような組成変化、の程度
は、スパッタガスの種類、圧力、ターゲットへの投入−
力、ターゲット・基板間距離によっても変わる。表２に
示した記録層の作製条件は、到達真空度１Ｘ　’＋　０
−’　Ｔｏｒｒ以下、スパッタガスはＡｒで、Ａｒガス
圧１ｒｎＴｏｒｒ　、Ｄ　Ｃスパッタ法を用い、ターゲ
ットへの投入電力は約４００Ｗであった。また、ターゲ
ット基体間距離は基体中心とターゲット中心の距離では
かって１０鋸であった。

なお、本実施例１で炸裂した合金ターゲットの酸素濃度
は重量比で［１，０５％以下であり、睨結体に比べては
るかに低濃度である。低酵索滲度のターゲットが作製で
きたのは、ターゲットをｊｈ造したのちに炉の中に残っ
たスラグの中に希土類金属、遷移金属中に含まれていた
酸素がとり残されているためである。つまり、ターゲッ
トの合金化によって得られた利点の一つであり、以下実
施例２．３に示す如く本発明の光磁気記録媒体が好まし
い特性を示しているのは、このような効果が一因となっ
ている。

通常、光磁気記録媒体として用いられる重希土類−遭移
金属非晶質合金薄膜をスパッタ法で作製するだめの合金
ターゲットを＠造により作製することは非常に困難であ
った。ところが、本発明によれば、重希土類金属、　Ｆ
　ｅ　、　Ｏｏ　、　Ｎ　ｉのほか軽希土預金１・４お
よびＯｒ、Ｔｉ、Ａｎを含むため鋳造によりターゲット
を作製できる。１個のターゲットで多元素からなる薄膜
をスパッタで作製するという手法は、従来から固定ディ
スク式磁気記憶（装置の記録媒体の量産にも使用されて
成功している手法であり工業上の利用価値は高い。

〔′Ａ施例２〕 光磁気記録媒体においては通常、バイアス磁場の大きさ
は記録層上で数百エルステッドである。

そのため、飽和記録に必茨なバイアス磁場はできるだけ
小さい（１００エルステツド程度）ことが望ましい。第
１図に、本発明の光磁気記録媒体の飽和記録に必髪な最
小磁場Ｈｖと２５℃での磁化の関係を示す。表３は第１
図に示した記録媒体の組成と２５℃における残留磁束密
度との対応表である。

表　　３ 但し、第１図および表３中で残留磁束２度が１２００ガ
ウスを越えているものは、本発明の請求範囲からはずれ
るものであるが、比較のために記した。第１図より２５
℃における残留磁束密度の大ささと記録磁場Ｈｗのあい
だには強い相関があり、残留磁束密度の小さいものはＨ
ｗも小さくなるという事実が見い出される。

なお、上記記録媒体は第２図に示したような構造であり
、すべて溶解・鋳造によるターゲットからスパッタ法に
よりｆ乍製した。

〔実施例３〕 実施例２で用いた（Ｎｄ０４ｓＤｙｏ、？ｓ）αｚ３（
ＩＰｅａｓＣｏＱ、４ｓＴｉ　０．０５　）　０．７７
を用い、第２図に示した何造り光磁気記録媒体とし、そ
の再生特性を記録パワーとＣ／Ｎ比で示したものが第３
図である。従来から用いら扛ているＴｂｏ、ｚｚ（Ｆｅ
ｏ、８ｏＣｏｏ、ｚｏ）ＣＬ７ｇ　　で同様に評価した
ものが第４図である。

本発明の記録媒体は再生特性においても従来のものと比
べてｉ色はなく、むしろ低パワー記録ができる分まさっ
ている。光磁気記録媒体を作製するにあたり、第４図に
示した虜く基ｔＩ＃、はポリカーボネイト、保ＫＩＪ’
Ｊは窒化アルミニウム、窒化ケイ素の混合物を用いた。

評価は熱磁気記録方式で記録の方向と逆方向にあらかじ
め磁化（消去）したのち記録したものについて、再生す
ることにより行った。

同様の方法で軽希土類金属をかえた光磁気記録媒体のＩ
〆価結果企表４に示￥。

再生特性についてはＳｍ、Ｈａがほぼ同程度で、次にＰ
ｒ、Ｏｓの順となっている。上記の試料も溶解・鋳造タ
ーゲットからスパッタ法により作鳴した。

〔発明の効果〕

以上述べてきたように本発明によれば、溶解。

鋳造でターゲットが作製できるため、スパッタで記録層
を作成することが容易になり、従来は、再現よく炸裂す
ることが困難であった記録・消去特性および再生特性の
すぐれた光磁気記録媒体を作ることができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、（Ｎａ　Ｏ２５Ｄｙ　０．７５　）Ｘ　（Ｆ
ｅ　ｏ、５　Ｇ　Ｏ０，４５Ｔ　ｉ　０．０５　）　１
−　ｘの飽和記録に必安なｆ役小磁場と残留磁束密度の
関係を示す図。 第２図は、本発明の（Ｎｄ０４ｓＤｙｏ７ｓ）ｏ２３（
ｙｅｈｓｓＣｏα４５Ｔｉ０．０５）Ｑ、７７　　の記
録パワーとＣ／Ｎ比との関係を示す図。 第３図は、従来例のＴｌ）Ｏ１２２（Ｆ２Ｏ，９０ＣＯ
Ｑ、１０）０．７８　　の記録パワーとＣ／Ｎ比との関
係を示す図。 第４図は、記録・再生特性評価に用いた光磁気記録媒体
の栴成を示す図。 １・・・・・・ポリカーボネイト ２・・・・・・窒化アルミニウムおよび窒化ケイ素３・
・・・・・本発明の光磁気記録媒体またはＴｂＦｅ０Ｏ
４・・・・・・窒化アルミニウムおよび窒化ケイ素５・
・・・・・アルミニウム 以　　上 出願人　セイコーエプソン円ζ式会社 代理人　弁理士　最上　務（他１名） 八じＡ６ポ１（ｔ（ヴクスジ １！Ｊ＃Ｖ−ヅ°ニパヲー　（蔓Ｗ） 佑少丸ンータ“−パソー（π、ｗ） 第３ｍ

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）基体上に形成され、情報を光により記録・消去・
   再生できる記録媒体として、軽希土類金属Ｓｍ、Ｎｄ、
   Ｐｒ、Ｃｅのうち１種類以上、重希土類金属Ｔｂ、Ｄｙ
   、Ｇｄのうち１種類以上、遷移金属Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉの
   うち１種類以上およびＣｒ、Ｔｉ、Ａｌのうち１種類以
   上からなる合金を記録層として用いることを特徴とする
   光磁気記録媒体。
2. （２）基体上に形成される該記録層として、２５℃にお
   ける膜面に対して垂直な方向の残留磁束密度が１２００
   ガウス以下となる合金を用いることを特徴とする特許請
   求の範囲第１項記載の光磁気記録媒体。