JPS6310354A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPS6310354A JPS6310354A JP15444686A JP15444686A JPS6310354A JP S6310354 A JPS6310354 A JP S6310354A JP 15444686 A JP15444686 A JP 15444686A JP 15444686 A JP15444686 A JP 15444686A JP S6310354 A JPS6310354 A JP S6310354A
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- earth metals
- magneto
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- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims abstract description 20
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 12
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims abstract description 11
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 10
- 229910052735 hafnium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 9
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910000808 amorphous metal alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims abstract 5
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 claims abstract 4
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052693 Europium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052688 Gadolinium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052772 Samarium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052771 Terbium Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 11
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 11
- 238000005266 casting Methods 0.000 abstract description 7
- 230000008018 melting Effects 0.000 abstract description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 abstract description 7
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 3
- 229910052692 Dysprosium Inorganic materials 0.000 abstract 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 7
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 7
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 5
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000005477 sputtering target Methods 0.000 description 3
- 230000005374 Kerr effect Effects 0.000 description 2
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 239000002689 soil Substances 0.000 description 1
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えばレーザ光等の照射により、記録・再生
・消去が可能な光磁気記録媒体に関する〔従来の技術〕 レーザー光のスポットで記録層を加熱しながら、外部磁
界を加え反転磁区を形成することにより記録し、記録時
より低パワーの直線偏光した上記レーザー光のスポット
を入射し、カー効果あるいはファラデー効果を利用して
再生を行なう、いわゆる光磁気記録方式に用いられる記
録媒体においては少なくとも次の性質を満たすことが必
要である。
・消去が可能な光磁気記録媒体に関する〔従来の技術〕 レーザー光のスポットで記録層を加熱しながら、外部磁
界を加え反転磁区を形成することにより記録し、記録時
より低パワーの直線偏光した上記レーザー光のスポット
を入射し、カー効果あるいはファラデー効果を利用して
再生を行なう、いわゆる光磁気記録方式に用いられる記
録媒体においては少なくとも次の性質を満たすことが必
要である。
1、 半導体レーザーで記録、消去を行なえる程度にキ
エリ一温度が低く、通常の使用環境温度に比べてキ纂り
一温度が充分高いこと。
エリ一温度が低く、通常の使用環境温度に比べてキ纂り
一温度が充分高いこと。
2 記録媒体が、多結晶であると生ずる粒界ノイズ、単
結晶であると生ずる製造の困難さを回避するため、記録
媒体が非晶質であること。この場合、結晶化温度がキエ
リ一温度に比べて充分高いことが必要である。
結晶であると生ずる製造の困難さを回避するため、記録
媒体が非晶質であること。この場合、結晶化温度がキエ
リ一温度に比べて充分高いことが必要である。
五 再生は、カー効果、ファラデー効果を利用するため
、上記の効果に起因するカー回転角、ファラデー回転角
が大きいこと。
、上記の効果に起因するカー回転角、ファラデー回転角
が大きいこと。
4、 垂直磁化膜であること。
そのため、従来からTb?e、Tb1FeOo。
GdTblFe0oなどの材料が上記の性質を満たすも
のとして光磁気記録媒体として用いられてきている。さ
らに、特開昭59−178641のように重希土類金属
’rbsckaenyl!移金属Feに軽希土類金属a
mを添加することにより、記録特性を損なうことなく、
光再生特性を向上させることを行なってきた。
のとして光磁気記録媒体として用いられてきている。さ
らに、特開昭59−178641のように重希土類金属
’rbsckaenyl!移金属Feに軽希土類金属a
mを添加することにより、記録特性を損なうことなく、
光再生特性を向上させることを行なってきた。
〔発明が開発しようとする問題点〕
光磁気記録媒体は、非晶質であることが必′要であるた
め、作製法としてスパッタリング、蒸着などの気相急冷
法が利用されている。
め、作製法としてスパッタリング、蒸着などの気相急冷
法が利用されている。
しかし、光磁気記録媒体として用いられる重希土類−遷
移金属非晶質合金とほぼ同組成の合金を溶解・鋳造によ
り作製することは、これらの合金が割れやすいため、困
難である。そのため、スパッタリングにより記録媒体を
作製する場合には単一のターゲットから記録媒体を作製
できないので、例えば、遷移金属ターゲット上に希土類
金属などのチップを置いた複合ターゲット、または特開
昭59−200762.特開昭59−2゛08815の
ような埋め込み式複合ターゲットを用いなければならな
かった。
移金属非晶質合金とほぼ同組成の合金を溶解・鋳造によ
り作製することは、これらの合金が割れやすいため、困
難である。そのため、スパッタリングにより記録媒体を
作製する場合には単一のターゲットから記録媒体を作製
できないので、例えば、遷移金属ターゲット上に希土類
金属などのチップを置いた複合ターゲット、または特開
昭59−200762.特開昭59−2゛08815の
ような埋め込み式複合ターゲットを用いなければならな
かった。
希土類金属のスパッタ用ターゲットは通常、溶解・鋳造
による方法で作製されるが、この方法ではターゲットに
含まれる酸素を11重量ノず−セント以下に抑えること
は困難である。そのため、スパッタリング用ターゲット
あるい゛は蒸発源の持つ酸素が記録媒体中に混入し、そ
の磁気特性を落としてしまうという欠点を有する。
による方法で作製されるが、この方法ではターゲットに
含まれる酸素を11重量ノず−セント以下に抑えること
は困難である。そのため、スパッタリング用ターゲット
あるい゛は蒸発源の持つ酸素が記録媒体中に混入し、そ
の磁気特性を落としてしまうという欠点を有する。
本発明はこのような問題点を解決するもので、重希土類
金属、遷移金属のほか、軽希土類金属およびHf、B、
81.An、Or、an、Pb。
金属、遷移金属のほか、軽希土類金属およびHf、B、
81.An、Or、an、Pb。
B1のうちIfを必ず含む2種類以上を含むことにより
、従来のものにルベて高性能な光磁気記録媒体を提供す
ることにある。
、従来のものにルベて高性能な光磁気記録媒体を提供す
ることにある。
本発明の光磁気記録媒体は、基体上に形成され、情報を
光により記録・再生・消去できる記録媒体として、軽希
土預金jigBm、Nd、Pr、Os、muのうち1種
類以上、重希土預金@ T b 。
光により記録・再生・消去できる記録媒体として、軽希
土預金jigBm、Nd、Pr、Os、muのうち1種
類以上、重希土預金@ T b 。
G(1、Dyのうち1種類以上、遷移金属Pe。
Oo、Niのうち1種類以上およびHf、B。
81、Aj+、Or、an、Pb、BiのうちHfを必
ず含む2種類以上の元累から構成される。
ず含む2種類以上の元累から構成される。
組成式を
(LRxHRl−X)7 TMI−y−zAZとしたと
き、(LRは前記、軽希土類金属のうち1種類以上、H
Rは前記、重希土類金属のうち1種類以上、TMは前記
、遷移金属のうち1種類以上、AはHf、B、Si、i
n、Or、an。
き、(LRは前記、軽希土類金属のうち1種類以上、H
Rは前記、重希土類金属のうち1種類以上、TMは前記
、遷移金属のうち1種類以上、AはHf、B、Si、i
n、Or、an。
Pb、BiのうちHfを必ず含む2種類以上のを表わす
)本発明ではXは[L1≦x≦0.40.n、4 、
a1≦y≦α5.0(i≦12である。Xはより好まし
くはα1≦x≦0.40.ELM、yはより好ましくは
0.15≦y≦[L5.zはより好ましくは0.01≦
2≦a1.である。またXは最も好ましくはa2≦x≦
0.40.[L3s7は最も好ましくは118≦y≦[
L5゜2は最も好ましくは[L05≦2≦a08である
。
)本発明ではXは[L1≦x≦0.40.n、4 、
a1≦y≦α5.0(i≦12である。Xはより好まし
くはα1≦x≦0.40.ELM、yはより好ましくは
0.15≦y≦[L5.zはより好ましくは0.01≦
2≦a1.である。またXは最も好ましくはa2≦x≦
0.40.[L3s7は最も好ましくは118≦y≦[
L5゜2は最も好ましくは[L05≦2≦a08である
。
また人として好ましくは、HfとBであり、より好まし
くはIfとhl、である。また最も好ましくはHfとB
1である。
くはIfとhl、である。また最も好ましくはHfとB
1である。
〔実施例1〕
実施例により、本発明の効果について述べる。
本発明の光磁気記録媒体はスパッタリングにより作製し
た。これらを作製するにあたり、通常の方法とは異なり
、溶解・鋳造による合金をターゲットとして用いた。タ
ーゲット組成と試料番号の対応表を表1に示す。
た。これらを作製するにあたり、通常の方法とは異なり
、溶解・鋳造による合金をターゲットとして用いた。タ
ーゲット組成と試料番号の対応表を表1に示す。
これらの合金ターゲット中の酸素濃度の分析結果を表2
に示す。
に示す。
表2に示した如く、ターゲット中の酸素濃度は重量比で
aoos%以下となって−る。ターゲットの鋳造後、溶
解炉中には、スラグが残っており、これらの中に希土類
金属あるいは、遷移金属中の酸素がとり込まれていると
考えられる。
aoos%以下となって−る。ターゲットの鋳造後、溶
解炉中には、スラグが残っており、これらの中に希土類
金属あるいは、遷移金属中の酸素がとり込まれていると
考えられる。
このように溶解嗜鋳造による合金ターゲットにおいては
、その含有する酸素濃度を極端に減らすことができる。
、その含有する酸素濃度を極端に減らすことができる。
なお、本実施例1に示した合金のほか、IfとSi、H
fとOr、Hfと8nを含む合金からなるターゲットを
作製したが、これらについても合金ターゲット化のしや
すさ、酸素濃度はほぼ同等でありた。
fとOr、Hfと8nを含む合金からなるターゲットを
作製したが、これらについても合金ターゲット化のしや
すさ、酸素濃度はほぼ同等でありた。
〔実施例2〕
実施例1で述べたように、溶解・鋳造で作製した合金タ
ーゲットを用い、Bi、8nの量を変化させスパッタリ
ングにより作製した光磁気記録媒体のカー回転角の変化
を調べた結果を第1図に示す、8n、Pb、Bi、Al
lの添加によりカー回転角に増加が認められた。
ーゲットを用い、Bi、8nの量を変化させスパッタリ
ングにより作製した光磁気記録媒体のカー回転角の変化
を調べた結果を第1図に示す、8n、Pb、Bi、Al
lの添加によりカー回転角に増加が認められた。
〔実施例3〕
本発明の光磁気記録媒体および従来例の記録・再生特性
を調べるために、溝付きポリカーボネイト基体上に約4
501光磁気記録媒体をそれぞれ形成し、その上に窒化
アルZ +ラムを約10001形成した。
を調べるために、溝付きポリカーボネイト基体上に約4
501光磁気記録媒体をそれぞれ形成し、その上に窒化
アルZ +ラムを約10001形成した。
次のような条件で記録・再生を行なった。
溝間記録、再生パワー1 mW 、記録磁界5000s
、線速毎秒4.7 m 、記録周波@1MI’lz、
分解能帯域30KH2である。
、線速毎秒4.7 m 、記録周波@1MI’lz、
分解能帯域30KH2である。
第2図に本発明の光磁気記録媒体[(N(io、lID
70.7 )O,5s(Fao、s@0ocL4+s)
o、ya(HfasSiagsBo、gs)o、os
および第3図に従来例の’[’b(+1(Feαeo
oo、t)o、s の記録レーザーパワーとo /
y比、および2次高調波抑圧比の関係を示す0本発明の
光磁気記録媒体においては、従来例と比べて、0/N比
は向上させ、記録レーザーパワーは低下させることが認
められた。
70.7 )O,5s(Fao、s@0ocL4+s)
o、ya(HfasSiagsBo、gs)o、os
および第3図に従来例の’[’b(+1(Feαeo
oo、t)o、s の記録レーザーパワーとo /
y比、および2次高調波抑圧比の関係を示す0本発明の
光磁気記録媒体においては、従来例と比べて、0/N比
は向上させ、記録レーザーパワーは低下させることが認
められた。
公知のように光磁気記録媒体の記録面上の記録時のレー
ザーパワーは記録面の線速の平方根に比例するので、記
録情報の転送レートをあげるためには、記録レーザーパ
ワーが低い方が望ましい。
ザーパワーは記録面の線速の平方根に比例するので、記
録情報の転送レートをあげるためには、記録レーザーパ
ワーが低い方が望ましい。
従って、本発明の光磁気記録媒体は従来例のものに比べ
て記録・再生特性ともに向上したといえるなお1従来例
のTb1FeOO光磁気記録媒体では、従来から行なわ
れている複合ターゲットによるスパッタリングにより作
製シタ。。
て記録・再生特性ともに向上したといえるなお1従来例
のTb1FeOO光磁気記録媒体では、従来から行なわ
れている複合ターゲットによるスパッタリングにより作
製シタ。。
以上述べてきたように、本発明の光磁気記録媒体におい
ては、重希土類金属、遷移金属のほかに、軽希土類金属
およびT1を含むため、溶解・鋳造による合金ターゲッ
トの作製が可能であるという効果を有し、さらに、他の
添加元素により、磁気光学特性を向上させるという効果
も有する。
ては、重希土類金属、遷移金属のほかに、軽希土類金属
およびT1を含むため、溶解・鋳造による合金ターゲッ
トの作製が可能であるという効果を有し、さらに、他の
添加元素により、磁気光学特性を向上させるという効果
も有する。
第1図・・・・・・本発明の(Nao、arboγ)I
ILss(IFeo、5iOoo、as)at畠(Hf
1,212)O,Oli 、 X=8n 、
B i 、 P b 、 ムLのカー回転
角と2の関係を示す図。 第2図・・・・・・本発明の((Nd0.8Dyo、y
)o、ga(FeLLssOoa4s)&?1(Hfa
lBi&111Ballり0.011 のO/ N比
および2次高調波折圧比と記録レーザーパワーの関係を
示す図。 第3図・・・・・・従来例のTbas (Feo、eO
o(1,s ) o、s のO/N比および2次高調
波抑圧比と記録レーザーパワーの関係を示す図。 (ロ) x X=Sx OX=/4A o X=Bi (Scl o、s Tbo、q)α22(Feo、st
; Coo、i)o、73(1−1f +−x Xz)
o、or中のX 第1 図 躬2図
ILss(IFeo、5iOoo、as)at畠(Hf
1,212)O,Oli 、 X=8n 、
B i 、 P b 、 ムLのカー回転
角と2の関係を示す図。 第2図・・・・・・本発明の((Nd0.8Dyo、y
)o、ga(FeLLssOoa4s)&?1(Hfa
lBi&111Ballり0.011 のO/ N比
および2次高調波折圧比と記録レーザーパワーの関係を
示す図。 第3図・・・・・・従来例のTbas (Feo、eO
o(1,s ) o、s のO/N比および2次高調
波抑圧比と記録レーザーパワーの関係を示す図。 (ロ) x X=Sx OX=/4A o X=Bi (Scl o、s Tbo、q)α22(Feo、st
; Coo、i)o、73(1−1f +−x Xz)
o、or中のX 第1 図 躬2図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基体上に形成され、情報を光により記録、再生、消去で
きる記録媒体として、軽希土類金属Sm、Nd、Pr、
Ce、Euのうち1種類以上、重希土類金属Tb、Gd
、Dyのうち1種類以上、遷移金属Fe、Co、Niの
うち1種類以上およびHf、B、Si、Al、Cr、S
m、Pb、BiのうちHfを必ず含む2種類以上の元素
から構成され、組成式を (LR_xHR_1_−_x)_yTM_1_−_y_
−_zA_zと書きあらわしたとき、 0.1≦x≦0.4 0.1≦y≦0.5 0<z≦0.2 の範囲にある非晶質合金を用いることを特徴とする光磁
気記録媒体。 (但し、LRは前記、軽希土類金属のうち、種類以上、
HRは前記、重希土類金属のうち1種類以上、TMは前
記、遷移金属のうち1種類以上およびムはHf、B、S
i、Al、Cr、Sn、Pb、BiのうちHfを必ず含
む2種類以上の元素をあらわす。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15444686A JPS6310354A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP15444686A JPS6310354A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6310354A true JPS6310354A (ja) | 1988-01-16 |
Family
ID=15584386
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP15444686A Pending JPS6310354A (ja) | 1986-07-01 | 1986-07-01 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS6310354A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01259165A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-16 | Seiko Epson Corp | スパッタリング用ターゲットおよびスパッタリング用ターゲットの製造方法 |
US5576100A (en) * | 1993-07-01 | 1996-11-19 | U.S. Philips Corporation | Magneto-optical recording medium |
-
1986
- 1986-07-01 JP JP15444686A patent/JPS6310354A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01259165A (ja) * | 1988-04-06 | 1989-10-16 | Seiko Epson Corp | スパッタリング用ターゲットおよびスパッタリング用ターゲットの製造方法 |
US5576100A (en) * | 1993-07-01 | 1996-11-19 | U.S. Philips Corporation | Magneto-optical recording medium |
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