JPH0253827A - ポリイミド共重合体 - Google Patents
ポリイミド共重合体Info
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- JPH0253827A JPH0253827A JP20433188A JP20433188A JPH0253827A JP H0253827 A JPH0253827 A JP H0253827A JP 20433188 A JP20433188 A JP 20433188A JP 20433188 A JP20433188 A JP 20433188A JP H0253827 A JPH0253827 A JP H0253827A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K1/00—Printed circuits
- H05K1/02—Details
- H05K1/03—Use of materials for the substrate
- H05K1/0313—Organic insulating material
- H05K1/032—Organic insulating material consisting of one material
- H05K1/0346—Organic insulating material consisting of one material containing N
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は耐熱性樹脂として知られるポリイミドに関する
。詳しくは、フッ素原子含有モノマーを共重合させるこ
とにより耐アルカリ加水分解性が改良されたポリイミド
共重合体に関する。
。詳しくは、フッ素原子含有モノマーを共重合させるこ
とにより耐アルカリ加水分解性が改良されたポリイミド
共重合体に関する。
(従来の技術)
ポリイミドはすぐれた耐熱性を有するポリマーとして良
く知られている。このポリマーはさらにすくれた電気的
特性、機械的特性を有している。
く知られている。このポリマーはさらにすくれた電気的
特性、機械的特性を有している。
代表的なポリイミドはよく知られているように44′−
ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット酸無水物か
ら得られる一般式(A) (A) で示されるポリマーであり、商業的に大規模に生産され
ている。このポリマーはフレキシブルプリント基板など
耐熱性を要する電気材料として用いられている。
ジアミノジフェニルエーテルとピロメリット酸無水物か
ら得られる一般式(A) (A) で示されるポリマーであり、商業的に大規模に生産され
ている。このポリマーはフレキシブルプリント基板など
耐熱性を要する電気材料として用いられている。
しかしながらこのポリマーは耐アルカリ加水分解性に劣
ることが知られており、ポリイミドフィルムがフレキシ
ブルプリント基板材料等に用いられる際には、アルカリ
処理工程が含まれるため、耐アルカリ加水分解性に優れ
たポリイミドフィルムが望まれている。
ることが知られており、ポリイミドフィルムがフレキシ
ブルプリント基板材料等に用いられる際には、アルカリ
処理工程が含まれるため、耐アルカリ加水分解性に優れ
たポリイミドフィルムが望まれている。
特開昭61−158025号および55−7805号公
報には酸成分として、ビフェニルテトラカルボン酸成分
を主成分とするポリイミドが開示されておりこのポリイ
ミドは優れた耐アルカリ加水分解性を有しているものの
ビフェニルテトラカルボン酸成分を用いているため、引
張試験時に降伏点が発生し、耐応力歪が大きくなり、使
用時に変形が起こる等の問題が起こったり、あるいはフ
レキシビリティ−に欠けるためフレキシブルプリント基
板の加工性に劣る等の欠点を有していた。
報には酸成分として、ビフェニルテトラカルボン酸成分
を主成分とするポリイミドが開示されておりこのポリイ
ミドは優れた耐アルカリ加水分解性を有しているものの
ビフェニルテトラカルボン酸成分を用いているため、引
張試験時に降伏点が発生し、耐応力歪が大きくなり、使
用時に変形が起こる等の問題が起こったり、あるいはフ
レキシビリティ−に欠けるためフレキシブルプリント基
板の加工性に劣る等の欠点を有していた。
尚、ここでいう耐アルカリ加水分解性は5重量%のNa
OH水溶液に50℃にてポリイミドフィルムを5分間浸
漬したときの重量減少率のことを言う。
OH水溶液に50℃にてポリイミドフィルムを5分間浸
漬したときの重量減少率のことを言う。
(発明が解決しようとする課題)
本発明の目的は、優れた機械的性質、電気的性質、耐熱
性を有するポリイミドの改質にある。詳しくは一般式(
A)で示されるポリイミドの有する優れた緒特性を損な
うことなく耐アルカリ加水分解性を改良することにある
。
性を有するポリイミドの改質にある。詳しくは一般式(
A)で示されるポリイミドの有する優れた緒特性を損な
うことなく耐アルカリ加水分解性を改良することにある
。
(課題を解決するための手段)
本発明は、酸成分とじて
ジアミン成分として
を主に使用し、さらにフッ素原子含有酸二無水物および
/またはフッ素原子含有ジアミンを一部使用して得られ
るポリアミド酸共重合体を脱水閉環イミド化してなるこ
とを特徴とするポリイミド共重合体に関する。
/またはフッ素原子含有ジアミンを一部使用して得られ
るポリアミド酸共重合体を脱水閉環イミド化してなるこ
とを特徴とするポリイミド共重合体に関する。
はじめに、本発明のポリアミド酸共重合体の製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
酸成分として、ピロメリット酸二無水物、ジアミン成分
として4.4′−ジアミノジフェニルエーテル(以下、
ODAという。)を主に使用し、さらにフッ素原子含有
酸二無水物および/またはフッ素原子含有ジアミンを用
いて、全酸成分と全ジアミン成分とを実質上等モル使用
し、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチル2−ピロリドン等の有機極性溶媒中、100℃
以下、好ましくは80℃以下、さらに好ましくは50℃
以下、特に好ましくは10℃以下の温度で反応させて本
発明のポリイミド共重合体前駆体であるポリアミド酸共
重合体を得る。
として4.4′−ジアミノジフェニルエーテル(以下、
ODAという。)を主に使用し、さらにフッ素原子含有
酸二無水物および/またはフッ素原子含有ジアミンを用
いて、全酸成分と全ジアミン成分とを実質上等モル使用
し、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N
−メチル2−ピロリドン等の有機極性溶媒中、100℃
以下、好ましくは80℃以下、さらに好ましくは50℃
以下、特に好ましくは10℃以下の温度で反応させて本
発明のポリイミド共重合体前駆体であるポリアミド酸共
重合体を得る。
また共重合方法には何ら制約を受けるものでなく、ラン
ダム共重合等公知の方法、あるいは特願昭62−174
126号、同62−174128号あるいは同6219
9223号明細書に記載されている反復単位のシーケン
スをコントロールするような重合方法等どのような方法
によっても本発明の効果を発現できる。
ダム共重合等公知の方法、あるいは特願昭62−174
126号、同62−174128号あるいは同6219
9223号明細書に記載されている反復単位のシーケン
スをコントロールするような重合方法等どのような方法
によっても本発明の効果を発現できる。
反復単位のシーケンスをコントロールすることにより最
終的に得られるポリイミド共重合体の物性、特に引張物
性がすぐれたものにすることができる。
終的に得られるポリイミド共重合体の物性、特に引張物
性がすぐれたものにすることができる。
反復単位のシーケンスをコントロールするには酸無水物
あるいはジアミンのどちらか一方を過剰に用い酸無水物
基末端あるいはアミノ基末端を有するプレポリマーをま
ず合成しこのプレポリマーを酸無水物あるいはジアミン
として用いることにより行なうことができる。特に酸無
水物基末端を有するプレポリマーを用いる場合には最終
的に得られるポリイミド共重合体の物性がすぐれたもの
になる。
あるいはジアミンのどちらか一方を過剰に用い酸無水物
基末端あるいはアミノ基末端を有するプレポリマーをま
ず合成しこのプレポリマーを酸無水物あるいはジアミン
として用いることにより行なうことができる。特に酸無
水物基末端を有するプレポリマーを用いる場合には最終
的に得られるポリイミド共重合体の物性がすぐれたもの
になる。
本発明のポリアミド酸共重合体は前記の有機極性溶媒中
5〜40重量%、好ましくは5〜30重量%、さらに好
ましくは5〜25重量%溶解されているのが取扱いの面
からも望ましい。
5〜40重量%、好ましくは5〜30重量%、さらに好
ましくは5〜25重量%溶解されているのが取扱いの面
からも望ましい。
フッ素原子含有酸二無水物の使用量は酸成分全量に対し
て20モル%以下、好ましくは15モル%以下、さらに
好ましくは10モル以下である。
て20モル%以下、好ましくは15モル%以下、さらに
好ましくは10モル以下である。
また、フッ素原子含有ジアミンの使用量はジアミン成分
全量に対して20モル%以下、好ましくは15モル%以
下、さらに好ましくは10モル%以下である。
全量に対して20モル%以下、好ましくは15モル%以
下、さらに好ましくは10モル%以下である。
また、ピロメリット酸二無水物、ODS、フッ素原子含
有酸二無水物および/またはフッ素原子含有ジアミン以
外の酸無水物やポリアミンを少量、たとえば全単量体の
使用量に対し10重量%以下の量で用いることも可能で
ある。
有酸二無水物および/またはフッ素原子含有ジアミン以
外の酸無水物やポリアミンを少量、たとえば全単量体の
使用量に対し10重量%以下の量で用いることも可能で
ある。
ただし、これらフッ素原子含有酸二無水物とフッ素原子
含有ジアミンの合計使用量は、酸成分全量とジアミン成
分全量の合計量に対して20モル%以下、好ましくは1
5モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下である
。何故ならばこれよりも過剰量の使用は一般式(A)で
示されるポリイミドが有する優れた緒特性を損なうから
である。
含有ジアミンの合計使用量は、酸成分全量とジアミン成
分全量の合計量に対して20モル%以下、好ましくは1
5モル%以下、さらに好ましくは10モル%以下である
。何故ならばこれよりも過剰量の使用は一般式(A)で
示されるポリイミドが有する優れた緒特性を損なうから
である。
これらフッ素原子含有酸二無水物とフッ素原子含有ジア
ミンは、そのどちらか一方またはその両方いずれでも使
用することができ、また、その各々は2種以上の異なる
フッ素原子含有酸二無水物および/またはフッ素原子含
有ジアミンであってもよい。
ミンは、そのどちらか一方またはその両方いずれでも使
用することができ、また、その各々は2種以上の異なる
フッ素原子含有酸二無水物および/またはフッ素原子含
有ジアミンであってもよい。
次に本発明に使用することができるフッ素原子含有モノ
マーを具体的に例示する。
マーを具体的に例示する。
フッ素原子含有酸二無水物としては、2,2−ビス(3
,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオ0プロパン
ニ無水物、2,2−ビス(4−(3,4ジカルボキシフ
エノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物
などのパーフルオロイソプロピル残基を有する酸二無水
物を挙げることができる。さらには芳香環にフッ素化ア
ルキル基が直接結合したテトラカルボン酸二無水物、例
えば(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、
ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、
5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3゜3’、4
.4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
’ 、5.5 ′−テトラキス(トリフルオロメチル
)−3,3’ 、4.4 ’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、5.5′−ビス(トリフルオロメチル)
−3,3’ 、4.4 ’−ジフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメ
チル) −3,3’、4.4′−ヘンシフエノンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス((トリフルオロメチル)ジ
カルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、ビス((ト
リフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ)ビフェニ
ルニ無水物、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキ
シフェノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水
物、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノ
キシ)ビス(トリフルオロメチル)ビフェニルニ無水物
、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルエーテルニ無水物、ビス(ジカルボキシ
フェノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物
、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロ
メチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノ
キシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無
水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフル
オロメチル)ビフェニルニ無水物、ビス(ジカルボキシ
フェノキシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェ
ニルニ無水物などを挙げることができる。
,4−ジカルボキシフェニル)へキサフルオ0プロパン
ニ無水物、2,2−ビス(4−(3,4ジカルボキシフ
エノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物
などのパーフルオロイソプロピル残基を有する酸二無水
物を挙げることができる。さらには芳香環にフッ素化ア
ルキル基が直接結合したテトラカルボン酸二無水物、例
えば(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、
ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、
5,5′−ビス(トリフルオロメチル)−3゜3’、4
.4′−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2.2
’ 、5.5 ′−テトラキス(トリフルオロメチル
)−3,3’ 、4.4 ’−ビフェニルテトラカルボ
ン酸二無水物、5.5′−ビス(トリフルオロメチル)
−3,3’ 、4.4 ’−ジフェニルエーテルテトラ
カルボン酸二無水物、5,5′−ビス(トリフルオロメ
チル) −3,3’、4.4′−ヘンシフエノンテトラ
カルボン酸二無水物、ビス((トリフルオロメチル)ジ
カルボキシフェノキシ)ベンゼン二無水物、ビス((ト
リフルオロメチル)ジカルボキシフェノキシ)ビフェニ
ルニ無水物、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキ
シフェノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水
物、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノ
キシ)ビス(トリフルオロメチル)ビフェニルニ無水物
、ビス((トリフルオロメチル)ジカルボキシフェノキ
シ)ジフェニルエーテルニ無水物、ビス(ジカルボキシ
フェノキシ)(トリフルオロメチル)ベンゼン二無水物
、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフルオロ
メチル)ベンゼン二無水物、ビス(ジカルボキシフェノ
キシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ベンゼン二無
水物、ビス(ジカルボキシフェノキシ)ビス(トリフル
オロメチル)ビフェニルニ無水物、ビス(ジカルボキシ
フェノキシ)テトラキス(トリフルオロメチル)ビフェ
ニルニ無水物などを挙げることができる。
フッ素原子含有ジアミンとしては、2,2−ビス(4−
アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2.2−ビ
ス(4−(2−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス(4(3−アミノフェノ
キシ)フェニル〕へキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキサフ
ルオロプロパン、2.2−ビス(3−カルバモイル−4
−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2−
ビス(4(3−カルバモイル−4−アミノフェノキシ)
フェニル〕へキサフルオロプロパン、22−ビス(3−
スルファモイル−4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(4−(3スルファモイル−4
−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(3カルボキシ−4−アミノフェニル
)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−
カルボキシ4−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフ
ルオロプロパン、1,3−ビスC2−(4〜(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロイソプロピル
〕ヘンゼンなどのパーフルオロイソプロピル残基を有す
るジアミンを挙げることができる。
アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2.2−ビ
ス(4−(2−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフ
ルオロプロパン、2,2−ビス(4(3−アミノフェノ
キシ)フェニル〕へキサフルオロプロパン、2,2−ビ
ス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル〕へキサフ
ルオロプロパン、2.2−ビス(3−カルバモイル−4
−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、2,2−
ビス(4(3−カルバモイル−4−アミノフェノキシ)
フェニル〕へキサフルオロプロパン、22−ビス(3−
スルファモイル−4−アミノフェニル)へキサフルオロ
プロパン、2,2−ビス(4−(3スルファモイル−4
−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロプロパ
ン、2,2−ビス(3カルボキシ−4−アミノフェニル
)へキサフルオロプロパン、2,2−ビス(4−(3−
カルボキシ4−アミノフェノキシ)フェニル)へキサフ
ルオロプロパン、1,3−ビスC2−(4〜(4−アミ
ノフェノキシ)フェニル)へキサフルオロイソプロピル
〕ヘンゼンなどのパーフルオロイソプロピル残基を有す
るジアミンを挙げることができる。
さらには、p−ビス(3−カルボキシ−4−アミノフェ
ノキシ)テトラフルオロベンゼン、4,4′ビス(3−
カルボキシ−4−アミノフェノキシ)オクタフルオロビ
フェニル、44′−ジアミノオクタフルオロビフェニル
、1,2−ビス(3−カルボキシ−4−アミノフェニル
)テトラフルオロエタン、1,3−ビス(3−カルボキ
シ−4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、1
5−ビス(3−カルボキシ−4−アミノフェニル)デカ
フルオロペンクン、ジアミノヘンシトリフルオライド、
ビス(トリフルオロメチル)フェニレンジアミン、ジア
ミノテトラ(トリフルオロメチル)ベンゼン、ジアミノ
(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、2.2’−ビス
(トリフルオロメチル)ヘンジジン、3,3′−ビス(
トリフルオロメチル)ヘンジジン、212′−ビス(ト
リフルオロメチル)4.4′−ジアミノジフェニルエー
テル、3,3′ビス(トリフルオロメチル)−44”−
ジアミノジフェニルエーテル、3.3 ’ 、5.5
’−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3.3′−ビス(トリフル
オロメチルl−4,4′−ジアミノヘンシフエノン、ビ
ス(アミノフェノキシ)ジ(トリフルオロメチル)ベン
ゼン、ビス(アミノフェノキシ)テトラキス(トリフル
オロメチル)ベンゼン、ビス〔(トリフルオロメチル)
アミノフェノキシ〕ヘンゼン、ビス〔(トリフルオロメ
チル)アミノフヱノキシ〕ビフェニル、ビス(〔(トリ
フルオロメチル)アミノフェノキシ〕フェニル)へキサ
フルオロプロパンなどのフッ素原子含有ジアミンの使用
も可能である。
ノキシ)テトラフルオロベンゼン、4,4′ビス(3−
カルボキシ−4−アミノフェノキシ)オクタフルオロビ
フェニル、44′−ジアミノオクタフルオロビフェニル
、1,2−ビス(3−カルボキシ−4−アミノフェニル
)テトラフルオロエタン、1,3−ビス(3−カルボキ
シ−4−アミノフェニル)へキサフルオロプロパン、1
5−ビス(3−カルボキシ−4−アミノフェニル)デカ
フルオロペンクン、ジアミノヘンシトリフルオライド、
ビス(トリフルオロメチル)フェニレンジアミン、ジア
ミノテトラ(トリフルオロメチル)ベンゼン、ジアミノ
(ペンタフルオロエチル)ベンゼン、2.2’−ビス
(トリフルオロメチル)ヘンジジン、3,3′−ビス(
トリフルオロメチル)ヘンジジン、212′−ビス(ト
リフルオロメチル)4.4′−ジアミノジフェニルエー
テル、3,3′ビス(トリフルオロメチル)−44”−
ジアミノジフェニルエーテル、3.3 ’ 、5.5
’−テトラキス(トリフルオロメチル)−4,4′−ジ
アミノジフェニルエーテル、3.3′−ビス(トリフル
オロメチルl−4,4′−ジアミノヘンシフエノン、ビ
ス(アミノフェノキシ)ジ(トリフルオロメチル)ベン
ゼン、ビス(アミノフェノキシ)テトラキス(トリフル
オロメチル)ベンゼン、ビス〔(トリフルオロメチル)
アミノフェノキシ〕ヘンゼン、ビス〔(トリフルオロメ
チル)アミノフヱノキシ〕ビフェニル、ビス(〔(トリ
フルオロメチル)アミノフェノキシ〕フェニル)へキサ
フルオロプロパンなどのフッ素原子含有ジアミンの使用
も可能である。
次に、こうして得た本発明のポリアミド酸共重合体から
ポリイミド共重合体を製造する方法について説明する。
ポリイミド共重合体を製造する方法について説明する。
本発明のポリイミド共重合体を製造する方法としては、
ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する、
一般に公知の方法をそのまま用いることができる。即ち
、 (イ)熱的に脱水閉環(イミド化)する方法(El)化
学的に脱水閉環(イミド化)する方法がある。詳しく説
明すると、 (イ)では、例えばコポリアミド酸溶液を加熱ドラムあ
るいはエンドレスヘルド上に流延または塗布して膜状と
し、その膜を150℃以下の温度で約30〜90分間乾
燥した後、自己支持性の膜を得る。次いでこれをドラム
あるいはエンドレスベルト上から引き剥し、端部を固定
し、さらに約100〜500℃の温度に徐々に加温し、
冷却後これより取外しコポリイミドフィルムを得る。
ポリアミド酸溶液からポリイミドフィルムを製造する、
一般に公知の方法をそのまま用いることができる。即ち
、 (イ)熱的に脱水閉環(イミド化)する方法(El)化
学的に脱水閉環(イミド化)する方法がある。詳しく説
明すると、 (イ)では、例えばコポリアミド酸溶液を加熱ドラムあ
るいはエンドレスヘルド上に流延または塗布して膜状と
し、その膜を150℃以下の温度で約30〜90分間乾
燥した後、自己支持性の膜を得る。次いでこれをドラム
あるいはエンドレスベルト上から引き剥し、端部を固定
し、さらに約100〜500℃の温度に徐々に加温し、
冷却後これより取外しコポリイミドフィルムを得る。
(I+)では、例えばコポリアミド酸溶液に化学量論量
以上の脱水剤と触媒量の第3級アミン類を混合後、加熱
ドラムあるいはエンドレスヘルド上に流延または塗布し
て膜状とし、その膜を150℃以下の温度で約5〜30
分間乾燥した後、自己支持性の膜を得る。次いでこれを
ドラムあるいはエンドレスヘルド上から引き剥し、端部
を固定し、さらに約100〜500℃の温度に徐々に加
温し、冷却後これより取外しコポリイミドフィルムを得
る。このとき用いる脱水剤としては、例えば脂肪族酸無
水物、芳香族酸無水物等が挙げられる。また触媒として
は、例えばトリエチルアミン等の脂肪族第3級アミン類
、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン類、ピリジ
ン、ピコリン、インキノリン等の複素環弐第3級アミン
類等が挙げられる。
以上の脱水剤と触媒量の第3級アミン類を混合後、加熱
ドラムあるいはエンドレスヘルド上に流延または塗布し
て膜状とし、その膜を150℃以下の温度で約5〜30
分間乾燥した後、自己支持性の膜を得る。次いでこれを
ドラムあるいはエンドレスヘルド上から引き剥し、端部
を固定し、さらに約100〜500℃の温度に徐々に加
温し、冷却後これより取外しコポリイミドフィルムを得
る。このとき用いる脱水剤としては、例えば脂肪族酸無
水物、芳香族酸無水物等が挙げられる。また触媒として
は、例えばトリエチルアミン等の脂肪族第3級アミン類
、ジメチルアニリン等の芳香族第3級アミン類、ピリジ
ン、ピコリン、インキノリン等の複素環弐第3級アミン
類等が挙げられる。
(実施例)
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
尚、ここで言う耐アルカリ加水分解性は、該ポリイミド
共重合体を5重量%のN a OH水溶液に50℃にて
5分間浸漬したときの重量減少率のことである。結果は
まとめて表1に示す。
共重合体を5重量%のN a OH水溶液に50℃にて
5分間浸漬したときの重量減少率のことである。結果は
まとめて表1に示す。
実施例1
500 mR四ツ目フラスコに0DA(44′−ジアミ
ノジフェニルエーテル) 20.46 gおよび2,2
ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)へキサ
フルオロプロパン2.76gを採取し、245.00g
のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。
ノジフェニルエーテル) 20.46 gおよび2,2
ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)へキサ
フルオロプロパン2.76gを採取し、245.00g
のN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。
他方、100+++ffナスフラスコにピロメリット酸
二無水物(以下、PMDAという) 23.46gを
採取し、ジアミン溶液中に固形状で添加した。さらに、
この100mfナスフラスコ中の壁面に付着残存するP
MDAを10.00gのN、N’−ジメチルアセトアミ
ドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し入れた。引き続
き1時間撹拌を続け、ポリアミド酸溶液を得た。反応温
度は5〜10℃に保った。但し以上の操作でPMDAの
取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置いた。
二無水物(以下、PMDAという) 23.46gを
採取し、ジアミン溶液中に固形状で添加した。さらに、
この100mfナスフラスコ中の壁面に付着残存するP
MDAを10.00gのN、N’−ジメチルアセトアミ
ドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し入れた。引き続
き1時間撹拌を続け、ポリアミド酸溶液を得た。反応温
度は5〜10℃に保った。但し以上の操作でPMDAの
取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置いた。
次にこの溶液をガラス板状に流延塗布し約100°Cに
て約60分間乾燥後、塗膜をガラス板より剥し、その塗
膜を支持枠に固定し、その後約100°Cで約30分間
、約200℃で約60分間、約300℃で約60分間加
熱し、脱水閉環乾燥後25ミクロンのポリイミドフィル
ムを得た。
て約60分間乾燥後、塗膜をガラス板より剥し、その塗
膜を支持枠に固定し、その後約100°Cで約30分間
、約200℃で約60分間、約300℃で約60分間加
熱し、脱水閉環乾燥後25ミクロンのポリイミドフィル
ムを得た。
実施例2
500−四ツ目フラスコにODA 21.54gを採取
し、245.00 gのN、N−ジメチルアセトアミド
を加え溶解した。他方、100mfナスフラスコにPM
DA21.59gおよび2,2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物3.
82gを採取し、前記ODA溶液中に固形状で添加した
。さらに、この100mfナスフラスコ中の壁面に付着
残存する酸二無水物を10.00gのN、N′ジメチル
アセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し入れ
た。引き続き1時間撹拌を続け、ポリアミド酸溶液を得
た。
し、245.00 gのN、N−ジメチルアセトアミド
を加え溶解した。他方、100mfナスフラスコにPM
DA21.59gおよび2,2−ビス(3,4−ジカル
ボキシフェニル)へキサフルオロプロパンニ無水物3.
82gを採取し、前記ODA溶液中に固形状で添加した
。さらに、この100mfナスフラスコ中の壁面に付着
残存する酸二無水物を10.00gのN、N′ジメチル
アセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ流し入れ
た。引き続き1時間撹拌を続け、ポリアミド酸溶液を得
た。
以上の反応操作に於て、反応温度は5〜10℃に、また
PMDAとODAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気
流下にて行った。次に、実施例1の方法に従い、ポリイ
ミドフィルムを得た。
PMDAとODAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気
流下にて行った。次に、実施例1の方法に従い、ポリイ
ミドフィルムを得た。
実施例3
500 m1四ツ目フラスコにODA 18.41gを
採取し、135.00 gのN、N−ジメチルアセトア
ミドを加え溶解した。他方、100m1ナスフラスコに
PMD八1へ、97gを採取し、前記ODA溶液中に固
形状で添加し、そのまま1時間撹拌を続はアミノ基末端
アミド酸プレポリマー溶液を得た。次いで50m!ナス
フラスコに、2.2−ビス(4−アミノフェニル)へキ
サフルオロプロパン1.00 gを採取し、このアミノ
基末端アミド酸プレポリマー溶液に固形状で添加し、添
加した2、2−ビス(4アミノフエニル)へキサフルオ
ロプロパンが完全に溶解するまで十分に撹拌した後、別
途に50−ナスフラスコに不足分のpMDA 3.71
gを採取し、反応系(四ツ目フラスコ)内へ固形状で
添加した。
採取し、135.00 gのN、N−ジメチルアセトア
ミドを加え溶解した。他方、100m1ナスフラスコに
PMD八1へ、97gを採取し、前記ODA溶液中に固
形状で添加し、そのまま1時間撹拌を続はアミノ基末端
アミド酸プレポリマー溶液を得た。次いで50m!ナス
フラスコに、2.2−ビス(4−アミノフェニル)へキ
サフルオロプロパン1.00 gを採取し、このアミノ
基末端アミド酸プレポリマー溶液に固形状で添加し、添
加した2、2−ビス(4アミノフエニル)へキサフルオ
ロプロパンが完全に溶解するまで十分に撹拌した後、別
途に50−ナスフラスコに不足分のpMDA 3.71
gを採取し、反応系(四ツ目フラスコ)内へ固形状で
添加した。
反応温度は5〜10℃に保った。但し以上の操作でPM
DAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置いた
。
DAの取り扱い及び反応系内は乾燥窒素気流下に置いた
。
次に実施例1の方法に従い、この溶液よりポリイミドフ
ィルムを得た。
ィルムを得た。
実施例4
500−四ツ目フラスコにoDA 14.84gを採取
し、110.00 gのN、N−ジメチルアセトアミド
を加え溶解した。他方、50mj!ナスフラスコにPM
DAを17.57 gを採取し、前記ODA溶液中に固
形状で添加した。更にこの50m!ナスフラスコ中の壁
面に残存付着するPMDAを10.00 gのN、N−
ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)へ流
し入れ、更に1時間撹拌を続は酸無水物基末端アミド酸
プレポリマーを得た。一方、100−三角フラスコに2
.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)
へキサフルオロプロパン3.30gを採取し50.OO
gのN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。こ
の溶液を反応系(四ツ目フラスコ)内へ添加し、ポリア
ミド酸共重合体溶液を得た。
し、110.00 gのN、N−ジメチルアセトアミド
を加え溶解した。他方、50mj!ナスフラスコにPM
DAを17.57 gを採取し、前記ODA溶液中に固
形状で添加した。更にこの50m!ナスフラスコ中の壁
面に残存付着するPMDAを10.00 gのN、N−
ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)へ流
し入れ、更に1時間撹拌を続は酸無水物基末端アミド酸
プレポリマーを得た。一方、100−三角フラスコに2
.2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ)フェニル)
へキサフルオロプロパン3.30gを採取し50.OO
gのN、N−ジメチルアセトアミドを加え溶解した。こ
の溶液を反応系(四ツ目フラスコ)内へ添加し、ポリア
ミド酸共重合体溶液を得た。
以上の反応操作に於て、反応温度は5〜10℃に、また
PMDAと2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル)へキサフルオロプロパンの取り扱い及び反
応系内は乾燥窒素気流下にて行った。次に、実施例1の
方法に従い、ポリイミドフィルムを得た。
PMDAと2,2−ビス(4−(4−アミノフェノキシ
)フェニル)へキサフルオロプロパンの取り扱い及び反
応系内は乾燥窒素気流下にて行った。次に、実施例1の
方法に従い、ポリイミドフィルムを得た。
比較例1
500−四ツ目フラスコにOD A 21.54 gを
採取し、245.008のN、N−ジメチルアセトアミ
ドを加え溶解した。他方、100mj!ナスフラスコに
PMD八2へ、46gを採取し、ODA溶液中に固形状
で添加した。さらに、この100m#ナスフラスコ中の
壁面に付着残存するPMDAを10.OOgのN、N′
ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ
流し入れた。更に引き続き1時間撹拌を続け、15重形
量のポリアミド酸溶液を得た。反応温度は5〜10°C
に保った。但し以上の操作でPMDAの取り扱い及び反
応系内は乾燥窒素気流下に置いた。
採取し、245.008のN、N−ジメチルアセトアミ
ドを加え溶解した。他方、100mj!ナスフラスコに
PMD八2へ、46gを採取し、ODA溶液中に固形状
で添加した。さらに、この100m#ナスフラスコ中の
壁面に付着残存するPMDAを10.OOgのN、N′
ジメチルアセトアミドで反応系(四ツ目フラスコ)内へ
流し入れた。更に引き続き1時間撹拌を続け、15重形
量のポリアミド酸溶液を得た。反応温度は5〜10°C
に保った。但し以上の操作でPMDAの取り扱い及び反
応系内は乾燥窒素気流下に置いた。
次に実施例1の方法に従い、このポリアミド酸溶液より
ポリイミドフィルムを得た。
ポリイミドフィルムを得た。
表
本発明のポリイミド共重合体は、一般式(A)で示され
るポリイミドが有する優れた緒特性を損なうことなく耐
アルカリ加水分解性が改良される。
るポリイミドが有する優れた緒特性を損なうことなく耐
アルカリ加水分解性が改良される。
具体的には本発明のポリイミド共重合体を5重量%のN
aOH水溶液に50℃にて5分間浸漬した時の重量減少
率が1%以下にまで改善される。そのため、フレキシブ
ルプリント基板等に有用である。
aOH水溶液に50℃にて5分間浸漬した時の重量減少
率が1%以下にまで改善される。そのため、フレキシブ
ルプリント基板等に有用である。
Claims (5)
- (1)酸成分として ▲数式、化学式、表等があります▼ ジアミン成分として ▲数式、化学式、表等があります▼ を主に使用し、さらにフッ素原子含有酸二無水物、およ
び/またはフッ素原子含有ジアミンを一部使用して得ら
れるポリアミド酸共重合体を脱水閉環イミド化してなる
ことを特徴とするポリイミド共重合体。 - (2)フッ素原子含有酸二無水物の使用量が、酸成分全
量に対して20モル%以下である請求項1記載のポリイ
ミド共重合体。 - (3)フッ素原子含有ジアミンの使用量が、ジアミン成
分全量に対して20モル%以下である請求項1記載のポ
リイミド共重合体。 - (4)フッ素原子含有酸二無水物とフッ素原子含有ジア
ミンの合計使用量が酸成分全量とジアミン成分全量の合
計量に対して20モル%以下である請求項1〜3記載の
ポリイミド共重合体。 - (5)耐アルカリ加水分解性、即ち、5重量%のNaO
H水溶液に50℃にて5分間浸漬した時の重量減少率が
1%以下である請求項1〜4記載のポリイミド共重合体
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20433188A JPH0253827A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | ポリイミド共重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20433188A JPH0253827A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | ポリイミド共重合体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0253827A true JPH0253827A (ja) | 1990-02-22 |
Family
ID=16488726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20433188A Pending JPH0253827A (ja) | 1988-08-17 | 1988-08-17 | ポリイミド共重合体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0253827A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0641305A (ja) * | 1991-10-25 | 1994-02-15 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | フッ素化された反応体からのポリアミド酸およびポリイミド |
CN114072451A (zh) * | 2019-07-05 | 2022-02-18 | Pi尖端素材株式会社 | 聚酰胺酸组合物、制备聚酰胺酸组合物的方法、包含该组合物的聚酰亚胺 |
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-
1988
- 1988-08-17 JP JP20433188A patent/JPH0253827A/ja active Pending
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