JPH0251440A - 加熱炉用上部アダプタ - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 本発明は、光ファイバを製造する際の延伸工程や紡糸工
程等が行なわれる加熱炉の上部に装着されて用いられる
アダプタに関する。

「従来の技術」 第２図は、多孔質母材を延伸処理する工程を示すもので
図中符号ｌは被処理母材である。この被処理母材ｌの上
端には支持用ダミー棒２が、下端には張力付与用ダミー
棒８が取り付けられている。

そして、被処理母材１は支持用ダミー棒２によって縦型
のカーボン抵抗加熱炉３内に保持されている。カーボン
抵抗加熱炉（以下、加熱炉と略記する）３は、略円筒状
のヒータ４とケース５とから概略構成されており、その
上部にはアダプタ６が装着されている。

従来用いられていたアダプタ６は、略宵底円筒状のもの
で、その底部には支持用ダミー棒２が貫通する挿通孔７
が穿設されており、アダプタ６はこの底部を上方にして
ケース５上面に取り付けられていた。

被処理母材ｌの延伸処理は、張力付与用ダミー棒８を下
方に引っ張って被処理母材ｌに張力を与えつつヒータ４
で加熱することにより行なわれる。

この延伸処理は被処理母材１の下端側から行なわれ、支
持用ダミー棒２を逐次下降せしめることにより、多孔質
母材ｌの上部まで処理される。

「発明が解決しようとする課題」 前記従来のアダプタ６を用いた場合には、処理される母
材１を保持する支持用ダミー棒２に、外径が一定で長尺
のものを用いる必要があった。

また多孔質母材ｌの延伸処理やその後の紡糸処理の際に
は、ヒータ４が２０００℃程度に加熱され、ケース５内
は１０００℃に近い高温雰囲気となるため、ケース５内
をヘリウム、アルゴン等の不活性ガスからなるシールガ
スで外気から遮断する必要があるが、前記従来のアダプ
タ６を用いると、ダミー棒２を下降させるためにアダプ
タ６の挿通孔７と支持用ダミー棒２との間に１ｍｍ程度
のすき間が必要となるので、高温となったシールガスが
浮力によりこのすき間から上方に多量に流出してしまう
。このため前記従来のアダプタ６を用いた場合には、シ
ールガスの流出による内圧低下で加熱炉３下部から炉内
に外気が流入するのを防ぐ為に、加熱炉３にシールガス
を多量に補充しなければならない問題があった。また多
量のシールガスを補充するため、シールガスの流れに起
因する炉内温度の変動が生じて、良好な延伸処理、紡糸
処理の障害となっていた。

「発明の目的」 本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、短いダミー
棒によって被処理母材の保持することを可能とし、また
シールガスの流出量を極めて少なくできて、良好な延伸
処理、紡糸処理を可能とする加熱炉用上部アダプタを堤
供することを目的とする。

「課題を解決するための手段」 本発明では、加熱炉用上部アダプタの加熱炉の上部に接
する下部と、ダミー棒がすき間熱くあるいはほとんどす
き間熱く嵌合する貫通孔を備えた上部とを蛇腹状のベロ
ーズ部で連設することによって前記課題の解決を図った
。

「作用　」 本発明の加熱炉用上部アダプタは、上部と下部が蛇腹状
のベローズ部によって連設されているので、伸縮可能で
ある。従って、被処理母材の処理が進行して被処理母材
を下降させる際にはベロース部ヲ圧縮させつつ被処理母
材を下降させることができる。

またこのように本発明のアダプタにあっては、被処理母
材の下降に伴って圧縮可能なので、貫通孔の位置をダミ
ー棒に対して相対的に固定できる。

よってアダプタに設けられた貫通孔をダミー棒と密接す
るまで狭めることができ、加熱炉の上部のすき間をより
少なくすることができる。

「実施例」 以下、図面を参照して本発明の加熱炉用上部アダプタを
説明する。

第１図は本発明の第１実施例を示すもので、図中符号１
Ｇはアダプタである。このアダプタ１Ｇは、加熱炉３の
ケース５の上面に配置されている。

アダプタ１０は、下部１１と上部１２とベローズ部１３
とによって形成されており、７００〜８００℃程度の高
温で変形しないように、かつまた腐食しないように耐熱
性と耐食性を備えたステンレス鋼によって形成されてい
る。

前記アダプタ１０の下部１１は加熱炉３のケース５の上
面にすき間熱（またはほとんどすき間なく当接する部分
で、略ドーナツ板状に形成されている。

このドーナツ板状に形成された下部１１の外径は、前記
ケース５に形成された母材挿入孔１４よりら犬に設定さ
れている。また内径は被処理母材１の外径よりら大きく
設定されている。このアダプタ１０の下部１１は、ドー
ナツ板の板幅の中央部分がらつとも下方に出るように断
面弓形に湾曲されている。

前記アダプタ１０のベローズ部１３は、前記下部１１と
上部１２とを連結する部分で、蛇腹状に伸縮可能に形成
されている。このベローズ部１３は、略ドーナツ状の板
体を多数枚、内周部同士あるいは外周部同士で気密に溶
接することにより作成されている。

このベローズ部１３の上端は、アダプタＩＯの上部１２
をなす円板によって閉止されている。この上部１２の中
央には、被処理母材ｌを保持する支持用ダミー棒２が挿
通される貫通孔１５を形成する筒体１６が立設されてい
る。この筒体１６によって形成される挿通孔１６は、支
持用ダミー棒２と密接、あるいはほとんどすき間無く近
接する内径に形成されている。

このアダプタｌＯを用いて、被処理母材ｌを延伸処理す
るには、まず被処理母材１を保持するダミー棒２をアダ
プタ１０の上部１２の貫通孔１５に通し、ついで貫通孔
１５から突き出たダミー棒２を母材保持装置のチャック
１７に取り付ける。この状態で加熱炉３内に母材挿入孔
１４から被処理母材ｌをつり下げると、アダプタ１０の
下部１１が加熱炉３のケース５の上面に密接する。

被処理母材１の処理が進行して被処理母材ｌを下降させ
る際には、アダプタＩＯのベローズ部１３を圧縮せしめ
つつ被処理母材！を下降させる。

このアダプタ１０はへローズ部１３が蛇腹状に形成され
ており上下方向に伸縮可能であるので、被処理母材１の
処理が進行して被処理母材！を下降させる際にはベロー
ズ部１３を圧縮させつつ被処理母材ｌを下降させること
ができる。従って、被処理母材ｌを処理する場合、アダ
プタ１０から突き出した支持用ダミー棒２をアダプタ１
０に接近した位置で保持することができ、短いダミー棒
２の使用が可能となる。

また曲記のようにこのアダプタ１０によれば被処理母材
ｌの下降に伴ってベローズ部１３を圧縮させることがで
きるので、母材ｌを処理する間、アダプタｌＯの貫通孔
１５をダミー棒２上の所定位置に保つことかできる。従
って、このアダプタｌＯにあっては、アダプタ１０に設
けられた貫通孔１５を支持用ダミー棒２と密接するまで
狭めることら可能となり、加熱炉３の上部のすき間をよ
り少なくして、ノールガスの流出を減らすことができる
。この結果、加熱炉３に補充すべきシールガス量が減少
するので、シールガスの流れに起因する炉内温度の変動
か小となり、より安定した延伸処理や紡糸処理を行うこ
とが可能となる。

「発明の効果」 以上説明したように、本発明の加熱炉用上部アダプタは
、加熱炉の上部に接する下部と、ダミー棒がすき間無く
あるいはほとんどすき間無く挿通する貫通孔を備えた上
部とが蛇腹状のへローズ部とによって連設されたものな
ので、被処理母材の処理が進行して被処理母材を下降さ
せる際にこれに伴ってベローズ部を圧縮させることがで
きる。

従って、本発明の１］１１熱炉用上部アダプタによれば
、被処理母材を保持するダミー棒をアダプタに接近した
位置で保持することができ、短いダミー棒の使用が可能
となる。

また本発明の加熱炉用上部アダプタにあっては、被処理
母材の下降に伴ってベローズ部を圧縮させることにより
、母材を処理する間、アダプタの挿通孔をダミー棒上の
所定位置に保つことができるので、ダミー棒を挿通する
貫通孔をダミー棒と密接するまで狭めることも可能とな
る。従って本発明のアダプタを用いることにより、加熱
炉の上部のすき間を極めて小さくすることができ、ソー
ルガスの流出を減らすことができる。そしてこの結果、
加熱炉に補充すべきシールガス量が減少し、シールガス
の流れに起因する炉内温度の変動が小さくなるので、本
発明のアダプタを用いることにより、より良好な延伸処
理、紡糸処理が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の加熱炉用上部アダプタの一実施例を示
す断面図、第２図は従来の加熱炉用上部アダプタが装着
された加熱炉を示す断面図である。 １・・・被処理母材、２・・・ダミー棒、３・・・カー
ボン抵抗加熱炉、１０・・・アダプタ、１１・下部、１
２・・上部、１３・・ベローズ部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ダミー棒によって保持された母材を加熱処理するための
   加熱炉の上部に装着される加熱炉用上部アダプタであっ
   て、 前記ダミー棒がすき間なくあるいはほとんどすき間なく
   嵌合する貫通孔を備えた上部と、前記加熱炉の上部に接
   する下部とが蛇腹状のベローズ部によって連設されたこ
   とを特徴とする加熱炉用上部アダプタ。