JPH02503237A - 露光式石版の製造方法 - Google Patents

露光式石版の製造方法

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JPH02503237A JP50202087A JP50202087A JPH02503237A JP H02503237 A JPH02503237 A JP H02503237A JP 50202087 A JP50202087 A JP 50202087A JP 50202087 A JP50202087 A JP 50202087A JP H02503237 A JPH02503237 A JP H02503237A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 露光式石版の製造方法 この発明は露光式の石版製造方法に関する。
例えばイギリス特許第2082339号に記載されるような°オルソキノンジア ジドよりなる感光剤にてコーティングされている露光式石版は、下記のように反 転加工が行われる。即ち、画像に従って版材を露光し、この露光時に照射された 領域程により版材に原稿画像の陰画を生じさせ、前もって照射されていない領域 のコーティングを前記現像液に対して熔解物質に分解するように、版材を全体的 に照射する工程の間に反転加工が行われる。上記に特定した例における、光照射 により、カルボキシル基の形成を招来する減成加工として理解されている。
経済的な観点から、・前記反転加工は高速で、かつ版材の加熱及び全体露光処理 が一体的に構成された機械にて行われることが望ましいが、画像に従って露光さ れた領域のコーティングの温度は高速処理時に変わり易く、同一の生産速度によ り反転処理を完了することは難しかった。
加熱処理と全体露光処理との間で版材を冷却することは効果的であるが、この冷 却の段階を設けるだけでは照射段階で完全に満足のいく結果を得ることを保証す るには充分ではない、よって、この発明の目的は照射段階をさらに改良すること にある。
本発明の一態様によれば、−表面に感光性コーティングが施された石版の反転処 理方法が提供され、この方法は下記の連続的な工程からなっている。即ち、 (i)前記コーティングが施された表面を画像に従って露光し、現像液に対して 溶解性にする工程と、 (ii)画像に従って露光された部分を現像液に対して比較的溶解しにくくすべ く、版材を加熱する工程と、 (ii)前記コーティングが施された表面に、周辺雰囲気よりも水分含有量が大 きな直接環境を供給する工程と、 (iv )前記表面全体を照射する工程、前記照射は前記環境を通して行われる ことが好ましい。
この方法は、前記加熱工程の後に、さらに冷却する工程を設けてもよい。
前記直接環境における水分は気体状に含有されていることも可能である。しかし 、この環境が液状の水分にて構成されることが好ましい、この水分は連続層をな すことが可能である。
感光性のコーティングを芳香族キノンジアジドにて構成することが可能であり、 さらにレゾール樹脂又はノボラック樹脂で構成してもよい。
前記照射は紫外線ランプによって行われ得る。
本発明の別の態様によれば、画像に従い、紫外線放射に対し露光される感光性の コーティングが施された表面を有する石版の反転加工処理に使用される装置を提 供するものであり、この装置は、(i)露光された表面を加熱する手段と、(i i )前記表面に周辺雰囲気よりも水分含有量が大きな直接環境を供給する手段 と、 (iii )紫外線放射に前記表面全体を露光する手段と から構成されている。
この装置において、照射は前記環境を通して行うことが好ましい。
この装置は手段(i)及び手段(ii )の間に版材を冷却する手段を設けるこ とも可能である。
この装置は、前記手段(i)、手段(ii )及び手段(ii )に対して、さ らには冷却手段が採用されている時にはこれにも対して効果的な位置関係にあっ て連続的に版材を搬送する搬送手段を設けることも可能である。この搬送手段は 離間配置されたチェーンから構成されるものである。
含水量が高い直接環境を供給する手段は水槽にて構成することが可能である。こ の装置はさらに、版材を水槽に案内するためのニップローラと、水槽から版材を 引き出すための別のニップローラとを備えている。
さて、以下に本発明の実施例を添付した図面を参照して説明する。添付図面にお いて、第1図はこの発明の一実施例を示す版材加工処理機の長さ方向における断 面図、 第2図は別の実施例を示す同様の断面図である。
第1図に示すように、□加工処理ユニットは加熱器2、冷却ユニット4及び照射 ユニット6にて構成され、感光性表面を上方に向けて、これらを連続的に通過す る版材8〜20が幅方向全体において1.ユニットの横方向に離間する複数の無 端状チェーン22により公知の方法にて支持されている。
秒間1m以上の速度で加工処理ユニット内を通過するように矢印32方向へ牽引 され、フランジ付きブー056により移動が規制されることにより、上方の版材 支持領域は緊張状態に、かつ下方において帰還する領域(図示しない)は弛緩状 態に保持される。
版材8は図示のように加熱器2内社進入し、また別の版材lOは加熱器内にあり 、この加熱器は版材を例えば120℃〜140℃の間で加熱するようにセントさ れている。生産性を上げるため高速で運転すると、公知の加熱器は内部に版材が 滞留している間は、版材の温度を上昇させるに充分な出力を行わないので赤外線 前置ヒータ52によって加熱工程の増加を図る必要が生ずる。
照射作業の向上のために、加熱された版材を冷却する必要があることは周知であ り、冷却ユニット4は版材の温度を約50℃以下に低下させるようになっている 。この冷却ユニットは本管の冷水が導入管26を介して供給され、かつインペラ 28によって空気が強制的に送られる熱交換器24よりなる。冷却された空気は 、版材が冷却器内を通過するときに、版材(例えば版材12により代表される) に当たって照射ユニット6内へと逃避する。
(j&”Fイ詐′白ン 版材の進行方向において冷却ユニットの下方には、長さ約soommで加熱器2 の幅と同様の幅を有する浅い水槽34が設けられている。水槽には熱交換器から 管路36を介して水が供給される一方、余分な水はせき58を越えて流れる。水 位42を決定するゼぎ58の上縁はチェーン22の直下に位置する。余分な水は 放出パイプ38により放出される。
水槽34の入口でポリプロピレン類のガイド60を越えて通過するチェーンは、 回動不能な横置きバー40により水中へと鋭く下方に屈曲されるとともに、同横 置きバー40から徐々に上方へと傾斜し、第2のポリプロピレン類のガイド62 を越えて水槽外部へと通過する。実質的に硬質の版材の後端はチェーン22のう ちのガイド60に至る部分により支持されるとともに、その前端は水槽における 水面上方において前方へと突出し、チェーン22の下り傾斜部分の上方かつ前方 に位置する回転ブラシロー544と接触する。回転プラシローラ44はこれら版 材(例えば図示する版材14)の前端を押圧して水中へと案内し、版材がガイド 62に向って上昇する際にチェーンと再び係合するようにする。
ハウジング46は水槽34の上方に設けられ、版材の進行方向と交差して配置さ れた単体高出力(5kw)紫外線ランプ48を収容している。ハウジング46は 冷却ユニットからの空気により換気され、同空気はその後排出ファン50の補助 により大気中に排気される。同ファン50は又、ランプ48により生成されて健 康を害するおそれのあるオゾンを除去する。
版材(例えば図示する版材16)が水槽34中の水位の下30mmに位置する間 、版材にはガラススクリーン64を介してランプ48からの紫外線が照射される 。水を介しての照射は、版材の感光面が乾燥空気に接触する場合よりも、版材が 照射ユニット6を通過する短時間においてより有効に行なわれ得ることがわかる 。
ガイド62を越えて水槽34から現れるチェーン22及び版材(例えば図示°す る版材18)からしたたり落ちる水は受は皿30に集められる一方、エージ22 からしたたり落ちる水を集める。
第2図は、処理される版材の1法に応じて別の本実施例において、第1図の実施 例中の要素に対応する構成要素は全体を通して同様の参照符号により参照される 。加工処理装置は、複数の無端状チェーン22の上側経路の下方に配置された長 さ約600mmの加熱器2を備えている。チェーンによって版材8〜20が投入 位1if3から排出位置5まで通過する。チェーン22は水4134の下たつて 引張られるとともに、装置の両端においてフランジ付きプーリ51により動ぎが 規制され、その、上側経路7が緊張するとともに下側経路9が弛緩している。
加熱器の下流において版材(例えば版材12)が冷却領域を通過し、同領域中に おいて木管の冷却水が供給される熱交換機24を介して、ファン28が空気を版 材上に吹き付ける。
(、[王舎、匈2 冷却領域を退出すると、チェーン22は下降通路11に沿って偏位され、それに よって連続する印刷版材の前端が印刷版材14によって例示されるように、矩形 状水槽34上に突出する。
前記水槽34は前記加熱器の幅及び長さと同様の幅及び長さを有し、熱交換器2 4から水を供給され、その水位は図示しない通常の手段によって一定レベルに維 持される。
一対の横方向に延びる送りローラ13は前記水槽34の上流端に配列され、水位 の僅か下方にニップを備えている。一方、更に一対のローラ15は前記水槽の下 流端に配列され、水の出口にニップを備えている。ポリプロピレンの穴開けされ た基板17は水槽内に横方向に拡がって配列され、ローラ13.15の間にて長 さ方向に僅かにくぼんだ湾曲部を有している。
ローラ13は、それらの接触面がチェーン22と同じ割合で前方へ移動するよう に回転され、後端がチェーン上を滑ることがないように、チェーン22が下方へ 逸らされる時、ローラ13は連続する版材の前端を受入れ、かつ水槽の水中に版 材を導入する0版材がローラ対の前方に現れる時、そして元々、版材がいくらか 可撓性を有しているため、版材が基板17に接触するまでに僅かに下方へ憚斜し て水中へ押し込まれるように、一対のローラ13の上側ローラは、版材の移動方 向において他方のローラの僅かに前方に配置されている。
て案内され、最後には上方へ向けられ、ローラ15の間のニップに受入れられる ようにして最終的には水中から抜は出る。ローラ15の上側のものは゛僅かに下 部後方にある。
(μ、下泉白) 装置により加工される予定の最も短い版材がその後端にてローラ対13間のニッ プを離れる以前に、その前端がローラ対15により把持されるように、ローラ対 13及びローラ対15間の距離が設定されている。ローラ15はローラ13と同 期回転され、より長い版材が各ローラ対13.15間のニップに短時間保持され る場合に、版材といずれかのローラ対13.15との間に滑りが生じないように している。ローラ15間のニップは水槽34中の水位42の上方にあり、ローラ が版材を水槽34から引出す際に、版材に対しスキージ効果を生じるようになっ ている。
チェーン22の上側経路7は、部分11全体が下方に偏位されて水槽341を案 内されるとともに、同水a134の前方において部分21全体が上方へと傾斜さ れ、ローラ15のニップから現れる版材を受は取ってそれら(例えば18にて図 示する)を排出位置5に向かって前方へ搬送する。
紫外線ランプ48は水槽34の上方において装置と交差するよう設けられ、水平 ガラススクリーン64がランプ48と水槽34との間に配置されている。第一実 施例に関して述べたように、版材(例えば図示する版材16)は、水槽34の水 中を通過する間ランプ48によりその全体が照射され、これにより加熱器2にお ける加熱前に紫外線照射にさらされなかった版材のコーティングの全ての部分が ランプ48の照射作用により溶アルカリ性になる。
ランプ48は排出ファン50に接続されたハウジング47内に収容され、ランプ 48の周囲に発生するオゾンがファン50により大気中に吸引排気される。排出 ファンは又、加熱器2の上流に位置する赤外線前置加熱要素52の近傍から空気 を吸引し、同空気を大気中に排出するようになっている。
版材が照射を受ける間の版材周囲の水分に富む環境は液状の水の連続層により構 成することが好ましいが、霧吹きスプレーあるいは他の適当な公知の手段により 、内部が周辺雰囲気よりも高湿度の状態に維持される収容至によって水1134 を置換することも発明の範囲内である。
国際調査報告 1m間wM+ 幻m″””’  PCT;GB 87/CO2:、:l  2

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.一表面に感光性コーティングが施された石版の反転処理方法において、 (i)前記コーティングが施された表面を画像に従って露光し、現像液に対して 溶解性にする工程と、 (ii)画像に従って露光された部分を現像液に対して比較的溶解しにくくすべ く、版材を加熱する工程と、 (iii)前記コーティングが施された表面に、周辺雰囲気よりも水分含有量が 大きな直接環境を供給する工程と、 (iv)前記表面全体を照射する工程とからなる石版の反転処理方法。
  2. 2.前記照射は前記環境を通して行われることを特徴とする請求項1に記載の方 法。
  3. 3.前記加熱工程の後に、さらに前記版材を冷却する工程を有することを特徴と する請求項1及び請求項2のいずれか1項に記載の方法。
  4. 4.前記直接環境における含有水分は純粋に気体状であることを特徴とする請求 項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の方法。
  5. 5.前記直接環境が液状の水分にて構成されることを特徴とする請求項1乃至請 求項3のいずれか1項に記載の方法。
  6. 6.前記水分は連続層をなすことを特徴とする請求項5に記載の方法。
  7. 7.前記感光性のコーティングを芳香族キノンジアジド、さらには随時にレゾー ル樹脂又はノボラック樹脂で構成したことを特徴とする請求項1乃至請求項6の いずれか1項に記載の方法。
  8. 8.画像に従い、紫外線放射に対し露光される感光性のコーティングが施された 表面を有する石版の反転加工処理に使用される装置において、(i)露光された 表面を加熱する手段と、(ii)前記表面に周辺雰囲気よりも水分含有量が大き な直接環境を供給する手段と、 (iii)紫外線放射に前記表面全体を晒す手段とから構成されたことを特徴と する装置。
  9. 9.前記表面は前記環境を介して放射に晒されることを特徴とする請求項8に記 載の装置。
  10. 10.前記版材を加熱した後にこれを冷却する手段を設けたことを特徴とする請 求項8及び請求項9のいずれか1項に記載の装置。
  11. 11.前記手段(i)から(iii)に対して、さらには冷却手段が採用されて いる時にはこれにも対して効果的な位置関係にあって連続的に版材を搬送する搬 送手段を投げたことを特徴とする請求項8及び請求項9のいずれか1項に記載の 装置。
  12. 12.水分含有率が高い直接環境を供給する手段を水槽にて構成したことを特徴 とする請求項8乃至請求項11のいずれか1項に記載の装置。
  13. 13.前記版材を水槽に案内するためのニップローラと、水槽から版材を引き出 すための別のニップローラとを随時設けたことを特徴とする請求項12に記載の 装置。
  14. 14.明細書に記載したような石版の反転処理方法。
  15. 15.明細書において第1図及び第2図を参照に記載したような石版の反転処理 装置。
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