JPH02500374A - 金属箔又は帯を電鋳するための陰極表面処理 - Google Patents
金属箔又は帯を電鋳するための陰極表面処理Info
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- JPH02500374A JPH02500374A JP63505291A JP50529188A JPH02500374A JP H02500374 A JPH02500374 A JP H02500374A JP 63505291 A JP63505291 A JP 63505291A JP 50529188 A JP50529188 A JP 50529188A JP H02500374 A JPH02500374 A JP H02500374A
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- C25D1/04—Wires; Strips; Foils
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Abstract
Description
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1.電子及び電気的用途で用いるのに適した電着金属箔において、実質的に等方 性の引っ張り伸長性を持ち、しかも長手方向の表面粗さが横方向の表面粗さの約 20%以内である第1主表面を有することを特徴とする電着金属箔。 2.第1表面の長手方向の表面粗さが、横方向の表面粗さの約10%以内である ことを特徴とする請求項1に記載の箔。 3.箔がプリント回路用の実質的に気孔のない銅箔であることを特徴とする請求 項1に記載の箔。 4.第1主表面の長手方向の表面粗さが約0.125μ〜約0.75μ(約5〜 約30μin)であり、前記第1主表面の横方向の表面粗さが約0.125μ〜 約0.75μ(約5〜約30μin)であことを特徴とする請求項1に記載の箔 。 5.表面粗さが約0.125μ〜約0.75μ(約5〜約30μin)であり、 引っ張り伸長性が箔の面内の実質的にどの方向でも全体的に等方性であることを 特徴とする請求項4に記載の箔。 6.電着金属箔を形成するための改良されたメッキ表面(22)を与えるための 方法において、前記メッキ表面(22)を一般的に無作為的なやり方で研磨し、 横方向の表面粗さの約20%以内にある長手方向の表面粗さを与えることを特徴 とする改良メッキ表面を与える方法。 7.研磨工程が: メッキ表面(22)を複数の連続した研磨工程に掛けることからなり、然も、 前記研磨工程の各々が、特定の粒径を持つ研磨剤で前記表面(22)を研磨する ことを含み、その場合、続く研磨工程が前の研磨工程で用いられたものよりも細 かい粒径の研磨剤を用いている、 ことを特徴とする請求項6に記載の方法。 8.少なくとも最後の研磨工程が、無作為的運動を用いてメッキ表面(22)を 研磨し、そのメッキ表面に一連の無作為的に配向した引っ掻き傷を形成すること を特徴とする請求項7に記載の方法。 9.研磨工程の各々が、無作為的運動を用いてメッキ表面(22)を研磨し、そ のメッキ表面に一連の無作為的に配向した引っ掻き傷を形成し、続く各工程が前 の工程によって形成された引っ掻き傷を除去するようにすることを特徴とする請 求項8に記載の方法。 10.実質的に等方性の引っ張り伸長性を有する電着金属箔を形成する方法にお いて、 或る濃度の金属イオンを含む電解液(14)及びその電解液(14)中に少なく とも部分的に浸漬される第1電極(16)の入った槽(12)を与え、 メッキ表面(22)を有する第2電極(24)を与え、前記メッキ表面(22) を一般に無作為的やり方で研磨して、横方向の表面粗さの約20%以内にある長 手方向の表面粗さ与え、 前記第2電極(24)を前記電解液(14)中に配置し、前記第1電極(16) と電極間間隙(20)を形成し、前記メッキ表面(22)を前記第1電極(16 )に対し相対的に移動させ、 希望の流量で電解液(14)を前記電極間間隙(20)中ヘ流し、そして 前記電極(16)、(24)の間に電流を流し、実質的に等方性の引っ張り伸長 性を有する箔を形成する、ことを特徴とする電着金属箔の形成方法。 11.第2電極(24)の実質的に等方性のメッキ表面(22)を、配置工程前 に研磨することを更に特徴とする請求項10に記載の方法。 12.研磨工程が、 メッキ表面(22)を複数の連続した研磨工程に掛けることからなり、然も、 前記研磨工程の各々が、特定の粒径を持つ研磨剤で前記表面(22)を研磨する ことを含み、その場合、続く研磨工程が前の研磨工程で用いられたものよりも細 かい粒径の研磨剤を用いている、 ことを特徴とする請求項11に記載の方法。 13.少なくとも最後の研磨工程が、無作為的運動を用いてメッキ表面(22) を研磨し、そのメッキ表面(22)に一連の無作為的に配向した引っ掻き傷を形 成することを特徴とする請求項12に記載の方法。 14.研磨工程の各々が、無作為的運動を用いてメッキ表面(22)を研磨し、 そのメッキ表面(22)に一連の無作為的に配向した引っ掻き傷を形成し、続く 各工程が前の工程によって形成された引っ掻き傷を除去するようにすることを特 徴とする請求項10に記載の方法。 15.研磨工程がメッキ表面(22)を研磨し、前記メッキ表面(22)の移動 方向に平行な長手方向の第1方向と、その第1方向を横切る第2方向に等しく分 布している引っ掻き傷を前記メッキ表面(22)に形成することを特徴とする請 求項10に記載の方法。 16.請求項10に記載の方法によって形成された実質的に等方性の引っ張り伸 長性を有する実質的に気孔のない金属箔。 17.実質的に等方性の機械的性質を有する電着箔を形成する為の装置(10) において、 或る濃度の金属イオンを含む電解液(14)を保持するためのタンク(12)、 前記電解液(14)中に少なくとも部分的に浸漬させて前記タンク(12)中に 取り付けられた第1電極(16)、前記第1電極(16)と電極間間隙(20) を形成するように前記タンク中に取り付けられた第2電極(24)で、実質的に 等方性の表面仕上げをもつメッキ表面(22)を有する第2電極(24)、 前記電極間間隙(20)を通って前記電解液(14)を希望の流量で流す為の手 段(28)、及び 前記電極(16)、(24)を通って電流を流し、前記メッキ表面(22)上に 実質的に等方性の引っ張り伸長性を有する箔を形成する為の手段(32)、 を具えていることを特徴とする電着箔形成用装置(10).18.実質的に等方 性の表面仕上げが、メッキ表面(22)中の一連の無作為的に配向した引っ掻き 傷を有することを特徴とする請求項17に記載の装置(10)。 19.メッキ表面(22)が第1の方向に移動され、そして実質的に等方性の表 面仕上げが、前記第1方向に平行な方向と該第1方向を横切る方向の両方に等し く分布している引っ掻き傷模様を有することを更に特徴とする請求項18に記載 の装置(10)。 20.銅であることを特徴とし、プリント回路基板に用いられる、請求項1に記 載の電着金属箔。 21.実質的に等方性の表面仕上げが、横方向の表面粗さの約20%以内にある 長手方向の表面粗さを有する表面(22)を与えていることを特徴とする請求項 18に記載の装置(10)。 22.長手方向の表面粗さが、横方向の表面粗さの約10%以内にあることを特 徴とする請求項21に記載の装置(10)。 23.長手方向の表面粗さが、約0.125μ〜約0.75μ(約5〜約30μ ln)であり、横方向の表面粗さが約0.125μ〜約0.75μ(約5〜約3 0μin)であことを特徴とする請求項21に記載の装置(10) 24.表面粗さが約0.125μ〜約0.75μ(約5〜約30μin)であこ とを特徴とする請求項23に記載の装置(10)
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