JPH024969A - 真空成膜装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

（産業上の利用分野） 本発明は、例えば真空雰囲気中でワーク表面に薄膜を堆
積させる真空成膜装置に関する。 （従来の技術） 従来、真空蒸着法、スパッタリング法或はＣＶＤ法等に
より真空雰囲気中でワーク表面に薄膜を形成する装置と
しては、バッチ式蒸着装置或はロド・ロック式蒸着装置
が知られている。 バッチ式蒸着装置は、第８図に示すように、蒸着室１旧
に多数個（通常１００〜４００個）のワーク＋０３が取
付けられたホルダー１０２を取り入れ、この室内を高真
空に排気して該室内のルツボ　１０９内に設けられた蒸
着材＋０４を蒸発させてこの薄膜をワーク　１０３の表
面に堆積させるようにしている。 この装置には、蒸着室１旧に扉１０７が設けられており
、−回の蒸着処理が終了するたびにこの扉からホルダー
の取出し及び取入れを竹い、又その度に真空度等の条件
設定を行うようにしている、１なお、図中１０８は、蒸
着室１旧の気密性を保持するためこの蒸着室＋０１と扉
１０７の間に設けられた真空シールであり、　１０６は
蒸着室１旧内を真空雰囲気にするだめの排気用バルブで
あり、　＋０５は蒸着材１０４から蒸発する蒸発流であ
る。 又、ロート・ロック式蒸着装置は、第９図に示すように
、蒸着室１１１とロート・ロック室　＋２９とをゲート
弁１１６を介して連設し、蒸着室ＩＩ＋を常に真空雰囲
気に保つようにしたものである。即ち、ロード・ロック
室　１２９の上方に設けられた扉＋１８を開閉機構＋１
９により開け、ここから多数個のワーク　＋１４が取付
けられたホルダー１１２をロード・ロック室１２９に入
れ、次いで扉＋１８を閉じて該ロード−ロック室を高真
空に排出してからゲート弁１１６を開けてホルダー１１
２をロード・ロック室　１２９から蒸着室　１１１に移
し、しかる後蒸着鯨＋１３内の蒸着材＋１５を蒸発させ
てこの薄膜をワーク　１１４の表面に付着させている。 図中１２４は蒸着材＋２５から蒸発する蒸発流である。 なお、第９図において、　１２０はロード・ロック室１
２９について設けられた排気用バルブであり、＋２１は
蒸着室１１１について設けられた排気用バルブである。 　１１７はロード・ロック室１２９の上方に設けられた
」−下動可能なボルダ−把持機構であり、　１１５は蒸
着室ＩＩ＋の上方に設けられたホルダー把持機構である
。 上述した従来の真空蒸着装置は、いずれも蒸着が終了す
る毎にホルダーを蒸着室から取出して該ホルダーに取付
けられたワークを取り外すようにしている１、そして、
このワークが取り外されたホルダーに次の新たなワーク
を取付け、このホルダを蒸着室に収容した後、」１記と
同様に蒸着を行うようにしている。 （発明が解決しようとする課題） ところが、従来、上述したようなワークをホルダーから
取外したり取付けたりする作業やホルダーを蒸着室に取
入れたり取出したりする作業はいずれも手作業で行われ
ているため、１個のホルダに通常１００〜４００個のワ
ークが取付けられているような場合、面］二稈と後工程
の間に大量の仕掛り品が発生するという欠点がある。 このような欠点から、さらに次のような問題点が生じて
いる。 （１）上述したように、前工程と後工程の間に大量の仕
掛り品が発生すると、この仕掛り品を管理するのに莫大
な費用を要してしまう。 （２）蒸着が終−ｒしたワークを取出すのにホルダーご
と外部へ取出すため、この際ホルダー表面にＩ］２ｏ燕
気等の不要なガス分子を多用に吸着し、・回の蒸着処理
ごとに真空雰囲気の維持に努めなければならない。 （３）ワークの両面に蒸着を行う場合には、通常片面の
蒸着を終了した後、−旦ホルダーごと蒸着室から取出し
、各ワークの蒸着面を反転させ、次いでこのホルダーを
再び蒸着室に収容する必要がある。このため、これらの
作業を手作業により行うには、−１程ごとの手間が甚だ
しく厄介になり、これに要する人件費も膨大なものとな
る。 （４）上述したような問題を解消するために、−回の蒸
着で多くのワークの成膜を行うようにするとホルダーが
大型化し、従って蒸着装置全体も大型化せざるを得す、
これにともない真空排気に長時間を要し、排気系も大容
量のものが必要となる。 なお、ワークを保持するホルダーを真空容器中から人気
中に取出すことなくワークの成膜を行うようにした真空
成膜装置としては特開昭６２−２５３７６８号公報に開
示されたものがある。 この装置は、」−記した真空容器中の真空を維持するだ
めの構成として、ワーク交換帯域と称する蒸着処理の終
了したワークを新たなワークに交換するための帯域を構
成し、ホルダー（この発明においては、回転搬送部材に
相当する）を真空容器中からワーク交換帯域に移送する
際にはこの帯域を真空雰囲気に保持しておき、ワークを
新たなものに交換する際にこの帯域を大気にさらし１次
いで再びこの帯域を真空に排気してからホルダーを真空
容器中に移送するようにしている。 ところが、このような装置によれば、−個のワークを交
換するごとに上記したワーク交換帯域の雰囲気を変える
必要があるため、大量のワークを処理するときには極め
て手間のかかる作業を必要とする。 本発明者等は、−上述のような問題点を解決すべく、ホ
ルダーを蒸着室から取出すことなくワークの両面に対す
る蒸着処理を連続的に行うことにより、仕掛り品の発生
を最小限に抑え、製造作業の簡素化および製造コストの
低減化を図ることができる真空成膜装置について既に提
案しである。 本発明はこのような真空成膜装置に関するものである。 上記のような真空成膜装置において、ワークを該装置の
取入れ室から蒸着室内に導入する際、ワクは搬送手段に
保持されたまま、大気圧雰囲気から真空雰囲気へと導入
される。この導入の際、蒸着室の真空雰囲気を維持する
ため、途中に真空排気と常圧復元を可能としたワーク搬
送手段の出入りする出入室を設け、この出入室を高真空
雰囲気に排気してから該出入室と蒸着室を連通ずるよう
にしている。 しかるに、この出入室におけるワークの保持状態によっ
ては、出入室を排気する際の気圧変動によりワークが搬
送手段から容易に脱落して排気口内に吸い込まれるおそ
れがある。 本発明は、このような問題点を解決するために成された
もので、ワークを出入室を介して大気圧雰囲気から真空
雰囲気へと導入する際に該ワークが出入室の気圧の変動
によって搬送手段から脱落しないようにした真空成膜装
置を提供することを目的とする。 （課題を解決するだめの手段） 上述した課題を達成するために、本発明の真空成膜装置
は、ワーク表面に成膜を行なう真空成膜装置において、
ｌｆＩ記ワークを大気圧雰囲気から真空雰囲気に導入す
るワーク搬送手段と該搬送手段の出入りする出入室を設
け、前記搬送手段によって前記ワークを前記出入室に導
入した後における前記出入室の真空排気時の気圧変動に
よる前記搬送手段からのワークの脱落を防止するように
したことを特徴とする。 （作　用） 」−記した構成においては、ワークを大気圧雰囲気から
真空雰囲気内に導入する搬送手段及び該搬送手段を出入
りする出入室が設けられている。このような構成により
、ワークは搬送手段に保持されたまま大気圧雰囲気から
出入室を経て真空雰囲気内に導入される。 このような装置においては、搬送手段によりワクを出入
室内に導入した後に、該出入室の雰囲気を大気圧雰囲気
から真空雰囲気に変えるため、出入室内を高真空に排気
する必要がある。この出入室内における雰囲気入換え時
においては排気に伴って気圧の急変及び乱気流が発生し
搬送手段に保持されたワークを脱落させるおそれがある
。 しかるに本発明においては、−上述した真空排気時の気
圧変動による搬送手段からのワークの脱落を防１−する
手段を備えることにより上述のような事態を防１にして
いる。 （実施例） 以下、本発明の実施例について図面を参照しながら説明
する１゜ 第１図は、本発明の一実施例の要部断面図であり、第４
図に示す真空成膜装置におけるワークの取入れ口周辺を
示す。 第２図は、第１図のＡ−Ａ線に沿う断面図である。 第３図は、第１図に示す装置の変史例を示す部分断面図
である９゜ 第４図は、第１図に示す装置を用いた真空成膜装置の全
体構成を示す概略断面図である。 第５図は、第４図のＢ−Ｂ線に沿う概略断面図である。 第６図（ａ）〜（ｄ）は、ワークを取入れ口から蒸着室
内に移送する動作について説明するロドロック室周辺に
ついての概略断面図である。 第７図は、本実施例の適用例を示す図である。 以ド、本発明の真空成膜装置は、溶融ガラスがら加熱及
び加圧成形されて光学素子形状に願下されたワークの表
面に薄膜を堆積する装置として構成しである９゜ 木製ｆ

【ｆにおいては、第４図に示すように、萌］程た
るプレス成形上程から蒸着室１のワーク取入れ１ｍ　２
２　ａに移送されたワーク２７は、この取入れ］二１に
設けられたロードロック室４ａから蒸着室ｌ内に入れら
れ、所定の蒸着処理工程を経た後、蒸着室ｌのワーク取
出し口２２ｂに設けられたロトロック室４ｂから出て次
工程に搬送される。 先ず、ワーク取入れ［１２２ａにおけるワーク搬送手段
について第１図を参照しながら説明する。２ワーク取入
れ［１２２ａはｎｉ７　ｆ−程から連続的に形成された
搬送経路を構成し、取入れ［］壁８３で仕切られて常圧
雰囲気８１におかれている。この取入れＩ］壁８３１一
方の隔壁８４は、蒸着室ｌ　（第４図参照）の底部を構
成しており、蒸着室１内は真空雰囲気８２に維持されて
いる。 隔壁８４の開口部−１−側にはロードロック室４ａがロ
ードロック室壁７８により構成されている５゜ロードロ
ック室４ａ側方には排気口８５が設けられ、第４図に示
ずようなυ１気用バルブ１６ａ及びこれに連結された排
気系が設けられ、該ロード０ツク室内の真空排気を行う
ようにしている１、ロードロック室４ａ内にはこの下刃
に設けられたＬト機構７ａ（第４図に示す）に連結され
て図示のような最十芹位置から図中２点鎖線７９で示ず
最下降位置まで−Ｌ下動する搬送テーブル６ａが設けら
れている。 搬送テーブル６ａは取入れ口２２ａの床面の軸受け７３
に摺動可能に設けられた１°、下動用ロッド６０ａとこ
の搬送デープル６ａの１一部を構成するデープル部６０
ｂとからなる。 デープル部６０ｂの上端部にはワーク２７を載ｆＲ＋Ｔ
Ｊ能なワーク搬送台８７が設けられている。このワーク
搬送台８７は、第２図に示すように複数の空所（本実施
例においては４か所）を形成すべく４個の爪８７ａ〜ｄ
から構成されるとともに、デープル部６０ｂ上端部には
上記空所に対応した切り火きをテーブル部６０ｂの側方
に向けて構成した連通孔８０が設けられている。なお、
第２図において、２点鎖線はレンズ２７の載置位置を示
す。 このような構成において、ロードロック室４ａ内を排気
する際、排気流の一部は上記爪８７ａ〜ｄ間の空所から
この連通孔８０を通過して排気口８５へと流入する。。 ロードロック室４ａの上側間１１部のし、方にば、ロッ
ド７０により上下機構５ａ（第４図にボず）に連結され
た一１側カバー３ａが設けられている。 このカバー３ａは、に記上下機構５ａにより図中２点鎖
線７１でホす位置から図示のようにロードロック室壁７
８の上端部に当接する位置まで十丁動じてロードロック
室４ａの＋側開口部を開閉することができる。４０はこ
の閉塞の際にロードロック室４ａのに側聞口部の気密性
を保持するだめの真空シールである９゜ 上記カバー３ａの内側には支社７６を介して整流板７５
が設けられている。この整流板７５は搬送デープル６ａ
が最上昇位置にあるとき、該搬送テーブルーヒ端のワー
ク搬送台８７との間隔が後述する所定間隔を有するよう
構成されている。上述したようにロードロック室４ａ内
を排気する際、この整流板７５により排気流の一部は、
」−側カバ３ａと整流板７５との間及び整流板７５とワ
ク搬送台８７との間を流通する。 又、−［−下動用ロッド６０ａとテーブル部６０ｂとの
間には下側カバー２０　ａが付設されている。 このド側カバー２０ａは搬送デープル６ａのヒト機構７
８による一Ｌ−ド動に応じてロードロック室４ａの下側
開口部を開閉することができる。即ち、第１図に示すよ
うに、搬送デープル６ａがト昇して下側カバー２０　ａ
が蒸着室ｌの隔壁８４に当接するとロードロック室４ａ
の＋側開口部は閉じられる。４１はこの閉塞の際にロー
ドロック室４ａの下側開口部の気密性を保持するための
真空シルである。。 テーブル部６０ｂ内には、外部のリーク系に連結され上
下動用ロッド６０ａを連通ずるリーク管７７及びこれに
連結されたリーク孔７８が設けられている。このリーク
孔７８は先端が下方に向けられ、常圧復元時においてリ
ーク系から送られる気体流をロードロック室４ａ内の一
ド方に向けて噴射する。 ここで、ロードロック室４２１内の真空排気を行なった
場合のワーク搬送台８７に方の気体の流通状況について
より汀線に述へる。 上記のように、す１気［］８５よりロードロック室４ａ
内の真空排気を行なうと、ワーク搬送台８７十方の気体
の流通は、整流板７５とワーク搬送台８７との間隙及び
爪８７ａ〜（１間の空所から連通孔８０に至る間隙を経
て排気口８５に向けて流通する。このような気体流通状
況ドで、ワーク２７はワーク搬送台８７ヒに載置された
状態にある。 従って、このワークが真空排気の際に該ワーク搬送台１
−から脱落しないようにするためには、爪８７ａ−ｄ間
の空所から連通孔８０に至る間隙における排気容量の方
が整流板７５とワーク搬送台８７との間隙における排気
容量よりも太きくなるようにこれらの間隙を調整する必
要がある。 第：３図に、上述したワーク搬送系の変史例について図
示しである。この変史例のワーク搬送系は、上記整流板
７５を設けることなく、この整流扱の代りに」二側カバ
ー３ａの内側面９０を湾曲に形成して、該上側カバー３
８とテーブル搬送台８７との間隙における排気流量と爪
８７　ａ　−６間の空所から連通孔８０を通過する排気
流量とが上述したように爪８７？］〜ｄ間の空所から連
通孔８０におけるほうが大きくなるように構成しである
。このような構成により、−１−記整流扱７６を設けな
くても、上記構成と同様、ロードロック室４ａ内の真空
排気の際におけるデープル搬送台８７」−のワーク２７
の脱落を防１１−することができる。 なお、に記構成の取入れ口２２ａに設けられたワーク搬
送系は、取出し口２２ｂにも同様の構成のものを設け、
蒸着室ｌにて蒸着の終ｒしたワク２７を取出しｎ　２２
　ｂから取出し、次工程に搬送することができる。 ここで、」二連のような構成により取入れ（］２２ａま
で搬送されたワーク２７を蒸着室１内に移送する動作に
ついて第６図（ａ）〜（ｄ）を参照しながら説明する３
、なお、説明の便宜し、第１図においては搬送テーブル
６ａ内を通過するよう設けたリーク系を、以ドに示す第
４．６．７図においては、排気系と並列してロードロッ
ク室４ａ内に連通ずるよう設けである。 搬送デープル６ａが最下降位置にあるとき、カバー３８
はロードロック室４ａの、ト側開ロ部を閉塞した状態に
ある。このとき、リーク用バルブ１８ａを開け、排気用
バルブ］　６．ａを閉じておく。この際、前−［程から
取入れ口２２ａまで搬送されたワーク２７をテーブル６
ａトに例えばオートハントにより一個だけ載置する。こ
のとき、ロードロック室４ａ内は取入れ口２２ａと同様
の大気圧状態にある。（第６図（ａ）） 次いで、リーク用バルブ］８ａを閉じ、排気用バルブ１
６ａも閉じたままにして、搬送テーブル６ａを最−１−
昇位置まで移動する。このとき、カバ２０　ａによりロ
ードロック室４ａの下側開口部は閉塞され、該ロードロ
ック室内は上ド開ロ部とも閉塞された状態になる。（第
６図（ｂ））そこで、リーク用バルブ＋８ａは閉じたま
まで、排気用バルブ１６ａを開けてロードロック室４ａ
内を所定の真空状態１０−２〜Ｉ　Ｏ−’１−　ｏｒｒ
程度の真空雰囲気に排気する。（第６図（Ｃ））しかる
後、リーク用バルブ１８ａは閉じたままで、排気用バル
ブ１６ａも閉じ、ロードロック室４　ａ　、１：方のカ
バー３ａを子方に移動し、該ロードロック室内を蒸着室
ｌに対して開放する。（第６図（ｄ）） このような動作により、ワーク２７は蒸着室ｌ内の真空
雰囲気を破ることなく該蒸着室内に移送される。 次に、蒸着室１内の構成について第４図及び第５図を参
照しながら説明する。 蒸着室１は、排気用バルブ３０及びこれに連結された排
気系により高真空に排気され、該蒸着室内は約１０−Ｉ
′Ｔ　ｏｒｒの真空雰囲気に維持されている。 この蒸着室１内には、不図示の制御装置に接続された千
−夕により回転移動する移送アーム機構１３が設けられ
ている。この移送アーム機構１３は、該移送アーム機構
の回転軸を中心に例えば四方半径方向に伸張し先端に切
欠孔１３ｂを有する移送アーム１３ａを有している。 又、移送アーム機構１３先端の切欠孔１３ｂの直下であ
って上記ワーク取入れ口２２２】側及びワーク取出しｒ
ｌ　２２　ｂ側の夫々には、位置割り出し機構を有する
プッシャー１２ａ、１２ｂが上記移送アーム１３ａ先端
の切欠孔１３ｂについて貫通可能に上下動するよう配置
されている。 ホルダー１０は、通常は上記移送アーム＋３ａの切欠孔
１３ｂ上に載置された状態にある。このホルダーには、
例えば１０個程度のワーク２７を配置し、且つこのワー
クの下方面が露出するワーク載置用穴１０ａが該ホルダ
ーの同心円トに等間隔で配設されている。 移送アーム機構１３のいずれかの移送アーム１３ａが取
入れ口２２ａ側に配設されたブツシャ−１２ａ−ヒまで
回転移動したとき、該移送アーム機構は−・目停止トシ
、次いでブツシャ−１２ａが移送アーム１３ａ先端の切
欠孔１３ｂ内を上昇すると、該切欠孔１−に載置された
ホルダー１０がこのブツシャ−により押し上げられるこ
とにより該ブツシャ−により保持された状態となる。ブ
ツシャ−１２ａの割り出し機構は、上記のようにブツシ
ャ−１２ａに保持されたホルダーを隣り合うワーク載置
用穴１０ａの間隔だけ順次回転移動するよう作動する。 ブツシャ−１２ａ、＋２ｂの夫々の上方には上下機構＋
４ｂにより下降して該ホルダー１０に載置された各ワー
ク２７を保持するホルダーカバ１１が設けられている。 このホルダーカバーは、下降後ホルダー１０上に載置さ
れた状態となった後に、上平機構＋４ｂから離脱せしめ
られる。 移送アーム機構１３と上述したロードロック室４８間に
は先端にワーク２７を把持しつるハントを備えたワーク
搬送機構９８が設けられている。 ここで、以」二のような構成により、搬送テーブル６ａ
のワーク２７を移送アーム機構１３上のホルダー１０に
移送する動作について説明する。。 まず、ワーク搬送機構９８のハンドにより、ロードロッ
ク室４ａにて最上昇位置まで移動した搬送テーブル６ａ
上のワーク２７を保持する。 次いで、このワーク搬送機構９８をブツシャ−１２ａ上
に回転移動する。 −・方、移送アーム機構１３の移送アーム＋３ａ−Ｌに
載置されたホルダー１０は、この移送アーム機構の回転
によりブツシャ−１２ａトまで移動せしめられる１１次
いで、このホルダー１０がブツシャ−１２ａの十昇によ
り保持されると、ブツシャ−の位置割り出し機構が作動
してホルダーｌＯのワーク載置用穴１０ａを上記ワーク
搬送機構９ａにより移送されたワーク２７の直下に移動
する。しかる後、ワーク搬送機構９ａからワーク２７を
離脱して該ワークをホルダー１０のワーク載置用穴ｔｏ
ａ、ｈに載置する。 さらに、ブツシャ−＋２ａを回転し、上述のような動作
をホルダー１０の各載置用穴１０ａについて行なった後
、ホルダーカバー１１を該ホルダー１０の■から保持せ
しめ、該ホルダーカバーを上下機構＋４ａから離脱する
とともに、ブツシャ−１２ａを十降する。 かくして、ワーク２７の保持を終了したホルダー１０が
移送アーム１３ａ−ヒに載置されると、移送アーム機構
１３は次の空ホルダー１０にワーク２７を保持するため
４分の−だけ回転する。このとき、既にワーク２７が保
持されたホルダーＩＯは後述する蒸着領域まで移送され
る。 次に、第５図を用いて蒸着源２、ホルダー杷待機構１７
及びホルダー交換機構５１について説明する。 上記移送アーム機構１３を中心とし一上記ブツシャー１
２ａとほぼ直交する一方の側に蒸着源２と、他方の側に
ホルダー交換機構５１が設けられ、さらに蒸着源２側に
は該蒸着源により蒸着されたワーク２７の片方の面を蒸
着するためにホルダ−１０全体を反転するホルダー反転
機構１７が設けられている。 蒸着源２中には蒸着材料４４が収容され、この」一方に
該蒸着材料が蒸発飛散せしめられる（以）゛、この領域
を蒸着領域とする）。この蒸着源２には真空を破ること
なく蒸着材料４４を補給できる自動補給装置Ｗ　（不図
示）が備えられている。 そして、蒸着源２の−１一方外周及びその−１ユ方片側
には防着カバー５２　ａ、５２ｂが設けられ、蒸着領域
以外に蒸着材料４４が飛散するのを防１１−．　してい
る、。 ホルダー把持機構１７は、ホルダーフィンガー１７ａを
有し、蒸着室１の側面からホルダー１０及びホルダーカ
バー１１を共に把持して回転できるように設けられてい
る。移送アーム機構１３が１０１転してホルダーＩＱが
上記蒸着領域に到達すると、移送アーム機構１３は該蒸
着位置で停止にし、このときホルダー把持機構１７がホ
ルダーカバ１１と共にホルダー１０の両側部を把持する
。次いで、移送アーム機構１３が上記蒸着位置より回避
するよう回転移動せしめられた後、ホルダ１０に保持さ
れたワークの下側面に所定厚さだけの薄膜を蒸着させる
。さらに、このワークの片側面に対する蒸着が終了する
と、上記ホルダー把持機構１７を］８０°回転させて反
対面に対する蒸着を行ない、かくしてワーク２７の両面
に対する薄膜形成を終了する。 ホルダー交換機構５１は、上記のような蒸着を繰り返し
行なってホルダー％０の汚れがひどくなったときや、ワ
ークの形状を変更するときなどホルダーの取替えを要す
るときに用いる。このホルダー交換機構５１は、蒸着室
１の外側に設けられたホルダーカセット５４内に旧ホル
ダーを取出すとともに、該カセットに収納された新規な
ホルダーを蒸着内の移送アーム機構１３上に配置するよ
う構成されたものである。この新旧ホルダーの取替え時
には、ホルダーカセット５４の内部は真空雰囲気に維持
されるようにしであるため、ホルダー交換の際にも蒸着
室１の真空雰囲気はそのまま維持される。 次に、蒸着の終了したワークを取出す手段について説明
する。 蒸着の終了したホルダー１０は、手記蒸着領域から移送
アーム機構１３の回転移動により、取出し［］　２２　
ｂ側に配設されたブツシャ−１２ｂ　、Ｊｌまで移動せ
しめられる。 ブツシャ−１２ｂの近傍には該プツシヤードに移送され
たホルダー１０内のワーク２７を−１一方に押し「、け
るだめのワーク押し出し機構３１が設けられている。こ
のワーク押し出し機構を作動するには、まずブツシャ−
１２ｂの−Ｆ方に設けられたホルダーカバー１１を上下
動する）−Ｔ機構＋４ｂにより該ホルダーカバーを上昇
する。しかる後、ワーク押し出し機構３１を作動してホ
ルダーＩＯに載置されたワーク２７を押しにげる。この
押しＬげられたワークは把持機能を備えた搬送機構９ｂ
により把持され、該搬送機構の回転移動により取出し１
」側に設けられたロードロック室４ｂの方向に移送され
る。 取出しＩ］　２２　ｂ側のロードロック室４ｂ周辺にお
ける搬送テーブル６ｂ、−ヒ側カバー３ｂ、下側カバー
２０ｂ、−Ｌ側カバー３ｂのｔ下機構５ｂ、下側カバー
２０ｂの上下機構７ｂ等は取入れ口２２ａ側におけるも
のと同様の構成及び動作を有している。従って、取出し
口２２ｂ側のロードロック室４ｂにおけるワーク２７の
取出しは、上記ワーク取入れ口２２ａ側に設けられたロ
ードロック室４ａにおける動作と逆の動作により行なう
ことができ、このロードロック室４ｂにおけるワタの取
出しに際しても蒸着室１内の真空雰囲気は維持される。 又、ロードロック室４ｂ内の真空排気の際において、ワ
ーク２７がワーク搬送台から離脱しないのは取入れ口に
おけると同様である。 なお、ロードロック室４ｂ内に設けられたヒーター８ｂ
により、搬送テーブル６ｂ上のワーク２７の温度が１５
０〜２００℃の温度領域に保持されるように温度調整さ
れる。 以ヒの真空成膜装置は、第７図に示すように、溶融ガラ
スを加熱及び加圧処理して例えばカメラレンズ等の光学
素子を成形するプレス成形工程の次工程として前記工程
により光学素子形状に成形されたワーク２７の表面に薄
膜を堆積するよう構成することができる。 第７図において、６１は溶融ガラスを製造する工程、６
２は上記溶融ガラスを最終成形品の形状に近似した形状
の予備成形品にプレス成形する工程、６３はこの予備成
形品を高精度光学素子にプレス成形する工程、６４は本
実施例の真空成膜装置を示している。同図に示すように
、溶融工程６１から供給された溶融ガラスは一個ずつ順
次プレス（稈６２及び６３を通過して所望形状の光学素
子に成形された後、本装置内に搬送され、所定の成膜処
理を施した後、取出し１」から搬出され、しかる後、次
工程に移送される。この図からも理解されるように、本
実施例の真空成膜装置は光学素子の連続成形工程の成膜
］稈として適するものである。。 なお、本発明の真空成膜装置は、成膜手段を特定のもの
に限定する必要はなく、多層成膜用の蒸着源を有する真
空蒸着装置として用いたり、スパッタ装置、ＣＶＤ装置
としても適用することができる。 （発明の効果） １述した本発明の真空成膜装置によれば、ワクを出入室
を介して真空装置内に取入れる際、出入室内の真空排気
時の気圧変動による搬送手段からのワークの脱落を防庄
することができ、ワクを取入れ室から蒸着室内に確実に
搬送することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の−・実施例の要部断面図であり、第
４図に示す真空成膜装置におけるワークの取入れ口周辺
を不ず。 第２図は、第１図のＡ−Δ線に沿う断面図である。 第３図は、第１図に示す装置の変史例を示す部分断面図
である。 第４図は、第１図に示す装置を用いた真空成膜装置の全
体構成を示す概略断面図である。 第５図は、第４図のＢ　−１３線に沿う概略断面図であ
る。 第６図（ａ）〜（ｄ）は、ワークを取入れ口から蒸着室
内に移送する動作について説明するロードロック室周辺
についての概略断面図である。 第７図は、本実施例の適用例を示す図である。 第８図及び第９図は従来装置を示し、第８図はバッチ式
蒸着装置の概略断面図、第９図はロート・ロック式蒸着
装置の概略断面図である。 ・蒸着室 ・蒸着源 ３ｂ・・・」二側カバー ４ｂ・・・ロードロック室 ６ｂ・・・搬送デープル ・・ヒータ ・・ホルダー ・・ホルダーカバー ＋２ｂ・・・ブツシャ ・移送アーム機構 ・ホルダー反転機構 ・・ト側カバ ・・取入れ［Ｉ ・・取出し口 ・ワーク ・蒸着材料 ・ボルダ−交換機構 ｌ　・　・ ２　・　・ ３　ａ　、 ４　ａ　、 ６　ａ　、 ８　ａ　・ １０　・ １１　・ １２ａ　　、 １３　・　・ １７　・　・ ２０ａ　　・ ２　２　　ａ　　・ ２２ｂ　　・ ２７　・　・ ４４　・　・ ５１　・　・ ７２　・ ７５　・ ７８　・ ８０　・ ８５　・ ８７　・

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）ワーク表面に成膜を行なう真空成膜装置において
   、前記ワークを大気圧雰囲気から真空雰囲気に導入する
   ワーク搬送手段と該搬送手段の出入りする出入室を設け
   、前記搬送手段によって前記ワークを前記出入室に導入
   した後における前記出入室の真空排気時の気圧変動によ
   る前記搬送手段からのワークの脱落を防止するようにし
   たことを特徴とする真空成膜装置。
2. （２）前記搬送手段は前記ワークを保持する爪及び該爪
   を固定するロッドを有し、前記ロッドには前記ワークと
   前記爪との間の気体を流通する連通孔を設けることを特
   徴とする請求項１記載の真空成膜装置。
3. （３）前記出入室の排気時において、ワークの下部から
   の排気容量をワーク上部からの排気容量より大きくした
   ことを特徴とする請求項２記載の真空成膜装置。