JPH0248549A - １，３−ジアセトキシ−２−アセトキシメトキシプロパンの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業　の第１ 本発明は、１，３−ジアセトキシ−２−アセトキシメト
キシプロパンの製造方法に関するものである。１，３−
ジアセトキシ−２−アセトキシメトキシプロパンは医薬
品の中間体として有用な化合物であり、具体的には例え
ば、２−ニトロイミダゾールとカップリング反応させて
得られる下記化合物は、癌放射線治療における増感剤と
して最近注目を集めている。

位置異性体を含まない１．３−ジアセトキシ−２−アセ
トキシメトキシプロパンの製法としては下記の方法が知
られている。　　（Ｊｏｕｒｎａｌ　ｏｆ　Ｍｅｄｉ−
ｃｉｎａｌ　Ｃｈｅ＋ｍ１ｓｔｒｙ、３１，１４４．（
１９８ｇ））１．３−ジクロロ−２−プロパツールをジ
メトキシメタンと五酸化燐でメトキシメチル化後、酢酸
ソーダでクロルをアセトキシに代え、さらに無水酢酸と
三フッ化ホウ素でメトキシをアセトキシに変える方法で
ある。しかし、この方法では初めのジメトキシ化に多量
の五酸化燐を必要とするため工業化することは甚だ困難
である。

が　　しよ゛と　る　題 本発明は、１，３−ジアセトキシ−２−アセトキシメト
キシプロパンを工業的に製造可能にした新規な製造方法
を提供する。

課題を　゛　る、の すなわち本発明は、１．３−ジベンジルオキシ−２−ア
セトキシメトキシプロパンを酢酸エステル溶媒中、２５
℃以下で接触水素還元して１．３ジオキシ−２−アセト
キシメトキシプロパンとし、ついで塩基性物質の存在下
に無水酢酸と反応させることを特徴とする１、３−ジア
セトキシ−２−アセトキシメトキシプロパンの製造方法
である。

本発明を反応式に図示すれば、下記のごとくである。

本発明の出発物質である１、３−ジベンジルオキシ−２
−アセトキシメトキシプロパンは既に知られている方法
により製造できる。　　（Ｊｏｕｎａｌ　ｏｆＭｅｄｉ
ｃｉｎａｌ　Ｃｈｅ＋＊１ｓｔｒｙ、２６，７５９．（
１９ｇ３）　）　　この方法で得た原料は位置異性体を
含まず、かならずしも完全な精製をしなくても本発明に
適用できる。

本発明の第一段目の反応は、接触水素化反応によりベン
ジル基を脱離させる工程である。−見簡単そうに見える
本反応も１．３−ジオキシ−２−アセトキシメトキシプ
ロパンが分解を受けやすく不安定である為、比較的穏や
かな還元条件でなければ目的物を得ることができない、
すなわち、最も影響が大きいのが反応温度で、２５℃以
下で実施する必要がある。好ましくは１０ないし２０℃
の温度範囲が良く、５℃以下では還元はほとんど進行せ
ず、２５℃以上では分解反応が優先してしまう、また反
応溶媒は、酢酸エステル溶媒、例えば酢酸メチル、酢酸
エチルなどが最適である。アルコール系溶媒では、やは
り分解反応が容易に進行してしまう、また触媒としては
、貴金属触媒であれぽいずれでも良いが、中でもパラジ
ウム−炭素触媒が本反応には最も適している０反応水素
圧には特に限定はないが、反応温度が低い為、比較的高
圧のほうが反応時間を短縮できて好ましい。

第二段の反応は、アセチル化工程である。−段目の生成
物である１、３−ジオキシ−２−アセトキシメトキシプ
ロパンが不安定である為、−段目の反応液は触媒を濾過
した後、脱溶媒することなくそのまま二段目の反応に使
用したほうが良い。

−段目の反応液に生成してくる酢酸を中和する目的で塩
基性物質、例えばトリエチルアミンやピリジンを加えて
から無水酢酸を徐々に滴下して反応させる。この反応も
３０℃以下の温度で行ったほうが良い、生成してくる１
、３−ジアセトキシ−２−アセトキシメトキシプロパン
は安定な化合物であり、通常の方法で溶媒や無水酢酸や
トリエチルアミンを留去し、芳香族系溶媒を加えてから
水で洗浄を繰り返し、最後に溶媒を除去して目的物を得
ることができる。この水洗と脱溶媒によって多少台まれ
ていた不純物が除去され、特に精製操作をこれ以上行わ
なくとも十分な純度の１．３−ジアセトキシ−２−アセ
トキシメトキシプロパンを得ることが出来る。

以下、製造例と実施例により本発明をさらに詳細に説明
する。

゛　　　　び　　方 製造例 ステンレス製２００ε反応槽に５０％苛生ソーダ液１４
．５３Ｋｇとベンジルアルコール２６．６Ｋｇ（２４６
モル）を入れ、攪拌しつつエピクロルヒドリン７．５Ｋ
ｇ（８１モル）を２５〜３０℃に保ちながら滴下し、そ
の温度で１６時間攪拌を続けた。

その後、水４５．０Ｋｇ、トルエン６９．４Ｋｇを加え
て攪拌分液し、水層はさらにトルエン３４．７　Ｋｇを
加えて抽出する０両方のトルエン層を合わせ、水１１．
７Ｋｇで２回水洗を行ってからトルエン層を蒸留した。

主留分として１８０〜ｂ の凛題化合物の留分１５．６Ｋｇを得た。

１３−ジベンジル　　シー２−アセト　シメ上記留分１
４１Ｋｇ（４４，４モル）と塩化メチレン１２３Ｋｇ、
パラホルムアルデヒド２１７Ｋｇ（５７，７モル）をグ
ラスライニングの２００　ｇ反応槽に仕込み、攪拌しな
がら一３〜０℃の温度で塩化水素ガス８９　Ｋｇを３時
間かけて吹き込んだ、その後、反応液を無水硫酸ソーダ
で乾燥し、液温２０℃以下で溶媒を留去した。ついで無
水酢酸カリウム１１．５Ｋｇ（１１７，２モル）、アセ
トン４４、５　Ｋｇを加えて１５〜２０℃で１６時間攪
拌した０反応終了後、アセトンを減圧下で留去し、トル
エン３４．８Ｋｇ、飽和重曹水１３．５にｇを加えて攪
拌分液し、得られたトルエン層をさらに３％硫酸ソーダ
水溶液で２回洗浄してから減圧下に溶媒を留去して表題
化合物の濃縮液１５．８Ｋｇを得た。これをＮＭＲによ
って分析すると、位置異性体である１、２−ジベンジル
オキシ−３−アセトキシメトキシプロパンは、全く含ま
れていないことが確認された。

実施例　１ 製造例で得られた１、３−ジベンジルオキシ−２−アセ
トキシメトキシプロパンの濃縮液３２ｇと５％パラジウ
ム−炭素触媒（水分５５％含有）３ｇおよび酢酸エチル
３２０ｇを１．５ａオートクレーブに入れ、水素圧１０
　Ｋｇ／ｃＸ、温度１６〜２０℃で１時間還元した。還
元液は濾過して触媒を除去した後、１ａ四つロフラスコ
にピリジン２４、８　ｇ　、無水酢酸３２．３ｇと共に
加えて２０℃で２時間攪拌した９反応終了後、減圧下に
溶媒、無水酢酸、ピリジン等を留去し、再びトルエン３
００１を加え３０ｍ１の水で３回水洗してから減圧上溶
媒を留去して、１．３−ジアセトキシ−２−アセトキシ
メトキシプロパンの粗生成物１６．６ｇを得た。（収率
７２％）　定量分析による純度は８２％であった。

実施例　２ 製造例で得られた濃縮液１５．２Ｋｇ（４４モル）と５
％パラジウム−炭素触媒（水分５５％含有）１．５にｇ
および酢酸エチル１５０Ｋｇを５００ｅオートクレーブ
に仕込み、水素圧１０　Ｋｇ／ｃ＋ａ”、１０〜１８℃
の温度で２時間還元した。還元液は液温１８℃に保った
まま触媒を濾別し、ただちに別の２００ａ反応槽に仕込
んだ、続いてトリエチルアミン１７．８Ｋｇ＜１７６モ
ル）、無水酢酸１ａＯＫｇ（１７６モル）を加えて２０
〜２４℃で２時間攪拌して反応を行った０反応終了後の
操作は、実施例１とほぼ同様に行い、１．３−ジアセト
キシ−２−アセトキシメトキシプロパンの粗生成物７，
５Ｋｇ（収率６８％）を得た。このものの純度は７９％
であった。また、位置異性体である１、２−ジアセトキ
シ−３−アセトキシメトキシプロパンの生成は、全く確
認されなかった。

凹１ 本発明により、位置異性体を含まない１，３−ジアセド
キシー２−アセトキシメトキシプロパンを工業的に製造
することが可能になった。

特許出願人　川研ファインケミカル株式会社特許出願人
　ポーラ化成工業株式会社

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １，３−ジベンジルオキシ−２−アセトキシメトキシプ
   ロパンを酢酸エステル溶媒中、２５℃以下で接触水素還
   元して１，３−ジオキシ−２−アセトキシメトキシプロ
   パンとし、ついで塩基性物質の存在下に無水酢酸と反応
   させることを特徴とする１，３−ジアセトキシ−２−ア
   セトキシメトキシプロパンの製造方法。