JPH024782Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この考案は、電子部品が実装されたプリント基
板を半田付後に仕上げる半田付面の洗浄装置に関
するものである。

（従来の技術） 従来のプリント基板の半田付面洗浄装置は第８
図に示してあり、この装置は、槽ｂ内に回転ブラ
シａを配置し、この槽ｂ内に洗浄液ｃを満して、
電子部品ｅが実装されたプリント基板ｄの半田付
面をこの回転ブラシａの回転によつて洗浄してい
た。

（考案が解決しようとする問題点） しかし、上記した従来の洗浄装置の場合には、
洗浄用ブラシとして回転ブラシを使用しているた
めに、プリント基板の裏面すなわち半田付面との
接触面が小さい上に、単一方向のブラツシングし
かできない欠点がある。

また、回転ブラシはロールブラシであり、この
回転ブラシを回転させると洗浄液の飛沫が飛び散
つて周周辺の環境を悪化させ、加えて洗浄液の消
耗がはげしい欠点がある。

さらに、洗浄処理能力が低く、生産ラインに組
込むには難点がある。

そこで、この考案の目的は、作業性、生産性、
経済性、機能性の各面で優れた洗浄装置を提供す
るものである。

（問題を解決するための手段） 上記目的を達成するために、この考案は、外槽
底面には平行な一対のベース板が取付けてあり、
前記外槽内には内槽を設け、この内槽は端部を下
方に屈曲設した波消板を設けた蓋体で覆つてあ
り、この蓋体にはボルトを介してネジでレベル調
整される平面ブラシを併列に設け、ベース板の両
端部には軸を介して回転リンクが設けられてい
て、このうち少なくとも１個の回転リンクには駆
動モーターが取付けられた装置本体と、内槽の両
側には２列に平行に複数のガイドローラーを配置
し、プリント基板の半田付面が前記平面ブラシの
表面に接触しながら移動するプリント基板搬送部
を設けた構成にされている。

第２に、プリント基板が２列のガイドローラー
間を移送される際、このプリント基板の半田付面
を平面ブラシが円運動しながら洗浄するように構
成されている。

（実施例） 以下この考案の一実施態様を表わした図面に基
づいて説明する。

図中１は、電子部品Ｅが実装されたプリント基
板１０の裏面すなわち半田付面を洗浄装置の装置
本体であつて、この装置本体１は概略内槽８を有
する外槽２と、この内槽８を覆う平面ブラシ３を
有する蓋体７と、外槽２の底面に取付けられ回転
リンク５を取付けたベース板６とから構成されて
いる。

外槽２の底面にはベース板６が平行に取付けら
れている。

この外槽２内には一定間隔をおいて洗浄液９が
収容される内槽８が設けられている。

蓋体７は、前記内槽８の上面を覆う面積のもの
であり、この蓋体７の端部は下方に屈曲設して波
消板７１が設けられている。

また、この蓋体７の内槽８部分には方形孔７４
がプリント基板１０の搬送方向に複数個設けてあ
り、この方形孔７４の長手方向端部にはボルト７
２が下方に溶着されている。

図中３は、方形孔７４に取付けられる平面ブラ
シであつて、この平面ブラシ３はブラシ台３４の
表面にはブラシ３２が植設され、両端部には段部
３５を介して取付板３１が設けられている。ま
た、この取付板３１にはボルト７２よりやや大き
い内径の孔３３が穿設されている。そして、この
平面ブラシ３は、ボルト７２に孔３３を挿入し、
取付板の上下からネジ７３で挾んで締着して蓋体
７にレベル調整可能に固定されている。

一方ベース板６の端部４個所は軸５１を介して
回転リンク５に回転自在に取付けられ、この回転
リンク５の軸５２はフレーム（図示省略）に固定
されている。

また、少なくとも１個の回転リンク５の軸５２
は駆動モーター４の軸に取付けられている。

そして、駆動モーター４の駆動によつて回転リ
ンク５は第２図に示した矢印方向に回転し平面ブ
ラシ３が前後左右の四方に円運動し、連続的に運
動するようにされている。この装置本体１の内槽
８の両側には互いに平行な複数のガイドローラー
１１列を配置したプリント基板１０搬送部Ｌが設
けられている。このガイドローラー１１は下端に
プリント基板１０を保持するＶ字形の溝１１１を
設け、ピン軸１１２で回転自在に固定されてい
る。

そして、この搬送部４は、プリント基板１０が
搬送部Ｌのガイドローラー１１によつて搬送され
る際、プリント基板の半田付面に平面ブラシ３の
表面が接触するように高さが位置決めされてい
る。

（作用、効果） この考案によれば、 処理能力・自動及半自動による搬送機構を備
え、被洗浄物を短時間にて大量処理出来る。

平面状ブラシ使用：接触面が大きく、しかも
接触している（洗浄）時間が長い。

・ ブラシが前後、左右に動くため被洗浄物の
全ての面に四方向の物理的な力がかゝり、均
一な精密洗浄が出きる。

・ ブラシの動きによつて生ずる波に対しては
新考案の波消し機構により完全に解決するこ
とができた。これにより洗浄液の消耗が少な
くなり、勾い等に依る環境悪化もおさえるこ
とが出来る。

ブラシの磨滅に対しては、調整つまみによ
つて、そのレベルを任意に調整出来る。

インライン化が可能・各種半田付け装置の搬
送機構に対応可能である。

【図面の簡単な説明】

図はこの考案の一実施例に関するもので、第１
図は装置本体の斜視図、第２図は装置本体の平面
図、第３図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第４図は
平面ブラシの斜視図、第５図はＢ−Ｂ断面図、第
６図は装置本体とプリント基板搬送部との関係の
説明図、第７図はガイドローラーとプリント基板
と内槽との関係を表わした説明図、第８図は従来
例の説明図である。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 外槽底面には平行な一対のベース板が取付けて
   あり、前記外槽内には内槽を設け、この内槽は端
   部を下方に屈曲設した波消板を設けた蓋体で覆つ
   てあり、この蓋体にはボルトを介してネジでレベ
   ル調整される平面ブラシを併列に設け、ベース板
   の両端部には軸を介して回転リンクが設けられて
   いて、このうち少なくとも１個の回転リンクには
   駆動モーターが取付けられた装置本体と、内槽の
   両側には２列に平行に複数のガイドローラーを配
   置し、プリント基板の半田付面が前記平面ブラシ
   の表面に接触しながら移動するプリント基板搬送
   部を設け、プリント基板が２列のガイドローラー
   間を移送される際、このプリント基板の半田付面
   を平面ブラシが円運動しながら洗浄することを特
   徴としているプリント基板の半田付面の洗浄装
   置。