JPH0247297A - 低分極性炭素電極 - Google Patents

低分極性炭素電極

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JPH0247297A
JPH0247297A JP63194373A JP19437388A JPH0247297A JP H0247297 A JPH0247297 A JP H0247297A JP 63194373 A JP63194373 A JP 63194373A JP 19437388 A JP19437388 A JP 19437388A JP H0247297 A JPH0247297 A JP H0247297A
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    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
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    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5018Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with fluorine compounds
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25BELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES FOR THE PRODUCTION OF COMPOUNDS OR NON-METALS; APPARATUS THEREFOR
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は炭素電極に関する。更に詳しくは、本発明はフ
ッ化物を含む溶融塩の711Mにおける陽極として有用
な低分極性炭素電極及びその製造方法に関する0本発明
は又、この低分極性炭素電極を陽極として用いてフッ化
カリウム−フッ化水素系混合溶融塩よりなる電解浴を電
気分解するフッ素の製造方法に関する。
(従来の技術) 従来、陽極として炭素材を使用するところのフッ化物を
含む溶融塩の電解においては、陽極での分極による突然
の急激な電圧の上昇及び電流の減少という所謂陽極効果
の現象が起こり、これが従来の方向における大きな障害
となっていた。即ち、炭素F!極によりKF−211F
系溶融塩を用いてフッ素を電解製造する際の操業条件の
一例を挙げて説明すると、5000Aスケールの電解槽
に対し陽極電流密度10〜I3^/d+i’、この負荷
で摺電圧はIOVである。
これを食塩電解の場合と比較すると、フッ素の電解製造
の場合、陽極電流密度が115であるにもかかわらず摺
電圧が2.3倍高い、この摺電圧の大部分は陽極過電圧
で占められており、このエネルギーはジュール熱として
散逸する。また、フッ素電解においてこのような低い陽
極電流密度で運転操業を余儀なくされているのは、フッ
化物イオンの放電により炭素電極表面に表面エネルギー
の極めて低いフッ化グラファイトが生成し、浴と電極と
の接触が困難となる現象が生ずることに起因する。
この現象を陽1員効果と呼び、急激な摺電圧の異常上昇
に伴い電解電流の激減が観察される。−度陽極効果が生
ずると定常運転の状態に戻すことが極めて困難で、?[
を極の研磨または電極および浴の交換さえ必要となり、
それに要する操業管理上の問題は大きく、フッ素の電解
製造の困難さの大きな要因の一つとなっている。そのた
め、その改養策としてKF−211F電解浴に溶解度以
上のフッ化リチウムを添加したり、炭素ブロックの成形
原料にフッ化リチウムなどのフッ化物を混入したりする
方法が提案されている(例えば、特公昭筒61−129
94号参照)。
(発明が解決しようとする問題点) しかし、その両者とも陽極効果を抑制する効果は十分で
ない、又、電解浴中に溶解度、以上のフッ化リチウムを
添加する方法にあっては、電解槽の底部にフッ化リチウ
ムのスラッジが溜り、これは1R損の原因となるのみな
らず、熱伝導が不均一になって電解槽内に温度分布が生
じて液wj環に悪影響を与えたり、電解槽の連絡部を閉
塞したり、又、このスラッジが底部に固着して電解槽の
掃除の際にも除去することができないというような種々
の困難を伴う、一方、炭素材の成形原料にフッ化リチウ
ムなどのフッ化物を混入する方法にあっては、炭素材の
焼成温度が800〜」、200℃であるのに対してフッ
化リチウムは約800’C位までしか安定ではなく、焼
成工程においてフッ化リチウムは消失し易く、又、炭素
ブロック中の混入状態は不均一にならざるを得ずその効
果は不十分である。
(問題を解決するための手段及び作用)本発明者らは、
陽極効果の抑制に最も有効なフッ化リチウム(LiF)
を、電解槽の底部への沈積の危険もなく、又消失を起こ
させない状態で炭素電極に均−且つ安定に保持させる方
法につき鋭意研究を行なった。その結果、LiFとの混
合物がLiFの融点より低い融点を与え且つ該混合物の
融点以上の所定温度においてムiFの表面張力より低い
表面張力を与える少なくともINiの金属フッ化物とL
iFの金属フッ化物混合物を用い、その溶融状態で炭素
ブロックと接触共存させ、接触共存系に圧力をかけると
混合溶融塩が容易に炭素ブロックの気孔中に古人(以下
、屡々、“含浸”とも言う)され、LiFが炭素ブロッ
クの気孔中に均−且つ安定に充填保持されることを意外
にも知見した。又、このようにしてイクた炭素ブロック
の気孔中にLiF含有金属フッ化物混合物が充填されて
なる炭素電極を、フッ化カリウム−フッ化水素系混合溶
融塩よりなる電解浴の電気分解によるフッ素の製造にお
いてtl!Ifnとして使用すると、驚くべきことに、
分極が非常に小さく且つ陽極効果が著しく抑制され、高
い陽極電流密度でしかも低電圧で安定に電解を行ない得
ることを知見した。本発明はこれらの知見に基づいてな
されたものである。
しかして本発明の1つの目的は、LiFを均−且つ安定
に保持する新規な低分極性炭素電極を提供することにあ
る。
本発明の池の1つの目的は、上記した低分極性炭素電極
を容易に製造する方法を提供することにある。
本発明の更に他の1つの目的は、L汗を均−且つ安定に
保持する上記の新規な低分極性炭素電極を陽極として用
いてフッ化カリウム−フッ素水素系混合溶融塩よりなる
電解浴の電気分解によるフッ素の製造を高い電流密度で
しかも低電圧で安定に行なう方法を提供することにある
本発明の上記及び他の開目的、諸特徴及び諸利益は1図
面を参照して以下に述べる詳細な説明から明らかになろ
う。
即ち、本発明の1つの態様によれば、炭素ブロックの気
孔中にLiF含有金属フッ化物混合物が充填されてなる
ことを特徴とする低分極性炭素電極が提供される。
このような本発明の新規な電極は、次のような巧みな方
法により容易に製造することができる。
即ち1本発明の他の1つの態様によれば、LiFとの混
合物がI、iFの融点より低い融点を与え且つ該混合物
の融点以上の所定温度においてLiFの表面張力より低
い表面張力を与える少なくとも1種の金属フッ化物とL
iFとの金属フッ化物混合物を調製し、溶融状態の金属
フッ化物混合物と炭素ブロックとを接触共存させ、接触
共存系に圧力をかけて金属フッ化物混合物を炭素ブロッ
クの気孔中に古人させることを特徴とする低分極性炭素
ML極の製造方法が提供される。
用いる炭素ブロックには特に限定はなく、通常炭素電極
に用いられる炭素ブロックを用いることができる。粉砕
した石油コークス、ピッチコークス等のコークス類を骨
材にして、コールタールピッチなどをバインダーとして
押出成形あるいは振動成形法で成形した後、常法に従い
例えば約800〜1,200℃の温度で焼成して得たも
のを用いることができる。気孔率は約2%・−約30%
の範囲のものを用いる。又、特公昭第61−12994
号に記載されている等方性炭素も好ましく用いられる。
炭素ブロックの気孔中に圧入する金属フッ化物混合塩を
作るLiF以外の金属フッ化物としては、LiFとの混
合物がLiFの融点より低い融点を与え且つ該混合物の
融点以上の所定温度においてLiFの表面張力より低い
表面張力を与える少なくとも1種の金属フッ化物が用い
られる0通常、そのような金属フッ化物としては、KF
、 NaF、 CsF、MgF、、CaF、、^12F
、よりなる群から選ばれる少なくとも1種の金属フッ化
物を用いることができる。LiFを含めて2成分系又は
3成分系以上を用いることができるが、通常は2成分系
で十分である。金属フッ化物混合物の各成分の量は、混
合物がLiF単味の融点よりも低い融点を示し且つ該混
合物の融点以上の所定温度においてL i F it味
の表面張力より低い表面張ノJを示すように選ばれるが
、更に有効成分としてのLiFの量が少なくとも約30
+l1ole%含まれるように選ばれる。これらのこと
を考慮すれば、例えば2成分系の場合LiF/他の金属
フッ化物のモル比は0.4〜2.5、好ましくは0.7
〜1.5、更に好ましくは0.9〜1.1である6通常
は、2成分の場合、約l:lのモル比で好ましい結果を
得ることができる。
前述したように、本発明において炭素ブロックへのI、
i Pの充填は、 LiF含有混合溶融塩の状態で行な
われる、 LiF単味であるとその融点は842℃と高
く、又、847〜1247℃における表面長ノJは25
5.9dyne c+n−’と大きい、一方、例えばモ
ル比■:1のム1F−KV系混合溶融塩では融点が49
2℃、800℃における表面張力が166dyne c
m−’と融点および表面張力の両者共低い値となり、炭
素ブロックの気孔中への充填操作を円滑に行なうことが
できる。
炭素ブロックの気孔中にLiF含有金属フッ化物混合物
を充填させる方法は、炭素質ブロックの気孔中への充填
率が少なくとも30χ、好ましくは少なくとも50%、
更に好ましくは65%以上になるように充填することが
できれば特に限定されない0例えば、金属フッ化物混合
物を溶融状態で炭素ブロックと接触共存させ、接触共存
系に圧力をかければ、金属フッ化物混合物を炭素ブロッ
クの気孔中に容易に含浸圧入させることができ、その際
圧力をit/I 御することにより炭素ブロックの気孔
中の金属フッ化物混合物の充填率を調節することができ
る。更に具体的には、例えば、LiF−KF系金金属フ
ッ化物混合物LiF/KFのモル比がIIIとなるよう
に8’l製する。この混合物をルツボの中で、例えば、
850〜900℃に加熱して充分溶融させた後、500
〜600℃に降温し、その中に炭素ブロックを入れ(炭
素ブロックはLiF−KFF合物を加熱溶融する前にル
ツボに入れておいてもよい)、炭素材の抑圧手段を用い
て混合溶融塩中に浸漬するようにして固定する。このル
ツボを圧力容器に入れる。つぎに該容器をIO〜50 
mm11gまで減圧にし、約5〜10℃/+++i■1
の割合で昇温しLiF−にF溶融体の粘度が低下して約
0.2〜0.3ボイズになるまで加熱する。昇温の際の
減圧操作は炭素材料中の気孔より空気を除去すると共に
該材料の酸化を防止し含浸圧入操作を容易にするもので
ある。つぎに、このようにして溶融したl、i F−に
F基金属フッ化物混合物と炭素ブロックとが接触共存し
た状態で、該容器内に不活性ガス、例えば窒素またはア
ルゴンを導入して、内圧を50からlookg/Cnt
で約30分〜約2時間保持する。
この後、該炭素材料を圧力容器から取り出し、大気中に
て自然放冷して本発明の低分極性炭素?l極を得ること
ができる。
本発明のJA素電極のLiF含有金属フッ化物混合物の
含有量は、炭素ブロックに対してLiF換算で0.5−
30ffiflB、好まl、 < 4!1−25!II
JJB、更に好ましくは3〜20fflffi%である
。所望のLiF含量はLiF含有金属フッ化物混合物中
のLiFの量及び炭素ブロックの気孔中への充填率を1
m節することによって達成することができる。
金属フッ化物混合物の充填率(X)は、炭素ブロック中
の気孔の量を100%とするとき、その気孔が金属フッ
化物混合物で充填されている割合(%)を意味し、母材
の炭素ブロックのかさ比重をA、真比重をA′、気孔率
をPとし、又、混合溶融塩充填電極の比重を8とすると
1式 B=^+XPA ’により求められる。
このようにして得た炭素電極は、その気孔中にLiF含
有金属フッ化物混合物が特に炭素電極の表面部分におい
て極めて均一に充填されている。これは、炭素電極を切
断して研磨した後、1IJl微鏡で観察することにより
確認することができる。これに対して、炭素質材料の成
形前にLiFなとの金属フッ化物を混入し、成形、焼成
して得られる炭素f、tliは、その表面におけるLi
Fの分布は極めて不均一になっている。
本発明の炭素mtJfaをフッ化カリウム−フッ化水素
系混合溶融塩よりなる電解浴の電気分解に陽極として用
いた場合、分極が非常に小さくて陽極効果が生じ難く、
高電流密度でしかも低電圧で安定に電解操業を続けるこ
とができる。
即ち、本発明の更に他の1つの態様によれば、炭素陽極
を有する電解槽でフッ化カリウム−フッ化水素系aR合
溶融塩よりなる電解浴の電気分解によりフッ素を製造す
る方法において、炭素ブロックの気孔中に1,1F含有
金属フッ化物混合物が充填されてなる炭素電極を陽極と
して用いることを特徴とするフッ素の製造方法が提供さ
れる。
電解浴の基本成分であるにF−11F系混合溶融塩にお
けるIIF/KFのモル比は1以上種々のモル比が使い
得るが、1.8〜2.2の範囲のモル比が好ましく用い
られる。
電解に用いる陰1■としては、一般にフッ素の電解製造
に用いられている陰極材料、例えば鉄、スチール、ニッ
ケル、モネルなどを用いることができる。
上記したように1本発明により、炭素ブロックの気孔中
にLiF含有金属フッ化物混合物が充填されてなる炭素
電極をフッ素の電解製造に用いた場合、9虜が低く、陽
極効果が発生し難く、しかも高電流密度で且つ低電圧で
安定した電解操業を行なうことができる0例えば、(^
)LiF含浸処理を施していない異方比1:1の等力性
炭素電極(7It解浴にL i F 無添加)、(II
)同一炭素電極(電解浴に3wt%LiFを添加)、(
C)LiF Iwdを成形用炭素材料に混入させて成形
・焼成した炭素電極(浴にLiF無添加)及び(Dl、
iF−にFを充填率65χで含浸圧入させた異方比1:
1の等方性炭素型F@(電解浴にLiFlq添加)をそ
れぞれ陽極に用いて、にF−211F系溶融塩を電解浴
、ニッケル仮を陰極とし電解浴温度90℃にて電位走査
法により陽極電流密度−陽極電位曲線(サイクリックポ
ルタモグラム)を求めた。得られた結果をそれぞれtj
S1図〜第4図に示す、第1図、第3図及び第4図は第
1回1コの電位走査、また第2図は第7回目の電位走査
により得られたサイクリックポルタモグラムである。サ
イクリックポルタモグラム測定に際してはOからIOV
の間を0.03V/secの走査速度にて電位走査を費
なった。なお、電解浴は予備電解により充分脱水処理を
して用いた。未含浸処理?+1極で電解浴にLiFを添
加していない場合、第1図に示すように電位を責な方向
へ走査させた場合的7.8vで電流密度は極大となり(
45^/dm″)、これより責な電位では電流が急激に
減少し陽極効果が生じている。同一1mを用い電解浴に
LiFを3wt%添加した場合、第2図に示すように第
1回目から第6回目までの走査では急激な電流減少は観
察されないが、第7回目の走査において約9.0Vで陽
極効果が生じた。 LiF 1wt%を成形炭素材料に
混入し、成形・焼成して得た炭素?ut!iで電解浴に
LiFを添加していない場合はffJ31J?lから明
らかなように約8.5vで電流が減少しはじめている。
LiF4Fを炭素ブロックの気孔中に含浸させた?[を
極で電解浴にLiFを添加していない場合は第4図から
明らかなように1’a 横効果を生ずることなく安定な
サイクリックポルタモグラムかえられ、IOVにおいて
電流密度は125A/dn+“に達した。また走査回数
が増え、例えば第7回目でも第1回目のサイクリックポ
ルタモグラムとほぼ同一のものが得られた。第1図と第
4図を比較すると10^/dll+’における電位は未
含浸処理電極テは4,8V、 LiF−KF含浸電極で
は3.8vであり、30A/dtm’ ”Qは前者が6
.IV、後者の場合には5.2vとLiF−KF含浸電
極の方が電位がそれぞれIV、0.9vも低い。第3図
に示したLiF混入電極の場合は、電流密度30八/d
I11“における電位は6.5vであり、第4図に示し
た本発明のサンプルDの方が1,3Vも低い。このよう
にLiF−KF含浸電極は省エネルギーの面からも有利
であり、その上陽極効果による種々のトラブルを避ける
ことができ人件費の節約にもなる。
又5本発明のLiF含浸電極を用いるとLiFを電解浴
に添加した場合問題となるスラッジが電解槽底部に溜り
にくいという利点もある。炭素陽極の気孔中に充填され
たフッ化物のうち有効成分としてのLiFはKF−21
1F浴に対する溶解度が低いので電解浴中に溶出しにく
く安定に保持される。金属フッ化物混合物のLiF以外
の成分としてKF、 NaF、C8Fなどのアルカリ金
属フッ化物を用いた場合、炭素電極表面部分に充填存在
するそれらアルカリ金属フッ化物はKF−211F浴に
溶出する。しかし、電解槽から溶解してさらに陽極酸化
されることにより浴中に蓄積されるFe” をNa塩は
不溶性錯体として浴中より取り除くという副次的な効果
を有する。
本発明の電極の陽性効果抑制の機↑dは次のようなもの
と考えられる。通常の電解では式(1)の池に(2)式
によりフッ化グラファイト(CF)が電極表面に生じや
すい、CFは(3)式により熱分解するが、(2)式の
速度が(3)より大きくなると、CFが多くなり、その
他表面性により浴の濡れが悪くなり、実際の電流密度が
非常に高くなり、9潰が極めて大きくなり、遂には陽極
効果に至る。
C+ IIFT→l/2F、 + IIF + e−(
1)C+ +IF;’→CF+ IIF十〇=    
    (2)2(:F   −CV、・+ G   
        (3)しかし、イオンでなく分子状の
LiFが存在すると、(4)式の反応により層間化合物
(C:xF−)が容易に生成する。この化合物は電導性
がよく表面エネルギーは高く浴によく濡れる。又、(5
)式により生成した層間化合物上で浴中の+IF、 (
21F譚11F7目1゛)が放電しF、が発生する。
CxF−+ IIF、−eCxF−+ I/2F、  
+ IIF + e−(5)+ CxF−の池に条件によってCx1ll”、も生成する
が、同様の性質を有する。
以」二述べたように、本発明により、LiF含有金属フ
ッ化物混合物を気孔中に含浸させた炭素ブロックを陽極
としフッ化カリウム−フッ化水素系混合溶融塩を電解浴
に用いてフッ素を電解製造すれば、陽極効果を抑制する
ことができるのみならず高い電流密度で且つ低電圧で電
解浴を安定に継続することが可能であり、その工業的価
値は高い。
又、本発明の電極はNF、の電解合成用陽閘としても用
いることができる。KF・211F電解浴中にNH,F
を20〜30molχ添加し、電解浴温度120〜15
0℃にて、本発明の電極を陽極とし1〜2A/dm”の
電流密度で電気分解することによりNF、を合成するこ
とができる。 NFおは安定なフッ素化剤、ロケット燃
料用酸化剤、無機および有機材料表面処理用ガスなどと
して有用なガスである。陽極に本発明の電極を使用する
と、陽極効果は生じ難くなるほか、NF。
生成に対する陽極電流効果は高くなり極めて有利である
(実施例) 以下に実施例および比較例を挙げて本発明をさらに詳細
に説明するが、本発明の範囲は実施例に限定されるもの
ではい。
実施例■ カサ密度1.67 g /cutおよび気孔率24.1
$の物性を有する異方比III等力性炭素ブロックを母
材として用いた。LiFとKFをモル比がIIIとなる
ように秤取し、よく混合してから黒鉛ルツボに入れた。
このルツボを電気炉中に置き、窒素ガス雰囲気にてLi
F−KF混合物を900℃に加熱して充分溶融させた後
、炉温度を600℃に降温した0次いで炭素ブロックを
ルツボ中に入れ、炭素材の抑圧手段を用いて混合溶融塩
中に浸漬するようにして固定した。
このルツボを圧力容器にいれ、該容器を505w*I1
gまで減圧にしI、1F−KF溶融体の粘度が0.25
ボイズになるまで約5℃/+l1inの速度で昇温した
。昇温の際の減圧操作は炭素ブロックの気孔より空気を
除去すると共に該炭素ブロックの酸化を防止し、次の混
合溶融塩含浸操作を容易にするものである。つぎに、該
容器内に不活性ガス、例えば窒素またはアルゴンを導入
し、内圧をloOkg/cfflで約1時間保持した。
この後、該炭素ブロックを圧ツノ容器から取り出し、大
気中で自然放冷した。かくして得られた炭素ブロックは
カサ密度2.07g/dであり、LiF−KFの充填率
は65%であり、LiF含量は炭素ブロックに対してl
0wt$あった。この結果から明らかなように、1.j
F−KF混合溶融塩は炭素ブロックに容易に含浸し得た
ことが分かる。このようにして得られたLiF−KF含
浸炭素電極を陽1! (5X30X0.8+on)とし
、KF−211F系溶融塩電解浴を用い、90℃にて電
位走査法によりサイクリックポルタモグラムを求めた。
なお、電解槽はテフロン製(2Q)で陰極にはニッケル
板を用いた。得られた結果は第4図に示す通りである。
第4図から明らかなように陽極効果を生ずることなく、
また高い電流密度が得られ且つその際の電圧は低く、L
iF−KF含浸効果は禰めて大きい。
比較例1〜2 含浸処理を施していない異方比l:1の等方性炭素材を
陽極(5X30X0.8)とし、充分脱水されたKF−
2+IF系電解浴G、:LiFを添加しない場合と、3
wt%添加した場合につきサイクリックポルタモグラム
を求めた。他の条件は実施例1と同様である。
LiF無添加の場合を第1図、3wt、$LiF添加の
場合を第2図に示す、いずれの場合も陽極効果が生じて
おり、これらの結果と実施例1に示した結果を比較する
と本発明により得られるLiF−KF含浸電極が極めて
優れていることが分かる。
【図面の簡単な説明】
m1図及び第2図はしfF−KF含浸処理を施していな
い炭素電極を陽極として用い、にF−211F系電解浴
にそれぞれ1.iF無添加、 LiF 3wt%添加の
場合の電位走査法による陽極電流密度−陽tfi7!位
曲線であり、また第3図及び第4図は、LiF 1wL
%を成形用炭素材料に混入させて成形・焼成した炭素電
極及び本発明のLiF−にl;含浸炭素電極をそれぞれ
に用い、にF−211F系電解浴にはLiF無添加の場
合の電位走査法により求めた陽極電流密度−陽極電位曲
線を示す。

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)炭素ブロックの気孔中にLiF含有金属フッ化物
    混合物が充填されてなることを特徴とする低分極性炭素
    電極。
  2. (2)LiF含有金属フッ化物混合物が、KF、NaF
    、CsF、MgF_2、CaF_2、AlF_3よりな
    る群から選ばれる少なくとも1種の金属フッ化物とLi
    Fとからなる請求項(1)記載の低分極性炭素電極。
  3. (3)LiF含有金属フッ化物混合物の含有量が炭素ブ
    ロックに対してLiF換算で0.5〜30重量%である
    請求項(1)記載の低分極性炭素電極。
  4. (4)LiFとの混合物がLiFの融点より低い融点を
    与え且つ該混合物の融点以上の所定温度においてLiF
    の表面張力より低い表面張力を与える少なくとも1種の
    金属フッ化物とLiFとの金属フッ化物混合物を調製し
    、溶融状態の金属フッ化物混合物と炭素ブロックとを接
    触共存させ、接触共存系に圧力をかけて金属フッ化物混
    合物を炭素ブロックの気孔中に含入させることを特徴と
    する低分極性炭素電極の製造方法。
  5. (5)LiF含有金属フッ化物混合物が、KF、NaF
    、CsF、MgF_2、CaF_2、AlF_3よりな
    る群から選ばれる少なくとも1種の金属フッ化物とLi
    Fとからなる請求項(4)記載の低分極性炭素電極の製
    造方法。
  6. (6)LiF含有金属フッ化物混合物中のLiFの量が
    少くとも30mole%である請求項(4)記載の低分
    極性炭素電極の製造方法。
  7. (7)LiF含有金属フッ化物混合物の気孔中の充填率
    が少くとも30%になるまでLiF含有金属フッ化物混
    合物を炭素ブロックの気孔中に含入する請求項(4)記
    載の低分極性炭素電極の製造方法。
  8. (8)炭素陽極を有する電解槽でフッ化カリウム−フッ
    化水素系混合溶融塩よりなる電解浴の電気分解によりフ
    ッ素を製造する方法において、 炭素ブロックの気孔中にLiF含有金属フッ化物混合物
    が充填されてなる炭素電極を陽極として用いることを特
    徴とするフッ素の製造方法。
  9. (9)LiF含有金属フッ化物混合物が、KF、NaF
    、CsF、MgF_2、CaF_■、AlF_■よりな
    る群から選ばれる少なくとも1種の金属フッ化物とLi
    Fとからなる請求項(8)記載のフッ素の製造方法。
  10. (10)LiF含有金属フッ化物混合物の含有量が炭素
    ブロックに対してLiF換算で0.5〜30重量%であ
    る請求項(8)のフッ素の製造方法。
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