JPH0246934B2 - - Google Patents
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- JPH0246934B2 JPH0246934B2 JP340680A JP340680A JPH0246934B2 JP H0246934 B2 JPH0246934 B2 JP H0246934B2 JP 340680 A JP340680 A JP 340680A JP 340680 A JP340680 A JP 340680A JP H0246934 B2 JPH0246934 B2 JP H0246934B2
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- Japan
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- water
- weight
- photosensitive
- parts
- polyvinyl alcohol
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-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/09—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
- G03F7/105—Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers having substances, e.g. indicators, for forming visible images
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ポジ型の感光性材料を用いた画像形
成方法に係わり、特に、露光後アルカリ水溶液現
像および水洗を行なうことにより、発色した良好
なポジテイブレリーフ画像を得ることのできる感
光性複写材料およびその現像方法に関する。
成方法に係わり、特に、露光後アルカリ水溶液現
像および水洗を行なうことにより、発色した良好
なポジテイブレリーフ画像を得ることのできる感
光性複写材料およびその現像方法に関する。
従来から紫外線を光源としてポジテイブなレリ
ーフ画像を得る方法としては、 (1) Ｏ−キノンジアジドの誘導体とノボラツク樹
脂のようなアルカリ可溶性樹脂バインダから成
る感光層を基材上に形成して成る感光性複写材
料を用いてその露光部をアルカリ現像する方法 (2) Ｐ−ジアゾフエニルアミンとリンタングステ
ン酸との反応生成物と塩化ビニリデン−アクリ
ロニトリル共重合体バインダから成る感光層を
基材上に形成して成る感光性複写材料を用い
て、その露光部を水−アルコール溶液で現像す
る方法（特公昭42−14326号公報） (3) 不飽和エチレン性化合物と熱可塑性高分子物
質、光重合開始剤、染料または顔料から成る感
光性組成物層を２枚の支持体の間に形成させた
感光性複写材料を用いて、露光部の接着力が変
化することを利用した剥離現像処理により残存
感光性組成物によるレリーフ画像を得る方法
（米国特許第3060023号明細書） 等が知られている。
ーフ画像を得る方法としては、 (1) Ｏ−キノンジアジドの誘導体とノボラツク樹
脂のようなアルカリ可溶性樹脂バインダから成
る感光層を基材上に形成して成る感光性複写材
料を用いてその露光部をアルカリ現像する方法 (2) Ｐ−ジアゾフエニルアミンとリンタングステ
ン酸との反応生成物と塩化ビニリデン−アクリ
ロニトリル共重合体バインダから成る感光層を
基材上に形成して成る感光性複写材料を用い
て、その露光部を水−アルコール溶液で現像す
る方法（特公昭42−14326号公報） (3) 不飽和エチレン性化合物と熱可塑性高分子物
質、光重合開始剤、染料または顔料から成る感
光性組成物層を２枚の支持体の間に形成させた
感光性複写材料を用いて、露光部の接着力が変
化することを利用した剥離現像処理により残存
感光性組成物によるレリーフ画像を得る方法
（米国特許第3060023号明細書） 等が知られている。
しかしながらこのような従来の方法には、高濃
度、高解像力の画像を得る見地から見るとそれぞ
れ次のような問題点があつた。
度、高解像力の画像を得る見地から見るとそれぞ
れ次のような問題点があつた。
すなわち、(1)の方法では、バインダ樹脂が染色
しにくく、しかも効率の良い発色機構と組合せる
ことが困難であるためバインダ樹脂中へ染料や顔
料を分散させる方法に頼らざるを得ないが、高い
遮光濃度を得るためには、染料や顔料自体の持つ
遮光性に抗して感光させるために長時間の露光が
必要となり実用上きわめて不利である。また(2)の
方法においては、透明基材上へ形成した感光層の
反対面へ遮光層を設けることにより感度を低下さ
せることなく高遮光濃度を得ることができるが、
この場合露光は透明な基材側から行なわざるを得
ず、基材の厚みによる解像力の低下は避けること
ができない。更に(3)の方法は、透明基材を通して
露光が行なわれるため(2)の方法と同様の問題があ
る上に、現像が感光層の凝集破壊により行なわれ
るため解像力が低くなり、更に、材料の構造上高
価格になるという難点がある。
しにくく、しかも効率の良い発色機構と組合せる
ことが困難であるためバインダ樹脂中へ染料や顔
料を分散させる方法に頼らざるを得ないが、高い
遮光濃度を得るためには、染料や顔料自体の持つ
遮光性に抗して感光させるために長時間の露光が
必要となり実用上きわめて不利である。また(2)の
方法においては、透明基材上へ形成した感光層の
反対面へ遮光層を設けることにより感度を低下さ
せることなく高遮光濃度を得ることができるが、
この場合露光は透明な基材側から行なわざるを得
ず、基材の厚みによる解像力の低下は避けること
ができない。更に(3)の方法は、透明基材を通して
露光が行なわれるため(2)の方法と同様の問題があ
る上に、現像が感光層の凝集破壊により行なわれ
るため解像力が低くなり、更に、材料の構造上高
価格になるという難点がある。
一方、ネガテイブなレリーフ画像形成用の感光
複写材料としては、Ｐ−ジアゾジフエニルアミン
のホルマリン縮合物のようなジアゾレジンとポリ
ビニルアルコールバインダから成るフオトレジス
ト層を基材上に形成させた感光性複写材料が知ら
れている。
複写材料としては、Ｐ−ジアゾジフエニルアミン
のホルマリン縮合物のようなジアゾレジンとポリ
ビニルアルコールバインダから成るフオトレジス
ト層を基材上に形成させた感光性複写材料が知ら
れている。
このフオトレジスト層は露光により架橋反応を
起こし水不溶性となるため水現像によりネガテイ
ブなレリーフ画像を形成し、PS版等の製品に応
用されているが、未だポリビニルアルコールをバ
インダとするポジ型の感光性複写材料は知られて
いない。
起こし水不溶性となるため水現像によりネガテイ
ブなレリーフ画像を形成し、PS版等の製品に応
用されているが、未だポリビニルアルコールをバ
インダとするポジ型の感光性複写材料は知られて
いない。
本発明者等は、上記組成のポリビニルアルコー
ルをバインダとする感光材料について研究をすす
めていたところ、上記組成の感光材料の露光部を
アルカリ水溶液に浸漬した場合、露光部分が水で
膨潤し、未露光部分が硬膜する現像を発見した。
この現像は上記材料のポジ型感光性材料としての
可能性を示唆するものであり、適当な手段により
水に対する上記の性質を増進させることができれ
ばポジ型感光性複写材料として実用可能になるも
のと考えられる。
ルをバインダとする感光材料について研究をすす
めていたところ、上記組成の感光材料の露光部を
アルカリ水溶液に浸漬した場合、露光部分が水で
膨潤し、未露光部分が硬膜する現像を発見した。
この現像は上記材料のポジ型感光性材料としての
可能性を示唆するものであり、適当な手段により
水に対する上記の性質を増進させることができれ
ばポジ型感光性複写材料として実用可能になるも
のと考えられる。
かかる観点から更に研究をすすめた結果、上記
組成にジアゾニウム塩を配合する一方、現像液と
してカツプラー成分含有のアルカリ性水溶液を使
用した場合、未露光部分の耐水性が増大すると同
時に露光部分の水溶解性が大幅に改善され、非常
に高濃度に発色したポジ型のレリーフ画像が得ら
れることを見出した。
組成にジアゾニウム塩を配合する一方、現像液と
してカツプラー成分含有のアルカリ性水溶液を使
用した場合、未露光部分の耐水性が増大すると同
時に露光部分の水溶解性が大幅に改善され、非常
に高濃度に発色したポジ型のレリーフ画像が得ら
れることを見出した。
このような現像はポリビニルアルコール特有の
ものであつて、ポリビニルアルコールに代えて他
の水溶性樹脂、例えばポリアクリルアミド、フイ
ツシグリユー、ポリビニルピロリドン、アラビア
ゴム、ゼラチン、卵白アルブミン、カゼイン、メ
チルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、デンプン等を使用した場合には全く見られな
かつた。
ものであつて、ポリビニルアルコールに代えて他
の水溶性樹脂、例えばポリアクリルアミド、フイ
ツシグリユー、ポリビニルピロリドン、アラビア
ゴム、ゼラチン、卵白アルブミン、カゼイン、メ
チルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシ
エチルセルロース、カルボキシメチルセルロー
ス、デンプン等を使用した場合には全く見られな
かつた。
本発明は、かかる知見に基いてなされたもので
あつて、(A)平均重合度500以上、ケン化度71〜89
％のポリビニルアルコールを少くとも60重量％以
上含有する水溶性樹脂バインダ100重量部、(B)光
架橋性を有するジアゾレジン５〜10重量、(C)カプ
ラーと反応してアゾ染料を形成し得る水溶性ジア
ゾニウム塩５〜30重量部を含む組成物から成るフ
オトレジスト層を基材上に形成して成る感光性材
料と、この感光性材料を、(C)の水溶性ジアゾニウ
ム塩と反応して水不溶性の染料を形成するカプラ
ーのアルカリ水溶液で現像することから成る現像
方法を提供しようとするものである。
あつて、(A)平均重合度500以上、ケン化度71〜89
％のポリビニルアルコールを少くとも60重量％以
上含有する水溶性樹脂バインダ100重量部、(B)光
架橋性を有するジアゾレジン５〜10重量、(C)カプ
ラーと反応してアゾ染料を形成し得る水溶性ジア
ゾニウム塩５〜30重量部を含む組成物から成るフ
オトレジスト層を基材上に形成して成る感光性材
料と、この感光性材料を、(C)の水溶性ジアゾニウ
ム塩と反応して水不溶性の染料を形成するカプラ
ーのアルカリ水溶液で現像することから成る現像
方法を提供しようとするものである。
本発明に使用される(A)のポリビニルアルコール
は、平均重合度500以上、ケン化度71〜89％のも
のが好結果をもたらす。平均重合度が500未満で
は、後述するアルカリ現像の際未露光部の硬膜が
不充分でその後の水洗で画像が流れ去りレリーフ
画像が得られなくなる。またケン化度が71％未満
ではポリビニルアルコールの水に対する溶解性が
低くなり、逆に89％を越えると露光部分の水洗に
よる溶出が困難となつていずれの場合も現像性が
悪くなるので好ましくない。
は、平均重合度500以上、ケン化度71〜89％のも
のが好結果をもたらす。平均重合度が500未満で
は、後述するアルカリ現像の際未露光部の硬膜が
不充分でその後の水洗で画像が流れ去りレリーフ
画像が得られなくなる。またケン化度が71％未満
ではポリビニルアルコールの水に対する溶解性が
低くなり、逆に89％を越えると露光部分の水洗に
よる溶出が困難となつていずれの場合も現像性が
悪くなるので好ましくない。
本発明においては、水溶性樹脂バインダとして
ポリビニルアルコール単独を用いてもよいが、40
重量％以下の範囲で他の水溶性樹脂をポリビニル
アルコールと併用することもできる。
ポリビニルアルコール単独を用いてもよいが、40
重量％以下の範囲で他の水溶性樹脂をポリビニル
アルコールと併用することもできる。
このような水溶性樹脂としては、例えばポリア
クリルアミド、フイツシユグリユー、ポリビニル
ピロリドン、アラビアゴム、ゼラチン、卵白アル
ブミン、カゼイン、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、アクリルアミドとダイア
セトンアクリルアミドとの共重合体、PUM／
MA等がある。
クリルアミド、フイツシユグリユー、ポリビニル
ピロリドン、アラビアゴム、ゼラチン、卵白アル
ブミン、カゼイン、メチルセルロース、エチルセ
ルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボ
キシメチルセルロース、アクリルアミドとダイア
セトンアクリルアミドとの共重合体、PUM／
MA等がある。
本発明に使用される(B)の光架橋性を有するジア
ゾレジンとしては、例えばＰ−ジアゾジフエニル
アミンのホルマリン縮合物〔東京応化社製、商品
名フオトスピリツト（Photo Spirit）〕がある。
このジアゾレジンは、アルカリ現像により水溶性
樹脂バインダを硬膜させ、またその一部は現像液
中のカプラーと反応して発色する。ジアゾレジン
の配合量は(A)の水溶性樹脂バインダ100重量部あ
たり、５〜10重量部が適当である。５重量部未満
では後述するアルカリ現像に際して未露光部分の
硬膜が不充分となり、水洗により流れ易くなり、
逆に10重量部を越えると露光部分の水溶解性が不
充分となり、いずれの場合も良好なポジレリーフ
画像が得られなくなるので好ましくない。
ゾレジンとしては、例えばＰ−ジアゾジフエニル
アミンのホルマリン縮合物〔東京応化社製、商品
名フオトスピリツト（Photo Spirit）〕がある。
このジアゾレジンは、アルカリ現像により水溶性
樹脂バインダを硬膜させ、またその一部は現像液
中のカプラーと反応して発色する。ジアゾレジン
の配合量は(A)の水溶性樹脂バインダ100重量部あ
たり、５〜10重量部が適当である。５重量部未満
では後述するアルカリ現像に際して未露光部分の
硬膜が不充分となり、水洗により流れ易くなり、
逆に10重量部を越えると露光部分の水溶解性が不
充分となり、いずれの場合も良好なポジレリーフ
画像が得られなくなるので好ましくない。
また本発明に使用される(C)の水溶性ジアゾニウ
ム塩としては、Ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシ
エチル−アミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛
塩、４（Ｐ−トリルマーカプト）−2.5−ジメトキ
シ−ベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−（Ｐ
−トリルマーカプト）−2.5−ジエトキシ−ベンゼ
ンジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−（Ｐ−メチル−
ベンゾイルアミノ）−2.5−ジエトキシ−ベンゼン
ジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−ベンツアミド−
2.5−ジブトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド1/2塩化亜鉛塩、４−（Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ−メチルアミノ）−３−クロロベンゼンジアゾ
ニウムクロライド1/2塩化亜鉛、１−ジアゾ−３
−クロロ−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−ベンゼ
ンクロライド1/2塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−
ジエトキシ−４−ベンゾイルアミノ−ベンゼンク
ロライド1/2亜鉛塩、１−ジアゾ−４−（Ｎ−エチ
ル−Ｎ−ベンジル）アミノ−ベンゼンクロライド
１／２塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジメトキシ−
４−Ｐ−トリルマーカプト−ベンゼンクロライド
１／２塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジエトキシ−
４−Ｐ−トリルマーカプトベンゼンクロライド1/
２亜鉛塩、１−ジアゾ−３−エトキシ−４−Ｎ−
メチル−Ｎ−ベンジルアミノベンンゼンクロライ
ド1/2亜鉛塩、１−ジアゾ−３−クロロ−４−Ｎ、
Ｎ−ジエチルアミノ−ベンゼンクロライド1/2亜
鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジエトキシ−４−Ｐ−
トリルアミノ−ベンゼンクロライド1/2亜鉛塩、
１−ジアゾ−３−クロロ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−
シクロヘキシルアミノ−ベンゼンクロライド1/2
塩化亜鉛等があげられる。これらのジアゾニウム
塩は、現像液中のカツプラーにより未露光部分を
発色させると共に未露光部分の硬膜および露光部
分の水溶解性を促進する作用をする。ジアゾニウ
ム塩の配合量は、水溶性樹脂バインダ100重量部
あたり５〜30重量部が適当である。配合量が５重
量部未満では、アルカリ現像時に露光部分の水溶
解性を促進する作用をなさず、逆に30重量部を越
えるとポリビニルアルコールに対する溶解性が悪
くなり感光層を塗工乾燥した後塗膜表面からジア
ゾニウム塩がブリードするようになり、感度も低
下するのでいずれも好ましくない。
ム塩としては、Ｐ−Ｎ−エチル−Ｎ−ヒドロキシ
エチル−アミノベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛
塩、４（Ｐ−トリルマーカプト）−2.5−ジメトキ
シ−ベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−（Ｐ
−トリルマーカプト）−2.5−ジエトキシ−ベンゼ
ンジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−（Ｐ−メチル−
ベンゾイルアミノ）−2.5−ジエトキシ−ベンゼン
ジアゾニウム塩化亜鉛塩、４−ベンツアミド−
2.5−ジブトキシ−ベンゼンジアゾニウムクロラ
イド1/2塩化亜鉛塩、４−（Ｎ−シクロヘキシル−
Ｎ−メチルアミノ）−３−クロロベンゼンジアゾ
ニウムクロライド1/2塩化亜鉛、１−ジアゾ−３
−クロロ−４−Ｎ、Ｎ−ジエチルアミノ−ベンゼ
ンクロライド1/2塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−
ジエトキシ−４−ベンゾイルアミノ−ベンゼンク
ロライド1/2亜鉛塩、１−ジアゾ−４−（Ｎ−エチ
ル−Ｎ−ベンジル）アミノ−ベンゼンクロライド
１／２塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジメトキシ−
４−Ｐ−トリルマーカプト−ベンゼンクロライド
１／２塩化亜鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジエトキシ−
４−Ｐ−トリルマーカプトベンゼンクロライド1/
２亜鉛塩、１−ジアゾ−３−エトキシ−４−Ｎ−
メチル−Ｎ−ベンジルアミノベンンゼンクロライ
ド1/2亜鉛塩、１−ジアゾ−３−クロロ−４−Ｎ、
Ｎ−ジエチルアミノ−ベンゼンクロライド1/2亜
鉛塩、１−ジアゾ−2.5−ジエトキシ−４−Ｐ−
トリルアミノ−ベンゼンクロライド1/2亜鉛塩、
１−ジアゾ−３−クロロ−４−Ｎ−メチル−Ｎ−
シクロヘキシルアミノ−ベンゼンクロライド1/2
塩化亜鉛等があげられる。これらのジアゾニウム
塩は、現像液中のカツプラーにより未露光部分を
発色させると共に未露光部分の硬膜および露光部
分の水溶解性を促進する作用をする。ジアゾニウ
ム塩の配合量は、水溶性樹脂バインダ100重量部
あたり５〜30重量部が適当である。配合量が５重
量部未満では、アルカリ現像時に露光部分の水溶
解性を促進する作用をなさず、逆に30重量部を越
えるとポリビニルアルコールに対する溶解性が悪
くなり感光層を塗工乾燥した後塗膜表面からジア
ゾニウム塩がブリードするようになり、感度も低
下するのでいずれも好ましくない。
なお必要に応じて公知の上記ジアゾニウム塩に
対する安定剤を配合してもよい。
対する安定剤を配合してもよい。
これらの各成分は溶剤である水に溶解され、表
面が平滑又はマツト状の基材上へ塗布され、100
℃以下の温風乾燥により膜厚２〜10μ程度の感光
層が形成される。このとき基材と感光層との接着
力を調整する目的で基材表面へ適当な下引き層を
形成してもよい。
面が平滑又はマツト状の基材上へ塗布され、100
℃以下の温風乾燥により膜厚２〜10μ程度の感光
層が形成される。このとき基材と感光層との接着
力を調整する目的で基材表面へ適当な下引き層を
形成してもよい。
本発明に使用される基材としては、熱可塑性ま
たは熱硬化性高分子物質から成るシート状物、ガ
ラス、金属等が用いられる。上記の熱可塑性高分
子物質としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメタク
リレートおよびこれらの共重合体等の合成樹脂、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロー
ス、プロピルセルロースおよび混合セルロースエ
ステルのようなセルロース誘導体がある。
たは熱硬化性高分子物質から成るシート状物、ガ
ラス、金属等が用いられる。上記の熱可塑性高分
子物質としては、ポリエチレンテレフタレート、
ポリカーボネート、ポリアミド、ポリプロピレ
ン、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、ポリメタク
リレートおよびこれらの共重合体等の合成樹脂、
ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロー
ス、プロピルセルロースおよび混合セルロースエ
ステルのようなセルロース誘導体がある。
これらの基材中には必要に応じて筆記性付与あ
るいは着色の目的で各種の染料、顔料、充填剤等
の添加剤を配合することができる。
るいは着色の目的で各種の染料、顔料、充填剤等
の添加剤を配合することができる。
基材は通常透明シートの形態で用いられるが、
他の形態であつても差支えない。
他の形態であつても差支えない。
上記の感光性材料の現像液としては、(C)のジア
ゾニウム塩と反応して水不溶性の染料を形成する
カツプラーを溶解させたアルカリ水溶液が用いら
れる。また、保存性が良ければ、塗膜中にあらか
じめカツプラーを含有させ、アルカリ性水溶液で
現像することも可能である。
ゾニウム塩と反応して水不溶性の染料を形成する
カツプラーを溶解させたアルカリ水溶液が用いら
れる。また、保存性が良ければ、塗膜中にあらか
じめカツプラーを含有させ、アルカリ性水溶液で
現像することも可能である。
上記のカツプラーとしては、2.3−ジヒドロキ
シナフタレン、2.4−2′.4′−テトラヒドロキシジ
フエニル、フロログルシノールのようなフエノー
ル類やアセトアセトグリシンアミド、アセトアセ
トベンジルアミド、シアノアセトモルホライド、
1.10−ジシアノアセト−トリエチレンテトラミ
ン、1.4−ビス−アセトアセト−エチレンジアミ
ン、１−フエニル−３−メチル−５−ピラゾロン
のようなアミン類を使用することができる。カツ
プラーの濃度は、0.1〜３重量％が適している。
0.1重量％未満では感光性材料のフオトレジスト
層の発色が不充分となり、逆に３重量％を越える
と未露光部が硬膜しにくくなるのでいずれも好ま
しくない。
シナフタレン、2.4−2′.4′−テトラヒドロキシジ
フエニル、フロログルシノールのようなフエノー
ル類やアセトアセトグリシンアミド、アセトアセ
トベンジルアミド、シアノアセトモルホライド、
1.10−ジシアノアセト−トリエチレンテトラミ
ン、1.4−ビス−アセトアセト−エチレンジアミ
ン、１−フエニル−３−メチル−５−ピラゾロン
のようなアミン類を使用することができる。カツ
プラーの濃度は、0.1〜３重量％が適している。
0.1重量％未満では感光性材料のフオトレジスト
層の発色が不充分となり、逆に３重量％を越える
と未露光部が硬膜しにくくなるのでいずれも好ま
しくない。
また使用するアルカリとしては、水酸化カリウ
ムや水酸化ナトリウムのような強アルカリが適し
ている。
ムや水酸化ナトリウムのような強アルカリが適し
ている。
アルカリ水溶液のPHは、12.0〜12.8の範囲が適
している。PHが12.0未満では未露光部が硬膜せ
ず、逆に12.8を越えると露光部の溶解性が悪くな
る上に未露光部も硬膜しにくくなる。
している。PHが12.0未満では未露光部が硬膜せ
ず、逆に12.8を越えると露光部の溶解性が悪くな
る上に未露光部も硬膜しにくくなる。
本発明の感光性材料は、常法により、例えば紫
外光源と感光材料との間に原稿を配置して露光さ
せた後、常温の現像液中に30秒〜２分間程度浸漬
して未露光部を硬膜させ、次いで水洗により露光
部を溶出除去することにより行なわれる。
外光源と感光材料との間に原稿を配置して露光さ
せた後、常温の現像液中に30秒〜２分間程度浸漬
して未露光部を硬膜させ、次いで水洗により露光
部を溶出除去することにより行なわれる。
なお現像時間は現像液を加温することにより促
進させることが可能である。
進させることが可能である。
水洗は水道水または3.0Kg／cm2までのシヤワー
により容易に行なうことができる。
により容易に行なうことができる。
以上のようにして現像されたシート状材料は、
その表面に原稿に忠実なレリーフ画像が形成され
るので、例えば地図印刷のように高い精度の要求
される場合のマスク版として好適している。
その表面に原稿に忠実なレリーフ画像が形成され
るので、例えば地図印刷のように高い精度の要求
される場合のマスク版として好適している。
次に実施例について記載する。
実施例 １
平均重合度1700、ケン化度78.5〜81.5％のポリ
ビニルアルコール10ｇ、Ｐ−ジアゾジフエニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物1.0ｇ、４−
（Ｐ−メトキシ−ベンゾイルアミノ）−2.5−ジエ
トキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩2.0ｇを
水99ｇに溶解して固形分含量11.6％の感光性組成
物溶液を調整した。
ビニルアルコール10ｇ、Ｐ−ジアゾジフエニルア
ミンとホルムアルデヒドとの縮合物1.0ｇ、４−
（Ｐ−メトキシ−ベンゾイルアミノ）−2.5−ジエ
トキシベンゼンジアゾニウム塩化亜鉛塩2.0ｇを
水99ｇに溶解して固形分含量11.6％の感光性組成
物溶液を調整した。
この感光性組成物溶液を厚さ100μのポリエチ
レンテレフタレートフイルムの片面へ、ワイヤー
バーにより乾燥後の膜厚が5μとなるように塗布
し、90℃で３分間乾燥して画像形成材料とした。
レンテレフタレートフイルムの片面へ、ワイヤー
バーにより乾燥後の膜厚が5μとなるように塗布
し、90℃で３分間乾燥して画像形成材料とした。
次に得られた感光膜上にポジ原稿を密着させ75
cmの距離から3kWアーク灯で５分間照射して露
光させた。
cmの距離から3kWアーク灯で５分間照射して露
光させた。
このようにして露光された感光性材料を、水酸
化ナトリウム10ｇ、2.3−ジヒドロキシナフタレ
ン10ｇを水980ｇに溶解させた現像液に２分間浸
漬した後水道水にて軽くシヤワー水洗した。シヤ
ワー水洗により露光部の感光膜が溶出して、黒紫
色に発色した鮮明なポジレリーフ画像が得られ
た。
化ナトリウム10ｇ、2.3−ジヒドロキシナフタレ
ン10ｇを水980ｇに溶解させた現像液に２分間浸
漬した後水道水にて軽くシヤワー水洗した。シヤ
ワー水洗により露光部の感光膜が溶出して、黒紫
色に発色した鮮明なポジレリーフ画像が得られ
た。
実施例 ２
平均重合度1400、ケン化度86.5〜90.0のポリビ
ニルアルコール10ｇ、Ｐ−ジアゾジフエニルアミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物1.0ｇ、４−（Ｐ
−トリルマーカプト）−2.5−ジメトキシベンゼン
ジアゾニウム塩化亜鉛塩2.2ｇを水99ｇに溶解し
て固形分含有量11.8％の感光性組成物溶液を調整
した。この感光性組成物溶液を厚さ100μのポリ
エチレンテレフタレートフイルムの片面へワイヤ
ーバーにより乾燥燥後の膜厚が5μとなるように
塗布し、90℃で３分間乾燥し画像形成材料とし
た。
ニルアルコール10ｇ、Ｐ−ジアゾジフエニルアミ
ンとホルムアルデヒドとの縮合物1.0ｇ、４−（Ｐ
−トリルマーカプト）−2.5−ジメトキシベンゼン
ジアゾニウム塩化亜鉛塩2.2ｇを水99ｇに溶解し
て固形分含有量11.8％の感光性組成物溶液を調整
した。この感光性組成物溶液を厚さ100μのポリ
エチレンテレフタレートフイルムの片面へワイヤ
ーバーにより乾燥燥後の膜厚が5μとなるように
塗布し、90℃で３分間乾燥し画像形成材料とし
た。
次に得られた感光膜上に線画のネガ原稿を密着
させ、75cmの距離から3kWアーク灯で５分間照
射して露光させた。
させ、75cmの距離から3kWアーク灯で５分間照
射して露光させた。
このようにして露光された感光性材料を、水酸
化ナトリウム10ｇ、2.4−2′.4′−テトラヒドロキ
シジフエニルサルフアイト10ｇを水980ｇに溶解
させた現像液に２分間浸漬した後水道水にて軽く
シヤワー水洗した。シヤワー水洗により露光部の
感光膜が溶出し、セピア色に発色した原稿に忠実
な線画のネガレリーフ画像が得られた。
化ナトリウム10ｇ、2.4−2′.4′−テトラヒドロキ
シジフエニルサルフアイト10ｇを水980ｇに溶解
させた現像液に２分間浸漬した後水道水にて軽く
シヤワー水洗した。シヤワー水洗により露光部の
感光膜が溶出し、セピア色に発色した原稿に忠実
な線画のネガレリーフ画像が得られた。
この発色した塗膜は、マクベスTD−504A型濃
計にラツテン18Aフアルターを使用したときの濃
度が2.0であり、画像解像力は18本／mmであつた。
更に水洗により溶出した透明画像に囲まれた塗膜
部分は、針のようなもので剥がすことにより良好
な製版用のマスク材が得られた。
計にラツテン18Aフアルターを使用したときの濃
度が2.0であり、画像解像力は18本／mmであつた。
更に水洗により溶出した透明画像に囲まれた塗膜
部分は、針のようなもので剥がすことにより良好
な製版用のマスク材が得られた。
実施例 ３
樹脂バインダとして平均重合度1700、ケン化度
78.5〜81.5％のポリビニルアルコール９ｇ、アラ
ビアゴム１ｇ（固型分）の混合物を用いた以外
は、実施例１と同様にして感光性材料の製造、露
光および水洗を行ない黒紫色に発色した鮮明なポ
ジレリーフ画像の形成されたマスク材を得た。
78.5〜81.5％のポリビニルアルコール９ｇ、アラ
ビアゴム１ｇ（固型分）の混合物を用いた以外
は、実施例１と同様にして感光性材料の製造、露
光および水洗を行ない黒紫色に発色した鮮明なポ
ジレリーフ画像の形成されたマスク材を得た。
実施例 ４
現像液として水酸化ナトリウム10ｇ、フロログ
ルシノール10ｇを水980ｇに溶解させた現像液を
使用した以外は実施例２と同様にして黒色に発色
した鮮明なネガレリーフ画像の形成されたマスク
材を得た。
ルシノール10ｇを水980ｇに溶解させた現像液を
使用した以外は実施例２と同様にして黒色に発色
した鮮明なネガレリーフ画像の形成されたマスク
材を得た。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (A) 平均重合度500以上、ケン化度71〜89％
のポリビニルアルコールを少なくとも60重量％
以上含有する水溶性樹脂バインダー100重量部、 (B) 光架橋性を有するジアゾレジン５〜10重量
部、 (C) カプラーと反応してアゾ染料を形成し得る水
溶性ジアゾニウム塩５〜30重量部を含む組成物
から成る感光層を基材上に形成して成るポジ型
の感光材料を、前記水溶性ジアゾニウム塩と反
応してアゾ染料を形成するカプラーのアルカリ
水溶液で現像し露光部分を除去することを特徴
とする画像形成方法。 ２ 前記アルカリ水溶液のPHは12.0〜12.8である
特許請求の範囲第１項記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP340680A JPS56101141A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Photosensitive material and its developing method |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP340680A JPS56101141A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Photosensitive material and its developing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS56101141A JPS56101141A (en) | 1981-08-13 |
| JPH0246934B2 true JPH0246934B2 (ja) | 1990-10-17 |
Family
ID=11556496
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP340680A Granted JPS56101141A (en) | 1980-01-16 | 1980-01-16 | Photosensitive material and its developing method |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS56101141A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5772140A (en) * | 1980-10-22 | 1982-05-06 | Hitachi Ltd | Photosensitive composition and formation of pattern |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS4926003A (ja) * | 1972-07-03 | 1974-03-08 | ||
| JPS4962205A (ja) * | 1972-10-20 | 1974-06-17 | ||
| JPS5018777A (ja) * | 1973-06-26 | 1975-02-27 | ||
| JPS5351004A (en) * | 1976-10-18 | 1978-05-10 | Aicello Chemical Co | Composition of photosensitive resin plate |
-
1980
- 1980-01-16 JP JP340680A patent/JPS56101141A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS56101141A (en) | 1981-08-13 |
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