JPH024543B2

JPH024543B2 -

Info

Publication number: JPH024543B2
Application number: JP708883A
Authority: JP
Inventors: Takeshi Sato; Koji Goto; Koji Sakai; Nobuhisa Abe
Original assignee: Nihon Cement Co Ltd
Current assignee: Taiheiyo Cement Corp
Priority date: 1983-01-18
Filing date: 1983-01-18
Publication date: 1990-01-29
Also published as: JPS59131552A

Description

【発明の詳細な説明】

本発明はセメント用収縮低減剤に関する。従来、セメントモルタルおよびコンクリート
（以下、セメント組成物と称する。）の重大な欠点
の一つとして乾燥ひび割れが発生し易いことがあ
る。これはセメントの乾燥収縮が大きいことに起
因している。そのためにセメント組成物の乾燥収
縮を低減することが望まれている。セメント組成物の乾燥収縮の低減を図るために
は、セメント組成物中にアクリルラテツクス、合
成ゴムラテツクスなどのラテツクスを混入させる
方法が行われているが、この場合、比較的高価な
ラテツクスを多量（例えば、セメントに対し20〜
30重量％程度）に混入する必要があるので、経済
上好ましくないばかりか、セメント組成物の強度
が大幅に低下するという致命的欠陥が生ずる。さ
らに、ラテツクスを多量に混入することによつて
セメント組成物の不燃性が損なわれるという重大
な欠陥も生ずる。また近年、無機系膨脹性混和材（例えば、カル
シウムスルホアルミネート系の膨脹性混和材）が
開発されるに至つたものの本質的な乾燥収縮低減
には十分ではない。また、本発明者らは、特公昭
56―51148号に記載された特定の低級アルコール
のアルキレンオキシド付加物が優れたセメントの
収縮低減効果を有していることを見い出したが、
該付加物を使用してセメント組成物の乾燥ひび割
れを防止するためには、その添加量を若干多くす
る（例えば、セメントに対し４〜５重量％程度）
必要があつた。かかる状況下で、発明者らは前述したような欠
点を持たない、またより少量の添加量にてセメン
ト組成物の乾燥ひび割れを防止できるセメントに
有効な収縮低減剤につき鋭意検討した結果、本発
明に到達した。すなわち、本発明は一般式(1) （式中、R₁は水素または

【式】 R₂、R₃は水素または炭素数１〜８のアルキル基、
Ａは炭素数２〜３のアルキレン基、ｎは０〜30の
数）で示される水溶性または自己水分散性のアセ
チレンアルコール系化合物からなることを特徴と
するセメント用収縮低減剤、および一般式(1)で示
される化合物と、さらにフツソ系界面活性剤また
は／およびシリコーン系界面活性剤とを含む収縮
低減効果のより改善されたセメント用収縮低減剤
である。本発明の一般式(1)で示される化合物は、アセチ
レンと、ホルムアルデヒドまたは炭素数８以下の
アルキル基を有するケトン化合物とをアルカリ存
在下に反応させて得られるアセチレンアルコー
ル、アセチレングリコール、またはこれらアルコ
ールのアルキレンオキシド付加物である。炭素数
９以上のアルキル基を有するアセチレンアルコー
ル、アセチレングリコール、またはこれらアルコ
ールのアルキレンオキシド付加物の場合には収縮
低減効果が低下し好ましくない。本発明に使用されるアセチレンアルコールの例
としては、プロパギルアルコール（CH≡
CCH₂OH）、メチルブチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（CH₃）（OH）CH₃〕、メチルペンチノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）C₂H₅〕、ジメチルヘキシ
ノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）CH₂CH
（CH₃）₂〕、メチルヘプチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（CH₃）（OH）C₄H₉〕、メチルオクチノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）C₅H₁₁〕、メチルノナノー
ル〔CH≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）C₆H₁₃〕、メチル
デシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）C₇H₁₅〕、
メチルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（CH₃）
（OH）C₈H₁₇〕、ジメチルデシノール〔CH≡Ｃ―
Ｃ（CH₃）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、エチル
ペンチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）
C₂H₅〕、メチルエチルヘキシノール〔CH≡Ｃ―
Ｃ（C₂H₅）（OH）CH₂CH（CH₃）CH₃〕、エチル
ヘプチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）
C₄H₉〕、エチルオクチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₂H₅）（OH）C₅H₁₁〕、エチルノナノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）C₆H₁₃〕、エチルデシノ
ール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）C₇H₁₅〕、エチ
ルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）
C₈H₁₇〕、メチルエチルデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₂H₅）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、プロピ
ルヘキシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）
C₃〕、メチルプロピルヘキシノール〔CH≡Ｃ―
Ｃ（C₃H₇）（OH）CH₂CH（CH₃）CH₃〕、プロピ
ルヘプチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）
C₄H₉〕、プロピルオクチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₃H₇）（OH）C₅H₁₁〕、プロピルノナノール
〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）C₆H₁₃〕、プロピル
デシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）
C₇H₁₅〕、プロピルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₃H₇）（OH）C₈H₁₇〕、メチルプロピルデシノ
ール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）CH₂CH（CH₃）
C₅H₁₁〕、ブチルヘプチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₄H₉〕、メチルブチルヘキシノー
ル〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）CH₂CH（CH₃）
CH₃〕、ブチルオクチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₅H₁₁〕、ブチルノナノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）C₆H₁₃〕、ブチルデシノ
ール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）C₇H₁₅〕、ブチ
ルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）
C₈H₁₇〕、メチルブチルデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、ペンチ
ルオクチノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）
C₅H₁₁〕、ペンチルノナノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₅H₁₁）（OH）C₆H₁₃〕、ペンチルデシノール
〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）C₇H₁₅〕、ペンチル
ウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）
C₈H₁₇〕、メチルペンチルデシノール〔CH≡Ｃ―
Ｃ（C₅H₁₁）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、ヘキ
シルノナノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₆H₁₃〕（OH）
C₆H₁₃〕、ヘキシルデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ
（C₆H₁₃）（OH）C₇H₁₅〕、ヘキシルウンデシノー
ル〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₆H₁₃）（OH）C₈H₁₇〕、メチ
ルヘキシルデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₆H₁₃）
（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、ヘプチルデシノ
ール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₇H₁₅）（OH）C₇H₁₅〕、ヘ
プチルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₇H₁₅）
（OH）C₈H₁₇〕、メチルヘプチルデシノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（C₇H₁₅）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、
オクチルウンデシノール〔CH≡Ｃ―Ｃ（C₈H₁₇）
（OH）C₈H₁₇〕、メチルオクチルデシノール〔CH
≡Ｃ―Ｃ（C₈H₁₇）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕
などが挙げられる。またアセチレングリコールの
例としては、ブチンジオール（HO CH₂―Ｃ≡
Ｃ―CH₂OH）、ジメチルヘキシンジオール
〔CH₃C（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）
CH₃〕、ジメチルオクチンジオール〔C₂H₅C
（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）
C₂H₄〕、ジメチルデシンジオール〔C₃H₇C（CH₃）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）C₃H₇〕、ジメ
チルドデシンジオール〔C₄H₉C（CH₃）（OH）―
Ｃ≡Ｃ−Ｃ（CH₃）（OH）C₄H₉〕、テトラメチル
デシンジオール〔CH₃CH（CH₃）CH₂C（CH₃）
（OH）−Ｃ≡Ｃ−Ｃ（CH₃）（OH）CH₂CH（CH₃）
CH₃〕、ジメチルテトラシンジオール〔C₅H₁₁C
（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）
C₅H₁₁〕、ジメチルヘキサデシンジオール
〔C₆H₁₃C（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）
（OH）C₆H₁₃〕、ジメチルオクタデシンジオール
〔C₇H₁₅C（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）
（OH）C₇H₁₅〕、ジメチルエイコシンジオール
〔C₈H₁₇C（CH₃）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）
（OH）C₈H₁₇〕、テトラメチルオクタデシンジオ
ール〔C₅H₁₁CH（CH₃）CH₂C（CH₃）（OH）―Ｃ
≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、
ジエチルオクチンジオール〔C₂H₅C（C₂H₅）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）C₂H₅〕、ジエ
チルデシンジオール〔C₃H₇C（C₂H₅）（OH）―Ｃ
≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）C₃H₇〕、ジエチルドデシ
ンジオール〔C₄H₉C（C₂H₅）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ
（C₂H₅）（OH）C₄H₉〕、ジメチルジエチルデシン
ジオール〔CH₃CH（CH₃）CH₂C（C₂H₅）（OH）
―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）CH₂CH（CH₃）
CH₃〕、ジエチルテトラデシンジオール〔C₅H₁₁C
（C₂H₅）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）
C₅H₁〕、ジエチルヘキサデシンジオール
〔C₆H₁₃C（C₂H₅）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）
（OH）C₆H₁₃〕、ジエチルオクタデシンジオール
〔C₇H₁₅C（C₂H₅）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）
（OH）C₇H₁₅〕、ジエチルエイコシンジオール
〔C₈H₁₇C（C₂H₅）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）
（OH）C₈H₁₇〕、ジメチルジエチルオクタデシン
ジオール〔C₅H₁₁CH（CH₃）CH₂C（C₂H₅）（OH）
―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₂H₅）（OH）CH₂CH（CH₃）
C₅H₁₁〕、ジプロピルデシンジオール〔C₃H₇C
（C₃H₇）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）
C₃H₇〕、ジプロピルドデシンジオール〔C₄H₉C
（C₃H₇）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）
C₄H₉〕、ジメチルジプロピルデシンジオール
〔CH₃CH（CH₃）CH₂C（C₃H₇）（OH）―Ｃ≡Ｃ
―Ｃ（C₃H₇）（OH）CH₂CH（CH₃）CH₃〕、ジプ
ロピルテトラデシンジオール〔C₅H₁₁C（C₃H₇）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）C₅H₁₁〕、ジ
プロピルヘキサデシンジオール〔C₆H₁₃C（C₃H₇）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）C₆H₁₃〕、ジ
プロピルオクタデシンジオール〔C₇H₁₅C（C₃H₇）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）C₇H₁₅〕、ジ
プロピルエイコシンジオール〔C₈H₁₇C（C₃H₇）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₃H₇）（OH）C₈H₁₇〕、ジ
メチルジプロピルオクタデシンジオール
〔C₅H₁₁CH（CH₃）CH₂C（C₃H₇）（OH）―Ｃ≡Ｃ
―Ｃ（C₃H₇）（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、ジ
ブチルドデシンジオール〔C₄H₉C（C₄（H₉）（OH）
―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）C₄H₉〕、ジメチルジ
ブチルデシンジオール〔CH₃CH（CH₃）CH₂C
（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）
CH₂CH（CH₃）CH₃〕、ジブチルテトラデシンジ
オール〔C₅H₁₁C（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₅H₁₁〕、ジブチルヘキサデシン
ジオール〔C₆H₁₃C（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₆H₁₃〕、ジブチルオクタデシン
ジオール〔C₇H₁₅C（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₇H₁₅〕、ジブチルエイコシンジ
オール〔C₈H₁₇C（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ
（C₄H₉）（OH）C₈H₁₇〕、ジメチルジブチルオク
タデシンジオール〔C₅H₁₁CH（CH₃）CH₂C
（C₄H₉）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₄H₉）（OH）
CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕、ジペンチルテトラデシ
ンジオール〔C₅H₁₁C（C₅H₁₁）（OH）―Ｃ≡Ｃ―
Ｃ（C₅H₁₁）（OH）C₅H₁₁〕、ジペンチルヘキサデ
シンジオール〔C₆H₁₃C（C₅H₁₁）（OH）―Ｃ≡Ｃ
―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）C₆H₁₃）、ジペンチルオクタ
デシンジオール〔C₇H₁₅C（C₅H₁₁）（OH）―Ｃ≡
Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）C₇H₁₅〕、ジペンチルエイ
コシンジオール〔C₈H₁₇C（C₅H₁₁）（OH）−Ｃ≡
Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）（OH）C₈H₁₇〕、ジメチルジペン
チルオクタデシンジオール〔C₅H₁₁CH（CH₃）
CH₂C（C₅H₁₁）（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（C₅H₁₁）
（OH）CH₂CH（CH₃）C₅H₁₁〕などや、その他メ
チルブチンシオール〔HOCH₂―Ｃ≡Ｃ―CH
（CH₃）OH〕、メチルペンチンジオール
〔HOCH₂―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）₂OH〕、メチルエチ
ルヘプチンジオール〔CH₃C（C₂H₅）（OH）―Ｃ
≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）CH₃〕、トリメチルオク
チンジオール〔CH₃CH（CH₃）CH₂C（CH₃）
（OH）―Ｃ≡Ｃ―Ｃ（CH₃）（OH）CH₃〕など
種々のものを挙げることができる。アセチレングリコールの場合、R₁中のR₂、R₃
基はアセチレン基に対して対称である必要はな
く、アルキル基R₂、R₃の炭素数の範囲内で異な
るアルキル基をとることができる。これら各種の
アセチレンアルコール、アセチレングリコールの
うち、収縮低減効果の点から一般式(1)のR₂、R₃
は水素または炭素数１〜４のアルキル基であり、
これらアルキル基R₂とR₃との全炭素数は０〜10
の範囲内であることが好ましい。本発明の一般式(1)において、（―AO）―_oを構成す
るアルキレンオキシドは、エチレンオキシドまた
は／およびプロピレンオキシドである。また、本
発明において、ｎはアルキル基R₂R₃との全炭素
数が０〜10の場合には０〜30の数であり、また11
〜32の場合には２〜30の数であることが必要であ
る。アルキル基R₂とR₃との全炭素数が11〜32の
アセチレンアルコールまたはアセチレングリコー
ルの場合には、それ自体、水に対する溶解性をほ
とんど持たず、収縮低減効果が大幅に低下する。
このため、アセチレンアルコールの場合には該ア
セチレンアルコール１モル当たり少なくとも平均
２モル以上のエチレンオキシドを、またアセチレ
ングリコールの場合には該アセチレングリコール
１モル当たり少なくとも４モルのエチレンオキシ
ドを付加させることが必要である。そして、場合
により、２または４モル以上のエチレンオキシド
と、さらにプロピレンオキシドとをブロツク状ま
たはランダム状に共付加して使用することもでき
る。共付加する場合、エチレンオキシド／プロピ
レンオキシドのモル比は少なくとも0.2であるこ
とが、水への溶解性および親和性を保持し、収縮
低減効果を発揮させるために必要である。また、
アセチレングリコールに付加させるモノまたはポ
リオキシアルキレン基はアセチレン基に対称であ
る必要はなく、一方の水酸基にのみ付加したもの
でも、あるいは両方の水酸基に付加したオキシア
ルキレン基が互いに異なつていても、さらにブロ
ツク状、ランダム状等の共付加の構造が異なつて
いてもよい。なお、ｎの数が30を超えると収縮低
減効果が低下するので好ましくない。本発明の一
般式(1)で示される化合物のうち、アルキル基R₂
とR₃との全炭素数が０〜10の場合には、ｎが０
であつても水への溶解性が十分にあり、かつ収縮
低減効果も十分に有するためアルキレンオキシド
を付加させなくても使用できる。しかし、アルキ
レンオキシドを付加した方が収縮低減効果が向上
する場合が多いので、付加することが好ましい。
この場合、収縮低減効果の点から特に好ましいの
は、ｎが２〜10の範囲内の数であるときである。
さらに、一般式(1)で示される化合物のうち、アル
キル基R₂とR₃との全炭素数が０〜10の場合には
プロピレンオキシドを単独で付加させたものも好
ましく、さらにプロピレンオキシドとエチレンオ
キシドとを共付加させたものも収縮低減効果の点
からより好ましい。この場合、エチレンオキシ
ド／プロピレンオキシドのモル比は０〜５の範囲
が好ましく、特に好ましくは0.2〜５の範囲であ
る。なお、エチレンオキシドやプロピレンオキシ
ドなどのアルキレンオキシドを性能を害しない範
囲内で共付加（全オキシアルキレン中、通常50重
量％以下）させたものも使用可能である。本発明は一般式(1)で示される化合物の一種また
は二種以上の混合物を必須成分として用いること
で優れた収縮低減効果が得られるが、これにフツ
ソ系界面活性剤または／およびシコーン系界面活
性剤を併用すると相乗効果により収縮低減効果が
向上し、非常に好ましいものとなる。これら併用
するフツソ系界面活性剤、シリコーン系界面活性
剤には、それぞれカチオン型、ノニオン型、アニ
オン型があり、これらいずれのものも使用できる
がカチオン型、ノニオン型のものが収縮低減効果
の点から好ましく、ノニオン型のものが特に好ま
しい。本発明に用いられるフツソ系界面活性剤として
は一般に市販されているものでよく、特に限定さ
れない。カチオン型フツソ素系界面活性剤の代表
的な例としては、炭素数５〜18のパーフルオロア
ルキル基を疏水基とし、これとカチオン性親水性
基（例えば、第４級アンモニウム塩基など）を有
する化合物がある。例えば、住友スリーエム(株)社
製のフロラードFC―134、大日本インキ化学(株)社
製のメガフアツクＦ―150などが挙げられ、その
他旭硝子(株)社製のサーフロンＳ―121、ネオス(株)
社製のスタージエント300、東北肥料(株)社製のエ
フトツプEF―123B、エフトツプEF―132などが
挙げられる。ノニオン型フツソ系界面活性剤の代
表的な例としては、炭素数５〜18のパーフルオロ
アルキル基を疏水基とし、これとノニオン性親水
性基（例えば、エチレンオキシド付加物など）と
からなる化合物がある。例えば、住友スリーエム
(株)社製のフロラードFC―170C、大日本インキ化
学(株)社製のメガフアツクＦ―142D、Ｆ―144D、
Ｆ―171、Ｆ―177、旭硝子(株)社製のサーフロンＳ
―141、ネオス(株)社製のスタージエント200、251、
東北肥料(株)社製のエフトツプEF―121、EF―
122A、EF―122B、EF―122C、EF―122A3など
が挙げられる。アニオン型フツソ系界面活性剤の
代表的な例としては、炭素数５〜18のパーフルオ
ロアルキル基を疏水基とし、これとアニオン性親
水性基（例えば、スルホン酸基、カルボン酸基、
リン酸エステル基など）とからなる化合物があ
る。これには、住友スリーエム(株)社製のフロラー
ドFC―95、FC―98、FC―126、FC―128、大日
本インキ化学(株)社製のメガフアツクＦ―110、Ｆ
―113、Ｆ―120、Ｆ―812、Ｆ―191、旭硝子(株)社
製のサーフロンＳ―111、Ｓ―112、Ｓ―113、ネ
オス(株)社製のスタージエント100、150、東北肥料
(株)社製のエフトツプEF―102、EF―103、EF―
112、EF―123A、EF―123Bなどが挙げられる。
上記のものの他に、カチオン型、アニオン型、ノ
ニオン型のフツソ系界面活性剤は、ダイキン工業
(株)、関東電化(株)、Du Pont、ICI、Hoechst、
CIBA―GEIGY各社からも市販され、これらも
本発明のフツソ系界面活性剤として使用できる。また、本発明に用いられるシリコーン系界面活
性剤としては、ポリシロキサンを疏水基とし、こ
れとカチオン性親水性基（例えば、第４アンモニ
ウム塩基）、ノニオン性親水性基（例えば、アル
キレンオキシド付加物など）、アニオン性親水性
基（例えば、硫酸エステル塩、リン酸エステル
塩、カルボン酸塩など）とを有する化合物があ
る。日本では、トーレ・シリコーン(株)、信越シコ
ーン(株)、東芝シリコーン(株)などから各種のものが
市販されており、本発明ではこれら種々のものを
用いることができる。本発明の収縮低減剤の使用量は、一般式(1)で示
される化合物のアルキル基の炭素数、アルキレン
基の炭素数によつても異なるが通常セメントに対
して0.5〜10重量％である。使用量が0.5重量％未
満では収縮低減効果が低く、一方、10重量％を超
えるとセメント組成物の強度が無添加のものに比
較して約2/3以下となり実用性において、充分で
ない。一般式(1)で示される化合物とフツソ系界面
活性剤または／およびシリコーン系界面活性剤と
を併用する場合には相乗効果によつて収縮低減効
果が増大する。この場合には、一般式(1)で示され
る化合物の使用量はセメントに対し0.3〜10重量
％、フツソ系界面活性剤はセメント重量に対し50
〜500ppm、シリコーン系界面活性剤はセメント
に対し0.05〜１重量％である。本発明のセメント用収縮低減剤の添加手段は、
普通一般に行われているセメント混和剤の場合と
同じであり、例えば混練水に予め適量の本収縮低
減剤を混和しておくか、あるいはセメント、骨
材、水からなる混合物の混練時に適量の本セメン
ト用収縮低減剤を添加するなどの手段を採用する
ことができる。本発明の収縮低減剤は使用に当たつて他の成分
（任意成分）と併用することができる。このよう
な任意成分としては、塩化カルシウム、塩化ナト
リウムなどの金属塩化物、硫酸ナトリウムなどの
金属硫酸塩、トリエタノールアミンなどの有機ア
ミン等公知のセメント硬化促進剤、アルコール
類、糖類、澱粉、グリセリン、ポリリン酸ソーダ
などの公知のセメント硬化遅延剤、亜硝酸ナトリ
ウム、亜硝酸カルシウムなどの公知の鉄筋防錆
剤、リグニンスルホン酸、オキシカルボン酸、ナ
フタリンスルホン酸ホルマリン縮合物、メラミン
スルホン酸ホルマリン縮合物など公知のセメント
分散剤、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキ
シメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロー
ス、カルボキシメチル澱粉、リン酸化澱粉、アル
ギン酸ソーダなどの公知のセメント用糊剤など
種々のものが挙げられる。本発明の収縮低減剤を添加したモルタルまたは
コンクリートの施工法は、従来と同じ方法でよ
く、コテ塗り、型枠への充填、吹き付け塗り、コ
ーキングガンによる注入などの方法を取り得る。
また、養生法としては気乾養生、湿空養生、水中
養生、加熱促進養生（蒸気養生、オートクレーブ
養生など）のいずれの方法でもよく、又これら各
方法を併用してもよい。本発明の収縮低減剤をセメントに対して添加し
た場合、無添加の場合に比較して大幅な乾燥収縮
低減が図られる。また、セメント組成物の不燃性
を損なうことも少なく、さらには、高添加量（例
えば数％程度）においてもセメント組成物の大幅
な強度低下を来すことがない。以下、実施例により本発明を説明するが、本発
明はこれに限定されるものではない。実施例１アセチレンと、ホルムアルデヒドまたはケトン
化合物とをアルカリの存在下で反応させて得られ
た各種アセチレンアルコール、アセチレングリコ
ール、またはこれらのアルコールのオキシド付加
物やアセチレンオキシド付加物をセメント用収縮
低減剤として選んだ。これらの収縮低減剤を純分
としてセメントに対し3.5重量％の割合で添加し
て得たモルタル硬化物について、JIS Ａ 1129の
ダイヤルゲージ法にて収縮低減率を測定し、JIS
Ｒ 5201により強度を測定し、表―１の結果を得
た。また、混入空気量は、JIS Ａ 1128に従い、
コンクリートについて測定した。なお、収縮低減率および強度を測定したモルタ
ルの場合には、水／セメント比65％、砂／セメン
ト比200％であつた。コンクリートの場合には、
単位セメント量300Kg／m³、水／セメント比60％、
細骨材率44％であつた。また、表―１中のEOはエチンオキシドを、PO
はプロピレンオキシドを示す。

【表】

【表】実施例２実施例１におけるNo.３の収縮低減剤を用い、そ
の添加量を変えて実施例１と同様の方法にて試験
を行い、表―２の結果を得た。

【表】実施例３実施例１におけるNo.３の収縮低減剤を普通ポル
トランドセメントに対して2.0重量％用い、各種
フツソ系界面活性剤をセメントに対し、200ppm、
またはシリコーン系界面活性剤ををセメントに対
し0.1重量％併用して、実施例１と同様の方法に
て収縮率、空気量および強度を測定して表―３の
結果を得た。

【表】実施例４実施例１における本発明の収縮低減剤No.11をセ
メントに対し2.0重量％用い、フツソ系界面活性
剤としてサーフロンＳ―141、またシリコーン系
界面活性剤としてSH3747を用い、その添加量を
変えて実施例１と同様の方法にて試験を行い、表
―４の結果を得た。

【表】

Claims

【特許請求の範囲】１次の一般式(1) （式中、R₁は水素または【式】 R₂、R₃は水素または炭素数１〜８のアルキル基、
Ａは炭素数２〜３のアルキレン基、ｎは０〜30の
数）で示される水溶性または自己水分散性のアセ
チレンアルコール系化合物からなることを特徴と
するセメント用収縮低減剤。２一般式(1)において、（―AO）―_oで示されるポリ
オキシアルキレン基は、オキシエチレン基／オキ
シプロピレン基のモル比が少なくとも0.2となる
ブロツク状またはランダム状共付加基である特許
請求の範囲第１項記載のセメント用収縮低減剤。３一般式(1)において、R₂、R₃は水素または炭
素数１〜４のアルキル基であり、かつR₂とR₃と
の炭素数の合計が０〜10の範囲内にある特許請求
の範囲第１項または第２項記載のセメント用収縮
低減剤。４一般式(1)において、アルキル基R₂とR₃との
炭素数の合計が11〜32であり、かつｎ個あるＡの
うち少なくとも２個がエチレン基である特許請求
の範囲第２項記載のセメント用収縮低減剤。５一般式(1)において、ｎが２〜10の範囲内にあ
る特許請求の範囲第１項または第２項記載のセメ
ント用収縮低減剤。６次の一般式(1) （式中、R₁は水素または【式】 R₂、R₃は水素または炭素数１〜８のアルキル基、
Ａは炭素数２〜３のアルキレン基、ｎは０〜30の
数）で示される水溶性または自己水分散性のアセ
チレンアルコール系化合物と、フツソ系界面活性
剤または／およびシリコーン系界面活性剤とより
なることを特徴とするセメント用収縮低減剤。７フツソ系界面活性剤または／およびシリコー
ン系界面活性剤が、カチオン型またはノニオン型
である特許請求の範囲第６項記載のセメント用収
縮低減剤。８フツソ系界面活性剤または／およびシリコー
ン系界面活性剤が、ノニオン型である特許請求の
範囲第６項記載のセメント用収縮低減剤。