JPH0244521A - 垂直磁気ディスクの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概　要〕 垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて好適な垂
直磁気ディスクの製造方法に関し、ディスク基板上に記
録再生特性を向上させるために高透磁率な軟磁性層を厚
く形成しても、その軟磁性層上に形成した垂直磁性薄膜
、保護膜及び潤滑膜の表面をヘッド吸着のない低ＰＩ擦
、低摩耗な粗面に形成することを目的とし、 ディスク基板上に多数の島状、または短冊状、若しくは
網目状の絶縁層を形成する工程と、その絶縁層が形成さ
れたディスク基板上にめっき層からなる高透磁率な軟磁
性層を形成してその表面を微小な凹凸状にする工程と、
その軟磁性層上に垂直磁性薄膜、保護層及び潤滑膜を順
に形成する工程とを含んだ構成とする。

〔産業上の利用分野〕

本発明は垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置に用いて
好適な垂直磁気ディスクの製造方法に係り、特にＣＳ　
Ｓ　（Ｃｏｎｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏｐ）動作等
における磁気ヘッドの吸着を防止した摺動特性に優れた
二層膜構造の垂直磁気ディスクの製造方法に関するもの
である。

磁気ディスク装置では、磁気ディスクの回転が停止時に
は磁気ヘッドが磁気ディスク面に接触しており、該磁気
ディスクの回転速度の上昇と共に磁気ヘッドが摺動から
浮上して一定間隔を保った状態で情報の記録再生を行う
Ｃ３Ｓ方式が広く用いられている。

このようなＣ８Ｓ方式は、磁気ヘッドが磁気ディスク面
上に浮上するまでに比較的高速で該ディスク面と接触摺
動することから、磁気ヘッド及び磁気ディスク面の摩擦
損傷を避けるために、該磁気ディスクの表面には潤滑膜
等が施されている。

しかし、この潤滑膜が施された磁気ディスクの表面が平
滑過ぎると、Ｃ８Ｓ動作時等において磁気ヘッドが対向
する磁気ディスク面に潤滑剤により吸着されてヘッドク
ラッシュが発生する傾向にある。このため、Ｃ８Ｓ動作
等においてヘッド吸着がなく、かつ表面潤滑性に優れた
垂直磁気ディスクの製造方法が必要とされている。

〔従来の技術］ Ｃ８Ｓ動作等におけるヘッド吸着を防止した耐クラツシ
ユ性を向上した従来の垂直磁気ディスクの製造方法とし
ては、第３図（ａ）に示すように先ずディスク基板１１
の表面をラッピングテープ等を用いた機械的な粗面加工
（テクスチャリング法とも呼ばれる）によって、微小な
凹凸（０，１μｍ以下）をを有する粗面１２にした後、
第３図０））に示すようにかかる基板１１の表面上に、
例えば０．５μｍの膜厚のＮｉ−Ｆｅからなる高透磁率
な軟磁性層（軟磁性裏打ち層とも呼ぶ）１３をめっき法
、或いはスパッタリング法等により形成する。

次に該軟磁性層１３上に第３図（Ｃ）に示すように０．
２μｍの膜厚のＣｏ−Ｃｒからなる垂直記録層、即ち垂
直磁性薄膜１４と、磁気ヘッドの接触摺動時の摩擦、摩
耗を低減するための保護膜１５とをスパッタリング法等
により順に形成し、更にその表面に潤滑剤を塗布して潤
滑膜１６を形成している。

このようにディスク基板１１の表面を粗面１２にするこ
とにより、その粗面１２上に順に積層形成される軟磁性
層１３、垂直磁性薄膜１４、保護膜１５及び潤滑膜１６
の各表面は、前記ディスク基板１１の粗面を継承した微
小な凹凸状の面となり、この表面状態によって磁気ヘッ
ドとの接触面積が減少されるので、ヘッド吸着が防がれ
ると共に、潤滑膜１６の膜厚が適度に保持されるため、
磁気ヘッドに対する低摩擦、低摩耗が維持されて耐クラ
ツシユ性を高めている。

〔発明が解決しようとする課題〕

ところで上記したような二層膜構造の垂直磁気ディスク
において、高透磁率な軟磁性１３は、記録再生時に垂直
磁性薄膜１４の裏面に発生する分極磁荷を抑制し、かつ
垂直減磁界を減らすことにより磁化の減少を防ぎ、更に
磁気ヘッドに対する磁束のリターンバスを形成すること
から、記録再生効率を向上させる磁気ヘッドの一部の機
能を担っている。そのため良好な記録再生特性を得るに
は、その軟磁性層１３の膜厚を厚くするほど有利となる
。

しかしながら、前記軟磁性層１３の膜厚をミクロンオー
ダに厚くすると、ディスク基板１１の表面に形成された
粗面１２の荒さが０．１μｍ程度以下と小さいために、
該軟磁性層１３の表面が前記粗面を継承する微小な凹凸
面となり難くなる。特にめっき法によって厚い軟磁性層
を形成した場合にこの現象が顕著である。

従って、このような軟磁性層上に形成された垂直磁性薄
膜１４は勿論のこと、保護膜１５及び潤滑膜１６の表面
は前記ディスク基板１１の粗面１２の影響を受けない平
坦な面となり、その結果、前記した磁気ヘッドの吸着防
止の効果が失われるといった問題があった。

本発明は上記した従来の問題点に鑑み、高透磁率な軟磁
性層を厚く形成しても、その軟磁性層上に形成した垂直
磁性薄膜、保護膜及び潤滑膜の表面をヘッド吸着のない
低摩擦、低摩耗な粗面に形成することことができる新規
な垂直磁気ディスクの製造方法を提供することを目的と
するものである。

〔課題を解決するための手段〕 上記した目的を達成するため、本発明はディスり基板上
に多数の島状、または短冊状、若しくは網目状の絶縁層
を形成する工程と、その絶縁層が形成されたディスク基
板上にめっき層からなる高透磁率な軟磁性層を形成して
その表面を微小な凹凸状にする工程と、その軟磁性層上
に垂直磁性薄膜、保護層及び潤滑膜を順に形成する工程
とを含む製造法を採用する。

〔作　用］ 本発明の製造方法では、めっき膜の電解析出が膜厚方向
のみならず、平面的にも析出する特性に着目し、これを
利用してディスク基板上に多数の島状、または短冊状、
若しくは網目状の絶縁層を形成し、かかるディスク基板
上にめっき膜からなる高透磁率な軟磁性層を形成する。

この際、電解析出により形成される前記めっき膜を記録
再生特性の向上のために厚くしても、めっき膜は例えば
島状の絶縁層の周囲の領域から該絶縁層上に向かって順
次析出され、その中心で相互に接触した状態となるよう
に形成することにより、形成されためっき膜からなる軟
磁性層の各島状の絶縁層上の中心と対応する表面部分に
微小な凹部が形成され、該軟磁性層の表面は凹凸面状と
なる。

従って、かかる軟磁性層上に形成した垂直磁性薄膜の表
面は膜厚が薄いために軟磁性層の微小な凹凸面を十分に
継承した粗面となる。

その結果、該垂直磁性薄膜上に、保護層及び潤滑膜を順
に形成することにより、これら各膜の表面も同様に微小
な凹凸状の粗面となり、磁気ヘッドとの接触面積が低減
されると共に、その表面に塗布される潤滑膜の膜厚が適
度に保たれるので、磁気ヘッドの吸着防止と低摩擦、低
摩耗による摺動特性が著しく向上する。

〔実施例〕

以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である
。

先ず第１図（ａ）に示すように、例えば予めスパッタリ
ング法等によりＮｉ−Ｆｅからなるめっき用下地膜２２
が形成されたガラス、またはセラミック等からなるディ
スク基板２１上に、スパッタリング法及びフォトリソグ
ラフィ工程等によりＳｉＯ□、Ａｆｆｉ２０３、或いは
熱硬化性樹脂等からなる膜厚が０．０５μｍ、面積が４
μｍ口程度の多数の島状（または網目状）の絶口層２３
を形成する。

次に第１図（ｂ）に示すように前記記多数の島状、或い
は網目状の絶縁層２３が形成されたディスク基板２１上
に、Ｎｉ−Ｆｅ等からなる高透磁率の軟磁性薄膜２４を
めっき法により膜厚２〜３μｍに厚く形成する。この際
、該軟磁性薄膜２４、即ちめっき膜は、例えば島状の絶
縁層２３の周囲の領域に膜厚方向に析出すると同時に、
その周囲より絶縁層２３上の中心に向かって鎖線で示さ
れるように平面的にも順次析出される。

そしてその中心で相互に接触し、一体となった状態に形
成する。かくすれば形成されためっき膜からなる軟磁性
層２４の各島状の絶縁層２３上の中心と対応する表面部
分に微小凹部２５が形成され、該軟磁性層２４の表面は
総じて微小な凹凸面状となる。

次にこのように表面に多数の微小四部２５が形成された
軟磁性層２４上に、第１図（Ｃ）に示すようにＣ０Ｃｒ
からなる膜厚が約０．２μｍの垂直磁性薄膜２６と、カ
ーボン等よりなる膜厚が０．０１〜０．０３μｍの保護
膜２７を第１図（ｄ）に示すように順にスパッタリング
法等により形成する。この垂直磁性薄膜２６と保護膜２
７の形成方法は従来例と同様の方法によるものであるが
、これら各膜の表面は前記軟磁性層２４の表面状態に対
応した微小な凹凸面状となる。

更にその保護膜２７の表面に、例えばパーフロロポリエ
ーテル等からなる潤滑剤を塗布して潤滑膜２８を形成す
ることにより垂直磁気ディスクが完成する。

かくすれば、貰透磁率な軟磁性層２４の膜厚を厚く形成
しても、その厚さに影響されることなく該軟磁性層２４
上に形成した垂直磁性薄膜２６、保護膜２７及び潤滑膜
２８の表面は必然的に微小な凹凸を有する粗面となり、
磁気ヘッドに対する接触面積が減少し、磁気ヘッドの吸
着障害が防止できる。

なお以上の実施例ではめっき用下地膜２２が形成された
ディスク基板２１上に多数の島状、（または網目状）の
絶縁層２３を形成した場合の例について説明したが、本
発明はそのような例の他に、例えば第２図に示すように
表面にＮｉ−Ｆｅからなるめっき用下地膜２２が形成さ
れたガラス、またはセラミック等からなるディスク基板
２１上の半径方向にスパッタリング法及びフォトリソグ
ラフィ工程等によりＳｉＯ□、ＡＩ２□０１．或いは熱
硬化性樹脂等からなる膜厚が０．０５μｍ、膜幅が４μ
ｍ程度の多数の短冊状の絶縁層３３を所定間隔をもって
形成した後、かかる短冊状の絶縁層３３が形成されたデ
ィスク基板２１−ヒに前記第１図（ｂ）により説明した
と同様にＮｉ−Ｆｅからなる高透磁率な軟磁性層を形成
することにより、前記各短冊状の絶縁層３３の幅方向の
中心と対向する軟磁性層の表面に、前記ディスク基板２
１の半径方向に長い微小な凹部が形成される。

従って、そのような軟磁性層上に同様に垂直磁性薄膜、
保護膜及び潤滑膜を形成すれば、これらの各層の表面は
必然的に多数の微小凹部を有する粗面となり、磁気ヘッ
ドに対する接触面積が減少するため、磁気ヘッドの吸着
障害を防止することが可能となる。更に短冊状の絶縁層
３３が形成されたディスク基板２１上に上述のように高
透磁率な軟磁性層を形成した場合、該軟磁性層の磁化容
易軸をディスク基板２１の半径方向に設定できるので、
亮性能な垂直磁気ディスクが得られるといった副次的な
作用効果も期待できる。

〔発明の効果］ 以上の説明から明らかなように、本発明に係る垂直磁気
ディスクの製造方法によれば、記録再生特性を向上させ
るために、高透磁率な軟磁性層の膜厚を厚くしても、該
軟磁性層の表面を適度の微小な凹凸面とすることが可能
となり、その軟磁性層上に形成した垂直磁性薄膜、保護
膜及び潤滑膜の表面も同様な微小凹凸面とすることが可
能となる。

従って、磁気ヘッドの吸着障害が防止され、しかも低摩
擦、低摩耗性を有する信顛性の高い垂直磁気ディスクを
得ることが可能となる等、実用１優れた効果を奏する。

絶縁層をそれぞれ示す。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｄ）は本発明に係る垂直磁気ディスク
の製造方法の一実施例を工程順に示す 要部断面図、 第２図は本発明に係る垂直磁気ディスクの製造方法の他
の実施例を説明するための概 略斜視図、 第３図（ａ）〜（Ｃ）は従来の垂直磁気ディスクの製造
方法を工程順に説明するための要部断 面図である。 第１図（ａ）〜（ｄ）及び第２図において、２１はディ
スク基板、２２はめっき用下地膜、２３は島状、網目状
の絶縁膜、２４は軟磁性層、２５は微小な凹部、２６は
垂直磁性薄膜、２７は保護膜、２８は潤滑膜、３３は短
冊状の（α） （ｂ） （ｄ＞ 、ｉｐ＄４＆　直１１ｆｉデ’（７７Ｊ４遣ｘｊｈ＞ｒ
ｌ＋ＪＴｔ＊？！ｆｒｍｍ第　１　図 オ亮−４憧汽テ’ｔＺ７シ化４ｖ珪を註哨Ｔ）糾擢ｍ第
２図 ｔＣ） 名ｔ＋Ｊ遵ａ汽デンｚ７の公遺丁群トシ克：ネ１τ１宇
鉾曲切第３図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ディスク基板（２１）上に多数の島状、または短冊状、
   若しくは網目状の絶縁層（２３）を形成する工程と、そ
   の絶縁層（２３）が形成されたディスク基板（２１）上
   にめっき層からなる高透磁率な軟磁性層（２４）を形成
   してその表面を微小な凹凸状にする工程と、該軟磁性層
   （２４）上に垂直磁性薄膜（２６）、保護層（２７）及
   び潤滑膜（２８）を順に形成する工程とを含むことを特
   徴とする垂直磁気ディスクの製造方法。