JPH0236338A - 光音響信号検出方法及びその装置 - Google Patents
光音響信号検出方法及びその装置Info
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- JPH0236338A JPH0236338A JP63185597A JP18559788A JPH0236338A JP H0236338 A JPH0236338 A JP H0236338A JP 63185597 A JP63185597 A JP 63185597A JP 18559788 A JP18559788 A JP 18559788A JP H0236338 A JPH0236338 A JP H0236338A
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-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/1702—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/1702—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids
- G01N2021/1706—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated with opto-acoustic detection, e.g. for gases or analysing solids in solids
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
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- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
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- G01N2021/1782—In-depth resolution
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、光音響効果(Photoacoustie
Effect)を利用して、試料の表面及び内部情報を
検出する光音響信号検出装置に関する。
Effect)を利用して、試料の表面及び内部情報を
検出する光音響信号検出装置に関する。
光音響効果は、1881年チンダル(T)’ndall
) 。
) 。
ベル(Be1l) 、レントゲン(Rontogen
)らによって発見された。すなわち、試料1こ強度変調
した光(断続光)を照射すると、光吸収領域において熱
が発生し、熱拡散領域を周期的に拡散し、この熱壺波に
よって超音波が発生する現象である。この超音波すなわ
ち光音t#傷信号マイクロホン(音響電気変換器)や圧
11L累子で検出し、入射光のfvI4周波数と同期し
た成分を求めること(こより、試料の表面及び内部の情
報を得ることができる。特に、変調周波数を変えること
により、試料の深さ方向の情報を得ることができる。上
記光音響信号の検出方式に関しては、文献「非破聴検査
;第36巻第10号、p730〜p 736 (昭和6
2年10月」において論じられている。一方、試料の内
部情報を非接触・非破壊で検出するという観点力1らみ
ると、上記方式には、次のような課題がある0まず、マ
イクロホンを使う方式では、感度を上げるため、通常数
d程度の大きさの密閉した試料室に試料を入れて測定を
行う必要があり、試料の大きさが1〜2dfこ限定され
てしまう。場合tこよっては、試料を切断しなければな
らなくなるケースも生じる。圧電素子を使う方式では、
試料の裏面に圧電素子を貼り付ける必要があり、その密
着度によって、検出感度が大きく変化してしまう。
)らによって発見された。すなわち、試料1こ強度変調
した光(断続光)を照射すると、光吸収領域において熱
が発生し、熱拡散領域を周期的に拡散し、この熱壺波に
よって超音波が発生する現象である。この超音波すなわ
ち光音t#傷信号マイクロホン(音響電気変換器)や圧
11L累子で検出し、入射光のfvI4周波数と同期し
た成分を求めること(こより、試料の表面及び内部の情
報を得ることができる。特に、変調周波数を変えること
により、試料の深さ方向の情報を得ることができる。上
記光音響信号の検出方式に関しては、文献「非破聴検査
;第36巻第10号、p730〜p 736 (昭和6
2年10月」において論じられている。一方、試料の内
部情報を非接触・非破壊で検出するという観点力1らみ
ると、上記方式には、次のような課題がある0まず、マ
イクロホンを使う方式では、感度を上げるため、通常数
d程度の大きさの密閉した試料室に試料を入れて測定を
行う必要があり、試料の大きさが1〜2dfこ限定され
てしまう。場合tこよっては、試料を切断しなければな
らなくなるケースも生じる。圧電素子を使う方式では、
試料の裏面に圧電素子を貼り付ける必要があり、その密
着度によって、検出感度が大きく変化してしまう。
そこで、光音1#信号の検出方式として、最近特番こ注
目を浴びているのが、光干渉を用いる方式である。この
方式fこついては、例えば文献[アイ・イー・イー・イ
ー、 19B6 ウルトラソニックスシンポジウムp
515〜526(1986年)(、IEEE;1986
ULTRASONIC8SYMPO8IUM−p515
〜5215 (1986))J tこおいて論じられて
いる。以下では、第7図1こより、この方式について説
明する。レーザ1から出射した平行光を音響光学変調素
子(A OvA器)2により強度変調し、その断続光ヲ
ビームエキスパンダ3により79?mのビーム径に拡大
した後、レンズ4ζこより、XYステージ5上の試料6
の表面に集光させる。試料6上ω果光部160において
生じた熱歪波により、超音波が発生し、同時に試料表面
に微小変位が生じる0この微小変位を以下に述べるマイ
ケルソン干渉計で検出する。レーザ7から出射した平行
光をビームエキスパンダ8Iこより所望のビーム径に拡
大した後、ハーフミラ−9で2つの光路に分離し、一方
はレンズ10により試料6上の集光部130に集光させ
る。他方は参照ミラー11上に照射させる。試料6から
の反射光上参照ミラー11からの反射光は、ハーフミラ
−9上で互いに干渉し、この干渉パターンがレンズ12
により、ホトダイオード等の光電変換素子13上に集光
される。光1m変換された干渉強度信号はプリアンプ1
4で増幅された後、ロックインアンプ16に送られる。
目を浴びているのが、光干渉を用いる方式である。この
方式fこついては、例えば文献[アイ・イー・イー・イ
ー、 19B6 ウルトラソニックスシンポジウムp
515〜526(1986年)(、IEEE;1986
ULTRASONIC8SYMPO8IUM−p515
〜5215 (1986))J tこおいて論じられて
いる。以下では、第7図1こより、この方式について説
明する。レーザ1から出射した平行光を音響光学変調素
子(A OvA器)2により強度変調し、その断続光ヲ
ビームエキスパンダ3により79?mのビーム径に拡大
した後、レンズ4ζこより、XYステージ5上の試料6
の表面に集光させる。試料6上ω果光部160において
生じた熱歪波により、超音波が発生し、同時に試料表面
に微小変位が生じる0この微小変位を以下に述べるマイ
ケルソン干渉計で検出する。レーザ7から出射した平行
光をビームエキスパンダ8Iこより所望のビーム径に拡
大した後、ハーフミラ−9で2つの光路に分離し、一方
はレンズ10により試料6上の集光部130に集光させ
る。他方は参照ミラー11上に照射させる。試料6から
の反射光上参照ミラー11からの反射光は、ハーフミラ
−9上で互いに干渉し、この干渉パターンがレンズ12
により、ホトダイオード等の光電変換素子13上に集光
される。光1m変換された干渉強度信号はプリアンプ1
4で増幅された後、ロックインアンプ16に送られる。
ロックインアンプ16で(よ、音響光学変調素子2の駆
動に用いる発振器15力)らの変調周波数信号を参照信
号として、干渉強度信号に含まれる変調周波数成分のみ
が抽出される。この周波数成分がその周波数に応じた試
料の表面あるいは内部の情g#をもつ。従って、試料の
内部にクラック等の欠陥があれば、干渉強度信号中の変
調周波数成分に信号変化が現れ、その存在を知ることが
できる。XYステージ移動信号とロックインアンプ16
からの出力信号は計算機17で処理され、試料上の各点
における光音t#傷信号モニタTV等の表示器18に画
像情報として出力される。
動に用いる発振器15力)らの変調周波数信号を参照信
号として、干渉強度信号に含まれる変調周波数成分のみ
が抽出される。この周波数成分がその周波数に応じた試
料の表面あるいは内部の情g#をもつ。従って、試料の
内部にクラック等の欠陥があれば、干渉強度信号中の変
調周波数成分に信号変化が現れ、その存在を知ることが
できる。XYステージ移動信号とロックインアンプ16
からの出力信号は計算機17で処理され、試料上の各点
における光音t#傷信号モニタTV等の表示器18に画
像情報として出力される。
光干渉を用いる上記従来技術は、非接触・非破壊で光音
響信号を検出できる極めて有効な手段であるが、以下の
ような課題をもっている。
響信号を検出できる極めて有効な手段であるが、以下の
ような課題をもっている。
光音響信号の横方向分解能は、試料6上におけるレーザ
1からのレーザ光のスポット径と試料の熱拡散長ζこよ
って決まる。熱拡散長は試料固有の値であるが、スポッ
ト径dは、レーザ光り波長λ、ビームエキスパンダ5通
過後のビーム径り及びレンズ4の焦点距離fによって(
1)式で与えられる。
1からのレーザ光のスポット径と試料の熱拡散長ζこよ
って決まる。熱拡散長は試料固有の値であるが、スポッ
ト径dは、レーザ光り波長λ、ビームエキスパンダ5通
過後のビーム径り及びレンズ4の焦点距離fによって(
1)式で与えられる。
し力)シ、一般iこ試料6上のスポットの光強度分布は
第8因に示すような断面形状を成しており、直径dで与
えられるピーク部19の周辺に高次回折光成分20a及
び20bが存在する。一般に、この高次回折光成分の光
強度はスポット全体の光強度の16.2%もある。試料
表面の微小変位を光干渉により検出する場合は、この値
は無視するこさばできず、最終的に光音響信号の横方向
分解能が低下してしまう。干渉計のレーザ7からのレー
ザ光Oつスポット径についても同様のことが言え、干渉
強度信号の横方向分解能が低下する。特に高次口折光成
分の反射光が、光を変換素子13fこ入射すると、ノイ
ズ成分となり光音響信号の検出感度が大幅に低下してし
まう。
第8因に示すような断面形状を成しており、直径dで与
えられるピーク部19の周辺に高次回折光成分20a及
び20bが存在する。一般に、この高次回折光成分の光
強度はスポット全体の光強度の16.2%もある。試料
表面の微小変位を光干渉により検出する場合は、この値
は無視するこさばできず、最終的に光音響信号の横方向
分解能が低下してしまう。干渉計のレーザ7からのレー
ザ光Oつスポット径についても同様のことが言え、干渉
強度信号の横方向分解能が低下する。特に高次口折光成
分の反射光が、光を変換素子13fこ入射すると、ノイ
ズ成分となり光音響信号の検出感度が大幅に低下してし
まう。
本発明の目的は、光音響信号の検出感度を大幅に向上さ
せて試料の情報を抽出できるようにした光音q1信号検
出装置を提供することにある。
せて試料の情報を抽出できるようにした光音q1信号検
出装置を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明は光源と、該i源から
の元を所望の周波数で強度変調する変調手段と、変調さ
れた光8試料上に集光する集光手段と、試料で発生した
光音響効果を光干渉により検出する光干渉検出手段と、
該光干渉検出手段により検出された光干渉信号の中から
試料の表面及び内部情報を抽出する手段から成る光音4
1信号検出装置において、上記集光手段及び光干渉検出
手段を共焦点光学系として構成するこdにより、光音響
信号の横方向分解能、検出感度及びSN比を向上せしめ
たものである0 また、上記目的を達成するため、本発明は上記光音#信
号検出装置iこおいて、上記集光手段により試料上に形
成された光スポット径が常に同じ大きさとなるよう、試
料もしくは集光手段8g4節する手段を設けることによ
り、表面に凹凸のある試料への適用を可能としたもので
ある。
の元を所望の周波数で強度変調する変調手段と、変調さ
れた光8試料上に集光する集光手段と、試料で発生した
光音響効果を光干渉により検出する光干渉検出手段と、
該光干渉検出手段により検出された光干渉信号の中から
試料の表面及び内部情報を抽出する手段から成る光音4
1信号検出装置において、上記集光手段及び光干渉検出
手段を共焦点光学系として構成するこdにより、光音響
信号の横方向分解能、検出感度及びSN比を向上せしめ
たものである0 また、上記目的を達成するため、本発明は上記光音#信
号検出装置iこおいて、上記集光手段により試料上に形
成された光スポット径が常に同じ大きさとなるよう、試
料もしくは集光手段8g4節する手段を設けることによ
り、表面に凹凸のある試料への適用を可能としたもので
ある。
光干渉を利用して光音響信号を検出Tる光廿書信号検出
装置において、集光光学系を共焦点光学系とすることに
より、試料上に集光されたスポット光のピーク部周辺に
は不要な高次回折光成分が存在せず、光音響信号の横方
向分解能と検出感度が向上する。また、干渉光学系を共
焦点光学系七すること番こより、上記と同様周辺部に不
要な高次回折光成分の存在しない理想的なピーク部を有
するスポット光を試料上に形成することがでと、光音響
信号すなわち、干渉強度検出信号の横方向分解能、検出
感度及びSN比が向上する。また、試料上に集光された
元スポット径が常に同じ大きさとなるよう、試料あるい
は集光光学系を調節するこ七により、表面に凹凸のある
試料に対しても、常にし〜ザの射熱パワーが一定となり
、安定な光音響信号が得らn1上記と同様、横方向分解
能。
装置において、集光光学系を共焦点光学系とすることに
より、試料上に集光されたスポット光のピーク部周辺に
は不要な高次回折光成分が存在せず、光音響信号の横方
向分解能と検出感度が向上する。また、干渉光学系を共
焦点光学系七すること番こより、上記と同様周辺部に不
要な高次回折光成分の存在しない理想的なピーク部を有
するスポット光を試料上に形成することがでと、光音響
信号すなわち、干渉強度検出信号の横方向分解能、検出
感度及びSN比が向上する。また、試料上に集光された
元スポット径が常に同じ大きさとなるよう、試料あるい
は集光光学系を調節するこ七により、表面に凹凸のある
試料に対しても、常にし〜ザの射熱パワーが一定となり
、安定な光音響信号が得らn1上記と同様、横方向分解
能。
検出感度及びSN比が向上する。
以下、本発明の実施例を第1図〜第6図により説明する
。
。
まず、第1の実施例を第1図〜第5図1こより説明する
。第1図は本発明の第1の実施例における光音響検出光
学系を示すものである。本光学系は、変調レーザ照射光
学系300.マイケルンン干渉計510、信号処理系5
20及び自動焦点系330から成るレーザ21から出射
した平行光を音響光学変調素子22により所定の周波数
で強度fvI4L、、その断続光をビームエキスパンダ
23により所望のビーム径に拡大した後、レンズ24に
よりその後側焦点位置1411こ集光させる。焦点位置
141にはピンホール25が設置されており、第2(8
)に示すようにスポットのピーク部160の周辺に存在
する高次回折光成分161a及び161bを遮光する。
。第1図は本発明の第1の実施例における光音響検出光
学系を示すものである。本光学系は、変調レーザ照射光
学系300.マイケルンン干渉計510、信号処理系5
20及び自動焦点系330から成るレーザ21から出射
した平行光を音響光学変調素子22により所定の周波数
で強度fvI4L、、その断続光をビームエキスパンダ
23により所望のビーム径に拡大した後、レンズ24に
よりその後側焦点位置1411こ集光させる。焦点位置
141にはピンホール25が設置されており、第2(8
)に示すようにスポットのピーク部160の周辺に存在
する高次回折光成分161a及び161bを遮光する。
その結果、ピンホール通過直後の光強度分布は第5図に
示すように、ピーク部160だけとなる。焦点位置14
1はレンズ26の前側焦点位置となっているので、ピン
ホール25通過後の光点力)らの光は、レンズ26通過
後平行光となる。
示すように、ピーク部160だけとなる。焦点位置14
1はレンズ26の前側焦点位置となっているので、ピン
ホール25通過後の光点力)らの光は、レンズ26通過
後平行光となる。
。0千行光はダイクロイックミラー27で反射すれた後
、対物レンズ28の前側焦点位[151、すなわち試料
170上で再び第3図に示すと同様OJ光強度分布をも
つ光点となる。すなわち、レンズ26と対物レンズ28
は共焦点の関係にある。試料170上G)J %元部1
61において生じた熱歪波により、超音波が発生し、同
時に試料表面に微小変位が生じる〇一方、レーザ21と
波長の異なるレーザ31力)ら出射した円偏光の平行光
をビームエキスパンダ52により所望のビーム径に拡大
した後、レンズ35によりその後側焦点位置142に集
光させる。焦点142にはピンホール34が設置されて
おり、第2図(こ示すと同様にして、スポラトリビーク
部周辺の高次回折光成分が遮光される。焦点位置142
はレンズ55の前側焦点位置となっており、ピンホール
34通過後の光点からの光はレンズ35により平行光と
なる。
、対物レンズ28の前側焦点位[151、すなわち試料
170上で再び第3図に示すと同様OJ光強度分布をも
つ光点となる。すなわち、レンズ26と対物レンズ28
は共焦点の関係にある。試料170上G)J %元部1
61において生じた熱歪波により、超音波が発生し、同
時に試料表面に微小変位が生じる〇一方、レーザ21と
波長の異なるレーザ31力)ら出射した円偏光の平行光
をビームエキスパンダ52により所望のビーム径に拡大
した後、レンズ35によりその後側焦点位置142に集
光させる。焦点142にはピンホール34が設置されて
おり、第2図(こ示すと同様にして、スポラトリビーク
部周辺の高次回折光成分が遮光される。焦点位置142
はレンズ55の前側焦点位置となっており、ピンホール
34通過後の光点からの光はレンズ35により平行光と
なる。
この平行光は偏光ビームスプリンタ36によりp4JA
i七S偏元に分離されるoP偏光は偏光ビームスプリッ
タ56ヲ透過し、ダイクロイックミラー27及びλ/4
板55を通過した後、円偏光となり、対物レンズ2日に
より、ピンホール142通過後の光点の像(第6図の光
強度分布)が試料170上の131の位置(対物レンズ
28の前側焦点位11こ結像される〇一方、S偏光ハ偏
光ビームスプリッタ36で反射され、λ/4板ろ7を通
過した後円偏光となり、参照ミラー68Iこ入射する。
i七S偏元に分離されるoP偏光は偏光ビームスプリッ
タ56ヲ透過し、ダイクロイックミラー27及びλ/4
板55を通過した後、円偏光となり、対物レンズ2日に
より、ピンホール142通過後の光点の像(第6図の光
強度分布)が試料170上の131の位置(対物レンズ
28の前側焦点位11こ結像される〇一方、S偏光ハ偏
光ビームスプリッタ36で反射され、λ/4板ろ7を通
過した後円偏光となり、参照ミラー68Iこ入射する。
試料170からの反射光は試料表面で生じた微小変位を
位相情報としてもっており、対物レンズ28.λ/4板
55ヲ通過した後S1−光と1(す、偏光ビームスプリ
ッタ36で反射される3−)参照ミラー38力)らの反
射光はλ/4板!+7(−通過した後P偏光となり、偏
光ビームスグリツタ368透過する。第4図の120は
試料170からの反射光の偏光方向を、121は参照ミ
ラー58からの反射光0J41に8光方向を示している
。両者は互いに直交しているU]でこU〕ままでは干渉
しない0しかし、偏光板180を光路に押入し、そω偏
光方向を第4図の121に示すように、45°方向とす
ることにより両反射光は干渉する。この干渉パターンに
は、試料表面で生じた微小変位の位相情報が含まれてお
り、こnをレンズ39によりその後側焦点位[200f
こ集光し、ホトダイオード等の光電変換素子41で検出
する。また、後側焦点位[200にピンホール40%設
置し、対物レンズ28内で発生した迷光や試料上の透明
薄膜円で発生した干渉成分やあるいは試料表面の微小な
凹凸により発生した高次回折光成分全遮光する。以上述
べたように、このマイケルソン干渉計は、レンズ55.
対物レンズ2B、レンズ39が総て共焦点の関係にある
。光電変換された干渉強度信号はプリアンプ49で増幅
された後、ロックインアンプ51に送られる。ロックイ
ンアンプ51では、音響光学変調素子22C/J駆動に
用いる発振器50からCIJ変調周波数信号を参照信号
として、干渉強度信号に含まれる変調周波数成分及び位
相成分が抽出される。この周波数成分及び位相成分が吾
の周波数に応じた試料の表面あるいは内部の情報をもつ
。従って、試料の内部にクラック等力欠陥があれば、干
渉強度信号中の変調周波数成分及び位相成分に信号変化
が現れ、そQ」存在を知ることができる。XYステージ
29の移動@号とロックインアンプ51力)らの出力信
号は計算機52で処理さイ1、試料上の各点(こおける
光音響信号がモニタTV等の表示器53(こ出力される
。
位相情報としてもっており、対物レンズ28.λ/4板
55ヲ通過した後S1−光と1(す、偏光ビームスプリ
ッタ36で反射される3−)参照ミラー38力)らの反
射光はλ/4板!+7(−通過した後P偏光となり、偏
光ビームスグリツタ368透過する。第4図の120は
試料170からの反射光の偏光方向を、121は参照ミ
ラー58からの反射光0J41に8光方向を示している
。両者は互いに直交しているU]でこU〕ままでは干渉
しない0しかし、偏光板180を光路に押入し、そω偏
光方向を第4図の121に示すように、45°方向とす
ることにより両反射光は干渉する。この干渉パターンに
は、試料表面で生じた微小変位の位相情報が含まれてお
り、こnをレンズ39によりその後側焦点位[200f
こ集光し、ホトダイオード等の光電変換素子41で検出
する。また、後側焦点位[200にピンホール40%設
置し、対物レンズ28内で発生した迷光や試料上の透明
薄膜円で発生した干渉成分やあるいは試料表面の微小な
凹凸により発生した高次回折光成分全遮光する。以上述
べたように、このマイケルソン干渉計は、レンズ55.
対物レンズ2B、レンズ39が総て共焦点の関係にある
。光電変換された干渉強度信号はプリアンプ49で増幅
された後、ロックインアンプ51に送られる。ロックイ
ンアンプ51では、音響光学変調素子22C/J駆動に
用いる発振器50からCIJ変調周波数信号を参照信号
として、干渉強度信号に含まれる変調周波数成分及び位
相成分が抽出される。この周波数成分及び位相成分が吾
の周波数に応じた試料の表面あるいは内部の情報をもつ
。従って、試料の内部にクラック等力欠陥があれば、干
渉強度信号中の変調周波数成分及び位相成分に信号変化
が現れ、そQ」存在を知ることができる。XYステージ
29の移動@号とロックインアンプ51力)らの出力信
号は計算機52で処理さイ1、試料上の各点(こおける
光音響信号がモニタTV等の表示器53(こ出力される
。
本実施例では、変調レーザ照射光学系とマイケルソン干
渉計を共焦点光学系としているため、光音響信号Q−)
横方向分解能が向上するもQ〕の、試料i 7 Q (
P)表面が常に対物し/ズ28の前側焦点位置1s15
− 致している必要がある。もし一致していf、K ケ
t’L if 、レーザ21からの断続ビーム光は試料
表面1こ集光せず、熱歪波も超音波も極めて微弱となる
1つまた、レーザ31からのビーム光も試料表面に集光
せず、ピンホール40を通過下る光量は大きく減少し、
干渉強度信号は極めて微弱となり一1試料表面あるいは
内部の情報を得ることは困1Ila六なる。
渉計を共焦点光学系としているため、光音響信号Q−)
横方向分解能が向上するもQ〕の、試料i 7 Q (
P)表面が常に対物し/ズ28の前側焦点位置1s15
− 致している必要がある。もし一致していf、K ケ
t’L if 、レーザ21からの断続ビーム光は試料
表面1こ集光せず、熱歪波も超音波も極めて微弱となる
1つまた、レーザ31からのビーム光も試料表面に集光
せず、ピンホール40を通過下る光量は大きく減少し、
干渉強度信号は極めて微弱となり一1試料表面あるいは
内部の情報を得ることは困1Ila六なる。
しかし、こびJ現象を逆に利用することにより、極めて
高梢Ifな自動焦点機能を付加するζ、とが可能である
。
高梢Ifな自動焦点機能を付加するζ、とが可能である
。
すなわち、試料170で反射し1゛レーザ51からのビ
ームをビームスプリッタ56で分岐し、さうにビームス
プリッタ42で分離−ッ、各々のビームをレンズ43及
び46で集光下6゜各光路にホトダイオード等の光電変
換素子45及び488、またその直前にビンホー ル4
4及び47を設置する。ここで、元f社変換素子45は
レンズ460]後側焦点位fFaよりも後11111
iこ、また光″に変換素子48はレンズ46a】後側焦
点位置Fbよりも前佃匂こ設置する。両光電変換孝子か
らC/J田力電力電流較回路54で比較し、常tこ対物
レンズ28UJ前側焦点位置131が試料170の表面
と一致するヨウζこ、2ヌテージ30をフィードバック
制御する。
ームをビームスプリッタ56で分岐し、さうにビームス
プリッタ42で分離−ッ、各々のビームをレンズ43及
び46で集光下6゜各光路にホトダイオード等の光電変
換素子45及び488、またその直前にビンホー ル4
4及び47を設置する。ここで、元f社変換素子45は
レンズ460]後側焦点位fFaよりも後11111
iこ、また光″に変換素子48はレンズ46a】後側焦
点位置Fbよりも前佃匂こ設置する。両光電変換孝子か
らC/J田力電力電流較回路54で比較し、常tこ対物
レンズ28UJ前側焦点位置131が試料170の表面
と一致するヨウζこ、2ヌテージ30をフィードバック
制御する。
この自動焦点機能は、マイケルソン干渉計を共焦点光学
系とすることにより初めて実埃できるものである。これ
により、第5図に示すよう(こ、回路パターンの形成さ
れた半導体ウニ・・のようIこ試料表面に凹凸がある場
合でも、常に安定にレーザ光を試料表面に集光するこ七
ができる。すなわち、試料表面へυル−サの照射パワー
を常tこ一定に保つことか可能となる。尚、対物レンズ
28′は実際には固定であり、Zステージ50′を微動
する。
系とすることにより初めて実埃できるものである。これ
により、第5図に示すよう(こ、回路パターンの形成さ
れた半導体ウニ・・のようIこ試料表面に凹凸がある場
合でも、常に安定にレーザ光を試料表面に集光するこ七
ができる。すなわち、試料表面へυル−サの照射パワー
を常tこ一定に保つことか可能となる。尚、対物レンズ
28′は実際には固定であり、Zステージ50′を微動
する。
本実施例によれば、変調レーザ照射光学系を共焦点光学
系とすることにより、周辺部に高次回折光成分の存在し
ない微小なスポット光を試料上に照射することがでと、
光音響信号の横方向分解能と検出感度を向上させること
ができる。また、マイケルンン干渉計を共焦点光学系と
することにより、高精度な自動焦点機能を付加すること
が可能となり、凹凸のある試料表面上ζこ常に安定にレ
ーザ光を集光することがでと、光音qI倍信号なわち干
渉強度信号の横方向分解能、検出感度及びSN比が向上
する。
系とすることにより、周辺部に高次回折光成分の存在し
ない微小なスポット光を試料上に照射することがでと、
光音響信号の横方向分解能と検出感度を向上させること
ができる。また、マイケルンン干渉計を共焦点光学系と
することにより、高精度な自動焦点機能を付加すること
が可能となり、凹凸のある試料表面上ζこ常に安定にレ
ーザ光を集光することがでと、光音qI倍信号なわち干
渉強度信号の横方向分解能、検出感度及びSN比が向上
する。
第2の実施例を5g6図により説明する。第6図は、本
発明UJ第2の実施例tこおける光音響検出光学系を示
すものである。本光学系は、変調レーザ照射光学系40
0.ヘテロダイン型マツハ・ツエンダ干渉計410.信
号処理系420及び自動焦点系430から成る。レーザ
81力)ら出射したS偏光の平行光を音響光学変調素子
82により、所定の周波数で強度変調すると同時に0次
光と1次回折光に分離する。0次光は、ミラー83及び
84で反射した後、ビームエキスパンダ85#こより所
望のビーム径に拡大した後、レンズ86ζこよりその後
側焦点位置151に集光させる。焦点位置151にはピ
ンホール87が設置されており、第2因に示すようにス
ポットのピーク部160の周辺fこ存在する高次回折光
成分161a及び161b8m光する。その結果、ピン
ホール87通過直後の光強度分布は第6図1こ示すよう
に、ピーク部160だけaなる。焦点位置151はレン
ズ88 (/J前側焦点位置となっているので、ピンホ
ール87通過後の光点からの光は、レンズ88通過後再
びS偏光の平行光となる。この平行光は偏光ビームスプ
リッタ89で反射された後、λ/4板90ヲ通過後円偏
光となり、対物レンズ100の前側焦点位@152、す
なわち試料170上で再び第6図1こ示すと同様の光強
度分布をもつ光点となる。すなわち、レンズ88と対物
レンズ100は共焦点の関係にある。
発明UJ第2の実施例tこおける光音響検出光学系を示
すものである。本光学系は、変調レーザ照射光学系40
0.ヘテロダイン型マツハ・ツエンダ干渉計410.信
号処理系420及び自動焦点系430から成る。レーザ
81力)ら出射したS偏光の平行光を音響光学変調素子
82により、所定の周波数で強度変調すると同時に0次
光と1次回折光に分離する。0次光は、ミラー83及び
84で反射した後、ビームエキスパンダ85#こより所
望のビーム径に拡大した後、レンズ86ζこよりその後
側焦点位置151に集光させる。焦点位置151にはピ
ンホール87が設置されており、第2因に示すようにス
ポットのピーク部160の周辺fこ存在する高次回折光
成分161a及び161b8m光する。その結果、ピン
ホール87通過直後の光強度分布は第6図1こ示すよう
に、ピーク部160だけaなる。焦点位置151はレン
ズ88 (/J前側焦点位置となっているので、ピンホ
ール87通過後の光点からの光は、レンズ88通過後再
びS偏光の平行光となる。この平行光は偏光ビームスプ
リッタ89で反射された後、λ/4板90ヲ通過後円偏
光となり、対物レンズ100の前側焦点位@152、す
なわち試料170上で再び第6図1こ示すと同様の光強
度分布をもつ光点となる。すなわち、レンズ88と対物
レンズ100は共焦点の関係にある。
試料170上の集光部162において生じた熱歪波ζこ
より超音波が発生し、同時に試料表面に微小変位が生じ
る。
より超音波が発生し、同時に試料表面に微小変位が生じ
る。
従って、試料170力)らの反射光にはこの微小変位が
位相情報として含まれる。反射光(ま対物レンズ100
.λ/4板9板金0過後P偏光となり、偏光ビームスプ
リッタ898透過し、さらに偏光ビームスプリンタ10
7を透過する。
位相情報として含まれる。反射光(ま対物レンズ100
.λ/4板9板金0過後P偏光となり、偏光ビームスプ
リッタ898透過し、さらに偏光ビームスプリンタ10
7を透過する。
一方、音響光学変調素子82から出射した1次回折光は
、ミラー83及び102で反射した後、ビームエキスパ
ンダ105により所望のビーム径に拡大した後、レンズ
1041こよりその後側焦点位1t152に集光させる
。焦点位[152iこはピンホール105が設置されて
おり、上記と同様、第2図に示すようfこスポットのピ
ーク部160の周辺に存在Tる高次回折光成分161a
及び161bを遮光する。その結果、ピンホール105
通過直後の光強度分布は第5図Eこ示すようiこ、ピー
ク部160だけとなる。焦点位[152はレンズ106
の前側焦点位置となっているので、ピンホール105通
過後の光点力1らの光は、レンズ106通過後再びS偏
光の平行光となり、偏光ビームスプリッタ107で反射
される。第4図の120は第1の実施例と同様、試料1
70力1らの反射光の偏光方向を、121は上記偏光ビ
ームスプリッタ107での反射光の4JA元方向を示し
ている。両者は互いfこ直交しているのでこのままでは
干渉しない。し力)し、偏光板1088元路に挿入し、
その偏光方向8第4図の121に示すようiこ、45°
方向とするこaIこより両反射光は干渉する。この干渉
パターンには、試料表面で生じた微小変位の位相情報が
含まれており、これをレンズ1o91こよりその後側焦
点位置210に集光し、ホトダイオード等の光電変換素
子111で検出する。また、第1(/J実施例と同様後
側焦点位置210にピンホール110−’)設置し、対
物レンズ100内で発生した迷光や試料上の透明幕g内
で発生した干渉成分やあるいは試料表面の微小な凹凸に
より発生した高次回折光成分8辿元する。以上述べたよ
う(こ、このヘテロダイン型マツハ・ツエンダ干渉計は
、レンズ1o6.対物レンズ100.レンズ109が総
て共焦点の関係にある。光を変侠された干渉強度信号I
Dはレーザの出力−)Iとして(2)式で与えられる。
、ミラー83及び102で反射した後、ビームエキスパ
ンダ105により所望のビーム径に拡大した後、レンズ
1041こよりその後側焦点位1t152に集光させる
。焦点位[152iこはピンホール105が設置されて
おり、上記と同様、第2図に示すようfこスポットのピ
ーク部160の周辺に存在Tる高次回折光成分161a
及び161bを遮光する。その結果、ピンホール105
通過直後の光強度分布は第5図Eこ示すようiこ、ピー
ク部160だけとなる。焦点位[152はレンズ106
の前側焦点位置となっているので、ピンホール105通
過後の光点力1らの光は、レンズ106通過後再びS偏
光の平行光となり、偏光ビームスプリッタ107で反射
される。第4図の120は第1の実施例と同様、試料1
70力1らの反射光の偏光方向を、121は上記偏光ビ
ームスプリッタ107での反射光の4JA元方向を示し
ている。両者は互いfこ直交しているのでこのままでは
干渉しない。し力)し、偏光板1088元路に挿入し、
その偏光方向8第4図の121に示すようiこ、45°
方向とするこaIこより両反射光は干渉する。この干渉
パターンには、試料表面で生じた微小変位の位相情報が
含まれており、これをレンズ1o91こよりその後側焦
点位置210に集光し、ホトダイオード等の光電変換素
子111で検出する。また、第1(/J実施例と同様後
側焦点位置210にピンホール110−’)設置し、対
物レンズ100内で発生した迷光や試料上の透明幕g内
で発生した干渉成分やあるいは試料表面の微小な凹凸に
より発生した高次回折光成分8辿元する。以上述べたよ
う(こ、このヘテロダイン型マツハ・ツエンダ干渉計は
、レンズ1o6.対物レンズ100.レンズ109が総
て共焦点の関係にある。光を変侠された干渉強度信号I
Dはレーザの出力−)Iとして(2)式で与えられる。
より=工R十工s+2V7TRJ丁B cos (2π
fBt−4+rδ(t)/λ+φ(t) )
(2)但し、δ(t)= A
co 82πfutここで、IRは偏光ビームスプリッ
タ107で反射した1次回折光の強度、 Isfま試料
170で反射し偏光ビームスプリッタ107を透過した
光の強度+ fBは音響光学変調素子82の変調周波数
、δ(1)は試料170上の微小変位、Aは試料の材質
に固有の定数。
fBt−4+rδ(t)/λ+φ(t) )
(2)但し、δ(t)= A
co 82πfutここで、IRは偏光ビームスプリッ
タ107で反射した1次回折光の強度、 Isfま試料
170で反射し偏光ビームスプリッタ107を透過した
光の強度+ fBは音響光学変調素子82の変調周波数
、δ(1)は試料170上の微小変位、Aは試料の材質
に固有の定数。
fll(工試料170内で発生した超音波の周波数、φ
(1)(ま干渉計内の光路差に基づく位相、λはレーザ
81Q)発振波長である。この干渉強度信号■Dはプリ
アンプ112で増幅された後、ロックインアンプ114
に送られる。ロックインアンプ114では、音響光学変
調素子82の駆動ζこ用いる発振器115からの変調周
波数信号を参照信号として、干渉強度信号に含まn、る
変調周波数成分δ(1)及び位相成分が抽出される。こ
の周波数成分及び位相成分がその周波数jこ応じた試料
の表面あるいは内部の情報をもつ。
(1)(ま干渉計内の光路差に基づく位相、λはレーザ
81Q)発振波長である。この干渉強度信号■Dはプリ
アンプ112で増幅された後、ロックインアンプ114
に送られる。ロックインアンプ114では、音響光学変
調素子82の駆動ζこ用いる発振器115からの変調周
波数信号を参照信号として、干渉強度信号に含まn、る
変調周波数成分δ(1)及び位相成分が抽出される。こ
の周波数成分及び位相成分がその周波数jこ応じた試料
の表面あるいは内部の情報をもつ。
従って、試料内部にクランク等の欠陥があれば、干渉強
度信号中の変調周波数成分及び位相成分に13号変化が
現れ、その存在を知ることができる。
度信号中の変調周波数成分及び位相成分に13号変化が
現れ、その存在を知ることができる。
XYステージ29の移動信号上ロックインアンプ114
力)らの出力信号は計算機115で処理され、試料上の
各点における大音響信号がモニタTV等の表示器116
に出力される。
力)らの出力信号は計算機115で処理され、試料上の
各点における大音響信号がモニタTV等の表示器116
に出力される。
自動焦点系430の構成とその機能は、第1図(こ示、
す第1の実施例と全く同じであり、説明は省略するO 本実施例によれば、第10J実施例と同様、変調レーザ
照射光学系を共焦点光学系とするCとζこより、周辺部
に高次回折光成分の存在しない微小なスポット光を試料
上ζこ照射することがでと、光音響信号の横方向分解能
ご検出感度を向上させることができる。また、マツハ・
ツエンダ干渉計を共焦点光学系とするこ♂により、高精
度な自動焦点機能を付加Tることが可能となり、凹凸の
ある試料表面上fこ常に安定にレーザ光を集光すること
がでと、光音響信号すなわち干渉強度信号の横方向分解
能、検出感度及びSN比が向上する。
す第1の実施例と全く同じであり、説明は省略するO 本実施例によれば、第10J実施例と同様、変調レーザ
照射光学系を共焦点光学系とするCとζこより、周辺部
に高次回折光成分の存在しない微小なスポット光を試料
上ζこ照射することがでと、光音響信号の横方向分解能
ご検出感度を向上させることができる。また、マツハ・
ツエンダ干渉計を共焦点光学系とするこ♂により、高精
度な自動焦点機能を付加Tることが可能となり、凹凸の
ある試料表面上fこ常に安定にレーザ光を集光すること
がでと、光音響信号すなわち干渉強度信号の横方向分解
能、検出感度及びSN比が向上する。
また、本実施例では、レーザが1つであるため光学系の
構成が簡単(こなるという利点さ、参照ミラーを使わな
いマツハ・ツエンダ干渉計を採用しているため、振動等
(υ外乱に強いという利点を有している。
構成が簡単(こなるという利点さ、参照ミラーを使わな
いマツハ・ツエンダ干渉計を採用しているため、振動等
(υ外乱に強いという利点を有している。
本発明ζこよれば、変調レーザ照射光学系及び干渉計を
認て共焦点光学系とすることにより、光音響信号の横方
向分解能、検出感度及びSN比が向上すると共に、表面
に凹凸のある試料への適用もEl能となり、試料の表面
及び内部情報の高精度針側か実現できるおいつ効果を有
する。
認て共焦点光学系とすることにより、光音響信号の横方
向分解能、検出感度及びSN比が向上すると共に、表面
に凹凸のある試料への適用もEl能となり、試料の表面
及び内部情報の高精度針側か実現できるおいつ効果を有
する。
第1図は本発明の第1の実施例における光音響検出光学
系を示す図、第2図はレーザスポットの高次回折光成分
がピンホールにより遮光される様子を示す図、第5図は
ピンホール通過直後の光強度分布を示す図、第4図は偏
光板の偏光方向・?示す図、第5図は凹凸のある試料表
面上にレーザ光が集光する因、第6図は本発明の第2の
実施例における光音響検出光学系を示す図、第7図は従
来の光音響検出光学系を示す図、第8図(エレーザスポ
ットの光強度分布を示す図である。 1 、 7.21.31.81・・・レーザ2 、22
.82・・・音響光学変調素子25、34.40.87
. 105 、 110・・・ピンホール28、100
・・・対物レンズ 58・・・参照ミラー 15、41.45.Δ8.111・・・光電変換素子i
6.51.1j4・・・ロックインアンプ17、52.
115・・・計算機 17、170・・・試料 第2図 第30 ?5 ビシホール 60−m−ピーク部 161α、 161 b−一一一高次回折兄成分第7図 13−発電変換素チ j6−ロツクイシ?′/7 ]ワ 討寛器 第8図 19−一一一ピーク部 20a、20b−一一高次回折光戒分
系を示す図、第2図はレーザスポットの高次回折光成分
がピンホールにより遮光される様子を示す図、第5図は
ピンホール通過直後の光強度分布を示す図、第4図は偏
光板の偏光方向・?示す図、第5図は凹凸のある試料表
面上にレーザ光が集光する因、第6図は本発明の第2の
実施例における光音響検出光学系を示す図、第7図は従
来の光音響検出光学系を示す図、第8図(エレーザスポ
ットの光強度分布を示す図である。 1 、 7.21.31.81・・・レーザ2 、22
.82・・・音響光学変調素子25、34.40.87
. 105 、 110・・・ピンホール28、100
・・・対物レンズ 58・・・参照ミラー 15、41.45.Δ8.111・・・光電変換素子i
6.51.1j4・・・ロックインアンプ17、52.
115・・・計算機 17、170・・・試料 第2図 第30 ?5 ビシホール 60−m−ピーク部 161α、 161 b−一一一高次回折兄成分第7図 13−発電変換素チ j6−ロツクイシ?′/7 ]ワ 討寛器 第8図 19−一一一ピーク部 20a、20b−一一高次回折光戒分
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、光源と、該光源からの光を所望の周波数で強度変調
する変調手段と、変調された光を試料上に集光する集光
手段と、試料で発生した光音響効果を光干渉により検出
する光干渉検出手段と、該光干渉検出手段により検出さ
れた光干渉信号の中から試料の表面及び内部情報を抽出
する情報抽出手段から成る光音響信号検出装置において
、上記集光手段及び光干渉検出手段を共焦点光学系とし
て構成することを特徴とする光音響信号検出装置。 2、光源と、該光源からの光を所望の周波数で強度変調
する変調手段と、変調された光を試料上に集光する集光
手段と、試料で発生した光音響効果を光干渉により検出
する光干渉検出手段と、該光干渉検出手段により検出さ
れた光干渉信号の中から試料の表面及び内部情報を抽出
する情報抽出手段から成る光音響信号検出装置において
、上記集光手段により試料上に形成された光スポット径
が常に同じ大きさとなるよう、試料もしくは集光手段を
調節する手段を設けたことを特徴とする光音響信号検出
装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63185597A JP2718705B2 (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 光音響信号検出方法及びその装置 |
US07/384,541 US5083869A (en) | 1988-07-27 | 1989-07-24 | Photocoustic signal detecting device |
DE68921518T DE68921518T2 (de) | 1988-07-27 | 1989-07-27 | Vorrichtung zur Detektion eines photoakustischen Signals. |
EP89113875A EP0352789B1 (en) | 1988-07-27 | 1989-07-27 | Photoacoustic signal detecting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63185597A JP2718705B2 (ja) | 1988-07-27 | 1988-07-27 | 光音響信号検出方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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