JPH0230768A - 無電解めっき用前処理液 - Google Patents

無電解めっき用前処理液

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JPH0230768A
JPH0230768A JP17841288A JP17841288A JPH0230768A JP H0230768 A JPH0230768 A JP H0230768A JP 17841288 A JP17841288 A JP 17841288A JP 17841288 A JP17841288 A JP 17841288A JP H0230768 A JPH0230768 A JP H0230768A
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JP
Japan
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alkali
hydroxide
plating
complexing agent
electroless plating
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Application number
JP17841288A
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English (en)
Inventor
Takao Takita
隆夫 滝田
Takeshi Shimazaki
嶋崎 威
Satoshi Akazawa
赤沢 諭
Akio Takahashi
昭男 高橋
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Resonac Corp
Original Assignee
Hitachi Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、無電解めっき用前処理液に関するものであり
、特に印刷配線板の無電解めっき用前処理液に関するも
のである。
(従来の技術) 印刷配線板は、銅張り又は銅のない積層板を穴明けの後
、無電解めっきを行うことによって製造される。
従来、無電解銅めっき前処理工程としては、アルカリ脱
脂工程、コンディショニング工程、表面銅箔のあるもの
はソフトエソチング工程、酸洗工程、増感工程(Pd−
3n) 、密着促進工程の順で処理される。
無電解めっきの前処理液としての密着促進剤の働きは、
増感工程で処理された基板及び絶縁材表面上の錫イオン
(α−錫酸)層を除去すると共にSn”°とPd”°と
の間に分子内酸化還元反応を促進させて基板及び絶縁材
表面にパラジウム金属の活性触媒(Pd’)核を生成さ
せることにある。
(発明が解決しようとする問題点) しかしながら、従来の前処理WL(密着促進剤、アクセ
レレータとも言う)の主成分は、塩酸、硫酸の酸である
が、これらは、促進剤処理後の空中放置時間が長いと基
板銅箔の酸化を促進させ、表面に酸化物を形成させ、ザ
ラツキや密着不良の原因となることがある。また、これ
らの酸は銅溶解力も高い為、液中の銅濃度の増加を早め
寿命を短くする欠点も有していた。また、その他のフッ
酸、ホウフッ化水素酸等のフッ化物を主成分とする促進
剤で処理した基材は、ガラス布部へのめっきカバーリン
グ性が悪い欠点を有しておりこれにより、半田揚げ試験
でのブローホールの発生率が高いという問題があった。
本発明は、このような問題点を解決し、めっきつき回り
性と長寿命化の両方を満足する無電解めっき用前処理液
である。
(問題点を解決するための手段) 本発明は、鋭意研究を重ねた結果、アルカリ水酸化物と
金属錯化剤とハロゲン化アルカリ金属塩を成分とする処
理液がめつきつき回り性と長寿命化の両方を満足すると
いう知見に基づいてなされたものである。
本発明に使用できるアルカリ水酸化物とは、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム等の水酸化物
である。
また、金属錯化剤としては、酒石酸またはその塩、エチ
レンジアミン四酢酸又はその塩、トリエタノールアミン
、モノエタノールアミン、グリコン酸ナトリウム、クエ
ン酸、エチレンジアミンテトラ−2−プロパノールなど
が挙げられる。これらの中でも、廃液処理の面の容易さ
から酒石酸又はその塩が好ましい。
ハロゲン化アルカリ塩としては、NaF、NHa Br
、、NaBr、KBr、Na r、、KT、K cl、
Naclが挙げられる。これらの中でNaBr、KBr
などが好ましい、尚、これらのハロゲン化アルカリ塩は
1種単独で用いても良く、2種以上組み合わせて用いて
も良い。
本発明の無電解銅めっき法用前処理液は、前記アルカリ
水酸化物(A成分)と前記金属錯化剤(C成分)と前記
はハロゲン化アルカリ塩(C成分)を含む水溶液によっ
て得ることができる。
この前処理液中の前記(A成分)、(C成分)及び(C
成分)の濃度は1常次の範囲に設定すれば良い。すなわ
ち、(A成分)の濃度を好ましくは、0.05 g/l
〜45g/lとしくC成分)は、0.5g/j’〜45
 g/lとしくC成分)は、0.5g71〜30g/l
とする。ここで、上記各成分の濃度は、各成分について
2種類以上のものを用いる場合には、その合計量から計
算される値とする。上記各成分の濃度が前記の範囲にな
いと無電解めっき前処理液として使用した際に、基材の
銅箔と電気めっき間で密着不良を生じたり、スルーホー
ル内壁のガラス布部へのめっきつき回りが悪い為にめっ
きボイドや、半田揚げ試験でのブローホールの原因とな
る。
本発明の前処理液を使用するに当って、例えば次のよう
に用いられる。銅張積層板に必要に応して穴明けを行っ
た後にアルカリ脱脂−水洗−コンディショニング−水洗
−ソフトエツチング−水洗−酸洗一水洗一ブリディップ
ー増悪剤−水洗−密着促進剤(本発明)−水洗−無電解
銅めっき液の工程順で行われる。印刷配線板の製造に当
っては、上記の無電解銅めっきを行った基板に、さらに
電解銅めっき工程、ラミネート工程、焼付・露光工程、
エソチング工程、レジスト剥離工程の常法の処理を施し
て印刷配線板を得ることができる。
(作用) 本発明の前処理液を用いると、アルカリ水酸化物が主成
分なので、塩酸等の酸系密着促進剤にみられる金属の溶
解、腐食性が少なく液寿命が長くできる。また、増感工
程で処理された基板及び基材表面の錫イオン(α錫酸)
Nを十分に除去することができる。このため、スルーホ
ール内壁のガラス布部へのめっきつき回り性に優れ、基
材銅箔と電気めっき間での密着力を向上させることがで
きる。また、ガラス布部へのめっきつき回り性が良いた
め、ブローホールの発生の少ない印刷配線板を製造でき
る。
各成分の作用機構については、次のように考えることが
できる。すなわち、本発明の前処理液中のアルカリ水酸
化物は、錫イオン層を除去する。
つまり(Pd−3n−CI)錯体中のSnはPdを被覆
(H,5nOs層)し、Pdの触媒活性を阻害する為、
Snの錯化剤が必要となる。アルカリ水酸化物(OH−
)はSnとの錯化剤として作用するものと考えられる。
前記の金属錯化剤は、銅張積層板等の基板から溶解する
金属イオン(Cu ”)の水酸化物の生成を防止し基板
上に再付着しないように用いる。
前記のハロゲン化アルカリ金属塩はアルカリ水酸化物と
同じ作用をもつSnとの錯化剤である。
このハロゲン化アルカリ塩は、アルカリ性で作用効果が
あり、特にガラス布部へのめっきつき回りの点で単独の
アルカリ水酸化物より優れている。
つまり、Pdを被覆しているH、SnQ、を完全に除去
するには、アルカリ水酸化物とハロゲン化アルカリ塩が
有効であり、その相乗効果で優れためっきつき回り性を
得ると考えられる。
実施例1 ガラスクロス(50X5)及び両面銅張積層板FR−4
(50X100m麿、1.6Lで1.0φの1′リルで
穴明けしたもの)をパフ研磨、ホーニングで処理した後
、クリーナーコンディショナーCLC−201(日立化
成工業株式会社、商品名)に浸漬して脱脂及びコンディ
ショニング処理を行い、水洗し、200g/j!の過硫
酸アンモニウムに浸漬してソフトエツチングを行い10
%H、SO,で酸洗し、270 g/lのブリデイツプ
液Pd−201(日立化成工業株式会社、商品名)に浸
漬処理し、増感剤後H3−201B(日立化成工業株式
会社、商品名)に浸漬処理を行い、その後、NaOH:
10g//!、酒石酸カリウムナトリウム(ロッセル塩
):5g/l、NaBr:lOg/lを含む水溶液の密
着促進剤に常温下で5分間浸漬した。基板の腐食性(酸
化状況)に当っては、空中での放置時間を10秒、20
秒、40秒、60秒に放置し基板表面の外観の変化を観
察した。
めっきつき回り性に当っては、その後、水洗後、無電解
銅めっき液CUST−201(日立化成工業株式会社、
商品名)に浸漬処理してめっきを施した。
ガラスクロスは、3分又は5分間めっきを施し、スルー
ホール基板は、15分間めっきを施した。
ガラスクロスは、めっき液、硝酸で銅を熔解後、原子吸
光法で定量した。スルーホール基板は、めっき後、断面
で切断し、バンクライトテストにより無電解銅めっきの
カバーリング性を評価した。
腐食性については、 ○:基板の変色及び錆の発生なし △:わずかに変色又はわずかに錆の発生有り×:紫黄色
に変色又は錆の発生有り の評価とし、バフクライトテストとしては、A:不透過 B:5%以上の透光量 C:20%以上の透光量 D:50%以上の透光量 の評価とした。結果は第1表に示す。
実施例2 密着促進剤として、NaOH:5g/j!、酒石酸カリ
ウムナトリウム:5g/j!、Kr:1g/lを含む水
溶液を用いた以外は、実施例1と同様とした。
実施例3 密着促進剤として、LiOH:3g/l、トリエタノー
ルアミン: 5g/l NaBr : 3g/lを含む
水溶液を用いた以外は、実施例1と同様とした。
比較例1 密着促進剤として、塩酸(35%)ニア0mf/1とホ
ウフッ化水素酸(42%):35mg/pを含む水溶液
を用いた以外は、実施例1と同様とした。
比較例2 密着促進剤として、ホウフッ化水素酸:35m1/eを
含む水溶液を用いた以外は、実施例1と同様とした。
比較例3 密着促進剤として、NaOH:5g/l、酒石酸カリウ
ムナトリウム:5g/lを含む水溶液を用いた以外は、
実施例1と同様とした。
比較例4 密着促進剤として、Hz So、:  (98%)10
 m l / 1、NaBr:10g/lを含む水溶液
を用いた以外は、実施例1と同様とした。
(以下余白) 第1表 (発明の効果) 本発明によって、非腐食性で液寿命が長く、印刷配線板
用基板の基材へのめっきつき回り性に優れ、印刷配線板
の品質を高めることができる無電解めっき用前処理液を
提供することができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、アルカリ水酸化物と金属錯化剤及びハロゲン化アル
    カリ金属塩からなる無電解めっき用前処理液。 2、アルカリ水酸化物が水酸化ナトリウム、水酸化カリ
    ウム、又は水酸化リチウムである特許請求の範囲第1項
    記載の無電解めっき用前処理液。 3、金属錯化剤が酒石酸又はその塩、エチレンジアミン
    四酢酸又はその塩、エチレンジアミンテトラ−2−プロ
    パノール、トリエタノールアミン、モノエタノールアミ
    ン、グリコン酸ナトリウム、クエン酸、又はそれらの混
    合物である特許請求の範囲第1項記載の無電解めっき用
    前処理液。 4、ハロゲン化アルカリ金属塩がフッ化ナトリウム、臭
    化アンモニウム、臭化ナトリウム、臭化カリウム、ヨウ
    化カリウム、ヨウ化ナトリウム、塩化ナトリウム、塩化
    カリウム又はそれらの混合物である特許請求の範囲第1
    項記載の無電解めっき用前処理液。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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