JPH02298350A - 芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒 - Google Patents
芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒Info
- Publication number
- JPH02298350A JPH02298350A JP1120696A JP12069689A JPH02298350A JP H02298350 A JPH02298350 A JP H02298350A JP 1120696 A JP1120696 A JP 1120696A JP 12069689 A JP12069689 A JP 12069689A JP H02298350 A JPH02298350 A JP H02298350A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- catalyst
- acid
- hydroxylation reaction
- reaction
- aromatic compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 title claims abstract description 55
- 238000005805 hydroxylation reaction Methods 0.000 title claims abstract description 26
- 150000001491 aromatic compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 19
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims abstract description 17
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 7
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims abstract description 4
- MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N Hydrogen peroxide Chemical compound OO MHAJPDPJQMAIIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 32
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 claims description 2
- -1 aromatic hydroxyl compound Chemical class 0.000 abstract description 16
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 16
- 239000010936 titanium Substances 0.000 abstract description 8
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical group [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 5
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- 230000033444 hydroxylation Effects 0.000 abstract description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910001868 water Inorganic materials 0.000 description 11
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 9
- 238000010306 acid treatment Methods 0.000 description 8
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 6
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000000640 hydroxylating effect Effects 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005210 alkyl ammonium group Chemical group 0.000 description 3
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 3
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 3
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 3
- 238000001027 hydrothermal synthesis Methods 0.000 description 3
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 2-isopropylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1O CRBJBYGJVIBWIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 3-Ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=CC(O)=C1 HMNKTRSOROOSPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLJSLTNSFSOYQR-UHFFFAOYSA-N 3-propan-2-ylphenol Chemical compound CC(C)C1=CC=CC(O)=C1 VLJSLTNSFSOYQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 4-ethylphenol Chemical compound CCC1=CC=C(O)C=C1 HXDOZKJGKXYMEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N Cu2+ Chemical compound [Cu+2] JPVYNHNXODAKFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 238000000748 compression moulding Methods 0.000 description 2
- 229910001431 copper ion Inorganic materials 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N perchloric acid Chemical compound OCl(=O)(=O)=O VLTRZXGMWDSKGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 2
- 239000000376 reactant Substances 0.000 description 2
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 2
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M tetrapropylazanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCC[N+](CCC)(CCC)CCC LPSKDVINWQNWFE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000003609 titanium compounds Chemical class 0.000 description 2
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N triflic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 2-(2-phenylpropan-2-yl)phenol Chemical compound C=1C=CC=C(O)C=1C(C)(C)C1=CC=CC=C1 CJWNFAKWHDOUKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004204 2-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C(OC([H])([H])[H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000004305 biphenyl Substances 0.000 description 1
- 235000010290 biphenyl Nutrition 0.000 description 1
- 125000006267 biphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4-ol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=CC=C1 YXVFYQXJAXKLAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 1
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 1
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N dihydroxy(oxo)silane Chemical compound O[Si](O)=O IJKVHSBPTUYDLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005906 dihydroxylation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 229910000856 hastalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012456 homogeneous solution Substances 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 238000004811 liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000006606 n-butoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001298 n-hexoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 125000001280 n-hexyl group Chemical group C(CCCCC)* 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001971 neopentyl group Chemical group [H]C([*])([H])C(C([H])([H])[H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 description 1
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N phenylbenzene Natural products C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ZUOUZKKEUPVFJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002798 polar solvent Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000003672 processing method Methods 0.000 description 1
- HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N propan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound CCCO[Ti](OCCC)(OCCC)OCCC HKJYVRJHDIPMQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011973 solid acid Substances 0.000 description 1
- 239000011949 solid catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003460 sulfonic acids Chemical class 0.000 description 1
- 230000002194 synthesizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001973 tert-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229940095070 tetrapropyl orthosilicate Drugs 0.000 description 1
- ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N tetrapropyl silicate Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)OCCC ZQZCOBSUOFHDEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒に
関する。さらに詳しくは本発明の触媒はペンタシル型チ
タノシリケートを含むものであり、この触媒は、芳香族
化合物をヒドロキシル化して有用化合物である芳香族ヒ
ドロキシル化合物を高収率で生成することができるもの
である。
関する。さらに詳しくは本発明の触媒はペンタシル型チ
タノシリケートを含むものであり、この触媒は、芳香族
化合物をヒドロキシル化して有用化合物である芳香族ヒ
ドロキシル化合物を高収率で生成することができるもの
である。
過酸化水素を酸化剤として芳香族化合物を直接ヒドロキ
シル化し、芳香族ヒドロキシル化合物を製造する方法と
しては、鉄または銅イオンを触媒とするフェントン反応
がよく知られている[J。
シル化し、芳香族ヒドロキシル化合物を製造する方法と
しては、鉄または銅イオンを触媒とするフェントン反応
がよく知られている[J。
pract、Chem、、 152巻、46頁(19
39年)〕。
39年)〕。
しかしながら、鉄または銅イオンの触媒存在下では種々
の副反応が起こり、芳香族ヒドロキシル化合物の収率を
低下せしめる欠点がある。また、他に、触媒として過塩
素酸などの強酸を用いて過酸化水素で酸化する方法(特
公昭56−47891号)、あるいは触媒として二酸化
イ才つを使用し且つ高濃度過酸化水素(90%以上)を
用いる方法(特開昭59−170025号)など、芳香
族ヒドロキシル化合物の収率を向上させる試みが提案さ
れている。しかし、いずれも触媒として用いた酸を反応
生成物から分離することが煩雑であり、更にこのような
高濃度過酸化水素を工業的プロセスにおいて使用するこ
とは安全上必ずしも望ましくはない。
の副反応が起こり、芳香族ヒドロキシル化合物の収率を
低下せしめる欠点がある。また、他に、触媒として過塩
素酸などの強酸を用いて過酸化水素で酸化する方法(特
公昭56−47891号)、あるいは触媒として二酸化
イ才つを使用し且つ高濃度過酸化水素(90%以上)を
用いる方法(特開昭59−170025号)など、芳香
族ヒドロキシル化合物の収率を向上させる試みが提案さ
れている。しかし、いずれも触媒として用いた酸を反応
生成物から分離することが煩雑であり、更にこのような
高濃度過酸化水素を工業的プロセスにおいて使用するこ
とは安全上必ずしも望ましくはない。
一方、触媒としてレア・アース金属を担持した合成ゼオ
ライトを用い芳香族化合物をヒドロキシル化する方法が
報告されている(米国特許3580956号)。この方
法によれば、中性条件下で反応を行うことができ、かつ
固体触媒を使用することで触媒の分離が容易となる利点
がある。しかしながら、目的とする芳香族ヒドロキシル
化合物の選択率は低いものである。また、米国特許43
96783号では、触媒としてペンタシル型チタノシリ
ケートを用いた過酸化水素の直接ヒドロキシル化による
芳香族ヒドロキシル化合物の製造方法が開示されている
。
ライトを用い芳香族化合物をヒドロキシル化する方法が
報告されている(米国特許3580956号)。この方
法によれば、中性条件下で反応を行うことができ、かつ
固体触媒を使用することで触媒の分離が容易となる利点
がある。しかしながら、目的とする芳香族ヒドロキシル
化合物の選択率は低いものである。また、米国特許43
96783号では、触媒としてペンタシル型チタノシリ
ケートを用いた過酸化水素の直接ヒドロキシル化による
芳香族ヒドロキシル化合物の製造方法が開示されている
。
ここで示されるペンタシル型チタノシリケートはZSM
−5などと同種のペンタシル型の立体構造を有する。し
かしながら、本発明者らの検討によれば、上記米国特許
に記載の方法に従い合成してペンタシル型チタノシリケ
ートを触媒として用い芳香族化合物のヒドロキシル化反
応を試みたが、満足な収率を得ることができなかった。
−5などと同種のペンタシル型の立体構造を有する。し
かしながら、本発明者らの検討によれば、上記米国特許
に記載の方法に従い合成してペンタシル型チタノシリケ
ートを触媒として用い芳香族化合物のヒドロキシル化反
応を試みたが、満足な収率を得ることができなかった。
その理由は必ずしも明かではないが、チタノシリケート
中のチタニウムまたはケイ素の一部が結晶格子内に取り
込まれずに、別種の形態で存在するためと考えられる。
中のチタニウムまたはケイ素の一部が結晶格子内に取り
込まれずに、別種の形態で存在するためと考えられる。
上記のように、過酸化水素で芳香族化合物を直接ヒドロ
キシル化し、芳香族ヒドロキシル化合物を高収率で製造
する収率は従来知られていない。
キシル化し、芳香族ヒドロキシル化合物を高収率で製造
する収率は従来知られていない。
そこで、本発明の目的は、芳香族化合物を高転化率で直
接核ヒドロキシル化して、高収率で芳香族ヒドロキシル
化合物を製造できる触媒を提供することにある。
接核ヒドロキシル化して、高収率で芳香族ヒドロキシル
化合物を製造できる触媒を提供することにある。
本発明は、酸処理したペンタシル型チタノシリケートを
含む芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒に関する
。
含む芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒に関する
。
以下、本発明について説明する。
従来、ゼオライトは狭義には結晶性のアルミノシリケー
トを指す。しかし、近年ゼオライト中のアルミニウムを
他の金属元素等で置換した構造を有する化合物、すなわ
ちメタロシリケートと呼称される物質が知られるように
なってきた。このようなメタロシリケートも従来のアル
ミノシリケートと類似の結晶構造を有し、広義にはゼオ
ライトの一種として認識される。アルミノシリケートは
アルミニウム元素に基づく固体酸触媒機能が主たる特徴
であるのに対して、メタロシリケートの特徴は含有され
る金属元素警こ由来して各々特異な触媒機能を有するこ
とにある。
トを指す。しかし、近年ゼオライト中のアルミニウムを
他の金属元素等で置換した構造を有する化合物、すなわ
ちメタロシリケートと呼称される物質が知られるように
なってきた。このようなメタロシリケートも従来のアル
ミノシリケートと類似の結晶構造を有し、広義にはゼオ
ライトの一種として認識される。アルミノシリケートは
アルミニウム元素に基づく固体酸触媒機能が主たる特徴
であるのに対して、メタロシリケートの特徴は含有され
る金属元素警こ由来して各々特異な触媒機能を有するこ
とにある。
本発明に示す芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒
は、ペンタシル型チタノシリケートを酸処理して製造さ
れるもの、即ち結晶性アルミノシリケートのアルミニウ
ムをチタニウムで置換したペンタシル型チタノシリケー
トを酸処理した触媒である。このペンタシル型チタノシ
リケートは米国特許4396783号に記載の方法で製
造される。以下にその製造法を示す。
は、ペンタシル型チタノシリケートを酸処理して製造さ
れるもの、即ち結晶性アルミノシリケートのアルミニウ
ムをチタニウムで置換したペンタシル型チタノシリケー
トを酸処理した触媒である。このペンタシル型チタノシ
リケートは米国特許4396783号に記載の方法で製
造される。以下にその製造法を示す。
シリカ源、チタニウム源、及び水酸化アルキルアンモニ
ウムを反応体のモル化SiO2/TiO2が0.5〜3
00の範囲、より好ましくはSiO,/Ti021〜2
00の範囲で、また、SI[]2/水酸化アルキルアン
モニウムが0.5〜10、H20/5L02 10〜2
00の範囲で混合し、加水分解させる。この加水分解を
進行させるには、好ましくは0〜120℃、より好まし
くは20〜100℃で、0.1〜20時間の範囲で撹拌
する。また、その際、加水分解を円滑に進行させるため
に、生成するアルコールを除去しながら行うこともでき
る。また、必要に応じて酸あるいはアルカリを触媒とし
て用いることが可能である。このようにして加水分解さ
れたゲルは均一になり、必要に応じて水を添加し、水熱
合成に付される。水熱合成処理は、60〜300℃の範
囲で行うことが好ましく、より好ましくは100〜25
0℃の範囲で加熱しつつ、1〜100時間撹拌する。こ
のようにして水熱合成処理されて結晶化したペンタシル
型チタノシリケートはイオン交換水で充分に洗浄した後
、高温(例えば300〜700℃)で2〜20時間熱処
理するこ吉により、本発明の原料となるペンタシル型チ
タノシリケートを得ることができる。
ウムを反応体のモル化SiO2/TiO2が0.5〜3
00の範囲、より好ましくはSiO,/Ti021〜2
00の範囲で、また、SI[]2/水酸化アルキルアン
モニウムが0.5〜10、H20/5L02 10〜2
00の範囲で混合し、加水分解させる。この加水分解を
進行させるには、好ましくは0〜120℃、より好まし
くは20〜100℃で、0.1〜20時間の範囲で撹拌
する。また、その際、加水分解を円滑に進行させるため
に、生成するアルコールを除去しながら行うこともでき
る。また、必要に応じて酸あるいはアルカリを触媒とし
て用いることが可能である。このようにして加水分解さ
れたゲルは均一になり、必要に応じて水を添加し、水熱
合成に付される。水熱合成処理は、60〜300℃の範
囲で行うことが好ましく、より好ましくは100〜25
0℃の範囲で加熱しつつ、1〜100時間撹拌する。こ
のようにして水熱合成処理されて結晶化したペンタシル
型チタノシリケートはイオン交換水で充分に洗浄した後
、高温(例えば300〜700℃)で2〜20時間熱処
理するこ吉により、本発明の原料となるペンタシル型チ
タノシリケートを得ることができる。
この際、酸処理時に除去することが可能な他の元素(例
えばアルミニウムなど)を反応体に添加してもよく、実
質的にバイメタルシリケートが生成しても差し支えない
。このように他の元素を反応体に添加することは、結晶
成長を早め、また、粒子の形状、大きさの調整が可能と
なり、工業化に際しては大きな利点がある。
えばアルミニウムなど)を反応体に添加してもよく、実
質的にバイメタルシリケートが生成しても差し支えない
。このように他の元素を反応体に添加することは、結晶
成長を早め、また、粒子の形状、大きさの調整が可能と
なり、工業化に際しては大きな利点がある。
上記製造法において、シリカ源としてはテトラエチルオ
ルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート等の
けい素アルコキシド、シリカゾル、水ガラスなどが挙げ
られる。チタニウム源としてはテトラエチルオルトチタ
ネート、テトラプロピルオルトチタネート等のチタンア
ルコキシドがあげられる。また、これらのアルコキシド
は千ツマ−でもオリゴマーでも使用できる。水酸化アル
キルアンモニウムとしては、好ましくは水酸化テトラプ
ロピルアンモニウムを使用できる。また、上述のように
チタノシリケート骨格中に他の元素が含有されてもよく
、この際アルミニウムアルコキシドなどが挙げられる。
ルトシリケート、テトラプロピルオルトシリケート等の
けい素アルコキシド、シリカゾル、水ガラスなどが挙げ
られる。チタニウム源としてはテトラエチルオルトチタ
ネート、テトラプロピルオルトチタネート等のチタンア
ルコキシドがあげられる。また、これらのアルコキシド
は千ツマ−でもオリゴマーでも使用できる。水酸化アル
キルアンモニウムとしては、好ましくは水酸化テトラプ
ロピルアンモニウムを使用できる。また、上述のように
チタノシリケート骨格中に他の元素が含有されてもよく
、この際アルミニウムアルコキシドなどが挙げられる。
本発明の触媒を得るためにペンタシル型チタノシリケー
トは酸(無機酸及び/または有機酸)で処理される。酸
処理条件は特に限定されるものではないが、通常酸水溶
液中で実施され、酸の濃度は0.001 mol/ 1
〜4.0 mol/ It 、好ましくは0、01 m
ol/ It 〜3. Omol/ Itとすることが
適当である。これ以下の濃度では本発明に示す触媒効果
は小さく、一方濃度が高過ぎるとチタノシリケートの結
晶性を損ない好ましくない。また処理温度は10〜20
0℃、好ましくは30〜150℃とし、処理時間は30
分〜30時間、好ましくは45分〜20時間が適当であ
る。処理方式はバッチ式が好ましく、固液比は1〜30
(液/固体:重量比)とすることが好ましい。
トは酸(無機酸及び/または有機酸)で処理される。酸
処理条件は特に限定されるものではないが、通常酸水溶
液中で実施され、酸の濃度は0.001 mol/ 1
〜4.0 mol/ It 、好ましくは0、01 m
ol/ It 〜3. Omol/ Itとすることが
適当である。これ以下の濃度では本発明に示す触媒効果
は小さく、一方濃度が高過ぎるとチタノシリケートの結
晶性を損ない好ましくない。また処理温度は10〜20
0℃、好ましくは30〜150℃とし、処理時間は30
分〜30時間、好ましくは45分〜20時間が適当であ
る。処理方式はバッチ式が好ましく、固液比は1〜30
(液/固体:重量比)とすることが好ましい。
酸処理に使用できる酸は、無機酸、有機酸のいずれでも
よい。無機酸としては例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等を挙げることができ、また、有機酸としては、カルボ
ン酸、スルホン酸等を挙lfることができる。特に有機
酸の場合トリフルオロメタンスルホン酸のような超強酸
を使用することもできる。尚、上記と同一内容の処理を
複数回繰り返すこともできる。酸処理を終えたチタノシ
リケートは、脱イオン水で充分洗浄した後、高温(例え
ば、200〜600℃)で約2〜6時間熱処理すること
により本発明の触媒とすることができる。
よい。無機酸としては例えば塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
等を挙げることができ、また、有機酸としては、カルボ
ン酸、スルホン酸等を挙lfることができる。特に有機
酸の場合トリフルオロメタンスルホン酸のような超強酸
を使用することもできる。尚、上記と同一内容の処理を
複数回繰り返すこともできる。酸処理を終えたチタノシ
リケートは、脱イオン水で充分洗浄した後、高温(例え
ば、200〜600℃)で約2〜6時間熱処理すること
により本発明の触媒とすることができる。
本発明の触媒として使用される酸処理ペンタシル型チタ
ノシリケートは、それ自体パウダー状で使用することも
できる。また、圧縮成形することでペレット状、タブレ
ット状などの成形物として使用することもできる。成形
物として使用する場合、結合剤としてアルミナゾル、シ
リカゾルなどを添加して成形物とすることもできる。
ノシリケートは、それ自体パウダー状で使用することも
できる。また、圧縮成形することでペレット状、タブレ
ット状などの成形物として使用することもできる。成形
物として使用する場合、結合剤としてアルミナゾル、シ
リカゾルなどを添加して成形物とすることもできる。
本発明の触媒は極めて熱安定性の高い三次元結晶であり
、ZSM−5、ZSM−11、ZSM−34などと類似
のペンタシル型構造を有している。
、ZSM−5、ZSM−11、ZSM−34などと類似
のペンタシル型構造を有している。
本発明の触媒でヒドロキシル化される芳香族化合物は、
例えば下記一般式(1)で示されるものである。
例えば下記一般式(1)で示されるものである。
〔式中、R1−R5は、それぞれ水素、炭素数1〜6の
アルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、ヒドロキ
シル基またはアリール基を表す〕又、ヒドロキシル化は
、過酸化水素を用いて行われ、反応生成物は下記一般式
(2)で表わされる化合物である。
アルキル基、炭素数1〜6のアルコキシル基、ヒドロキ
シル基またはアリール基を表す〕又、ヒドロキシル化は
、過酸化水素を用いて行われ、反応生成物は下記一般式
(2)で表わされる化合物である。
〔式中のR’−R5は一般式(1)と同義〕−一般式1
)及び(2)中のアルキル基の具体例としては、メチル
、エチル、n−プロピル、1−プロピル、n−ブチル、
l−ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、l−ペンチル、t−ペンチル、ネオペンチル、n−
ヘキシル、1−ヘキシル等を挙げることができる。
)及び(2)中のアルキル基の具体例としては、メチル
、エチル、n−プロピル、1−プロピル、n−ブチル、
l−ブチル、5ec−ブチル、t−ブチル、n−ペンチ
ル、l−ペンチル、t−ペンチル、ネオペンチル、n−
ヘキシル、1−ヘキシル等を挙げることができる。
アルコキシ基の例としては、メトキシ、エトキシ、n−
プロポキシ、l−プロポキシ、n−ブトキシ、!−ブト
キシ、S−ブトキシ、し−ブトキシ、ペンチルオキシ、
!−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ等を挙げるこ
とができる。
プロポキシ、l−プロポキシ、n−ブトキシ、!−ブト
キシ、S−ブトキシ、し−ブトキシ、ペンチルオキシ、
!−ペンチルオキシ、n−へキシルオキシ等を挙げるこ
とができる。
また、アリール基の例としては、フェニル、2−ヒドロ
キシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2−メトキシ
フェニル、4−メトキシフェニノベ2−エトキシフェニ
ル、4−エトキシフェニルを挙げることができる。
キシフェニル、4−ヒドロキシフェニル、2−メトキシ
フェニル、4−メトキシフェニノベ2−エトキシフェニ
ル、4−エトキシフェニルを挙げることができる。
一般式(1)の化合物の具体例としては、ベンゼン、ト
ルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、キシ
レン、フェノール、ハイドロキノン、カテコール、クレ
ゾール、t−ブチルフェノール、クミルフェノール、及
びジフェニル等が挙げられる。
ルエン、エチルベンゼン、イソプロピルベンゼン、キシ
レン、フェノール、ハイドロキノン、カテコール、クレ
ゾール、t−ブチルフェノール、クミルフェノール、及
びジフェニル等が挙げられる。
又、一般式(2)の化合物の具体例としては、フェノー
ル、ハイドロキノン、カテコール、p−クレゾール、m
−クレゾール、0−クレゾール、p−エチルフェノール
、m−エチルフェノール、0−エチルフェノール、p−
イソプロピルフェノール、m−イソプロピルフェノール
、0−イソプロピルフェノール、t−ブチルカテコール
、1,2゜4−ベンゼントリオール、p−フェニルフェ
ノール、4.4’ −ジヒドロキシビフェニルを挙げる
ことができる。
ル、ハイドロキノン、カテコール、p−クレゾール、m
−クレゾール、0−クレゾール、p−エチルフェノール
、m−エチルフェノール、0−エチルフェノール、p−
イソプロピルフェノール、m−イソプロピルフェノール
、0−イソプロピルフェノール、t−ブチルカテコール
、1,2゜4−ベンゼントリオール、p−フェニルフェ
ノール、4.4’ −ジヒドロキシビフェニルを挙げる
ことができる。
本発明の触媒を用いた過酸化水素による芳香族化合物の
ヒドロキシル化反応は液相で、バッチ式、流通式のいず
れでも行うことができる。反応温度は20〜150℃の
範囲とすることが適当であり、より好ましくは50〜1
20℃である。その温度範囲とすることにより過酸化水
素の自己分解が抑制され、触媒の劣化も少ない。また、
圧力は1〜100気圧が好ましい。使用できる溶媒とし
ては、水、炭素数1〜10のアルコール、ケトン、エー
テル、グリコール、ニトリル等の極性溶媒が挙げられる
。アルコールとしてはメタノール、エタノールが好まし
く、ケトンとしてはアセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノンが好ましく、ニトリルとしてはアセトニ
トリルが好ましい。また、過酸化水素の濃度は0.01
〜70重量%の範囲になるようにすることが好ましい。
ヒドロキシル化反応は液相で、バッチ式、流通式のいず
れでも行うことができる。反応温度は20〜150℃の
範囲とすることが適当であり、より好ましくは50〜1
20℃である。その温度範囲とすることにより過酸化水
素の自己分解が抑制され、触媒の劣化も少ない。また、
圧力は1〜100気圧が好ましい。使用できる溶媒とし
ては、水、炭素数1〜10のアルコール、ケトン、エー
テル、グリコール、ニトリル等の極性溶媒が挙げられる
。アルコールとしてはメタノール、エタノールが好まし
く、ケトンとしてはアセトン、メチルエチルケトン、シ
クロヘキサノンが好ましく、ニトリルとしてはアセトニ
トリルが好ましい。また、過酸化水素の濃度は0.01
〜70重量%の範囲になるようにすることが好ましい。
バッチ式の場合、反応時間は0.1〜20時間とするこ
とが好ましい。また、触媒は、反応条件下では安定であ
り、濾過または遠心分離により完全に回収され再使用さ
れる。
とが好ましい。また、触媒は、反応条件下では安定であ
り、濾過または遠心分離により完全に回収され再使用さ
れる。
流通式(固定床)の場合、重量時間空間速度(WH3V
)は、O,1〜50 Hr−’の範囲とすることがセき
る。より好ましくは0.5〜20Hr−’の範囲とする
。WH5Vを1以上とすることで、高い生産性を保持す
ることができ、また、WH3ν20 Hr’以下とする
ことで触媒との接触時間を充分とることができ、高い転
化率が得られるからである。尚、本発明に示すWH8V
とは、触媒(g)当りの単位時間(H[)における芳香
族化合物の供給量(g)を表すものとする。
)は、O,1〜50 Hr−’の範囲とすることがセき
る。より好ましくは0.5〜20Hr−’の範囲とする
。WH5Vを1以上とすることで、高い生産性を保持す
ることができ、また、WH3ν20 Hr’以下とする
ことで触媒との接触時間を充分とることができ、高い転
化率が得られるからである。尚、本発明に示すWH8V
とは、触媒(g)当りの単位時間(H[)における芳香
族化合物の供給量(g)を表すものとする。
本発明のヒドロキシル化反応に使用される過酸化水素の
使用量は芳香族化合物に対して0.05〜1.5(モル
比)、好ましくは0.1〜1.2の範囲とすることが適
当である。本発明の触媒を用いたヒドロキシル化はモノ
ヒドロキシル化のみならず、反応条件によってはジヒド
ロキ°シル化も可能である。
使用量は芳香族化合物に対して0.05〜1.5(モル
比)、好ましくは0.1〜1.2の範囲とすることが適
当である。本発明の触媒を用いたヒドロキシル化はモノ
ヒドロキシル化のみならず、反応条件によってはジヒド
ロキ°シル化も可能である。
以下、本発明を実施例により更に説明するが、本発明は
下記実施例に限定されるものではない。
下記実施例に限定されるものではない。
実施例1
内容量1000mfの三つロフラスコにテトラエチルオ
ルトチタネート42g及びテトラエチルオルトシリケー
)198gを窒素気流下で入れ、撹拌しながら均一に溶
解させた。水酸化テトラプロピルアンモニウム水溶液〈
25%溶液)346gを滴下ロートでゆっくり滴下後゛
、室温で1時間撹拌した。撹拌後、混合物は無色均一溶
液になった。
ルトチタネート42g及びテトラエチルオルトシリケー
)198gを窒素気流下で入れ、撹拌しながら均一に溶
解させた。水酸化テトラプロピルアンモニウム水溶液〈
25%溶液)346gを滴下ロートでゆっくり滴下後゛
、室温で1時間撹拌した。撹拌後、混合物は無色均一溶
液になった。
この三つ口丸底フラスコを油浴で約90℃に加熱し、加
水分解によって生じたエタノール、及び水を蒸留除去(
2551711’)した。蒸留除去された混合物に水1
00gを加えた後、内容量500m1のハステロイ製オ
ートクレーブに充填し、自圧下、165℃まで2時間で
昇温させた後、50時間、165℃で撹拌した。オート
クレーブの内容物を濾過分離し、60℃のイオン交換水
で充分洗浄した。得られた白色粉末固体を90℃で一昼
夜乾燥後、500℃にて5時間熱処理して原料であるペ
ンタシル型チタノシリケートを得た(以下、この原料を
TS−1と略称する)。
水分解によって生じたエタノール、及び水を蒸留除去(
2551711’)した。蒸留除去された混合物に水1
00gを加えた後、内容量500m1のハステロイ製オ
ートクレーブに充填し、自圧下、165℃まで2時間で
昇温させた後、50時間、165℃で撹拌した。オート
クレーブの内容物を濾過分離し、60℃のイオン交換水
で充分洗浄した。得られた白色粉末固体を90℃で一昼
夜乾燥後、500℃にて5時間熱処理して原料であるペ
ンタシル型チタノシリケートを得た(以下、この原料を
TS−1と略称する)。
このTS−150gを0.80 mol/βの塩酸水溶
液500−に懸濁させ、95℃で2時間撹拌した後に、
濾過分離し、イオン交換水で充分洗浄した。得られた固
体を90℃で一昼夜乾燥後、500℃にて5時間熱処理
して触媒を得た(以下、この触媒をATS−1と略称す
る)。X線回折による主要ピークを表3に示す。ATS
−1の結晶構造は、ペンタシル型構造を示し、未処理の
TS−1とその結晶構造は全く同一であった。また、化
学分析による組成分析、及び走査型電子顕微鏡(SEM
)による結晶粒子の大きさを測定した結果を表4に示す
が、ATS−1の化学組成、及び結晶粒子の大きさは、
未処理のTS−1と全く同じであった。
液500−に懸濁させ、95℃で2時間撹拌した後に、
濾過分離し、イオン交換水で充分洗浄した。得られた固
体を90℃で一昼夜乾燥後、500℃にて5時間熱処理
して触媒を得た(以下、この触媒をATS−1と略称す
る)。X線回折による主要ピークを表3に示す。ATS
−1の結晶構造は、ペンタシル型構造を示し、未処理の
TS−1とその結晶構造は全く同一であった。また、化
学分析による組成分析、及び走査型電子顕微鏡(SEM
)による結晶粒子の大きさを測定した結果を表4に示す
が、ATS−1の化学組成、及び結晶粒子の大きさは、
未処理のTS−1と全く同じであった。
内容i500dの四つロフラスコにATS−11,0g
、フェノール20g、及び水100gを混合し、95℃
で1時間撹拌した。その後、80℃に調整し、過酸化水
素水溶液(2,5重量%)87gを定量ポンプを用い1
時間かけて滴下し、同温度で14時間撹拌した。反応生
成物を液体クロマトグラフィで分析し、その結果を表1
に示す。
、フェノール20g、及び水100gを混合し、95℃
で1時間撹拌した。その後、80℃に調整し、過酸化水
素水溶液(2,5重量%)87gを定量ポンプを用い1
時間かけて滴下し、同温度で14時間撹拌した。反応生
成物を液体クロマトグラフィで分析し、その結果を表1
に示す。
実施例2
実施例1で調製したTS−150gを0.40mol/
j!の塩酸水溶液500rnlを用い、95℃で酸処理
した。次いで、イオン交換水で充分洗浄し、90℃で一
昼夜乾燥後、500℃で、5時間熱処理して触媒を得た
(ATS−2’)。触媒とじてATS−1の代わりにA
TS−2を用いたこと以外、実施例1と同様にしてヒド
ロキシル化反応を行った。結果を表1に示す。
j!の塩酸水溶液500rnlを用い、95℃で酸処理
した。次いで、イオン交換水で充分洗浄し、90℃で一
昼夜乾燥後、500℃で、5時間熱処理して触媒を得た
(ATS−2’)。触媒とじてATS−1の代わりにA
TS−2を用いたこと以外、実施例1と同様にしてヒド
ロキシル化反応を行った。結果を表1に示す。
実施例3〜6
実施例3では0.10 mat/βの塩酸水溶液を用い
、95℃で酸処理・して触媒を得(ATS−3)、AT
S−3をATS−1の代わりに用いたこと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
、95℃で酸処理・して触媒を得(ATS−3)、AT
S−3をATS−1の代わりに用いたこと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
実施例4では、1.20 mat/ 12の塩酸水溶液
を用い、95℃で酸処理して触媒を得(ATS−4)、
ATS−4をATS−1の代わりに用いたこと以外、実
施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
を用い、95℃で酸処理して触媒を得(ATS−4)、
ATS−4をATS−1の代わりに用いたこと以外、実
施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
実施例5では、1.60 mol/ lの塩酸水溶液を
用い、95℃で酸処理して触媒を得(ATS−5)、A
TS−5をATS−1の代わりに用いたこと以外、実施
例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
用い、95℃で酸処理して触媒を得(ATS−5)、A
TS−5をATS−1の代わりに用いたこと以外、実施
例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
走査型電子顕微鏡(SEM)による結晶粒子の大きさを
測定した結果(表4) 、ATS−5の結晶粒子は0.
1μm以下となり、未処理のTS−1に比べて小さくな
った。しかし、X線回折による結晶構造は、ATS−5
とTS−1は全く同一であった。
測定した結果(表4) 、ATS−5の結晶粒子は0.
1μm以下となり、未処理のTS−1に比べて小さくな
った。しかし、X線回折による結晶構造は、ATS−5
とTS−1は全く同一であった。
実施例6では0.80.mol/ 1のトリフルオロメ
タンスルホン酸水溶液を用い、100℃で酸処理した触
媒を得(ATS−6) 、ATS−6をATS−1の代
わりに用いたこと以外、実施例1と同様にしてヒドロキ
シル化反応を行った。これらの結果を表1に示す。
タンスルホン酸水溶液を用い、100℃で酸処理した触
媒を得(ATS−6) 、ATS−6をATS−1の代
わりに用いたこと以外、実施例1と同様にしてヒドロキ
シル化反応を行った。これらの結果を表1に示す。
実施例7
実施例1においてTS−1を調製する際に用いたテトラ
エチルオルトチタネート42gを109gにして原料で
あるペンタシル型チタノシリケートを調製しくTS−2
)、次いで触媒を得た(ATS−7)こと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表
1に示す。
エチルオルトチタネート42gを109gにして原料で
あるペンタシル型チタノシリケートを調製しくTS−2
)、次いで触媒を得た(ATS−7)こと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表
1に示す。
実施例8
実施例1においてTS−1を調製する際に用いたテトラ
エチルオルトチタネート42gを7.3gにして原料で
あるペンタシル型チタノシリケートを調製しくTS−3
>、次いで触媒を得た(ATS−8)こと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。この結果
を表1に示す。
エチルオルトチタネート42gを7.3gにして原料で
あるペンタシル型チタノシリケートを調製しくTS−3
>、次いで触媒を得た(ATS−8)こと以外、実施例
1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。この結果
を表1に示す。
比較例1
触媒として酸処理されていないペンタシル型チタノシリ
ケート (TS=1)を使用したこと以外、実施例1と
同様にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表1に
示すが、ハイドロキノン、及びカテコールの収率は低か
った。
ケート (TS=1)を使用したこと以外、実施例1と
同様にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表1に
示すが、ハイドロキノン、及びカテコールの収率は低か
った。
比較例2.3
比較例2では触媒としてTS−2を使用したこと以外、
実施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
実施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。
比較例3では触媒としてTS−3を使用したこと以外、
実施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。こ
れらの結果を表1に示す。
実施例1と同様にしてヒドロキシル化反応を行った。こ
れらの結果を表1に示す。
実施例9
実施例1で得た触媒(ATII)を圧縮成形した後、2
0〜42meshに粉砕し、固定床反応管に1.0g充
填した。触媒層を80℃とした後、水を0.5 ml、
/ minで1時間供給した。その後、過酸化水素水溶
液(13,9重量%)を0.96g/Hrで供給し、ヒ
ドロキシル化反応を行った。その際、キャリヤーとして
窒素を100 mf/minで供給した。結果を表2に
示す。
0〜42meshに粉砕し、固定床反応管に1.0g充
填した。触媒層を80℃とした後、水を0.5 ml、
/ minで1時間供給した。その後、過酸化水素水溶
液(13,9重量%)を0.96g/Hrで供給し、ヒ
ドロキシル化反応を行った。その際、キャリヤーとして
窒素を100 mf/minで供給した。結果を表2に
示す。
比較例4
触媒としてTS−1を用いたこと以外、実施例8と同様
にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表2に示す
。
にしてヒドロキシル化反応を行った。結果を表2に示す
。
表 1
(注2)HQ:ハイドロキノン
CA:カテコール
表 4
〔発明の効果〕
本発明の触媒を用いれば、芳香族化合物から高転化率で
芳香族ヒドロキシル化合物を製造することができる。第
1図にフェノールの過酸化水素によるハイドロキノン及
びカテコール合成反応の結果を示す。酸処理されていな
いペンタシル型チタノシリケート触媒では、触媒調製に
使用される珪素化合物及びチタン化合物の仕込モル比が
狭い範囲に於てのみ、フェノールの転化率は比較的に高
くなるに過ぎない。−力木発明の酸処理したペンタシル
型チタノシリケート触媒を用いれば、転化率は著しく向
上し且つ仕込モル比(Si/Ti)の広い範囲で高い転
化率が得られる。即ち、本発明の触媒は著しく高められ
た触媒性能を有する吉ともにまた安定した触媒性能を有
する。この特徴は工業化に際して大きなメリットになる
ものである。
芳香族ヒドロキシル化合物を製造することができる。第
1図にフェノールの過酸化水素によるハイドロキノン及
びカテコール合成反応の結果を示す。酸処理されていな
いペンタシル型チタノシリケート触媒では、触媒調製に
使用される珪素化合物及びチタン化合物の仕込モル比が
狭い範囲に於てのみ、フェノールの転化率は比較的に高
くなるに過ぎない。−力木発明の酸処理したペンタシル
型チタノシリケート触媒を用いれば、転化率は著しく向
上し且つ仕込モル比(Si/Ti)の広い範囲で高い転
化率が得られる。即ち、本発明の触媒は著しく高められ
た触媒性能を有する吉ともにまた安定した触媒性能を有
する。この特徴は工業化に際して大きなメリットになる
ものである。
第1図に珪素化合物とチタン化合物の仕込みモル比(S
i/Ti) とジヒドロキシベンセンの収率との関係を
示す。
i/Ti) とジヒドロキシベンセンの収率との関係を
示す。
Claims (2)
- (1)酸処理したペンタシル型チタノシリケートを含む
芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒。 - (2)芳香族化合物が一般式(1) ▲数式、化学式、表等があります▼ で表わされる化合物であり、ヒドロキシル化反応が過酸
化水素を用いて行い、反応生成物が一般式(2) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(1)及び(2)中、R^1〜R^5はそれぞれ水
素、炭素数1〜6のアルキル基、炭素数1〜6のアルコ
キシル基、ヒドロキシル基、またはアリール基を表す] である請求項1記載の触媒。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1120696A JPH02298350A (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1120696A JPH02298350A (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02298350A true JPH02298350A (ja) | 1990-12-10 |
Family
ID=14792715
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1120696A Pending JPH02298350A (ja) | 1989-05-15 | 1989-05-15 | 芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02298350A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6479711B1 (en) | 1999-04-28 | 2002-11-12 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing aromatic hydroxy compound |
CN1096293C (zh) * | 2000-05-24 | 2002-12-18 | 中国石油化工集团公司 | 苯酚羟基化催化剂 |
US6896859B2 (en) * | 2000-03-02 | 2005-05-24 | Degussa Ag | Method for the production of a titanium-containing zeolite |
JP2008519782A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | ポリメーリ エウローパ ソシエタ ペル アチオニ | 固定床反応器内でのベンゼンからフェノールの連続製造方法 |
-
1989
- 1989-05-15 JP JP1120696A patent/JPH02298350A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6479711B1 (en) | 1999-04-28 | 2002-11-12 | Mitsui Chemicals, Inc. | Process for producing aromatic hydroxy compound |
US6896859B2 (en) * | 2000-03-02 | 2005-05-24 | Degussa Ag | Method for the production of a titanium-containing zeolite |
CN1096293C (zh) * | 2000-05-24 | 2002-12-18 | 中国石油化工集团公司 | 苯酚羟基化催化剂 |
JP2008519782A (ja) * | 2004-11-12 | 2008-06-12 | ポリメーリ エウローパ ソシエタ ペル アチオニ | 固定床反応器内でのベンゼンからフェノールの連続製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100339284B1 (ko) | 결정성티탄함유분자체촉매,그제조방법및그분자를이용한올레핀에폭시화방법 | |
KR101310989B1 (ko) | 티타노실리케이트 제올라이트 ts-1 제조방법 | |
US5739076A (en) | Catalysts and their use in oxidation of saturated hydrocarbons | |
US5399336A (en) | Stannozeosilite/zirconozeosilite zeolites and catalytic hydroxylation of phenolics therewith | |
JP4969722B2 (ja) | ゼオライト触媒の製造方法 | |
GB2083816A (en) | Process for hydroxylating aromatic hydrocarbons | |
KR20000076239A (ko) | 텔루륨, 티타늄 및 실리콘-포함 분자체 | |
US11897779B2 (en) | Microporous aluminotitanosilicate crystalline zeolite, method of preparation and applications thereof | |
US4895988A (en) | Process for the mutual condensation of aromatic and carbonylic compounds | |
EP0246272B1 (en) | Silica-titania hydrocarbon conversion catalyst | |
JPH01163149A (ja) | ゼオライト触媒を用いる1,4−ビス(4−フエノキシベンゾイル)ベンゼンの製造方法 | |
US5426244A (en) | Method for preparing dihydric phenols | |
JPH02298350A (ja) | 芳香族化合物のヒドロキシル化反応用触媒 | |
JPS6177618A (ja) | Zsm‐5の結晶構造を持つ鉄含有シリケート、その製造方法、及び炭化水素転化反応でのその利用 | |
KR20060069273A (ko) | 옥심의 제조 방법 | |
JP3697737B2 (ja) | 合成ゼオライト物質 | |
US5618512A (en) | Niobium-containing zeolites | |
US5160496A (en) | Hydroxylation of phenols/phenol ethers | |
Peng et al. | Post-synthesis of MSE-type titanosilicates by interzeolite transformation for selective anisole hydroxylation | |
CN102336683A (zh) | 用于制备肟的方法 | |
JPH08188575A (ja) | メタクリル酸グリシジルの製造方法 | |
JPH05170684A (ja) | 二価フェノール類の製造方法 | |
JP4056187B2 (ja) | 芳香族ジヒドロキシ化合物の製造方法 | |
US20040158103A1 (en) | Cyclohexane oxidation catalysts | |
WO2023204296A1 (ja) | 変性アルミノシリケートの製造方法、変性アルミノシリケートを含む触媒の製造方法、該触媒を用いた芳香族ポリヒドロキシド化合物の製造方法、及び変性アルミノシリケート |