JPH02292279A - Ｎ―アリル―ｎ―〔４―（１―ヘテロサイクリックアルキル）ピペリジニル〕アミド類及び医薬用組成物及びそれらの化合物を使用する方法 - Google Patents

Ｎ―アリル―ｎ―〔４―（１―ヘテロサイクリックアルキル）ピペリジニル〕アミド類及び医薬用組成物及びそれらの化合物を使用する方法

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JPH02292279A
JPH02292279A JP2102759A JP10275990A JPH02292279A JP H02292279 A JPH02292279 A JP H02292279A JP 2102759 A JP2102759 A JP 2102759A JP 10275990 A JP10275990 A JP 10275990A JP H02292279 A JPH02292279 A JP H02292279A
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Jerome R Bagley
ジェローム　アール　バグリー
Nhora L Lalinde
ノラ　ルシア　ラリンド
Bao-Shan Huang
バオ　シャン　ファン
H Kenneth Spencer
エイチ　ケニス　スペンサー
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は置換Ｎ−アリルーＮ−　（４−　（１−ヘテロ
サイクリックアルキル）ピペリジニル〕アミド類、及び
医薬用組成物及びそれらの化合物を使用する方法に関す
る。
多くの特許が治療上の作用を有するＮ−アリルＮ−　（
４−　（１−へテロサイクリックアルキル）ビベリジニ
ル〕アミド類を開示している。例えば、ヤンセンらに与
えられヤンセンファーマシューティカルズＮ，Ｖ，に譲
渡された米国特許第３．９９８，８３４号は鎮痛薬とし
て有用なＮ−フェニル−Ｎ−　（４−　（１−へテロサ
イクリック）ビベリジニル〕アミド化合物類を開示して
いる。ヒューアンらに与えられＢＯＣグループ社に譲渡
された米国特許第４，５８４，３０３号も鎮痛薬として
有用なＮフェニル−Ｎ−　（４−　（１−へテロサイク
リック）ピペリジニル〕アミド化合物類を開示している
。
本発明は鎮痛薬として有用な新規置換Ｎ−アリルーＮ−
　（４−　（１−へテロサイクリックアルキル）ピペリ
ジニル〕アミド頻、及びそれらの化合物及びそれらの化
合物を含む医薬用組成物の哺乳動物に対する全身投与を
含む鎮痛剤投与法に関するものであり、該新規化合物類
は光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む
以下の一般式で示され、 ｇ＋ 式中、 Ｒはフェニル基及び置換フェニル基（但し、該フェニル
基の置換基頻はハロゲン原子、低級アルコキシ基及びそ
れらの組み合わせから成る群から選択される）から成る
群から選択されるアリル基を示し； Ｒ＋は２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、低
級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群から
選択されるアルキル基を示し；Ｒ２はピロリル低級アル
キル基、ピラゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
アルキル基、イミダゾリニル低級アルキル基、イミダゾ
リル低級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基
、トリアゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級
アルキル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チェニ
ル低級オキシアルキル基、チェニル低級ヒドロキシアル
キル基、チエン−ー３−イル低級アルキル基、フラニル
低級ヒドロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基
、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級ア
ルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、ビペリジ
ニル低級アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピ
リダジニル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル
基、インドリル低級アルキル基、イソインドリル低級ア
ルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、ベンゾ
ピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級ア
ルキル基、ベンゾピラニル｛ｌアルキル基、ベンゾジオ
キサニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキ
ル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニル低級アル
キル基、フタルイミジル低級アルキル基、ナフタレンカ
ルボキサミジル低級アルキル基、及びナフタレンスルフ
ァミジル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
ロサイクリック低級アルキル環系を示し、該ヘテロサイ
クリック環系は非置換型若しくは置換型であってもよく
； Ｒ，は水素原子、低級アルコキシカルボニル基及び低級
アルコキシメチル基から成る群から選択され；かつ Ｒ４は水素原子及びメチル基から成る群から選択される
。
本発明の化合物は非常に望ましい鎮痛作用を持つ。特に
、本発明化合物は鎮痛、催眠、鎮静、筋弛緩、痛覚闇値
の増加、及びバルビツール剤かつ／又は通常麻酔剤の効
力強化を含む中枢神経系抑制作用を有する。該化合物類
の多くは即効性及び短い作用期間を持つ非常に強力な鎮
痛作用を提供する。これらの特性は麻酔学における如く
に急性の激痛を短時間除去しなければならない状況にお
いて非常に望ましい。本発明の好ましい化合物類はフエ
ンタニル（Ｎ−フェニルーＮ−　（１−　（２−フェニ
ルエチル）−４−ピペリジニル〕プロパンアミドに比較
して高用量における硬直が少ないこと、運動協調の優れ
た回復、若しくは呼吸抑制かつ／又は心臓血管抑制作用
が少ないことが見出されている。
本発明の化合物類は医薬用組成物を供給するために医薬
上許容しうるキャリヤーとともに使用してもよく、鎮痛
作用をもたらすに十分な量でヒト等の噛乳動物に投与す
ることができる。
上述のように、本発明の鎮痛化合物類は、光学活性異性
体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の一般式で
示され、 ｐ＋ 式中、Ｒ，Ｒ＋　，Ｒｔ　、Ｒ３及びＲ４は以下に述べ
るように定義される； 上記の式Ｉ中のＲはフェニル基及び置換フェニル基から
成る群から選択されるアリル基を示し、フェニル基の当
該置換基類はハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそ
れらの組み合わせから成る群から選択される。好ましい
置換基類はフッ素原子及びメトキシ基である。該フェニ
ル環への置換基の好ましい結合位は２　（オルト）位で
ある。好ましい態様においては、Ｒはフェニル基、２−
フルオロフェニル基及び２−メトキシフェニル基から成
る群から選択される。
上記の式■中のＲ，は２から６個の炭素原子を持つ低級
アルキル基、低級アルケニル基、及び低級アルコキシ基
から成る群から選択される。好ましい態様においては、
ＲＩ　はエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び
１−メトキシエチル基から成る群から選択される。
上記の式Ｉ中のＲ２は５から６個の環形成原子を持つ単
環式へテロサイクリック低級アルキル環系、及び多環式
環系中の各環が５から６個の環形成原子を持つ複合二環
式及び三環弐へテロサイクリック低級アルキル環式から
成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル
環系を示す。
該へテロ原子は窒素、イオウ及び酸素から成る群から選
択されるものである。
好ましい態様においては、該へテロサイクリック低級ア
ルキル環系はピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級
アルキル基、イミダゾイル低級アルキル基、イミダゾリ
ニル低級アルキル基、イミダゾリル低級チオアルキル基
、トリアゾリル低級アルキル基、トリアゾリル低級チオ
アルキル基、テトラゾリル低級アルキル基、テトラゾリ
ル低級チオアルキル基、チェニル低級オキシアルキル基
、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−
イル低級アルキル基、フラニル低級ヒドロキシアルキル
基、チアゾリル低級アルキル基、オキサゾリル低級アル
キル基、チアジアゾリル低級アルキル基、オキサジアゾ
リル低級アルキル基、ピペリジニル低級アルキル基、ピ
リミジニル低級アルキル基、ピリダジニル低級アルキル
基、トリアジニル低級アルキル基、インドリル低級アル
キル基、イソインドリル低級アルキル基、ペンズイミダ
ゾ＋））Ｌｉ低級アルキル基、ベンゾピラゾリル低級ア
ルキル基、ベンズオキサゾリル低級アルキル基、ベンゾ
ピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキサニル低級アル
キル基、ベンゾチアジニル低級アルキル基、キナゾリニ
ル低級アルキル基、ブリニル低級アルキル基、フタルイ
ミジル低級アルキル基、ナフタレンカルボキサミジル低
級アルキル基及びナフタレンスルファミジル低級アルキ
ル基から成る群から選択される。
より好ましい態様においては、該ヘテロサイクリック低
級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、
ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール
−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低
級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基
、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、イミダ
ゾリン−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−１−
イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオ
アルキル基、テトラゾール−１−イル低級アルキル基、
テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テトラゾール
−５−イル低級チオアルキル基、チエン−ー２−イル低
級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒドロキシ
アルキル基、チエン−ー３−イル低級アルキル基、フラ
ン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール−
５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イル低級
アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキル基
、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピペリ
ジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−】−イル
低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキル基
、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドール−
１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−イル低
級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アル
キル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル基
、ベンゾピラゾール−−３−イル低級アルキル基、ベン
ズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ペンソヒラ
ン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−−７−イ
ル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−２−イル低級
アルキル基、ベンゾジオキサン−−８−イル低級アルキ
ル基、ベンゾチアジン−−４−イル低級アルキル基、キ
ナゾリン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル
低級アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ
−フタルイミジル低級アルキル基、Ｎ−ナフタＬノンカ
ルポキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンス
ルファミジル低級アルキル基から成る群から選択される
。
最も好ましい態半兼においては、８亥へテロサイクリッ
ク低級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル
基、ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾ
ール−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イ
ル低級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキ
ル基、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、イ
ミダゾリン−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−
１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級
チオアルキル基、テトラゾール−１−イル低級アルキル
基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テトラゾ
ール−５−イル低級チオアルキル基、フラン−２−イル
低級ヒドロキシアルキル基、オキサゾール−３−イル低
級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキル
基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピペ
リジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イ
ル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキル
基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドール
−１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−イル
低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級ア
ルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル
基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、ベン
ズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾピラ
ン−−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−イ
ル低級アルキル基、ペンゾオキサン−２−イル低級アル
キル基、ベンゾジオキサン−−８−イル低級アルキル基
、ベンゾチアジン−−４−イル低級アルキル基、キナゾ
リン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級
アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−フ
タルイミジル低級アルキ／１４、Ｎ−ナフタレンカルボ
キサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルフ
ァミジル低級アルキル基から成る群から選択される。
該へテロサイクリック環は非置換型若しくは置換型であ
ってもよく、その場合の置換基はノ＼ロゲン原子、酸素
原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、カルボニル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級シク
ロアルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキル基
、ハロゲン化低級アルキル基、７リル基、ハロゲン化ア
リル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから成る
群から別個に選択される。好ましい態様においては、該
置換基はフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子
、ニトロ基、アミン基、カルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、メチル基、エチル基、イソブロビル基、スビロ
エタン基、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオ口メ
チル基、フェニル基、％）Ｌ／７オリニル基及びそれら
の組み合わせから成る群から選択される。
該低級アルキル基はｌから７個の炭素原子を含む分技若
しくは非分技炭化水素基類から成る群から選択される．
該低級アルキル基は置換型若しくは非置換型であっても
よく、その場合の置換基類は酸素原子、水酸基、イオウ
原子、及びそれらの組み合わせから成る群から別個に選
択される。好ましい態様においては、該低級アルキル基
はメチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基、２ー
オキソエチル基、及び２−チオエチル基から成る群から
選択される。
上記の式Ｉ中のＲ３は水素原子、低級アルコキシカルボ
ニル基及び低級アルコキシメチル基から成る群から選択
される。好ましい態様においては、該Ｒ３基は水素原子
、メトキシカルボニル基及びメトキシメチル基から成る
群から選択される。
上記の式■中のＲ，は水素原子及びメチル基から選択さ
れる。
好ましいＬ．様においては、本発明の化合物類は光学活
性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の一
般式で示され、 式中、Ｒ及びＲ．は先に定義されたものを示し、Ｒ２は
ピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキル基、
イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級チオア
ルキル基、トリアゾリルｌアルキル基、トリアゾリル低
級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル基、テト
ラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オキシアル
キル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−
ー３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒドロキシア
ルキル基、チアゾリル低級アルキル基、オキサゾリル低
級アルキル基、チアジアゾリル低級アルキル基、オキサ
ゾリル低級アルキル基、ビペリジニル低級アルキル基、
ピリミジニル低級アルキル基、ピリダジニル低級アルキ
ル基、トリアジニル低級アルキル基、インドリル低級ア
ルキル基、イソインドリル低級アルキル基、ベンズイミ
ダゾリル低級アルキル基、ベンゾピラゾリル低級アルキ
ル基、ベンズオキサゾリル低級アルキル基、ベンゾピラ
ニル低級アルキル基、ベンゾジオキサニル低級アルキル
基、ベンゾチアジニル低級アルキル基、キナゾリニル低
級アルキル基、プリニル低級アルキル基、ナフタレンカ
ルボキサミジル低級アルキル基、及びナフタレンスルフ
ァミジル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
ロサイクリック低級アルキル環系を示す。
好ましい態様においては、該ヘテロサイクリック低級ア
ルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、ピラ
ゾール−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−ｌ−
イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アル
キル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミ
ダゾール−２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール
−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低
級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキ
ル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チ
エン−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエン−ー２
−イル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−イル
低級アルキル基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアル
キル基、チアゾールー５−イル低級アルキル基、オキサ
ゾール−３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−２
−イル低級アルキル基、オキサジアゾール−３−イル低
級アルキル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、
ピリミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン−１
−イル低級アルキル基、トリアジン−１−イル低級アル
キル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソイ
ンドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾー
ル−１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２
−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−−３−イル
低級アルキル基、ベンズオキサゾール−３−イル低級ア
ルキル基、ベンゾピラン−−４−イル低級アルキル基、
ベンゾピラン−−７−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
キサン−−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン
−−８−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−−４−
イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキ
ル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−
イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル
低級アルキル基、及びＩ１−ナフタレンスルファミジル
低級アルキル基から成る群から選択される。
より好ましい態様においては、該へテロサイクリソク低
級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、
ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール
−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低
級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基
、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、トリア
ゾール−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−
イル低級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級
アルキル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル
基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、オキ
サゾール−３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−
２−イル低級アルキル基、オキサジアゾール−３−イル
低級アルキル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル々
′、ピリミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン
−１−イル低級アルキル基、トリアジン−１−イル低級
アルキル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イ
ソインドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダ
ゾール−１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール
−２−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−３−イ
ル低級アルキル基、ベンゾオキサゾール−３−イル低級
アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級アルキル基、
ベンゾピラン−７−イル低級アルキル基、ベンゾジオキ
サン−−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−
−８−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−−４−イ
ル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル
基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イ
ル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル低
級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルフプ岨ジル低級
アルキル基から成る群から選択される。
該ヘテロサイクリック環は非置換型若しくは置換型であ
ってもよく、その場合の置換基はハロゲン原子、酸素原
子、水酸基、二トロ基、アミノ基、カルボニル基、低級
アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級シクロ
アルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキル基、
ハロゲン化低級アルキル基、アリル基、ハロゲン化アリ
ル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから成る群
から選択される。好ましい態様においては、該置換基は
フッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子、ニトロ
基、アミン基、カルボニル基、エトキシ力ルボニル基、
メチル基、エチル基、イソプロビル基、スビロエタン基
、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオロメチル基、
フェニル基、モルフォリニル基及びそれらの組み合わせ
から成る群から選択される。
該低級アルキル基は１から７個の炭素原子を含む分枝若
しくは非分枝炭化水素基類から成る群から選択される。
該低級アルキル基は置換型若しくは非置換型であっても
よく、その場合の置換基類は酸素原子、水酸基、イオウ
原子、及びそれらの組み合わせから成る群から別個に選
択される。好ましい態様においては、該低級アルキル基
はメチル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル！、２−
オキソエチル基、及び２−チオエチル基から成る群から
選択される。
Ｒ，は低級アルコキシカルボニル基及び低級アルコキシ
メチル基から成る群から選択される。好ましい態様にお
いては、該Ｒ，基はメトキシカルボニル基及びメトキシ
メチル基から成る群から選択される。
別の好ましい態様においては、本発明の化合物類は光学
活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の
一般式で示され、 式中、Ｒ及びＲ１は先に定義されたものを示し、Ｒ２は
ピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキル基、
イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級チオア
ルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリアゾリル
低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル基、テ
トラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オキシア
ルキル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、チエン
−ー３イル低級アルキル基、チアゾリル低級アルキル基
、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級ア
ルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、ピペリジ
ニル低級アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピ
リダジニル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル
基、インドリル低級アルキル基、イソインドリル低級ア
ルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、ベンゾ
ピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級ア
ルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオ
キサニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキ
ル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニル低級アル
キル基、ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、
及びナフタレンスルファミジル低級アルキル基から成る
群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系
を示す，より好ましい態様においては、Ｓ亥へテロサイ
クリック低級アルキル環系はピロール−１−イル低級ア
ルキル基、ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イ
ミダゾール−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−
３−イル低級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級
アルキル基、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル
基、トリアゾール１−イル低級アルキル基、テトラゾー
ル−２−イル低級アルキル基、テトラゾール−５−イル
低級チオアルキル基、２−チエニル低級オキシアルキル
基、２−チエニル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−
ー３−イル低級アルキル基、チアゾール−５−イル低級
アルキル基、オキサゾール−３−イル低級アルキル基、
チアジアゾール−２−イル低級アルキル基、オキサジア
ゾール−３−イル低級アルキル基、ピペリジン−１−イ
ル低級アルキル基、ピリミジン−１−イル低級アルキル
基、ピリダジン−１−イル低級アルキル基、トリアジン
１−イル低級アルキル基、インドール−１−イル低級ア
ルキル基、イソインドール−２−イル低級アルキル基、
ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキル基、ベンズ
イミダゾール−２−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾ
ール−３−イル低級アルキル基、ベンズオキサゾール−
３−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−−４−イル低
級アルキル基、ベンゾジオキサン−−２−イル低級アル
キル基、ベンゾチアジン−−４−イル低級アルキル基、
キナゾリン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イ
ル低級アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、
Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及び
Ｎ−ナフタレンスルファミジル低級アルキル基から成る
群から選択される。
最も好ましい態様においては、該ヘテロサイクリック低
級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、
ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール
−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低
級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基
、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、チアゾ
ールー１−イル低級アルキル基、テトラゾール−２−イ
ル低級アルキル基、テトラゾール−５−イル低級チオア
ルキル基、オキサゾール−３−イル低級アルキル基、チ
アジアゾール−２−イル低級アルキル基、オキサジアゾ
ール−３−イル低級アルキル基、ピペリジン−１−イル
低級アルキル基、ピリミジン−１−イル低級アルキル基
、ピリダジン−１−イル低級アルキル基、トリアジン−
１−イル低級アルキル基、インドール−１−イル低級ア
ルキル基、イソインドール−２−イル低級アルキル基、
ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキル基、ベンズ
イミダゾール−２−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾ
ール−３−イル低級アルキル基、ベンズオキサゾール−
３−イル低級アルキル基、ヘンゾピラン−４−イル低級
アルキル基、ヘンゾジオキサン−２−イル低級アルキル
基、ペンヅチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾ
リン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級
アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナ
フタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナ
フタレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から
選択される。
Ｒ，は低級アルコキシカルボニル基、好ましくはメトキ
シカルボニル基を示ス。
該ヘテロサイクリック環は非置換型若しくは置換型であ
ってもよく、その場合の置換基はハロゲン原子、酸素原
子、水酸基、ニトｒ−１基、アミノ基、カルボニル基、
低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級シ
クロアルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキル
基、ハロゲン化低級アルキル基、アリル基、ハロゲン化
アリル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから成
る群から選択される。好ましい態様においては、該置換
基はフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子、二
トロ基、アミノ基、カルボニル基、エトキシ力ルボニル
基、メチル基、エチル基、イソブロビル基、スビロエタ
ン基、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオ口メチル
基、フェニル基、モルフォリニル基及びそれらの組み合
わせから成る群から選択される。
該低級アルキル基は１から７個の炭素原子を含む分枝若
しくは非分技炭化水素基窟から成る鮮から選択される。
該低級アルキル基は置換型若しくは非置換型であっても
よく、その場合の置換基類は酸素原子、水酸基、イオウ
原子、及びそれらの組み合わせから成る群から選択され
る。好ましい態様においては、該低級アルキル基はメチ
ル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−オキソ
エチル基及び２−チオエチル基から成る群からｊ′Ａ訳
される。
別の好ましい態様においては、本発明の化合物類は光学
活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の
一般式で示され、 式中、Ｒ及びＲ，は先に定義されたものを示し、Ｒ！は
ピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキル基、
イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級チオア
ルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリアゾリル
低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル基、テ
トラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オキシア
ルキル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、チエン
−ー３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒドロキシ
アルキル基、チアゾリル低級アルキル基、ピリミジニル
低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソイン
ドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキ
ル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキサ
ニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、ブ
リニル低級アルキル基、及びナフタレンカルボキサミジ
ル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテロサイ
クリック低級アルキル環系を示す。
好ましい態様においては、該ヘテロサイクリック低級ア
ルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、ピラ
ゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール−１
−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低級ア
ルキル基、イミダゾール４−イル低級アルキル基、イミ
ダゾール−２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール
−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低
級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキ
ル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チ
エン−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエン−ー２
−イル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−イル
低級アルキル基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアル
キル基、チアゾール−５−イル低級アルキル基、ピリミ
ジン−１−イル低級アルキル基、インドール−１−イル
低級アルキル基、イソインドール−２−イル低級アルキ
ル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキル基、
ベンゾオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾ
ピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−−７
−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−２−イル
低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−８−イル低級ア
ルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル基、プリ
ン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イル低級ア
ルキル基、及びＮ−ナフタレンカルボキサミジル低級ア
ルキル２ｋから成る群から選択される。
より好ましい態様においては、咳へテロナイクリンク低
級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、
ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール
−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低
級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基
、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、トリア
ゾール−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−
イル低級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級
アルキル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル
基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、ピリ
ミジン−１−イル低級アルキル基、インドール−１−イ
ル低級アルキル基、イソインドール−２−イル低級アル
キル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキル基
、ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベン
ゾピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−−
７−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−２−イ
ル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−８−イル低級
アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル基、プ
リン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イル低級
アルキル基、及びＮ−ナフタレンカルボキサミジル低級
アルキル基から成る群から選択される。
該ヘテロサイクリック環は非置換型若しくは置換型であ
ってもよく、その場合の置換基はノ１ロゲン原子、酸素
原子、水酸基、二トロ基、アミノ基、カルボニル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級シク
ロアルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキル基
、ノ＼ロゲン化低級アルキル基、アリル基、ハロゲン化
アリル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから成
る群から別個に選択される。好ましいＢ様においては該
置換基はフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子
、二トロ基、アミノ基、カルボニル基、エトキシカルボ
ニル基、メチル基、エチル基、イソブロビル基、スピロ
エタン基、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオ口メ
チル基、フェニル基、モルフォニル基及びそれらの組み
合わせから成る群から選択される。
該低級アルキル基ぱ１から７個の炭素原子を含む分技若
しくは非分技炭化水素基から成る群から選択される。該
低級アルキル基は置換型若しくは非置換型であってもよ
く、その場合の置換基は酸素原子、水酸基、イオウ原子
、及びそれらの組み合わせから成る群から別個に選択さ
れる。好ましい態様においては、該低級アルキル基はメ
チル基、エチル基、２−ヒドロキシエチル基、２−オキ
ソエチル基、及び２−チオエチル基から成る群から選択
される。
Ｒ，は低級アルコキシメチル基を示す。好ましい態様に
おいては、Ｅｌ　Ｒ　ｓ基はメトキシメチル基である。
別の好ましい態様においては、本発明の化合物類は光学
活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の
一般式で示され、 式中、 Ｒはフェニル基及び置換フェニル基から成る群から選択
されるアリル基を示すが、フェニル基上の当該置換基頻
はハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み
合わせから成る群から選択される。好ましい霞換基はフ
ッ素原子若しくはメトキシ基である。該フェニル環への
置換基結合の好ましい位置は２　（オルト）位である。
好ましい態様においては、Ｒはフェニル基、２−フルオ
ロフェニル基及び２−メトキシフェニル基から成る群か
ら選択される。より好ましい態様においては、Ｒは２−
フルオロフェニル基若しくは２−メトキシフェニル基を
示す。
Ｒ，は２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、低
級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群から
選択される。好ましい態様においては、Ｒ１はエチル基
、エテニル基、メトキシメチル基及び１−メトキシエチ
ル基から成る群から選択される。
Ｒ２はピラゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級ア
ルキル基、イミダゾリニル低級アルキル基、ベンズイミ
ダゾリル低級アルキル基、及びフタルイミジル低級アル
キル基から成る群から選択されるヘテロサイクリック低
級アルキル環系を示す。好ましい態様においては、該ヘ
テロサイクリック低級アルキル環系はピラゾール−１−
イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アル
キル基、イミダゾリン−１−イル低級アルキル基、ベン
ズイミダゾール−１−イル低級アルキル基、及びＮ−ナ
フタルイミジル低級アルキル基から成る群から選択され
る。
該ヘテロサイクリック環は非置換型若しくは置換型であ
ってもよく、その場合の置換基頻はハロゲン原子、酸素
原子、水酸基、ニトロ基、アミノ基、カルボニル基、低
級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級シク
ロアルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキル基
、ハロゲン化低級アルキル基、アリル基、ハロゲン化ア
リル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから成る
群から選択される。好ましいＢ様においては、該置換基
類はフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子、二
トロ基、アミノ基、カルボニル基、エトキシカルボニル
基、メチル基、エチル基、イソプロビル基、スビロエタ
ン基、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオロメチル
基、フェニル基、ハロゲン化アリル基、モルフォリニル
基及びそれらの組み合わせから成る群から選択される。
より好ましい態様においては、該置換基類はメチル基、
エチル基、二トロ基、ハロゲン化アリル基及びそれらの
組み合わせから成る群から選択される。
該低級アルキル基は１から７個の炭素原子を含む分技若
しくは非分子炭化水素基である。該低級アルキル基は置
換型若しくは非置換型であってもよく、その場合の置換
基類は酸素原子、水酸基、イオウ原子、及びそれらの組
み合わせから成る群から選択される。好ましい態様にお
いては、該低級アルキル基はメチル基、エチル基、２−
ヒドロキシエチル基、２−オキソエチル基、及び２−チ
オエチル基から成る群から選択され、最も好ましくはエ
チル基である。
Ｒ，は低級アルコキシカルボニル基及び低級アルコキシ
メチル基から成る群から選択される。好ましい態様にお
いては、該Ｒ３基はメトキシカルボニル基及びメトキシ
メチル基から成る群から選択される。
別の好ましい態様においては、本発明の化合物類は光学
活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を含む以下の
一般式で示され、 ｐ＋ 式中、 Ｒはフェニル基及び置換フェニル基から成る群から選択
されるアリル基を示すが、フェニル基上の当該置換基類
はハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み
合わせから成る群から選択される。好ましい置換基類は
フン素原子及びメトキシ基である。該フェニル環への置
換基の好ましい結合部位は２　（オルト）位である。好
ましい態様においてはＲはフェニル基、２−フルオロフ
ェニル基及び２−メトキシフェニル基から成る群から選
択され、最も好ましくは２−フルオロフェニル基である
。
Ｒ，は２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、低
級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群から
選択される。好ましい態様においては、Ｒ，はエチル基
、エチニル基、メトキシメチル基及び１−メトキシエチ
ル基から成る群から選択される。より好ましい態様にお
いては、Ｒ，はエチル基及びメトキシメチル基を示す。
Ｒ．はピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリア
ゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル
基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オ
キシアルキル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、
チエン−ー３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、オキサ
ゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級アルキル基
、オキサジアゾリル低級アルキル基、ビベリジニル低級
アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピリダジニ
ル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル基、イン
ドリル低級アルキル基、イソインドリル低級アルキル基
、ベンズイミダゾリル｛ｆｆｉｍアルキル基、ベンゾピ
ラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級アル
キル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキ
サニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキル
基、キナゾリニル低級アルキル基、ブリニル低級アルキ
ル基、ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及
びナフタレンスルファミジル低級アルキル基から成る群
から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を
示す。
好ましい態様においては、該へテロサイクリック低級ア
ルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、ピラ
ゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール−１
−イル低級アルキル基、イミダ７’一／Ｌ／−３−イル
低級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル
基、イミダゾール−２−イル低級チオアルキル基、トリ
アゾール−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３
−イル低級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低
級アルキル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキ
ル基、チエン−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエ
ン−ー２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー
３−イル低級アルキル基、フラン−２−イル低級ヒドロ
キシアルキル基、チアゾール−５−イル低級アルキル基
、オキサゾール−３−イル低級アルキル基、チアジアゾ
ール−２−イル低級アルキル基、オキサジアゾール−３
−イル低級アルキル基、ピペリジン−１−イル低級アル
キル基、ピリミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダ
ジン−１−イル低級アルキル基、トリアジン−１−イル
低級アルキル基、インドール−１−イル低級アルキル基
、イソインドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイ
ミダゾール−１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾ
ール−２−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−−
３−イル低級アルキル基、ベンズオキサゾール−３−イ
ル低級アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級アルキ
ル基、ベンゾピラン−７−イル低級アルキル基、ベンゾ
ジオキサン−−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキ
サン−−８−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−−
４−イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級ア
ルキル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−
７−イル低級アルキル基、Ｎナフタレンカルボキサミジ
ル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル
低級アルキル基から成る群から選択される。
より好ましい態様においては、該へテロサイクリソク低
級アルキル環系はピロール−１−イル低級アルキル基、
ピラゾール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール
−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低
級アルキル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基
、イミダゾール２−イル低級チオアルキル基、トリアゾ
ール−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イ
ル低級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級ア
ルキル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基
、チエン−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエン−
ー２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−
イル低級アルキル基、フラン２−イル低級ヒドロキシア
ルキル基、チアゾール−５−イル低級アルキル基、オキ
サゾール−３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−
２−イル低級アルキル基、オキサジアゾール−３−イル
低級アルキル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基
、ピリミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン−
１−イル低級アルキル基、トリアジン−１−イル低級ア
ルキル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソ
インドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾ
ール−１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−
２−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−−３−イ
ル低級アルキル基、ベンゾオキサゾール−３−イル低級
アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級アルキル基、
ベンゾピラン−−７−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
キサン−−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン
−−８−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−−４−
イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキ
ル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−
イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル
低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル低
級アルキル基から成る群から選択される。
最も好ましい態様においては、該Ｒ２基はピラヅリル低
級アルキル基、テトラゾリル低級アルキル基、イソイン
ドリル低級アルキル基、及びベンズイミダゾリル低級ア
ルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリック
低級アルキル環系である． 別の好ましい態様においては、該へテロサイクリック低
級アルキル環系はピラゾール−ー１−イル低級アルキル
基、テトラゾール−１−イル低級アルキル基、テトラゾ
ール−２−イル低級アルキル基、イソインドール−２−
イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低
級アルキル基、及びベンズイミダゾール−２−イル低級
アルキル基から成る群から選択される。
咳へテロサイクリック環系は非置換型若し《は置換型で
あってもよく、その場合の置換基類は／Ｎロゲン原子、
酸素原子、水酸基、二トロ基、アミン基、カルボニル基
、低級アルコキシカルボニル基、低級アルキル基、低級
シクロアルキル基、低級アルコキシ基、低級チオアルキ
ル基、ハロゲン化低級アルキル基、アリル基、ハロゲン
化アリル基、ヘテロ環類、及びそれらの組み合わせから
成る群から選択される。好ましい態様においては、該置
換基はフッ素原子、塩素原子、ヨウ素原子、酸素原子、
二トロ基、アミノ基、カルボニル基、エトキシ力ルボニ
ル基、メチル基、エチル基、イソブロビル基、スビロエ
タン基、メトキシ基、チオメチル基、トリフルオロメチ
ル基、フェニル基、ハロゲン化アリル基、モルフォリニ
ル基及びそれらの組み合わせから成る群から選択される
。より好ましい態様においては、該置換基はメチル基、
エチル基、二トロ基、ハロゲン化アリル基及びそれらの
組み合わせから成る群から選択される。
該低級アルキル基は１から７個の炭素原子を含む分校若
しくは非分技炭化水素である。該低級アルキル基は置換
型若しくは非置換型であってもよいが、その場合の置換
基類は酸素原子、水酸基、イオウ原子、及びそれらの組
み合わせから成る群から選択される。好ましい態様にお
いては、該低級アルキル基はメチル基、エチル基、２−
ヒドロキシエチル基、２−オキソエチル基、及び２−チ
オエチル基から成る群から選択される。より好ましい態
様においては、該低級アルキル基はメチル基若しくはエ
チル基である。
Ｒ４はメチル基を示す。
ここで用いる“低級アルキル基”という用語は、１から
７個の炭素原子を含む分技若しくは非分技炭化水素基を
意味する。ここで用いる“低級アルコキシ基”という用
語は、１から７個の炭素原子を含む分技若しくは非分技
ハイドロカルボキシ基を意味する。ここで用いる“低級
シクロアルキル基”という用語は、３から６個の炭素原
子を含む環状アルキル基を意味する。好ましいヘテロサ
イクリック基は６から１２個の炭素原子を含み、ヘテロ
サイクリック基に結合した上述の置換基類を含んでもよ
い。ここで用いる“ハロゲン原子”という用語は化学的
に同族な元素類であるフッ素、塩素、臭素及びヨウ素を
意味する。
少なくとも１個の不斉炭素原子を持つ本発明の化合物類
は光学活性異性体の型で存在しうる。たとえば、Ｒｚが
２−フェニル−１−プロビル基若しくはｌ−フェニル−
２−プロビル基等を示す化合物類においては、該ビペリ
ジニル窒素原子に隣接する炭素原子は不斉炭素であり、
このような化合物類はそれゆえに光学活性異性体（エナ
ンチオマー）として存在しうる。このような異性体類は
当業者に既知の技法によりラセミ混合物から単離するこ
とができる。
Ｒ４基にアルキル基を持つ本発明の化合物類はシス若し
くはトランス型で存在する。このような化合物類はその
ような型，の混合物として使用することができるが、多
くの場合、一方の型が他方よりも活性が高いか、若しく
は他の望ましい特性を有する。そこで多くの場合、咳シ
ス／トランス混合物を分離することが望ましい。この分
スＷはカラムクロマトグラフィー若しくは高速液体クロ
マトグラフィー等のクロマトグラフィー法若しくは単純
な再結晶法等のそれらの目的にふさわしい当技術分野で
通常の方法により完成することができる。
本発明の化合物は種々の方法により製造することができ
る。一般に、上記の式Ｉ、■若しくは■の求める化合物
類は、以下の式で示される化合物を、 ｒ２． ｈ 以下の式で示される化合物と反応させるか、Ｒ．−ＣＯ
−Ｘ　　若しくは （Ｒ　，　ＣＯ）　ｚ０ 若しくは以下の式で示される化合物を、ｇ１ 以下の式で示される化合物と反応させることにより、 Ｒ　ｚ　Ｘ 製造することができる： 式中、置換基Ｒ．Ｒ＋　，Ｒｚ　，Ｒ３及びＲ，は上記
の定義に従うものであり、Ｘはハロゲン化物若しくはそ
の反応性等価物を表わす。ハロゲン化物の反応性等価物
の例としては、スルホン酸トルエル、スルホン酸フェニ
ル、スルホン酸メチル等がある。
第１の反応でＲ２基がフェニルーメチル（ベンジル）基
を示す場合、該フェニルメチル基は水素化分解、若しく
は１−クロロエチルク口ロホルメートとの反応及びそれ
に続くメタノールとの加水分解により開裂させることが
でき（オロフソンら、ジャーナルオブオーガニックケミ
ストリイ、４９巻、第２０８１−２０８２頁、１９８４
年、参照）、フラニル低級アルキル基、ピラゾイル低級
アルキル基等の他のＲｔ基に代替することができる。後
者の型の二級アミン類の製造は、Ｐ．Ｇ．Ｈ．バンディ
ーレら、アルツネイムフォルシュ　（ＡｒｚｎｅｉｍＦ
ｏｒｓｃｈ．）ドラッグリサーチ、２６巻、第１５２１
頁、１９７６年、に述べられている。
本発明の化合物類の製造のためのいくつかの便利な方法
は、以下に示す既知のビペリドン出発物質から開始され
る： 若しくは Ｒ．＝Ｈの場合の化合物１−（２−フェニルエチル）−
４−ビペリドン（１）、若しくはＲ．＝Ｃ　Ｈ　ｘの場
合の１−（２−フェニルエチル）−３一メチル−４−ビ
ベリドン（１）は、Ａ．Ｈ．ベケソト、Ａ．Ｆ．ケージ
イ、Ｇ．カーク、ジャーナルオブメディ力ルファーマシ
ューテイカルケミストリイ（Ｊ．　Ｍａｄ．　Ｐｈａｒ
ｍ．　Ｃｈｅｍ．）、１巻、第３７頁、１９５９年に発
表された方法により製造することができる。Ｒ４”’Ｈ
の場合の化合物ｌ−フェニルメチル−４−ピペリドン（
２）、若しくはＲ．＝ＣＨ．の場合の１−フェニルメチ
ル−３メチル−４−ビベリドン（２）は、Ｃ．Ｒ．ガネ
リン、Ｒ．Ｇ．スピクチ、ジャーナルオブメディカルケ
ミストリイ、８巻、第６１９頁、１９６５年、若しくは
Ｐ．Ｍ．カラベイティーズ、Ｌ．グラムバソク、ジャー
ナルオプメディカルファーマシューティ力ルケミストリ
イ、５巻、第９１３頁、１９６２年に述べられた方法に
より同様に製造することができる。
本発明の化合物類を製造する方法の１例においては、１
−フェニルメチル若しくはｌ−（２−フェニルエチル）
−４−ビベリドンを非置換若しくは置換へテロサイクリ
ックアミンと反応させ、シフベースを形成させる。次に
該シフベースを例えばホウ化水素ナトリウムで還元して
、非置換若しくは置換１−フェニルメチル若しくは１−
（２−フェニルエチル）−４−（Ｎ−へテロシク口アミ
ン）一ビベリジン化合物を得る。例として、Ｓ．グロス
マンら、アーカイブスオブファーマシイ（ヴエインヘイ
ム）、３１１巻、第１０１０頁、１９７８年、を参照の
こと。以下の反応図（式中、Ｒは本発明の定義によるヘ
テロサイクリック基を示す）はそのような方法を説明す
るものである：Ｒ．５が水素原子の場合、以下に示す反
応図のように化合物（３）は適当な酸ハロゲン化物（例
：Ｒ．ＣＯ（Ｊ！）若し《は無水物（例：　（Ｒ　ＩＣ
Ｏ）　ｚｏ）と反応させて窒素原子上に望ましいＲ，一
カルボニル基を導入することができ、それにより本発明
の化合物（１）を得ることができる。
Ｒ４基がメチル基の場合、化合物（３）のシス及びトラ
ンス異性体が作られる。該シス及びトランス異性体は上
記の酸ハロゲン化物若しくは無水物との反応の前若しく
は後に分離して、本発明の化合物（１）のシス及びトラ
ンス異性体を得ることができる。該シス／トランス異性
体の分離は以下の反応図によって行なうことができる：
造する１方法は化合物（２）のフェニルメチル基を水素
化分解（例えば、炭素上１０％パラジウム存在下の水素
使用）若しくは上述の１−クロロエチルク口口ホルメー
トとの反応により除去し、求めるＲ２基に置き換えるこ
とである。例えば、本発明の化合物は以下の図により製
造することができる： トランス異性体 上記のように、Ｒ４基がメチル基の場合、化合物（４）
がシス及びトランス異性体の混合物となるが、それらは
次の段階に移る前に分離することができる。Ｒ４基が水
素原子である場合には、予備的シス／トランス異性体分
離は必要ない。このようないずれかのシス／トランス分
離の後、化合物（４）は以下の反応図のように炭素上パ
ラジウムの存在下で水素と反応させるか、若しくは１−
クロ口エチルク口口ホルメートと反応させるかにより、
フェニルメチル基を除去してビペリジニル中間体（５）
を製造することができる：次に以下に示す反応図によっ
て、化合＃ｙＪ＜５）を適当な反応性を持つ分子Ｒ，　
−Ｘ　（式中、Ｘは塩素、臭素、若しくはヨウ素等のハ
ロゲン原子を示す）、若しくはその反応性等価物と反応
させることにより、求めるＲ２置換基を導入して、本発
明の化合物（１）を得ることができる：除去して、以下
に示す反応図のうちの一方により導入されるＲ．及びＲ
２基をもつ本発明の化合物（１）を得ることができる： Ｒ２−ｘと化合物（５）等のピペリジニル中間体との反
応は、例えば芳香族炭化水素；４−メチル−２−ペンタ
ノン等のケトン；１，４−ジオキサン、ジエチルエーテ
ル、テトラヒド口フラン、１．２−ジメトキシエタン等
のエーテル．Ｎ，Ｎジメチルホルムアミド若しくはアセ
トニトリル等の不活性有機溶媒中で行なうことができる
。アルカリ金属炭酸塩等の適当な塩基の添加を該反応中
にできた酸の中和に利用してもよい。ヨウ化アルカリ金
属等のヨウ化塩の添加が適当と思われる。
適当な場合、反応速度を増大させるために該反応混液の
温度を上昇させてもよい。
もう一方の方法においては、化合物（４）のシス／トラ
ンス異性体を分離する前に、該フェニルメチル基を最初
に水素化分解若しくは１−クロロエチルク口口ホルメー
トと反応させることによりシス異性体 中、Ｒは本発明の定義によるヘテロサイクリック基を示
す）は、このような本発明の化合物〔１）を作る方法を
説明するものである。
本発明の化合物類を製造する方法の第２の例においては
、Ｎ−　（フェニルエチル）−４−ビベリジンアミン（
６）等の中間体が使用される。この方法では、該１級ア
ミンをヘテロ環基ＲＸ（式中、Ｘはハロゲン化物若しく
はその反応性等価物を示す）と反応させて２級アミン前
駆体を形成させる。
その後、該２級アミンをアシル化する。例として、Ｙ．
ツーら、アクタオプファーマシヱーティクスオブシニ力
（Ａｃｔａ　Ｐｈａｍ．　Ｓｉｎｉｃａ）、１６巻、第
１９９頁、１９８１年、参照。以下の反応図（式本発明
の化合物類を製造する方法の第３の例においては、Ｎ−
　（フェニルエチル）一４−とベリジンアミン（６）等
の同様の中間体が使用される。
この方法では、該１級アミンをヘテロサイクル基Ｒのオ
キソ誘導体と反応させて２級アミン前駆体を形成させる
。該オキソ中間体をアシル化の前に還元する。例として
、ラングへインら、オソフェンレグングシュリフト、２
３４巻、第１　９　６　５頁、１９７５年；ケミカルア
ブストラクト、８２巻、１５６１２／Ｗ，１９７５年、
参照のこと。
４．４−２１換された本発明の化合物類は以下の反応図
により、例えばＮ−フェニルメチル−４一とベリドンを
出発物質として製造することができる： Ｒ 本発明の化合物類は遊離塩基の型で有効であるが、安定
性、結晶化の便宜、溶解性の増大等の目的のために治療
上若し《は医薬上許容しうる酸付加塩類の型で処方及び
投与してもよい。これらの酸付加塩類には、塩酸塩、臭
化水素酸塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩、過塩素酸塩等
の無機酸塩頚、及び酢酸塩、トリフルオロ酢酸塩、プロ
ピオン酸塩、蓚酸塩、ヒドロキシ酢酸塩、メトキシ酢酸
塩、２−ヒドロキシプロビオン酸塩、２〜オキソプロビ
オン酸塩、プロパンシオン酸塩、２−ヒドロキシーブタ
ンジオン酸塩、安息香酸塩、２−ヒドロキシ安息香酸塩
、４−アミノー２−ヒドロキシー安息香酸塩、３−フェ
ニルー２−ブロベン酸塩、アルファーヒドロキシベンゼ
ン酢酸塩、メタンスルホン酸塩、エタンスルホン酸塩、
ベンゼンスルホン酸塩、トルエンースルホン酸塩、シク
ロヘキサンスルホン酸塩、コハク酸塩、酒石酸塩、クエ
ン酸塩、マレイン酸塩、フマル酸塩等の有機酸塩類が含
まれる。好ましい核酸付加塩は塩酸塩、蓚酸塩及びクエ
ン酸塩である。これらの酸付加塩類は、適当な酸による
本発明化合物の遊離塩基の処理等の通常の方法により製
造することができる。
遊離塩基型に製造された本発明の化合物類は、医薬上許
容しうるキャリヤーと組み合わせて医薬用組成物を提供
することができる。該遊離塩基類に適当なキャリヤーに
はフ゜ロピレングリコーノレーアルコールー水、等張水
、注射用無菌水（ＵＳＰ）、エマルフォアＴ″′−アル
コールー水、タレモフオアＥＬＴＭ若しくは当業者に既
知の他の適当なキャリヤー類が含まれる。
医薬上許容しうる酸付加塩型に製造された本発明の化合
物類も、医薬上許容しうるキャリヤーと組み合わせて医
薬用組成物を提供することができる。核酸付加塩類に適
当なキャリヤーには等張水のみ、注射用無菌水（ＵＳＰ
）のみ、若しくはこれらとエタノール、プロピレングリ
コール若しくは当業者に既知の一般的可溶化剤類等の他
の可溶化剤類との組み合わせが含まれる。
もちろん、当技術分野において一般的であるようにキャ
リア一の型は該医薬用組成物に求められる投与形態によ
って異なる。好ましいキャリヤーは本発明化合物の等張
水溶液である。
本発明の化合物類は、求める鎮痛治療効果を得るため、
若しくはアヘン系鎮痛薬の作用を消すために有効な量を
哺乳動物、たとえば動物若しくはヒトに投与することが
できる。本化合物類の活性及び求められる治療効果の程
度は多様であるため、本化合物の使用する用量レベルも
多様である。実際に投与する用量もまた患者の体重及び
特殊な患者の個人的過敏症等の一般に認知されている因
子によって決定される。たとえば、臨床医が求める効果
が得られろと考えるならば、特定の患者（人）に対する
単位用量が約０．　０　０　０　０　５ｍｇ／ｋｇ程度
まで低いこともありうる。
本発明の化合物類は、無菌溶液若しくは｝懸濁液の形態
で、先に述べたキャリヤーに含まれた形で静脈内、筋肉
内若しくは皮下等の非経口投与ができる．該化合物類は
また、当技術分野で一般的なように個々の投与方法にふ
さわしい医薬上許容しうるキャリヤーとともに、舌下、
直腸、若しくは経皮投与と同様に経口でも丸剤、錠剤、
カプセル剤、トローチ剤等の形態で投与してもよい。
非経口の治療用投与では、本発明の化合物類は無菌溶液
若しくは懸濁液中に組み込んでもよい。
これらの製剤は該非経口用組成物中１ｉ量比で最低約０
．１％の本発明化合物を含むべきであるが、この量は約
０．　１％から約５０％の間に変動してもよい。このよ
うな組成物類中に存在する本発明化合物の正確な量は適
当な用量レベルが得られるように定められる。本発明の
好ましい組成物及び製剤は非経口用の用量単位が約０．
５から約１００リミグラムの本発明化合物を含むように
調製される。
該無菌溶液若しくは懸濁液は、以下のアジュバンドを含
んでもよい：注射用水、生理食塩溶液、固定油類、ポリ
エチレングリコール、グリセリン、プロピレングリコー
ル、若しくは他の合成溶媒等の無菌希釈剤；ベンジルア
ルコール若しくはメチルバラベン等の抗菌剤；、アスコ
ルビン酸若しくはメタビサルファイトナトリウム等の酸
化防止剤；エチレンジアミン四酢酸（ＥＤＴＡ）等のキ
レート剤；酢酸塩、クエン酸塩若しくはリン酸塩等の緩
衝剤；及び塩化ナト１ノウム若し《はブドウ糖等の等張
調整剤。該非経口用製剤はガラス若しくはプラスチック
製のアンプル類、使い捨て注射筒、若しくは多投与用バ
イヤル中に封入してもよい。
本発明の化合物類は経口投与することもできる。
経口の治療用投与では、本化合物を賦形剤に混合しても
よく、錠剤、カプセル剤、エリキシル剤、懸濁剤、シロ
ップ剤、カシエ剤、チューインガム剤等の形態で使用し
てもよい。これらの製剤は、該経口用組成物中重量で最
低約４％の本発明化合物を含むべきであるが、この量は
個々の投与形態により約４％から約７０％の間で変動し
てもよい。
該組成物中に存在する本化合物の正確な量は適切な用量
が得られるように定められる。本発明の好ましい組成物
及び製剤は経口投与用の単位形態が約５から約３００リ
ミグラムの本発明化合物を含むように調製される。
該錠剤類、丸剤頽、カプセル剤類、トローチ剤類等も以
下のアジュバンドを含んでもよい：徽細結晶化セルロー
ス、ガムトラガカント若しくはゼラチン等の結合剤；で
んぷん若しくはラクトース等の賦形剤；アルギン酸、ブ
リモーゲル、コーンスターチ等の崩壊剤；ステアリン酸
マグネシウム若しくはステロテックス等の滑沢剤；コロ
イド状二酸化珪素等の滑剤（ｇｌｉｄｉｎｇ　ａｇｅｎ
ｔ）　；シｇ糖若しくはサッカリン等の甘味料；及びペ
パーミント、サリチル酸メチル若しくはオレンジ香料等
の香味料。該投与形態がカプセル剤の場合は、さらに脂
肪油等の液体キャリヤーを含んでもよい．他の投与単位
形態は腸溶性コーティング類等の該投与単位の物理的形
態を変化させる他の物質を含んでもよい。たとえば錠剤
若しくは九剤は砂糖、セラック、若しくは他の腸溶性コ
ーティング剤でコーティングされてもよい。シロソプ剤
は上記のアジュバンドに加えて甘味料としてのシッ糖、
保存料、染色料、着色料及び香味料を含んでもよい。
該医薬用組成物類を投与単位形態に処方することは投与
の簡便さ及び用量の均一性という点から特に有利である
。ここで用いた“投与単位形態”という用語は単位用量
として使用するのに適当な物理的に不連続な単位を意味
し、各単位は医薬用キャリヤーと共に求める治療効果を
もたらすように計算されたあらかじめ決められた量の活
性成分を含む．このような投与単位形態の例には錠剤（
溝付き若しくはコーティング錠剤を含む）、カプセル剤
、丸剤、粉末小包、カシエ剤、注射可能溶液若しくは懸
濁液、小さじ一杯、大さじ一杯等、及び分離されたそれ
らの複合物がある。
以下の実施例は本発明をさらに具体的に示すものであり
、本発明の化合物類及び組成物類の製造を例証する目的
であって、限定する目的で掲げたのではない。
スＪ１辻１ 本実施例は２級アミン中間体化合物類の製造を具体的に
示すものである。
以下の一般式を（９）型の２級アミン中間体化合物類 （式中、置換基Ｒ，Ｒｌ　，Ｒユ及びＲ４は先に定義さ
れたものを示す）の製造は、たとえば米国特許第４，５
８４，３０３号、Ｐ．Ｇ．Ｈ．バンダーレら、ジャーナ
ルオプアルツネイムーフォルシェドラッグリサーチ、２
６巻、第１５２１頁、１９７６年に述べられている。
大嵐斑主 本実施例はヘテロサイクリックアルキル求電子中間体化
合物類の製造を具体的に示すものである．本発明の化合
物類は本質的には実施例１からの（９）型の２級アミン
中間体化合物類を以下の式で示される（１０）型の適当
なヘテロサイクリックアルキル求電子中間体化合物 Ｒ茸Ｘ−−−−−−−−−−〜〜−−（１０）（式中、
置換基Ｒ．は告に定義されたものを示し、Ｘはハロゲン
化物若し《はその反応性等価物を示す）と反応させるこ
とにより製造された。
市販されている（１０）型のヘテロサイクリックアルキ
ル求電子中間体には、３−（２−クロロエチル）−２−
オキサゾリノン（アルドリフチ化学社、ミルウォーキー
、ウィスコンシン、以下“アルドリソチ”と表示）、４
−ビニルピリジン（アルドリッチ）、３−（ジメチルア
ミノメチル）インドール（アルドリッチ）　、Ｎ−　（
２−フロモエチル）フタルイミド（アルドリソチ）、２
一（クロロメチル）一ベンズイミダゾール（アルドリソ
チ）、４−（：７゛ロモメチル）−７−メトキシクマリ
ン（アルドリッチ）、８−クロロメチル２−フルオロベ
ンゾ−１．３−ジオキサン（メイプリッジ化学社、トレ
ヴイレット、テインタージエル、コーンウオールＴＬ３
４　　０ＨＷ英国、以下６メイブリッジ”と表示）、３
−（２−プロモエチル）−１．２，３．４−テトラヒド
ロ−２．４−ジオキソキナゾリン（メイブリッジ）、７
−（２−クロロエチル）テオフィリン（アルドリソチ）
、及びＮ−（クロロエチル）−１．８−ナフタルイミド
（アルドリッチ）がある。
天１町走 本実施例はヘテロサイクリックアルキル求電子中間体化
合物類の製造を具体的に示すものである。
先に公表されている方法から得られる（１０）型のヘテ
ロサイクリックアルキル求電子中間体類には、１−（２
−クロロエチル）−１Ｈ−ピロール（マシンら、ジャー
ナルオブメディカルケミストリイ、１９８４年、２７巻
、第５０８頁）、１−（２−トシルエチル）−１Ｈ−ピ
ラゾール（カルビオら、カナディアンジャーナルオブケ
ミストリイ、１９８２年、６０巻、第２２９５頁）、塩
酸１−（２−クロロエチル）−１Ｈ−イミダゾール（ト
ーマスら、独国特許（Ｂ．　Ｇｅｒ，　Ｏｆｆｅｎ．）
第３．４３８．９１９号、１９８６年）、５−ニトロー
１−（２−クロロエチル）−１Ｈ−イミダゾール（カブ
ラヴら、アクタオブファーマシイオブユーゴスラビア、
１９７５年、２５Ｓ、第７１頁）、２−メチル−５−二
トロ−１−（２−クロロエチル）−１Ｈ−イミダゾール
（アルカルデら、ジャーナルオブヘテ口サイクリソクケ
ミストリイ、１９８４年、２１巻、第１６４７頁）、塩
酸４−（２−クロロエチル）−１Ｈ−イミダゾール（タ
ーナーら、ジャーナルオプザアメリカンケミカルケソサ
イエティ、１９４９年、７１巻、第３４７６頁、塩酸４
−（２−クロロエチル）一イミダゾールのアルコール前
駆体はハーシュら、ジャーナルオブアプライドケミスト
リイ、１９６９年、１９巻、第３８頁、の方法により通
常供給された）、ｌ−メチル−２−　（２−クロロエチ
ルチオ）−１Ｈ−イミタソール（トウヴアイト、独国特
許（Ｒ．　Ｃ．Ｇｅｒ．　Ｏｆｆｅｎ．）第２３４８５
２５号、１９７８年；ケミカルアブストラクト、１９７
４年、８１巻、第６３６２６ｂ真）、２−（プロモアセ
チル）チオフエン（キプニスら、ジャーナルオブザアメ
リカンケミカルソサイエティ、１９４９年、７１巻、第
１０頁）、２−（プロモアセチル）フラン（ルージーら
、ヨーロビアンジャーナルオブケミストリイ、１９８７
年、２２巻、第４５７頁）、５−メチル−２−クロロア
セチルフラン（ベストら、テトラヘドロンレターズ、１
９８１年、２２巻、第４８７７頁）、１−（２−プロモ
エチル）−３−メチル−４−アミノー５−（１Ｈ）一ト
リアゾリノン（マルベソクら、ジャーナルオブヘテ口サ
イクリックケミストリイ、１９８４年、２１巻、第１７
６９頁）、３−メチルーエー（２−プロモエチル）−１
．６−ジヒドロ−１Ｈ−ピリダジン−６−オン（トシヒ
ロら、ジャーナルオブメディカルケミストリイ、１９８
２年、２５巻、第９７５頁）、１−（２−クロロエチル
）−１Ｈ−ペンズイミダゾール（ボツハルスキイら、Ｋ
ｈｉｍ．　Ｇｅｔｅｒｏｔｓｉｋｌ，　Ｓｏｅｄｉｎ，
１９６９年、第８６９頁；ケミカルアブストラクト、１
９６９年、７２巻、第１１１３７０ｂ頁）、（１’−（
２−ブロモエチル）スピローシク口プロパン’）−１．
３’−　（３Ｈ）　一インドール−２’−（１’Ｈ）一
オン（ロバートソンら、ジャーナルオブメディカルケミ
ストリイ、１９８７年、３０巻、第８２４頁），６−（
２−プロモアセチル）−１．３−ペンズオキサゾリン−
２−オン（バフカー一レディンら、プレタンオブソサイ
エティオブファーマシイオブリーレ、１９８１年、３７
巻、第８９頁）、７−（２−プロモエトキシ）クマジン
（アビシエヴら、Ｋｈｉｍ．　−Ｆａｒｍ．　Ｚｈ．，
１９８５年、１９巻、第７５６頁；ケミカルアブストラ
クト、１９８５年、１０３巻、第１３４３０５　ｇ頁）
、及び２−メチル−３−（２−クロロエチル）−３．４
−ジヒドロキナゾリン−４−オン（Ｐ．シン、ジャーナ
ルオブインディアンケミストリイ、１９７８年、５５巻
、第８０１頁）がある。
スｍ支 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
（１０）型のヘテロサイクリックアルキル求電子中間体
類は、市販されていない場合は通常３経路のアルキル化
により合成された。これらの経路とは（１）ソジウムエ
トキサイドーエタノール、（２）水素化ナトリウムージ
メチルホルムアミド、若しくは（３）第４アンモニウム
相転移溶媒を用いての、適当なヘテロサイクリノク中間
体の２−プロモクロ口エタン若しくは１，２−ジブロモ
エタンによる置換を含む６周辺チオ基のアルキル化が少
数の反応で起きた。該アルコール中間体類はトシル化若
しくはチオニルクロライドによる塩素化によって活性化
された。
該へテロサイクリックアルキル求電子中間体類は通常以
下の方法で後処理された。反応溶媒を減圧？店縮し、粗
残渣を塩化メチレン（ＣＨｚＣ　ｌ　２）若しくはクロ
ロホルム（ＣｌｌＣｊ！３）　（５　０ｍｌ）及び水（
５　０ｍＡ）で分液し、水層に有機溶媒を加えて抽出し
、合わせた有機抽出液を水（５０ｍｊ！）及び塩水（３
０ｍｎ）で洗浄し、該有機層を硫酸ナトリウム（Ｎａｚ
ＳＯｉ）上で乾燥した。
（１０）型のヘテロサイクリックアルキル求電子中間体
類は通常以下の溶媒系を用いたカラムクロマトグラフィ
ーにより精製された； Ａ−クロロホルム； Ｂ＝７口口ホルムーメタノールートリエチルアミン、１
９：１：０．１； Ｃ＝クロロホルムーメタノールートリエチルアミン、８
０：１：０．１； Ｄ＝クロロホルムーメタノール、１９：１；Ｅ＝クロロ
ホルムーメタノール、４０：１；Ｆ＝ヘキサンー酢酸エ
チルートリエチルアミン、４：１：０．１； Ｇ−ヘキサンー酢酸エチルートリエチルアミン、５：１
：０．１； Ｈ＝ヘキサンー酢酸エチルートリエチルアミン、５：５
：０．１； Ｉ＝ヘキサンー酢酸エチルー水酸化アンモニウム、３：
１：０．１； Ｊ＝ヘキサンー酢酸エチル、１：１； Ｋ＝ヘキサンー酢酸エチル、３３； Ｌ＝ヘキサンー酢酸エチル、７；１。
該ヘテロサイクリックアルキル求電子中間体類の純度は
３層クロマトグラフィ−（Ｔ　Ｌ　Ｃ）分析により確認
した。該ヘテロサイクリ・ノクアルキル求電子中間体類
の構造は’Ｈ　ＮＭＲ分析により該ヘテロサイクリック
部分の固有な共鳴を、その直接の前駆体の固有な共鳴と
比較して、確認した．通常２個の顕著な三重項が約３．
７０ｐｐｍ（へテロサイクＪＬ／　−　Ｃ｝Ｉ．ＣＨ．
Ｘ）及び約４．２０ｐｐｍ　　（ペテロサイクルーＣＨ
ｚ〔１ＩｚＸ）に観察された。これらのヘテロサイクリ
ノクアルキル求電子中間体類はこれ以上の特徴付けをす
ることなく本発明の化合物類の合成に直接使用した。
各ヘテロサイクリックアルキル求電子中間体に直接関係
するデータを、各一般方法の後に以下の形式で下に示す
：　（ヘテロサイクリフクアルキル求電子前駆体、前駆
体の出所、％収率、カラムクロマトグラフィー溶媒系の
記号表示）。
ナトリウム粒（０．７９ｇ，　３４．３　ｙｎ解０１）
を無水エタノール（１５０一ｌ）に溶解し、該溶液を室
温に冷却した。３．５−ジエトキシ力ルボニル−１Ｈ−
ピラゾール（７．３　ｇ，　３　４．３　ｍｍｏ，ｉ！
，マカベら、プレタンオプケミカルソサイエテイオブジ
ャパン、１９７５年、４８巻、第３２１０頁）を該溶液
に一度に加え、該反応混液を室温で２０分間攪拌した。
１．２−ジブロモエタン（３４．３ｆｆｌ１１６９．６
　ｍｍｏｆｆ）をその後該反応混液ニ一度に加え、２４
時間加熱還流した。該反応混液をその後冷却し、減圧濃
縮して、残渣を前述のように後処理した。該中間体をカ
ラムクロマトグラフィ・−（４００ｇ微細シリカ；クロ
ロホルムーメタノール、４０：１）により精製して３．
９ｇ（３１％）の２−（３．５−ジエトキシカルボニル
−１Ｈピラゾール−ーｌ−イル）エチルプロマイドを得
た。
去隻炎｝ 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において３．５−ジエトキシカルボニル
−１Ｈ−ピラゾールの代わりに当量の４，５〜ジエトキ
シ力ルポニル−１Ｈ−イミダゾールを用いて、２−　（
４．５−ジエトキシ力ルボニル−１Ｈ−イミタソール−
１−イル）エチルブロマイドをカラムクロマトグラフィ
ーの後に単離する（４．５−ジエトキシ力ルポニル−１
Ｈ−イミダソール、バウワーら、ヘテロサイクリックケ
ミストリイ、１９６４年、１巻、第２７５頁、５２％、
Ｄ）。
ス施』玉 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３．５−ジェトキシ力ルボニ
ル−１Ｈ−ピラゾール−の代わりに当量の１．２．４−
｝リアゾールを用い、１，２−ジプロモエタンの代わり
に当量の２−フ゛ロモクロ口エタンを用いて、２−　（
１−Ｈ−｝リアゾール−１イル）エチルクロライドを単
離する（１．２．４−トリアゾール、アルドリッチ、４
３％、後処理の後直接使用）。
実施例７ 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化へテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３．５−ジエトキシカノレボ
ニル−１Ｈ−ピラソ゛−ノレの代わりに当量の５−フェ
ニルー２Ｈ−テ｝・ラゾールを用い、１，２−ジブロモ
エタンの代わりに当量の２−プロモクロロエタンヲ用い
て、２−　（５−フェニル−２Ｉ｛−テトラゾール）エ
チルクロライドをカラムクロマトグラフィーの後に単離
する（５−フェニル２Ｈ−テトラソール、カンプら、米
国特許第２，５３３．２４３号；ケミカルアブストラク
ト、１９５０年、４５巻、第４２７１ｃ頁、エタノール
から４８％、ｍｐ．５２〜５６℃）。
尖施炎盈 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３．５−ジエトキシカルボニ
ル−Ｉ　Ｈ−ピラ゛ゾールの代わりに当量の５−（１−
モルフォリニル）−２Ｈ−テトラゾールを用い、１，２
−ジブロモエタンの代わりに当量の２−プロモクロ口エ
タンを用いて、２−　（５（１−モルフォリニル）−２
Ｈ−テトラゾール２−イル）エチルクロライドをカラム
クロマトグラフィーの後に単離する（５−（１−モルフ
ォリニル）−２Ｈ−テトラソール、メイブリッジ、４５
％）。
■件主 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリフクアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３，５−ジエトキシカルボニ
ノレ上Ｈ−ビラン゛−ノレの代わりに当量の１−メチル
−５−（２−クロロエチルチオ）−１Ｈ−テトラゾール
を用い、１，２−ジブロモエタンの代わりに当量の２−
プロモクロロエタンを用いて、２−（１−メチル−５−
（２−クロロエチルチオ）−１日−テトラゾール−５−
イル）エチルクロライドをカラムクロマトグラフィーの
後にｌｔｔる（１−メチル−５−（２−クロロエチルチ
オ）上Ｈ−テトラゾール、アルドリノチ、５９％，Ａ）
。
尖立炭土■ 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化へテコサイクリ・ノクアルキル求電子中
間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３．５−ジエトキシカルボニ
ノレ−１Ｈ−ビラソ゛−ノレの代わりに当量の５−メチ
ルチオ−１．３．４−チアジアゾール−５−チオンを用
い、１，２−ジブロモエタンの代わりに当量の２−プロ
モクロ口エタンを用いて、２−（５−メチルチオ−１　
．３．４−チアジアゾール−２−イル）チオメチルクロ
ライドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（５
−メチルチオ−１．３．４−チアジアゾール−５−チオ
ン、アムバシイら、シンセシスアンドリアクションオプ
インオーガニンクアンドメタロオーガニソクケミストリ
イ、１９８６年、１６巻、第１２８９頁、４１％，Ｃ）
。
止扛よ 本実施例はエタノール中でソジウムエトキサイドを用い
てのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電子中間
体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例４の方法において、３．５−ジエトキシカルボニ
ル−１Ｈ−ピラゾール−の代わりに当量の５−フェニル
ー１，　　３．　　４−オキサジアゾール−５−チオン
を用い、１，２−ジブロモエタンの代わりに当量の２−
フ′ロモクロ口エタンを用いて、２〜（２．３−ジヒド
ロ−２−チオキソ−５−フェニルー１，２．４−オキサ
ジアゾール−３−イル）エチルクロライドをカラムクロ
マトグラフィーの後に単離する（５−フェニルー１．３
．４−オキサジアゾール−５−千オン、エルバーバリイ
ら、ケミカルアブストラクト、１９８５年、５８巻、第
７１頁、５９％、酢酸エチル、次いでメタノール）。
天施例１２ 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
水素化ナトリウム（３．９ｇ、８１．３ｉｍｏＩ！、５
０％鉱物油分散）を窒素ガス下でヘキサンで洗浄し、鉱
物油を除去した（３　Ｘ　１　０ｍ６）。その後１，３
−ペンズオキサゾリン−２−オン（アルドリッチ、１　
０　ｇ，　７　４　ｍｎ＋ｏｊ２）のジメチルホルムア
ミド（ＤＭＦ）（７０ｎ＋ｉ’）溶液を該水素化物に水
素放出が止むまで攪拌しながら滴下混合した。該反応フ
ラスコを水中に浸し、ジメチルホルムアミド（３　０ｍ
ｆ）中の２−プロモクロロエタン（１　２．３ｍＡ，　
１　４　８　ａｒｍａｒ）を滴下混合した。
該反応混液を室温で３０分間攪拌した後、３日間加熱還
流した。この処理の終了後に薄層クロマトグラフィー分
析から原料物質の消失が示された。
該反応混液をその後冷却し、溶媒を減圧留去した。
該残渣を前述のように後処理し、カラムクロマトグラフ
ィーにより精製し（４　０　０　ｇ微細シリカ、クロロ
ホルムーメタノールー水酸化アンモニウム、８０：１：
０．１）、１１．７ｇ　（８０％）の純粋な２−（２−
オキソー１．３−ペンズオキサゾリンー３−イル）エチ
ルクロライＦ（ｍｐ．７７〜７９℃）を淡オレンジ色固
体として得た。
叉施斑上ユ 本実施例はジメチル未ルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化へテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例１２の方法において、１．３−ベンズオキサソ゛
リン−２−オンの代わりに当量の１−エチル−２−イミ
ダゾロンを用い、２−プロモクロロエタンの代わりに当
量の１．２−ジブロモエタンを用いて、２−（３−エチ
ル−２，２−ジヒドロ２−オキソ−１Ｈ−イミダゾール
〜１−イル）エチルブロマイドをカラムクロマトグラフ
ィーの後に単離する（１−エチル−２−イミダゾロン、
コルテスら、ジャーナルオブオーガニックケミストリイ
、１９８３年、４８巻、第２２４６頁、１７％Ａ）。
次Ｊｉｌｉｉｌ土 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化へテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例ｌ２の方法において、１．３−ペンズオキサソ゛
リン−２−オンの代わりに当量の１−エチル−２，４−
キナゾリンジオンを用い、２−プロモクロロエタンの代
わりに当量の１．２−ジフ゛ロモエタンを用いて、２−
（１−エチル−１．２，３．４−テトラヒドロ−２，゛
４−ジオキソ−３Ｈ−キナゾリン−３−イル）エチルブ
ロマイドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（
１−エチル−２，４−キナゾリンジオン、ダスら、ジャ
ーナルオブインディアンケミストリイ、１９６３年、４
０巻、第３５頁、５５％、塩化メチレンより結晶化）。
去旌斑土工 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例ｌ２の方法において、１．３−ペンズオキサゾリ
ン−２−オンの代わりに当量の２−ビロール力ルポキサ
ルデヒドを用いて、２−（２−ホルミル−１Ｈ−ピロー
ル−１−イル）エチルクロライドをカラムクロマトグラ
フイーの後に単離する（２−ピロールカルボキサルデヒ
ド、アルドリッチ、４８％、■）。
去１』ＬＬｉ 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例１２の方法において、１，３−ベンズオキサプリ
ン−２−オンの代わりに当量の３−エチルウラシルを用
いて、２−　（１，２．３．４−テトラヒドロ−２．４
−ジオキソ−３−エチルーピリミジン−１−イル）エチ
ルクロライドをカラムクロマトグラフィーの後に単離す
る（３−エチルウラシル、ボゴロソティら、ジャーナル
オブファーマシューティカルサイエンス、１９７２年、
６１巻、第１４２３頁、６０％，　Ｃ＞。
去侮斑土工 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例１２の方法において、１．３−ベンズオキサソ゛
リン−２−オンの代わりに当量のオキシンドールを用い
て、２−　（２．３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−イ
ンドール−１−イル）エチルクロライドをカラムクロマ
トグラフィーの後に単離する（オキシンドール、アルド
リッチ、１５％、Ｌ）。
大旌炎土主 本実施例はジメチルホルムアミド中で水素化ナトリウム
を用いてのハロゲン化ヘテロサイクリックアルキル求電
子中間体化合物類の製造を具体的に示すものである。
実施例１２の方法において、１，３−ペンズオキサゾリ
ン−２−オンの代わりに当量の１，４ーベンゾチアジン
−３（４Ｈ）一オンを用いて、２−　（２．３−ジヒド
ロ−３−オキソー４Ｈ−１．３−ペンヅチアジン−４−
イル）エチルクロライドをカラムクロマトグラフィーの
後に単離する（１．４−ベンゾチアジン−−３（４Ｈ）
一オン、アルドリッチ、８％、Ｇ）。
去』ＪＬＬ１ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
１−エトキシカルボニル−２Ｈ−インダゾリン−３−オ
ン（ウィリフクら、ジャーナルオブメディカルケミスト
リイ、１９８４年、２７巻、第７６８頁）　　（３ｇ，
　１４．５　ｍｍｏｆ）のテトラヒドロフランージメチ
ルホルムアミド（ＴＨＦ−ＤＭＦ）（　２５　：　基、
ｍｌ）ｊ容液を、１．２−ジフ゛ロモエタン（４．２ｇ
、２９ＩｌｌＩＩＩＯｌ）、粉砕した水酸化カリウム（
ＫＯＨ）　　（１．１　ｇ−　　１　６．７　ｍｍｏｔ
！，　８５．５％）、テトラブチルアンモニウムブロマ
イド（１．４ｇｚ　４．４　ｓｍｏｇ）　、及びテトラ
ヒド口フラン（５ｍＪ）の攪拌下懸濁液に一度に加えた
。該反応混液を３日間加熱還流し、この時、薄層クロマ
トグラフィー分析から原料物質の消失と２個の新しいス
ポットの出現が示された。該生成物を前述のように後処
理した。該粗生成物を勾配溶出力ラムクロマトグラフィ
ーにより精製した（２　０　０　ｇ微細シリカ；第１成
分溶出用としてヘキサンー酢酸エチル、７：１、その後
第２成分溶出用として３：１から１．　１の該溶媒系）
．該第１成分は分光光度計により３−（２−クロロエト
キシ）−１−エトキシカルボニル−１Ｈ−インダゾール
（２．２ｇ，５６％．ＲｆＯ．３４、ヘキサンー酢酸エ
チル、３：１）と同定され、該第２成分は分光光度計に
より１−エトキシ力ルボニル−２−（２−クロロエチル
）−２Ｈ−インダゾリン−３−オン（０．６ｇ，１５％
；Ｒｆ０．１６）と同定された。該第１成分を本発明の
化合物類の製造に使用した。
去嵐拠主エ ？実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において１−エトキシ力ルボニル−２
Ｈ−インダゾリン−３−オンの代わりに当量のビリチル
ジオンを用い、溶媒にテトラヒド口フランを用いて、２
−　（１．２，３．４−テトラヒドロ−２，４−ジオキ
ソ−３．３−ジエチルビリジン−１−イル）エチルブロ
マイドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（ピ
リチルジオン、アルドリフチ、５２％、Ｆ）。
犬ｑ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において１−エトキシカルボニル−２
Ｈ〜インダゾリン−３−オンの代わりに当量の５−イソ
フ゜ロビル−１，２■　４−トリアゾリン−６−オンを
用い、溶媒にトルエンを用いて、２−　（１．６−ジヒ
ドロ〜５〜イソブロビルー６一オキソー１．２．４−｝
リアジン−１−イル）エチルブロマイドをカラムクロマ
トグラフイーの後に単離する（５−イソブロビル−１．
２．４−トリアゾリン−６−オン、テイラーら、ジャー
ナルオブヘテ口サイクリソクケミストリイ、（１９８５
年、２２巻、第４０９頁、４９％、Ｊ）。
次ｆｌ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、■−エトキシカルポニル−
２Ｈ−インダゾリン−３−オンの代わりに当量の１．８
−ナフタレンを用い、溶媒にベンゼンを用いて、２−　
（Ｎ−１．８−ナフタレンカルボキサミジル）エチルブ
ロマイドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（
１．８−ナフタレン、アルドリッチ、１８％、Ｃ）。
スｍ？＋２３ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例Ｉ９の方法において、１−エトキシ力ルボニル−
２　１１−インダゾリン−３〜オンの代わりに当量の３
−メチノレビラ゛ゾーノレを、また１．２〜ジブロモエ
タンの代わりに２〜プロモクロ口エタンを用い、｝容媒
にトルエンを用いて、２−（３−メチル−１Ｈ−ピラゾ
ール−−１−イル）エチルクコライドをカラムクロマト
グラフィーの後に単離する（３−メチルピラゾール、ア
ルドリノチ、３６％、Ｃ）。
ｎ本１−主↓ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化へテロサ
イクリソクアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシ力ルポニル−
２Ｈ−インダブリン−３−オンの代わりに当量の３．５
−ジメチノレピラゾール−を、また１，２−ジブロモエ
タンの代わりに２−プロモクロ口エタンを用い、溶媒に
テトラヒド口フランを用いて、２〜（３，５−ジメチル
−１Ｈ−ピラゾール−ーｌ−イル）エチルクロライドを
カラムクロマトグラフィーの後に単離する（３，５−ジ
メチルピラゾール−、アルドリッチ、２４％、Ｃ）。
大止拠主立 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシカルポニル−
２Ｈ−インダブリン−３−オンの代わりに当量の４−コ
ードピラゾール−を、また１．２一シフロモエタンの代
わりに２−プロモクロ口エタンを用い、溶媒にトルエン
を用いて、２−（４−ヨー１’−　Ｉ　Ｈ−ピラゾール
−−１−イル）エチルクロライドをカラムクロマトグラ
フィーの後に単離する（４−ヨードピラゾール、アルド
リッチ、４１％、Ｃ）． 大嵐奥又亙 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシ力ルボニル−
２　Ｈ−インダブリン−３−オンの代わりに当量の１−
フェニルー３（２Ｈ）一ピラソ゛リノンを、また１，２
−ジプロモエタンの代わりに２ーブロモクロロエタンを
用い、溶媒にテトラヒド口フランを用いて、２−　（２
，３，４．５一テ１・ラヒドロ−２−フェニルー５−オ
キソ−１Ｈ−ピラゾール−ー１−イル）エチルクロライ
ドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（１−フ
ェニルー３（２Ｈ）一ビラゾリノン、アルドリソチ、７
９％、Ｊ）。
１（施例２７ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシカルボニル−
２Ｈ−インダゾリン−３−オンの代わりに当量の１−フ
エニノレー３（２Ｈ）一ピラゾリノンを、また１．２−
ジブロモエタンの代わりに２ープロモクロ口エタンを用
い、ｔ容媒にテトラヒドロフランを用いて、２−　（２
，３，４．５−テトラヒドロ−２−フェニルー５−オキ
ソーＩ　Ｈ−ピラゾール−ー１−イル）エチルクロライ
ドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（１−フ
ェニル−３（２Ｈ）一ピラゾリノン、アルドリソチ、７
９％、Ｊ）。
尖韮団２　Ｅｊ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリフクアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシカルボニル−
２Ｈ−インダブリン−３−オンの代わりに当量の３−エ
チル−３−フェニルグルタリミドを、また１，２−ジブ
ロモエタンの代わりに２一フ′ロモクロロエタンを用い
、冫容媒にテトラヒド口フランを用いて、２−　（２．
６−ジオキソ−３エチル−３−フェニルピペリジン−１
−イル）エチルクロライドをカラムクロマトグラフィー
の後に単離する（３−エチル−３−フェニルグルタリミ
ド、タグマン，Ｅ．Ａ，ヘルベティアンケミストリイア
クタ、１９５２年、３５巻、第１５４１頁、８４％、Ｃ
）。
爽嵐叫又ユ 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリノクアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例ｌ９の方法において、ｌ一エトキシ力ルボニル−
２　８−インダブリン−３−オンの代わりに当量の４−
ビリミドンを、また１．２−ジフ′ロモエタンの代わり
に２−プロモクロ口エタンを用いて、２−　（１．６−
ジヒドロ−６−オキソピリミジン−１−イル）エチルク
ロライドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（
４−ピリミドン、アルドリッチ、３４％、Ｂ）。
ｌＬｆボ灸見 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化へテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシ力ルボニル−
２Ｈ−インダゾリン−３〜オンの代わりに当量の２−メ
チル・チオー５−メチル−１，３ピリミジン−６−オン
を、また１．２−ジブロモエタンの代わりに２−プロモ
クロ口エタンを用い、溶媒にテトラヒド口フランを用い
て、２−（２−メチルチオー・１．６−ジヒドロ−４−
オキソー５一メチルピリミジン−１−イル）エチルクロ
ライドをカラムクロマトグラフィーの後に単離する（２
−メチルチオ−５−メチル−１．３−ピリミジン−６−
オン、スペングラーら、アーカイブスオブファーマシイ
　（ヴエインヘイム）、１９８４年、３１７巻、第４２
５頁、２６％、Ｊ）。
ｘｆｉ上 本実施例は相転移触媒の存在下でのハロゲン化ヘテロサ
イクリックアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体
的に示すものである。
実施例１９の方法において、１−エトキシカルボニル−
２Ｈ−インダゾリン−３−オンの代わりに当量の３−エ
チノレ−２−ペンズイミタ゛ソ゛リノンを、また１．２
−ジブロモエタンの代わりに２＝プロモクロロエタンを
用い、溶媒にテトラヒドロフランを用いて、２−（３−
エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンズ
イミダゾール−１−イル）エチルクロライドをカラムク
ロマトグラフィーの後に単離する（３−エチル−２ペン
ズイミダゾリノン、アルドリソチ、６％、Ａ）。
夫止桝主１ 本実施例はアルコールからのトシル化ヘテロサイクリッ
クアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体的に示す
ものである。
２−ヒドロキシメチル−１，４−ベンゾジオキサン−（
メイブリッジ、５　ｇ，　３　０　ｍｍｏｆｆ）の塩化
メチレン（５　０ｍＮ）？容液にトリエチルアミン（４
．２ｍｊ？、３０ｍｍｏ１）を一度に加え、次いでバラ
ートルエンスルホニルクロライド（５．７ｇ，３０ｍｍ
ｏｌ）を数回に分けて加えた。弱発熱反応が続いて起き
た。該反応混液を一晩攪拌した。
沈殴した塩酸トリエチルアミンを濾過分離し、塩化メチ
レン（５　Ｑｎ＋４？）で洗浄した。該有機溶媒を１０
％塩酸水（５　０ｍＩ！）　、水（５　０ｍｆｆ）　、
塩水（３　０＋ｎｊ！）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥した。カラムクロマトグラフィーによる該粗生成物
の精製（４　０　０　ｇ微細シリカ、ヘキサンー酢酸エ
チルートリエチルアミン；１００：１００：１）により
純粋な（１．４−ベンゾジオキサン−−２−イル）メチ
ルトシレートを得たく６６％）。
実隻拠１主 本実施例はアルコールからのトシル化ヘテロサイクリッ
クアルキル求電子中間体化合物類の製造を具体的に示す
ものである。
実施例３２の方法において、２−ヒドロキシメチル−１
．４−ベンソ゛ジオキサンの代わりに当最の２−（２−
ヒドロキシエチル）−２．３−ジヒドロ−３（２Ｈ）一
イソインドリノンを用いて、２−（１．３−ジヒドロ−
１−オキソー２Ｈ−イソインドール−２−イル）エチル
トシレートをカラムクロマトグラフィーの後に単離する
（２一（２−ヒドロキシエチル）−２．３−ジヒドロ−
３（２Ｈ）一イソインドリノン、ミナスカニアンら、欧
州特許ＥＰ１９４６８５Ａｊｌ！　（１９８６年）；ケ
ミカルアブストラクト、１９８６年、１０６巻、第４８
９４ｚ頁、６６％、ｍｐ．７５〜７７．５℃、エーテル
から）。
火遊ｉＪＬＬ土 本実施例はアルコールからの塩素化ヘテロサイクリック
アルキル求電子中間体化合物類の製造を具体的に示すも
のである。
クロロホルム（１　５ｍＮ）中のチオニルクロライド（
　ＳＯＣｌｚ　、６．２ｍｆｆ）を、クロロホルム（１
　０ｍ６）中の２−（２−ヒドロキシエチル）ビリジン
（アルドリソチ、ｌ　Ｏ　ｇ’−　８　１　　ｍｍｏｌ
）の水冷溶液に滴下混合した。混合が完了した後、該反
応混液を１５時間攪拌した。該溶媒及び過剰のチオニル
クロライドを真空ロータリーエバボレーターで除去し、
高真空状態を続けた（９０分間、０．　５　ｍｍＨｇ、
８０℃）。該粗茶色固体をイソブロパノールーイソプロ
ビルエーテルから再結晶して、１　０．　８　ｇの純粋
な塩酸２−（２−ピリジニル）エチルクロライド（ｍｐ
．１２４〜１２５℃、文献ｍｐ．約１２０℃、ガンプら
、米国特許第２．５３３．２４３号；ケミカルアブスト
ラクト、１９５０年、４５巻、第４２７ＩＣ頁）を淡黄
褐色ビーズとして得た。
ス１』引３５ 本実施例はアルコールからの塩素化ヘテロサイクリック
アルキル求電子中間体化合物類の製造を具体的に示すも
のである， 実施例３４の方法において、２−（２−ヒドロキシエチ
ル）ピリジンの代わりに当量の４−メチル−５−（２−
ヒドロキシエチル）チアゾールを用い、溶媒にベンゼン
を用いて、塩酸２−（４−メチルチアゾール−５−イル
）エチルクロライドをカラムクロマトグラフィーの後に
単離する（４ーメチル−５−（２〜ヒドロキシエチル）
チアゾール、アルドリッチ、７１％、ｍｐ．　　１　３
　５　−１３７　’Ｃ１イソプロパノールから）。
去ｌ』１し患 本実施例はアルコールからの塩素化ヘテロサイクリック
アルキル求電子中間体化合物類の製造を具体的に示すも
のである。
実施例３４の方法において、２〜（２−ヒドロキジエチ
ル）ピリジンの代わりに当量の３−（２一ヒドロキシエ
チル）ビリジンを用いて、塩酸２−（３−ビリジニル）
エチルクロライドをカラムクロマトグラフィーの後に単
離する（３−（２−ヒドロキシエチル）ビリジン、タム
ラら、シンセシス、１９７７年、第１頁、６５％、ｍｐ
．１５４−１５５℃）。
去１』［Ｌ１ 本実施例は本発明の化合物類の製造を具体的に示すもの
である。
通常、本発明の化合物類は、実施例１から得た（９）型
の２級アミン中間体化合物（約１ｇ）を、実施例２−３
６から得た（１０）型のヘテロサイクリックアルキル求
電子中間体化合物の１０％過剰量と、当量の炭酸ナトリ
ウム（約１．５ｇ）及び触媒量のヨウ化ナトリウム（約
１００ｍｇ）の存在下で還流アセトニトリル中で反応さ
せることにより製造した。該求電子中間体化合物がアル
ファーハロケトンの場合には、該反応は通常室温で行な
われた。該反応の完了は薄層クロマトグラフィー分析に
より原料物質の消失で判定した。該反応混液をその後濾
過して不溶性物質を除去し、濾液を減圧濃縮した。該粗
濃縮物を１０％塩酸水（４０一ｌ）及びエーテル（４０
ｍｌ）で分液した。該酸性水層をさらにエーテルで抽出
した後、６Ｎ水酸化ナトリウム水溶液でアルカリ性にし
た。遊離した塩基を塩化メチレン（２　Ｘ　４　０ｍＪ
）で抽出し、該有機抽出液を水（５０ＩｌｌＮ）、塩水
（３　０ｍｆ）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥した
。該粗生成物を微細シリカを用いてクロロホルムーメタ
ノールー水酸化アンモニウムで溶出するカラムクロマト
グラフィーにより精製した。
天１劃「し影二１」ユ 本実施例は本発明のアミノアルコール化合物類の製造を
具体的に示すものである。
ソジウムボＯハイドライド（ＮａＢｔ＋ａ　、１　０　
０ｍｇ）を攪拌中の適当なアミノケトン（　２　ｍｍｏ
　ｊ！　）の無水エタノール溶液（１．Ｏｎ／！）に加
えた。該反応混液の薄層クロマトグラフィー分析により
通常室温で３０分間撹拌の後に反応の完了が示された。
該反応混液をその後減圧？ａｍし、前述のように後処理
した。該粗生成物を微細リシカ上にクロロホルムーメタ
ノールー水酸化アンモニウムの溶媒系を用いたカラムク
ロマトグラフィーにより精製した。
以下の本発明のアミノアルコール化合物類は上記の方法
により製造された： Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシー
２−（２−チエニル）エチル）−４−メトキシカルボニ
ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシー
２−（２−チエニル）エチル）−４一メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−
Ｎ−　（１−　（１−メチルー２−ヒドロキシ−２−（
２−チエニル）エチル）一４−メトキシメチル−４−ピ
ペリジニル〕プロバンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシー
２−（２−フラニル）エチル）−４一メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−
Ｎ−　（１−（２−ヒドロキシ−２−（５−メチル−２
−フラニル）エチル）＝４−メトキシメチル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミド ス１劃Ｌ（１ 本実施例は本発明の化合物類を製造する一般的方法を具
体的に示すものである。
実施例Ｉで得た（９）型の適当な２級アミン中間体化合
物（バンダーレら、ジャーナルオプアルッネイムーフォ
ルシュドラッグリサーチ、１９７６年、２６巻、第１５
２１頁）　　（１．１　５　ｇ，　４．２ｆｆｌｒａｏ
１）、４−ビニルビリジン（０．６　７　ｇ，　６．３
１ＩＩＩＩＱ１）、及び２−メトキシエタノール（１　
０ｍｆ）の混合液を一晩還流下攪拌した．この終了時点
に、該反応混液の薄層クロマトグラフィー分析から反応
の完了が示された。その後該反応混液を減圧濃縮し、粗
ｆｌｙ，縮物を１０％塩酸水（４０ＩＩＩ１）及びエー
テル（４　０ｎ＋１）で分液した。該酸性水層をさらに
エーテルを加えて抽出した後、６Ｎ水酸化ナトリウム溶
液でアルカリ性にした。遊離した塩基を塩化メチレン（
２　ｘ　４　０＋＋ｊ！）で抽出し、該有機抽出液を水
（５　０ｍｅ）及び塩水（３　０ｍ６）で洗浄し、硫酸
ナトリウム上で乾燥させた。該粗生成物をカラムクロマ
トグラフィー｛１３５ｇ微細シリカ；より速い過剰の４
−ビニルビリジンを｝容出するために、クロロホルムー
メタノールー水酸化アンモニウム；４０：１：０．０１
；その後、フラノジュクロマトグラフィー；同カラム；
クロロホルムーメタ，ノールー水酸化アンモニウム；３
０：１１０．１）により精製して、純粋なＮ一（フェニ
ル）　　一Ｎ−　（１　−　（２−　（４−ビリジニル
）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕
プロパンアミド（１．２２ｇ、７４％）を金色油状吻質
として得た。
夫施桝土↓ 本実施例は本発明の化合物類を製造する一般的方法を具
体的に示すものである。
実施例１で得た（９）型の適当な２級アミン中間体化合
物（バンダーレら、ジャーナルオブアルッネイムーフォ
ルシュドラッグリサーチ、１９７６年、２６巻、第１５
２１頁）　　（０．９　４　ｇ，　３．２ｍｍｏ５）、
３−（ジメチルアミノメチル）−１Ｈ−インドール（０
．６　２　ｇ，　３．６ｍｍｏｌ）　、Ｎａｌ　　（約
１００ｍｇ）、及び２−メトキシエタノール（９ｍｆ）
の混合液を２時間還流下攪拌した。ジメチルアミンの顕
著な臭気が検出された。この終了時点に、該反応混液の
薄層クロマトグラフィー分析から反応の完了が示された
。その後該反応混液を減圧濃縮し、粗濃縮物を１０％塩
酸水（４　０ｍＡ！）及びエーテル（４　０ｍｆｆ）で
分液した。該酸性水層をさらにエーテルを加えて抽出し
た後、６Ｎ水酸化ナトリウム溶液でアルカリ性にした。
遊離した塩基を塩化メチレン（２　Ｘ　４　０ｍｌ）で
抽出し、該有機抽出液を水（５　０ｍ６）及び塩水（３
０ｍｌ）で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥させた。該
粗生成物をフラッシュ力ラムクロマトグラフィ−（１　
０　０　ｇｍ細シリカ；クロロホルムーメタノールー水
酸化アンモニウム、３ｏ：ｉ：ｏ．ｏｔから２０３：０
．１）により精製し、純粋なＮ−（フェニル）Ｎ−（１
−　（１Ｈ−インドール−３−イル（メチル））−４−
メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミ
ド（０．９５ｇ，７０％）を淡黄色固体として得た。
影１１巳づ− 本実施例はＲ２クロニジン置換店を持つ本発明の化合物
類を製造する一般的方法を具体的に示すものである。
アセトニトリル（２００ｍｌ）中４−メトキシカルボニ
ル−１−（Ｎ’−フェニルブロピオンアミド）ビベリジ
ン（７．３　４　ｇ，　２　５ｍｍｏｆｆ）　、２ーブ
ロモエタノール（３．９６ｇ、３２ｍｍｏＪ）、炭酸ナ
トリウム（２　０．０　ｇ，　１　８　９ｍｍｏｌ）．
及びヨウ化ナトリウム（１．０ｇ）の混合液を、３日間
加熱還流した。該反応混液を冷却し濾過した。
該濾液を減圧冫農縮して、油状残渣を得た。該残渣をシ
リカゲル上のクロマトグラフイー（２５０ｇ；酢酸エチ
ル／ヘキサン．　１　：　４）にかけ、１（２−ヒドロ
キシエチル）−４−メトキシカルボニル−４−（Ｎ’−
フェニルブ口ビオンアミド）ピペリジン（８．１ｇ，９
６％）を油状物質として得た。
メタンスルホニルクロライド（０．３７４ｇ，３．　３
　ｍｍｏ　１　）の酢酸エチノレ（３ｍｊ！）　？容冫
夜を１（２−ヒドロキシエチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−（Ｎ’−フェニルブロビオンアミド）ピペリ
ジン（１．０ｇ、３　ｍｍｏβ）及びトリエチルアミン
の混合物に加えた。できた混合液を一晩攪拌した。該反
応混液を濾過し、濾液を減圧濃縮して油状残渣を得た。
該残渣をシリカゲル上のクロマｌ・グラフィー（２９０
ｇ；酢酸エチル／ヘキサン：　１　：　４）にかけ、１
−（２−メタンスルホニルエチル）−４−メトキシカル
ボニル−４−（Ｎ’ーフェニルプロビオンアミド）ビペ
リジン（０．５３ｇ、４３％）を油状′ＪｊｙＪ質とし
て得た。
酢酸エチル（１　０ｍｌ＞中１−（２−ノタンスルホニ
ルエチル）−４−メトキシカルボニル−４−（Ｎ’−フ
ェニルブロビオンアミド）ビペリジン（０．５　０　ｇ
１１．２ｍｍｏｊ２）　、塩酸クロニジン（０．３　２
　３　ｇ１１．２ｍｍｏｌ）　、及び炭酸ナトリウム（
１．０ｇ、９．　４　ｍｍｏ　ｌ　）の混合液を３日間
加熱還流した。該混合液を冷却して濾過し、該濾液を減
圧留去して油状残渣を得た。該残渣をシリカゲル上のク
ロマトグラフィー（２５ｇ；酢酸エチル／メタノール：
４：１：メタノール中５％水酸化アンモニウム）にかけ
、１−　（２−　（２．６−ジークロロアニリン−２−
イミタソリンー１−イ／Ｌ／）エチル−４−〔Ｎ−フェ
ニルプロピオンアミド〕−４−メトキシ力ルポニルービ
ペリジンを結晶固体として得た（０．４　４８ｇ，６　
８％）、ｍ．ｐ．　７　５℃．去施貫１４６−９８ 上述の方法に類似の方法により製造してもよい本発明の
範囲内にある化合物類の実施例にはさらに以下のものが
含まれる： Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　［１−　（２−　（１Ｈ−ピ
ロール−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）
−Ｎ−　（１−　（２−　（２−ホルミル−１Ｈ−ピロ
ール−１−イル）エチル）一４−メトキシカルボニル−
４−ヒペリジニル〕フロバンアミド Ｎ−（フェニル）　−Ｎ−　Ｎ．　−　（２．−　（Ｉ
　Ｈピラゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フ
ェニル）−Ｎ−（１−　（２−　（３−メチル−１Ｈ−
ピラゾール−−１−イル）エチル）−４−メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（３．５−
ジメチル−１Ｈ−ピラゾール−ーＩ−イル）エチル）−
４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−　（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（４−ヨ
ード−１Ｈ−ピラゾール−−１−イル）エチル）４−メ
トキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（３．５−
ジエトキシカルボニル−１Ｈ−ピラゾール−ー１−イル
）エチル−４−メトキシカルボニル−４一ビペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１Ｈ−・
イミダゾール−１−イル）エチル）一４一メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミト Ｎ−　（フェニル）−ｒｌ−　（１−　（２−　（５−
．：−トロ−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エチル）
４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　Ｃｌ−　（２−　（２−メチ
ル−５−ニトロ−Ｉ　Ｈ−イミダゾール−１−イル）エ
チル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕
プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　Ｃｌ−　（２−　（４．５−
ジエトキシカルボニル−１Ｈ−イミダゾール−１−イル
）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１（２−　（１Ｈ−イミダ
ゾール−４−イル）エチル）〜４−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル〕ブロバンアミＮ−（フェニル）−
Ｎ−（１−　（２−　（１−メチルー１Ｈ−イミダゾー
ル−２−イル）エチルチオ）−４−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（Ｉ　Ｈ−
トリアゾール−１−イル）エチル）−４一メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル）プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２Ｈ−テ
トラゾール−２−イル）エチル）−４一メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（５−フェ
ニルー２Ｈ−テ１・ラソール−２−イル）エチル）ー４
−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンア
ミド Ｎ−（フェニル”）−Ｎ−　（１−　（２−　（１−メ
チル−１Ｈ−テトラゾール−５−イル）エチルチオ）−
４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−　（２−オキソー−
２−　（２−チエニル）エチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニ
ル）−Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシ−２−（２−チ
エニル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２，３，
４，５−テトラヒドロ−２−オキソーオキサゾール−３
−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（
１−　（２−　（２，３，４，５−テトラヒドロ−２−
フェニルー５−オキソ−１Ｈ−ピラゾール−ー１−イル
）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２，３，
４．５−テトラヒドロ−２，４−ジオキソ−５−メチル
−５−フェニルー１Ｈ−イミタソールー３−イル）エチ
ル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プ
ロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（５−メチ
ルチオ−１．３．４−チアジアゾール−２−イル）エチ
ルチオ）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２．３−
ジヒドロ−２−チオキソ−５−フェニルー１，３，４−
オキサジアゾール−３−イル）エチル）−４−メトキシ
カルボニル−４〜ビベリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１〜（２−　（１，２，３
，４．−テトラヒドロ−２、４−ジオキソ−３３−ジエ
チルピリジン−１−イル）エチル）−４−メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２．６＝
ジオキソ−３−エチル−３−フェニルピペリジン−１−
イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリ
ジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（１
−（２−　（１．６−ジヒドロ−６−オキソーピリミジ
ン−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４
−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−　（２−　（２−メ
チルチオ−１，６−ジヒドロ−４−オキソー５一メチル
ピリミジン−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル）プロパンアミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−　（２−　（１．２
，３，４，−テトラヒドロー２．４−ジオキソ−３−エ
チルピリミジン−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（１−　（２−　（１．６−ジ
ヒドロ−６−オキソー３−メチルピリダジン−１−イル
）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（１−　（２−　（１．６−ジ
ヒドロ−３−（２−プロビル）−６−オキソ−１．２．
４−トリアジン−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（１Ｈ−インドール
ー３−イル（メチル））−４−メトキシカルボニルー４
−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）　一
Ｎ−　（１−　（２−　（２．３一ジヒドロー２−オキ
ソ−１Ｈ−インドール−１−イル）エチル）−４−メト
キシカルボニル−４一ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−（２−　（３．３一ジ
メチル−２．３−ジヒドロ−２−オキソーＬＨ−インド
ール−１−イル）エチル）−４一メトキシカルボニル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−　（２−　（２．３
−ジヒドロ−２−オキソー３，３−スビロエタン−１｝
｛−インドール−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−　（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１．３
−ジヒドロ−１，３−ジオキソ−２Ｈ−イソインドール
−２−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−
ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−
　（１−（２Ｈ−ベンズイミダゾール−１−イル（エチ
ル））−４−メトキシカルボニル−４〜ビベリジニル〕
プロパンアミ　　ド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（０−　（１−エト
キシカルボニル−１Ｈ−ベンゾピラゾール−３−イル）
エトキシ）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（３−エチ
ル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンズイミ
ダゾール−１−１イル）エチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２．３一
ジヒドロ−２−オキソーベンズオキサゾール＝３−イル
）エチル）−４−メトキシカルボニルー４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−（２−　（５−クロ
ロー２，３−ジヒドロ−２−オキソ−ベンズオキサゾー
ル−３−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４
−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ
−　（１−　（２−オキソー２−（２．３−ジヒドロ−
２−オキソーベンズオキサゾール−６−イル）エチル）
−４一メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパ
ンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（７−メト
キシ＝２−オキソー２Ｈ−ベンゾピラン−４−イル（メ
チル））−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（１．４−ベンゾジ
オキサン−−２−イル（メチル））−４−メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２．３−ジヒドロ
−３−オキソー４Ｈ−１．３−ベンゾチアジン−−４−
イル）エチル）−４−メトキシ力ルポニルー４−ピペリ
ジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（１
−　（２−　（２−メチルー３，４−ジヒドロ−４−オ
キソー３Ｈ−キナゾリン−３−イル）エチル）−４−メ
トキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド
Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１．２．
３，４−テトラヒドロ−２．４−ジオキソ−３Ｈ−キナ
ゾリン−３−イル）エチル）−４一メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１−エチ
ル−１．２，３．４−テトラヒドロー２，４一ジオキソ
−３Ｈ−キナゾリン−３−イル）エチル）一４−メトキ
シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル’）−Ｎ−　（１−　（２−　（１．２
，３．６−テトラヒドロ−１．３−ジメチル−２，６−
ジオキソ−７Ｈ−プリン−７−イル）エチル）＝４−メ
トキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１，２，
３，６−テトラヒドロ−３，７−ジメチル−２６−ジオ
キソ−１Ｈ−プリン−１−イル）エチル）−４−メトキ
シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル”）−Ｎ−　（１−（２−　（Ｎ−１８
−ナフタレンースルファミジル）エチル）−４−メトキ
シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル”）　一Ｎ−　（１−　（２−　（Ｎ−
１．８−ナフタレンージカルボキサミジル）エチル）−
４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−（フェニル”）−Ｎ−　（１−　（２−　（３−チ
エニル）エチル）−４−メトキシカルボニル）−４−ピ
ペリジニル〕プロパンアミド 上述の方法に類似の方法により製造してもよい本発明の
範囲内にある化合物類の実施例にはさらに以下のものが
含まれる： Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１Ｈ−ピ
ロール−１−イル）エチル）−４一メトキシメチル−４
−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ
一（１−　（２−（２−ホルミル−１Ｈ−ピロール−１
−イル）エチル）−４〜メトキシメチル−４−ピペリジ
ニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１　−　（２−　（ＬＨ−
ビラヅール−１−イル）エチル）−４一メトキシメチル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル”
）−Ｎ−　（１−　＜２−　（３．５ージメチル−】Ｈ
−ピラゾールー１−イル）エチル）一４−メトキシメチ
ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　＜４−ヨー
ド−１Ｈ−ピラゾール−−１−イル）エチル）４一メト
キシメチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル＞　−Ｎ−　（１−　（２−　（２−メ
チル−５−ニトロ−１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エ
チル）−４一メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロ
パンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−（１Ｈ−イミ
ダゾール−４−イル）エチル）−４一メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−
Ｎ−　（１−　（２−　（１−メチル−１Ｈ−イミタソ
ール−２−イル）エチルチオ）−４−メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（ＬＨ−ト
リアゾール−１−イル）エチル）−４一メトキシメチル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フニニル）
−Ｎ〜（１−　（２−　（５−トリフルオロメチル−４
−メチル−４　Ｈ　−　｝リアゾールー３−イル）エチ
ルチオ）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プ
ロパンアミドＮ−　（フェニル）−Ｎ−　（１〜（２−
　（２Ｈテトラゾール−２−イル）エチル）−４−メト
キシメチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（
フェニル）−Ｎ〜〔１〜（２−　（５−モルフォリニル
−２Ｈ−テトラゾール−２−イル）エチル）−４−メト
キシメチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（１−　（１−メチル−２−オ
キソー２−（２−チエニル）エチル）−４メトキシメチ
ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−ヒドロキシ−２（２−
チエニル）エチル）一４−メトキシ、メチル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（
１−　（１−メチル−２−ヒドロキシ〜２−（２−チエ
ニル）エチル）＝４一メ１・キシメチル−４−ピペリジ
ニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシ−
２−（２−フラニル）エチル）−４−メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−
Ｎ−　（１−　（２−ヒドロキシ〜２−（５−メチル−
２−フラニル）エチル）４−メトキシメチル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１〜（２−　（３−エチル
−２，３−ジヒドロ−２−オキソー１　１−｛−イミダ
ゾール−■−イル）エチル）一４〜メトキシメチル−４
−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ一（フェニル）−Ｎ
−　（１−　（２−　（２．３，４．５−テトラヒドロ
−２−フェニルー５−オキソ−１Ｈ−ピラゾール−−１
−イル）エチル）−４一メトキシメチル−４−ピペリジ
ニル〕プロパンアミド Ｎ−　（フェニル）−Ｎ−　［１−　（２−　（１．５
−ジヒドロ−３−メチル−４−アミノー５−オキソ−１
Ｈ一トリアゾール−１−イル）エチル）４−メトキシメ
チル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル”）−Ｎ−　（１−　（２−　（１　　
２３．４−テトラヒドロ−２．４−ジオキソ−３，３−
ジエチルビリジン−１−イル）エチル）−４−メトキシ
メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−　　（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２−
メチルチオ−１．６−ジヒドロ−４−オキソー５−メチ
ルピリミジン−】−イル）エチル）−４−メトキシメチ
ル−４−ピペリジニル）プロパンアミドＮ一（フェニル
）−Ｎ−（１−　（２−（１，２，３，４−テトラヒド
ロ−２．４−ジオキソ−３−エチルピリミジン−１−イ
ル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−（２−　（２．３−ジ
ヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−インドール−１−イル）エ
チル）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロ
パンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−（１−　（２−（３．３＝ジメ
チル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈーインドー
ル−１−イル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピ
ペリジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）　一Ｎ−
　（１−　（２−　（２．３ジヒドロ−２−オキソー３
．３−スピロエタン−１Ｈ−インドール−１−イル）エ
チル）−４一メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロ
パンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（１．３−
ジヒドロ−１−オキソー２Ｈ〜イソインドール−２−イ
ル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　１：１−　（２−　（１．３
−ジヒドロ−１，３−ジオキソ−２Ｈ−イソインドール
−２−イル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミドＮ−（フヱニル）−Ｎ−（１
−　（２−　（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オ
キソーＩｆイーベンズイミダゾール−１−イル）エチル
）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−　（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２．３
ジヒドロー２−オキソーベンズオキサゾール３−イル）
エチル）−４−メトキシメチル−４ピペリジニル〕プロ
パンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（ｉ−オキ
ソー２　８−ペンゾビレン−７−オキシ）エチル）一４
−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ一（フェニル）−Ｎ−　（１−　（１．４−ペンヅジ
オキサン−２−イル（メチル））−４一メトキシメチル
−４−ピペリジニル〕プロパンアミドＮ（フェニル）−
Ｎ−　［１−　（６−フルオロ１　３−ヘンゾジオキサ
ン−８−イル（メチル））４−メトキシメチル−４−ピ
ペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（２−メチ
ル−３．４−ジヒドロ−４−オキソー３Ｈ−キナゾリン
−３−イル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミドＮ−（フェニル）−Ｎ−　（
１−　（２−　（１−エチル−１．２．３．４−テトラ
ヒドロ−２，４一ジオキソ−３Ｈ−キナゾリン−３−イ
ル）エチル）一４−メトキシメチル−４−ピペリジニル
〕プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−　（Ｎ−１，
８−ナフタレンーカルボキサミジル）エチル）−４−メ
トキシメチル−４−ピペリジニル）プロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　［１−　（２−　（３−チエ
ニル）エチル）−４一メトキシメチル−４−ピペリジニ
ル〕プロパンアミド ＝−　　１　１　３　６　−　１　５　６上述の方法に
類似の方法により製造してもよい本発明の範囲内にある
化合物類の実施例にはさらに以下のものが含まれる： Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１（２−（１
Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ一（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４−メトキミ・カルボ
ニルー４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（２−フルオロフェニル’Ｉ　−Ｎ−　（１（２−
（Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル〕−２−メトキシープロパンア
ミド Ｎ一（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−４一メトキシ
メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
３−エチルベンズイミダゾール−１−イル）エチル）−
４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセ
トアミド Ｎ−（２−フルオロフェニル”）−Ｎ−（１−（２−　
（２−メチル−５−ニトロイミダゾール−１−イル）エ
チル）−４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕メト
キシアセトアミド Ｎ−（フェニル”）−Ｎ−　（１−　（２−　（１Ｈ−
ピラゾール−ー１−イル）エチル）−４−メトキシカル
ボニル−４−ピペリジニル〕アクリルアミドＮ一（２−
メトキシフェニル”）−Ｎ−　（１−（２−（１Ｈ−ピ
ラゾール−ー１−イル）エチル）−４−メトキシカルボ
ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ一（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４一メトキシメチル−
４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ一（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
３−エチルベンズイミタソール−１−イル）エチル）−
４一メトキシメチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミ
ド Ｎ−（２−フルオロフェニル）　−Ｎ−　（１（２−（
１Ｈ−ピラゾール−−１−イル）エチル）一４一メトキ
シメチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ−　（１（２−（Ｎ
−フタルイミジル）エチル）−４一メトキシメチル−４
−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド Ｎ−（２−メトキシフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボニ
ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（２−メトキシフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
３−エチルベンズイミダゾール−１−イル）エチル）−
４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパン
アミド Ｎ−（２−メトキシフェニル）−Ｎ−　（１−（２−ピ
リジニルエチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペ
リジニル〕プロパンアミドＮ一（２−メトキシフェニル
）−Ｎ−　（１−（２−（１Ｈ−ピラゾール−ー１−イ
ル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジ
ニル〕メトキシアセトアミド Ｎ−（２−メトキシフェニル）−Ｎ−　（１一（２−（
１Ｈ−ピラゾール−ー１−イル）エチル）−４−メトキ
シカルボニル−４−ピペリジニル〕メトキシプロパンア
ミド Ｎ一（２−メトキシフェニル）−Ｎ−（１−（２−（Ｎ
−フタルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボニル
−４−ピペリジニル〕メトキシプロパンアミド Ｎ−（フェニル）−Ｎ−　（１−　（２−（Ｎ−（２．
６−ジクロロアニリン）一イミダゾール−１−イル）エ
チル−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プ
ロパンアミド Ｎ−（フェニル）　一Ｎ−　（１−　（２−　（Ｎ（２
，６−ジクロ口アニリン）一イミダゾール−１−イル）
エチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１−（２−（
１Ｈ−イミダゾール−１−イル）エチル）−４−メトキ
シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド 上述の方法に類似の方法により製造してもよい本発明の
範囲内にある化合物類の実施例にはさらに以下のものが
含まれる。
トランス−Ｎ−　（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（
１−　（（ＬＨ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチ
ル）−３−メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセト
アミド シス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ一（１−（（
ｌＨ−ベンズイミダゾール−２−イル）メチル）−３−
メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド トランス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ−　（１
−　（２−　（２Ｈ−テトラゾール−２−イル）エチル
）−３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド トランス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　〔１
−　（２−　（２Ｈ−テトラゾール−２−イル）エチル
）−３−メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトア
ミド トランス−Ｎ−　（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（
１−　（２−　（ＬＨ−ピラゾール−１−イル）エチル
）−３−メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトア
ミド シス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ一（１−　（
２−　（Ｎ−フタルイミジル）エチル）−３−メチル−
４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド 之２−Ｎ−　（２−フルオロフェニル）一Ｎ−（１−　
（２−　（２Ｈ−テトラゾール−２−イル）エチル）−
３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド 二一Ｎ一（２−フルオロフェニル）一Ｎ一（１−　（２
−（２Ｈ−テトラゾール−２−イル）エチル）−３−メ
チル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド シス−Ｎ一（２−フルオロフェニル）　−Ｎ（１−　（
２−　（３−エチル−２．３−ジヒドロ−２−オキソ−
１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−３−
メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド トランス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ一（１−
　（２−　（Ｎ−フタルイミジル）エチル）＝３−メチ
ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド 之五一Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ一（１−　（
２−　（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−３−
メチル−４−ピペリジニル〕ブロパンアミド 上ｉ乙入−Ｎ　　（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　［
ｉ（２−　（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキ
ソ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−
３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド トランス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−　（１
−　（２−　（１Ｈ−ピラゾール−ー１−イル）エチル
）−３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド シス−Ｎ一（２−フルオロフェニル）一Ｎ一（１−　（
２−　（Ｎ−フタルイミジル）エチル）３−メチル−４
−ピペリジニル〕プロパンアミドシス−Ｎ−（２−フル
オロフェニル）一Ｎ一（１−　（２−　（３−エチル−
２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−ベンズイミダゾ
ール−２−イル）エチル）−３−メチル−４−ピペリジ
ニル〕ブロパンアミド トランス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）一Ｎ−　（１
−　（２−　（３−エチル−２．３−ジヒドロ−２−オ
キソ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２イル）エチル）−
３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド 次１』虹１７３ 鎮痛のための非経口若しくは静脈内投与用の医薬用組成
物は以下の成分から製造することができる： 等張水　　　　　　　　　　　　　　　　　１０／もち
ろん、実施例４６−１７２で示したような本発明の他の
化合物類をＮ−　（．フェニル）−Ｎ（１−　（２−（
ＬＨ−ピロール−１−イル）エチル）−４−メトキシカ
ルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミドの代わり
にその鎮痛活性によって該組成物中に相対量使用しても
よい。
大施■上１１ 本発明の化合物類の数個についてその鎮痛特性を試験し
た。すなわち、本発明で試験した該化合物類の酸付加塩
を注射用無菌水（ＵＳＰ）に溶解し、濃度が０．０　０
　０　０　１ｍｇ／ｍｌから５ｍｇ／ｍｌの間になるよ
うな溶液を作った。該溶液をマウスの尾静脈内に投与し
た。該ＥＤ５０値はドマー、フロイドＲ．，薬理分析に
おける動物実験、チャールズＣトーマス、スプリングフ
ィールド、１９７１年、第２８３ｆｆ頁、に記述されて
いるマウスホットプレート鎮痛試験（５８０Ｃ）から得
た。表１から表４に掲げた化合物類はこの方法により試
験され、表１から表４の右側の欄に掲げた活性を持つこ
とがわかった。
ミ！ β１ 迄企惣 老二一１（続き） 敷ム　、エエ 堕ｓｏＭ雇ｈ ！１′： ｚ；”ｓｗ　　　　ｚセス Ｉ＋　　　　　　１ ２▼ ２〜ス 啼書 仏査春 ス一一１（続き） Ｍ．Ｐ．　　℃． 輩Ｓ６Ｍ錠白 一メトキシカルボニルー 弄べ ここで述べた態様は単に具体例であり、当業者が本発明
の意図及び範囲から外れることなく多様な変形及び修飾
を施すことができるということを理解すべきである。こ
れらの修飾及び変形はすべて特許請求の範囲で定義する
本発明の範囲内に含まれるように意図されている。
手 ＰＪＣ 補 正 平成 書 ２７．２０ 年　　　月 日 １．特許請求の範囲を別紙の通り訂正する。
２．明細書の記載を以下の通り訂正する。
ｌ．事件の表示 平成２年持許頼第１０２７５９号 ３．補正をする者 事注との関係 名 称 ４．代 理 人 出 願 人 ビー才一シ− インコーポレーテッド ８．補正の内容 発明の詳細な説明Ｄ＠ 別鰯Ｍ 特許請求の範囲 （１）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を
含む以下の式で示される化合物において、式中、 Ｒがフェニル基及び置換フェニル基（但し、該フェニル
基の置換基類はハロゲン原子、低級アルコキシ基、及び
それらの組み合わせから成る群から別個に選択される）
から成る群から選択され； Ｒ１が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、低
級アルケニル基、及び低級アルコキシ低級アルキル基か
ら成る群から選択され：Ｒ３がピロリル低級アルキル基
、ピラゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級チオアルキル基、トリアゾリル
低級アルキル基、トリアゾリル低級チオアルキル基、テ
トラゾリル低級アルキル基、テトラゾリル低級チオアル
キル基、チェニル低級オキシアルキル基、チェニル低級
ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−イル低級アルキ
ル基、フラニルｌヒドロヰシアルキル基、チアゾリル低
級アルキル基、オキサゾリル低級アルキル基、チアジア
ゾリル低級アルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル
基、ピペリジニル低級アルキル基、ビＩＪ　ミジニル低
級アルキル基、ピリダジニル低級アルキル基、トリアジ
ニル低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソ
インドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級ア
ルキル基、ベンゾピラゾリル低級アルキル基、ベンズオ
キサゾリル低級アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキ
ル基、ベンゾジオキサニル低級アルキル基、ベンゾチア
ジニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、
プリニル低級アルキル基、ナフタレンカルボキサミジル
低級アルキル基、及びナフタレンスルファミジル低級ア
ルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリック
低級アルキル環系を示し；かつＲ３が低級アルコキシカ
ルボニル基及び低級アルコキシメチル基から成る群から
選択される化合物。
（２）請求項（１）記載の化合物において、Ｒ　カ７エ
ニル基、２−フルオロフェニル基及び２−トメキシフェ
ニル基から成る群から選択され゛ Ｒ　がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１
−メトキシエチル基から成る群から選択され Ｒ２がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール
−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル
低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル
基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾ
ール−２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１
−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低吸チ
オアルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基
、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン
−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエン−ー２−イ
ル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−イル低級
アルキル基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル
基、チアゾール−５−イル低級アルキル基、オキサゾー
ル−３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イ
ル低級アルキル基、オキザジアゾール−３−イル低級ア
ルキル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリ
ミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イ
ル低級アルヰル基、トリアジン−１−イル低級アルキル
基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソインド
ール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−
１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イ
ル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−−３−イル低級
アルキル基、ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキ
ル基、ベンゾピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾ
ピラン−７−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−
−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−−８−
イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−ー４−イル低級
アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル基、プ
リン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イル低級
アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル低級アル
キル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル低級アルキ
ル基から成る群から選択され；かつＲ３がメトキシカル
ボニル基若しくはメトキンメチル基を示す化合物。
（３）請求項（１）記載の化合物において、Ｒがフェニ
ル基を示し： Ｒ２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリア
ゾル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル基
、テトラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オキ
シアルキル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、チ
エン−ー３−イル低級アルキル基、チアゾリル低級アル
キル基、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル
低級アルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、ピ
ペリジニル低級アルキル基、ピＩＪ　ミジニル低級アル
キル基、ピリダジニル低級アルキル基、トリアジニル低
級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソインド
リル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル
基、ベンゾピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾ
リル低吸アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、
ベンゾジオキサニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル
低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニ
ル低級アルキル基、ナラタレン力ルポキサミジル低級ア
ルキル基、及びナフタレンスルファミジル低級アルキル
基から成る群から選択されるヘテロサイクリック低級ア
ルキル環系を示し；かつ Ｒ３が低級アルコキン力ルボニル基を示す化合物。
（４）請求項（１）記載の化合物において、Ｒがフェニ
ル基を示し： Ｒ２がピロリル低扱アルキル基、ピラゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリア
ゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル
基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オ
キシアルキル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、
チエン−ー３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、ピリミ
ジニル低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イ
ソインドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級
アル車ル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジ
オキサニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル
基、プリニル低級アルキル基、及びナフクレン力ルポキ
サミジル低級アルキル基から成る群かる選択されるヘテ
ロサイクリック低吸アルキル環系を示し；かつ Ｒ３が低級アルコキシメチル基を示す化合物。
（５）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を
含む以下の式で示される化合物において、式中、 Ｒが置換フェニル基（但し、該フェニル基の置換基類は
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み合
わせから成る群から選択される）を示し； Ｒ１が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、低
級アルケニル基、及び低級アルコ．キシ低級アルキル基
から成る群から選択され；Ｒ２がピラゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリニル低
級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、及
びフタルイミジル低級アルキル基から成る群から選択さ
れるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示し；かつ Ｒ３が低級アルコキシカルボニル基及び低級アルコキシ
メチル基から成る群かる選択される化合物。
（６）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩類
を含む以下の式で示される化合物において、Ｒ， 式中、 Ｒが置換フェニル基（但し、該フェニル基の置換基頚は
ハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み合
わせから成る群から選択される）を示し； Ｒ１　が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、
低級アルケニル基、及び低級アルコキシ低級アルキル基
から成る群から選択されるアルキル基を示し； Ｒ２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アルキ
ル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリア
ゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキル
基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チェニル低級オ
キシアルヰル基、チェニル低級ヒドロキシアルキル基、
チエン−ー３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、オキサ
ゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級アルキル基
、オキサジアゾリル低級アルキル基、ピペリジニル低級
アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピリダジニ
ル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル基、イン
ドリル低級アルキル基、イソインドリル低級アルキル基
、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、ベンゾピラゾリ
ル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級アルキル基
、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキサニル
低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキル基、キ
ナゾリニル低級アルキル基、ブリニル低級アルキル基、
ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びナフ
タレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選
択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示し；
かつＲ４がメチル基を示す化合物。
（７）請求項（６）記載の化合物において、Ｒ基がフェ
ニルＬ　２−フルオロフェニル基及びメトキシフェニル
基から成る群から選択され； Ｒ１がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及びメ
トキシエチル基から成る群から選択され；かつ Ｒ２　Ｍがピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾ
ール−ー１−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−
イル低級アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アル
キル基、イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミ
ダゾール−２−イル低級チオアルヰル基、トリアゾール
−１−イル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低
級チオアルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキ
ル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チ
エン−ー２−イル低級オキシアルキル基、チエン−ー２
−イル低級ヒドロキシアルキル基、チエン−ー３−イル
低級アルキル基、フラン−２−イル低級ヒドロキシアル
キル基、チアゾール−５−イル低級アルキル基、オキサ
ゾール−３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−２
−イル低級アルキル基、オキサジアゾール−３−イル低
級アルキル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、
ピリミジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン−１
−イル低級アルキル基、トリアジン−１−イル低級アル
キル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソイ
ンドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾー
ル−１−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２
−イル低級アルキル基、ベンゾピラゾール−−３−イル
低級アルキル基、ベンズオキサゾール−３−イル低級ア
ルキル基、ベンゾピラン−−４−イル低級アルキル基、
ベンゾピラン−−７−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
キサン−−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン
−−８−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−ー４−
イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキ
ル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−
イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル
低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル低
吸アルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリ
ック低級アルキル環系を示す化合物。

Claims (104)

    【特許請求の範囲】
  1. （１）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩を
    含む以下の式で示される化合物において、▲数式、化学
    式、表等があります▼ 式中、 Ｒがフェニル基及び置換フェニル基（但し、該フェニル
    基の置換基類はハロゲン原子、低級アルコキシ基、及び
    それらの組み合わせから成る群から別個に選択される）
    から成る群から選択され； Ｒ＿１が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、
    低級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群か
    ら選択され； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、オキサ
    ゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級アルキル基
    、オキサジアゾリル低級アルキル基、ピペリジニル低級
    アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピリダジニ
    ル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル基、イン
    ドリル低級アルキル基、イソインドリル低級アルキル基
    、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、ベンゾピラゾリ
    ル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級アルキル基
    、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキサニル
    低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキル基、キ
    ナゾリニル低級アルキル基、プリニル低級アルキル基、
    ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びナフ
    タレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選
    択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示し；
    かつＲ＿３が低級アルコキシカルボニル基及び低級アル
    コキシメチル基から成る群から選択される化合物。
  2. （２）請求項（１）記載の化合物において、Ｒがフェニ
    ル基、２−フルオロフェニル基及び２−メトキシフェニ
    ル基から成る群から選択される化合物。
  3. （３）請求項（１）記載の化合物において、Ｒ＿１がエ
    チル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１−メトキ
    シエチル基から成る群から選択される化合物。
  4. （４）請求項（１）記載の化合物において、Ｒ＿２がピ
    ロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アルキ
    ル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イミダ
    ゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−２−
    イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル低級
    アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオアルキル
    基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テトラゾ
    ール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２−イル
    低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒドロキ
    シアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フラ
    ン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール−
    ５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イル低級
    アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキル基
    、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピペリ
    ジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イル
    低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキル基
    、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドール−
    １−イル低級アルキル基、イソインドール−２−イル低
    級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アル
    キル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル基
    、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、ベンズ
    オキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾピラン
    −４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−イル低
    級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級アルキ
    ル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル基、ベ
    ンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾリン−
    ３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級アルキ
    ル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレ
    ンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレ
    ンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選択さ
    れるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す化合物
    。
  5. （５）請求項（１）記載の化合物において、Ｒ＿３がメ
    トキシカルボニル基若しくはメトキシメチル基を示す化
    合物。
  6. （６）請求項（１）記載の化合物において、Ｒがフェニ
    ル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、チアゾリル低級ア
    ルキル基、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリ
    ル低級アルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、
    ピペリジニル低級アルキル基、ピリミジニル低級アルキ
    ル基、ピリダジニル低級アルキル基、トリアジニル低級
    アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソインドリ
    ル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基
    、ベンゾピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリ
    ル低級アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベ
    ンゾジオキサニル低級アルキル基、ベンゾチアゾニル低
    級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニル
    低級アルキル基、ナフタレンカルボキサミジル低級アル
    キル基、及びナフタレンスルファミジル低級アルキル基
    から成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アル
    キル環系を示し；かつ Ｒ＿３が低級アルコキシカルボニル基を示す化合物。
  7. （７）請求項（６）記載の化合物において、Ｒ＿１がエ
    チル基を示す化合物。
  8. （８）請求項（６）記載の化合物において、Ｒ＿２がピ
    ロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アルキ
    ル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イミダ
    ゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−２−
    イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル低級
    アルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、
    テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２−チエ
    ニル低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒドロキ
    シアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、チア
    ゾール−５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−
    イル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級ア
    ルキル基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基
    、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−
    １−イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級ア
    ルキル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、イン
    ドール−１−イル低級アルキル基、イソインドール−２
    −イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル
    低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級ア
    ルキル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基
    、ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベン
    ゾピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン
    −２−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−４−イル
    低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル基
    、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イル
    低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル低級
    アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル低級ア
    ルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリック
    低級アルキル環系を示す化合物。
  9. （９）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フェ
    ニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−ピロール−１−イル
    ）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニ
    ル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付加塩
    類を含む化合物。
  10. （１０）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−ピラゾール−１−
    イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリ
    ジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付
    加塩類を含む化合物。
  11. （１１）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（４−メチルチアゾール−
    ５−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピ
    ペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる
    酸付加塩類を含む化合物。
  12. （１２）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２，３−ジヒドロ−２−
    オキソ−１Ｈ−インドール−１−イル）エチル）−４−
    メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミ
    ド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  13. （１３）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−（１−（２−（１，３−ジヒドロ−１，
    ３−ジオキソ−２Ｈ−イソインドール−２−イル）エチ
    ル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プ
    ロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含
    む化合物。
  14. （１４）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２，３−ジヒドロ−２−
    オキソ−ベンズオキサゾール−３−イル）エチル）−４
    −メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンア
    ミド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む化合物
    。
  15. （１５）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２，３−ジヒドロ−３−
    オキソ−４Ｈ−１，３−ベンゾチアジン−４−イル）エ
    チル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリジニル〕
    プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を
    含む化合物。
  16. （１６）請求項（６）記載の化合物において、Ｎ−（フ
    ェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１，２，３，６−テトラ
    ヒドロ−１，３−ジメチル−２，６−ジオキソ−７Ｈ−
    プリン−７−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル
    −４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許
    容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  17. （１７）請求項（１）記載の化合物において、Ｒがフェ
    ニル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、ピリミ
    ジニル低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イ
    ソインドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級
    アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジ
    オキサニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル
    基、プリニル低級アルキル基、及びナフタレンカルボキ
    サミジル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
    ロサイクリック低級アルキル環系を示し；かつ Ｒ＿３が低級アルコキシメチル基を示す化合物。
  18. （１８）請求項（１７）記載の化合物において、Ｒ＿２
    基がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、
    イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオア
    ルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テ
    トラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２−チエニ
    ル低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒドロキシ
    アルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フラン
    −２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール−５
    −イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イル低級アル
    キル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソイ
    ンドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾー
    ル−１−イル低級アルキル基、ベンズオキサゾール−３
    −イル低級アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級ア
    ルキル基、ベンゾピラン−７−イル低級アルキル基、ベ
    ンゾジオキサン−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
    キサン−８−イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イ
    ル低級アルキル基、プリン−１−イル低級アルキル基、
    プリン−７−イル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレン
    カルボキサミジル低級アルキル基から成る群から選択さ
    れるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す化合物
    。
  19. （１９）請求項（１７）記載の化合物において、Ｒがエ
    チル基を示し、かつＲ＿３がメトキシメチル基を示す化
    合物。
  20. （２０）請求項（１７）記載の化合物において、Ｎ−（
    フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２Ｈ−テトラゾール−
    ２−イル）エチル）−４−メトキシメチル−４−ピペリ
    ジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付
    加塩類を含む化合物。
  21. （２１）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩
    を含む以下の式で示される化合物において、▲数式、化
    学式、表等があります▼ 式中、 Ｒが置換フェニル基（但し、該フェニル基の置換基類は
    ハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み合
    わせから成る群から選択される）を示し； Ｒ＿１が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、
    低級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群か
    ら選択され； Ｒ＿２がピラゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低級
    アルキル基、イミダゾリニル低級アルキル基、ベンズイ
    ミダゾリル低級アルキル基、及びフタルイミジル低級ア
    ルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリック
    低級アルキル環系を示し；かつ Ｒ＿３が低級アルコキシカルボニル基及び低級アルコキ
    シメチル基から成る群から選択される化合物。
  22. （２２）請求項（２１）記載の化合物において、Ｒが２
    −フルオロフェニル基及び２−メトキシフェニル基から
    成る群から選択される化合物。
  23. （２３）請求項（２１）記載の化合物において、Ｒ＿１
    がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１−メ
    トキシエチル基から成る群から選択される化合物。
  24. （２４）請求項（２１）記載の化合物において、Ｒ＿２
    基がピラゾール−１−イル低級アルキル基、イミダゾー
    ル−１−イル低級アルキル基、イミダゾリン−１−イル
    低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級ア
    ルキル基、及びＮ−フタルイミジル低級アルキル基から
    成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル
    環系を示す化合物。
  25. （２５）請求項（２１）記載の化合物において、Ｒ＿３
    基がメトキシカルボニル基及びメトキシメチル基から成
    る群から選択される化合物。
  26. （２６）請求項（２１）記載の化合物において、Ｎ−（
    ２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−ピ
    ラゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボニ
    ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上
    許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  27. （２７）請求項（２１）記載の化合物において、Ｎ−（
    ２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（Ｎ−フタ
    ルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−
    ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しう
    る酸付加塩を含む化合物。
  28. （２８）請求項（２１）記載の化合物において、Ｎ−（
    ２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（３−エチ
    ル−ベンズイミダゾール−１−イル）エチル）−４−メ
    トキシメチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミ
    ド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  29. （２９）請求項（２１）記載の化合物において、Ｎ−（
    ２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２−メチ
    ル−５−ニトロ−イミダゾール−１−イル）エチル）−
    ４−メトキシメチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセ
    トアミド及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む化
    合物。
  30. （３０）請求項（２１）記載の化合物において、Ｎ−（
    ２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−イ
    ミダゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボ
    ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬
    上許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  31. （３１）光学活性異性体及び医薬上許容しうる酸付加塩
    類を含む以下の式で示される化合物において、▲数式、
    化学式、表等があります▼ 式中、 Ｒが置換フェニル基（但し、該フェニル基の置換基類は
    ハロゲン原子、低級アルコキシ基、及びそれらの組み合
    わせから成る群から選択される）を示し； Ｒ＿１が２から６個の炭素原子を持つ低級アルキル基、
    低級アルケニル基、及び低級アルコキシ基から成る群か
    ら選択されるアルキル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、オキサ
    ゾリル低級アルキル基、チアジアゾリル低級アルキル基
    、オキサジアゾリル低級アルキル基、ピペリジニル低級
    アルキル基、ピリミジニル低級アルキル基、ピリダジニ
    ル低級アルキル基、トリアジニル低級アルキル基、イン
    ドリル低級アルキル基、イソインドリル低級アルキル基
    、ベンズイミダゾリル低級アルキル基、ベンゾピラゾリ
    ル低級アルキル基、ベンズオキサゾリル低級アルキル基
    、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジオキサニル
    低級アルキル基、ベンゾチアジニル低級アルキル基、キ
    ナゾリニル低級アルキル基、プリニル低級アルキル基、
    ナフタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びナフ
    タレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選
    択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示し；
    かつＲ＿４がメチル基を示す化合物。
  32. （３２）請求項（３１）記載の化合物において、Ｒ基が
    フェニル基、２−フルオロフェニル基及びメトキシフェ
    ニル基から成る群から選択される化合物。
  33. （３３）請求項（３１）記載の化合物において、Ｒ＿１
    がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及びメトキ
    シエチル基から成る群から選択される化合物。
  34. （３４）請求項（３１）記載の化合物において、Ｒ＿１
    基がエチル基及びメトキシメチル基から成る群から選択
    される化合物。
  35. （３５）請求項（３１）記載の化合物において、Ｒ＿２
    基がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、
    イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオア
    ルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テ
    トラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２
    −イル低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒ
    ドロキシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基
    、フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾ
    ール−５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イ
    ル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アル
    キル基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、
    ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１
    −イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アル
    キル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インド
    ール−１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−
    イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低
    級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アル
    キル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、
    ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾ
    ピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−
    イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級
    アルキル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル
    基、ベンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾ
    リン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級
    アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナ
    フタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナ
    フタレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から
    選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す
    化合物。
  36. （３６）請求項（３５）記載の化合物において、Ｒ＿２
    基がピラゾリル低級アルキル基、テトラゾリル低級アル
    キル基、イソインドリル低級アルキル基、及びベンズイ
    ミダゾリル低級アルキル基から成る群から選択されるヘ
    テロサイクリック低級アルキル環系を示す化合物。
  37. （３７）請求項（３１）記載の化合物において￥シス￥
    −Ｎ（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（Ｎ
    −フタルイミジル）エチル）−３−メチル−４−ピペリ
    ジニル〕メトキシアセトアミド及びその医薬上許容しう
    る酸付加塩類を含む化合物。
  38. （３８）請求項（３１）記載の化合物において、￥シス
    ￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−
    （３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−
    ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−３−メチル
    −４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド及びその医
    薬上許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  39. （３９）請求項（３１）記載の化合物において、￥シス
    ￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−
    （１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−３−メチル
    −４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許
    容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  40. （４０）請求項（３１）記載の化合物において、￥トラ
    ンス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（
    ２−（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１
    Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−３−メ
    チル−４−ピペリジニル〕プパンアミド及びその医薬上
    許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  41. （４１）請求項（３１）記載の化合物において、￥トラ
    ンス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（
    ２−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−３−メ
    チル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬
    上許容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  42. （４２）請求項（３１）記載の化合物において、￥シス
    ￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−
    （３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ−１Ｈ−
    ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−３−メチル
    −４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許
    容しうる酸付加塩類を含む化合物。
  43. （４３）非毒性の医薬上許容しうるキャリヤー及び鎮痛
    目的上有効な量の請求項（１）に定義した化合物を含む
    麻薬様鎮痛性組成物。
  44. （４４）請求項（４３）記載の組成物において、Ｒ基が
    フェニル基、２−フルオロフェニル基及び２−メトキシ
    フェニル基から成る群から選択される組成物。
  45. （４５）請求項（４３）記載の組成物において、Ｒ＿１
    基がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１−
    メトキシエチル基から成る群から選択される組成物。
  46. （４６）請求項（４３）記載の組成物において、Ｒ＿２
    基がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、
    イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオア
    ルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テ
    トラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２
    −イル低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒ
    ドロキシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基
    、フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾ
    ール−５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イ
    ル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アル
    キル基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、
    ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１
    −イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アル
    キル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インド
    ール−１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−
    イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低
    級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アル
    キル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、
    ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾ
    ピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−
    イル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級
    アルキル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル
    基、ベンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾ
    リン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級
    アルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナ
    フタレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナ
    フタレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から
    選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す
    組成物。
  47. （４７）請求項（４３）記載の組成物において、Ｒ＿３
    基がメトキシカルボニル基及びメトキシメチル基から成
    る群から選択される組成物。
  48. （４８）請求項（４３）記載の麻薬鎮痛性組成物におい
    て、Ｒがフェニル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、チアゾリル低級ア
    ルキル基、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリ
    ル低級アルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、
    ピペリジニル低級アルキル基、ピリミジニル低級アルキ
    ル基、ピリダジニル低級アルキル基、トリアジニル低級
    アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソインドリ
    ル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基
    、ベンゾピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリ
    ル低級アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベ
    ンゾジオキサニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル低
    級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニル
    低級アルキル基、ナフタレンカルボキサミジル低級アル
    キル基、及びナフタレンスルファミジル低級アルキル基
    から成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アル
    キル環系を示し； Ｒ＿３が提供アルコキシカルボニル基を示す組成物。
  49. （４９）請求項（４８）記載の組成物において、Ｒ＿１
    がエチル基を示す組成物。
  50. （５０）請求項（４６）記載の組成物において、Ｒ＿２
    基がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、イミダゾール−３−イル低扱アルキル基、
    イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキ
    ル基、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２
    −チエニル低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒ
    ドロキシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基
    、チアゾール−５−イル低級アルキル基、オキサゾール
    −３−イル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル
    低級アルキル基、オキサジアゾール−３−イル低級アル
    キル基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミ
    ジン−１−イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル
    低級アルキル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基
    、インドール−１−イル低級アルキル基、イソインドー
    ル−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１
    −イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル
    低級アルキル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アル
    キル基、ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基
    、ベンゾピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
    キサン−２−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−４
    −イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アル
    キル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７
    −イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジ
    ル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル
    低級アルキル基から成る群から選択されるヘテロサイク
    リック低級アルキル環系示す組成物。
  51. （５１）請求項（４８）記載の組成物において、Ｒ＿３
    がメトキシカルボニル基を示す組成物。
  52. （５２）請求項（５０）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−ピラ
    ゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル
    −４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許
    容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  53. （５３）請求項（４８）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（４−メチル
    チアゾール−５−イル）エチル）−４−メトキシカルボ
    ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬
    上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  54. （５４）請求項（４８）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１，３−ジ
    ヒドロ−１，３−ジオキソ−２Ｈ−イソインドール−２
    −イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペ
    リジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸
    付加塩類を含む組成物。
  55. （５５）請求項（４８）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１，２，３
    ，６−テトラヒドロ−１，３−ジメチル−２，６−ジオ
    キソ−７Ｈ−プリン−７−イル）エチル）−４−メトキ
    シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及び
    その医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  56. （５６）請求項（４３）記載の麻薬様鎮痛性組成物にお
    いて、 Ｒがフェニル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、ピリミ
    ジニル低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イ
    ソインドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級
    アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジ
    オキサニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル
    基、プリニル低級アルキル基、及びナフタレンカルボキ
    サミジル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
    ロサイクリック低級アルキル環系を示し： Ｒ＿３が低級アルコキシメチル基を示す組成物。
  57. （５７）請求項（５６）記載の組成物において、Ｒ＿２
    基がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、
    イミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオア
    ルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テ
    トラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２−チエニ
    ル低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒドロキシ
    アルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フラン
    −２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール−５
    −イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イル低級アル
    キル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソイ
    ンドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾー
    ル−１−イル低級アルキル基、ベンゾオキサゾール−３
    −イル低級アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級ア
    ルキル基、ベンゾピラン−７−イル低級アルキル基、ベ
    ンゾジオキサン−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオ
    キサン−８−イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イ
    ル低級アルキル基、プリン−１−イル低級アルキル基、
    プリン−７−イル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレン
    カルボキサミジル低級アルキル基から成る群から選択さ
    れるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す組成物
    。
  58. （５８）請求項（５７）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２Ｈ−テト
    ラゾール−２−イル）エチル）−４−メトキシメチル−
    ４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容
    しうる酸付加塩類を含む組成物。
  59. （５９）非毒性の医薬上許容しうるキャリア−及び鎮痛
    目的上有効な量の請求項（２１）に定義した化合物を含
    む麻薬様鎮痛性組成物。
  60. （６０）請求項（５９）記載の組成物において、Ｒが２
    −フルオロフェニル基及び２−メトキシフェニル基から
    成る群から選択され、Ｒ＿１がエチル基、エテニル基、
    メトキシメチル基及び１−メトキシエチル基から成る群
    から選択され、かつＲ＿３がメトキシカルボニル基及び
    メトキシメチル基から成る群から選択される組成物。
  61. （６１）請求項（５９）記載の組成物において、Ｒ＿２
    がピラゾール−１−イル低級アルキル基、イミダゾール
    −１−イル低級アルキル基、イミダゾリン−１−イル低
    級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アル
    キル基、及びＮ−フタルイミジル低級アルキル基から成
    る群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環
    系を示す組成物。
  62. （６２）請求項（６１）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−
    （１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−４−メトキ
    シカルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及び
    その医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  63. （６３）請求項（６１）記載の組成物において、該化合
    物がＮ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−
    （Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボ
    ニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬
    上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  64. （６４）非毒性の医薬上許容しうるキャリア−及び鎮痛
    目的上有効な量の請求項（３１）に定義した化合物を含
    む麻薬様鎮痛性組成物。
  65. （６５）請求項（６４）記載の組成物において、Ｒ基が
    フェニル基、２−フルオロフェニル基及びメトキシフェ
    ニル基から成る群から選択される組成物。
  66. （６６）請求項（６４）記載の組成物において、Ｒ＿１
    がエチル基、エテニル基、メトキシメチル基及びメトキ
    シエチル基から成る群から選択される組成物。
  67. （６７）請求項（６４）記載の組成物において、Ｒ＿２
    がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１
    −イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級ア
    ルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イ
    ミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−
    ２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル
    低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオアル
    キル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テト
    ラゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２−
    イル低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、
    フラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾー
    ル−５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イル
    低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキ
    ル基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピ
    ペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１−
    イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキ
    ル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドー
    ル−１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−イ
    ル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級
    アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキ
    ル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、ベ
    ンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾピ
    ラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−イ
    ル低級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級ア
    ルキル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル基
    、ベンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾリ
    ン−３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級ア
    ルキル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナフ
    タレンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフ
    タレンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選
    択されるヘテロサイックリック低級アルキル環系を示す
    組成物。
  68. （６８）請求項（６７）記載の組成物において、Ｒ＿２
    基がピラゾリル低級アルキル基、テトラゾリル低級アル
    キル基、イソインドリル低級アルキル基、及びベンズイ
    ミダゾリル低級アルキル基から成る群から選択されるヘ
    テロサイクリック低級アルキル環系を示す組成物。
  69. （６９）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物がシス−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−
    （２−（Ｎ−フタルイミジル）エチル）−３−メチル−
    ４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド及びその医薬
    上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  70. （７０）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物が￥シス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔
    １−（２−（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキ
    ソ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−
    ３−メチル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド
    及びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  71. （７１）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物が￥シス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）Ｎ−〔１
    −（２−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−３
    −メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその
    医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  72. （７２）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物が￥トランス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ
    −〔１−（２−（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−
    オキソ−１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル
    ）−３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及
    びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  73. （７３）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物が￥トランス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ
    −〔１−（２−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル
    ）−３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及
    びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  74. （７４）請求項（６４）記載の組成物において、該化合
    物が￥シス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）Ｎ−〔１
    −（２−（３−エチル−２，３−ジヒドロ−２−オキソ
    −１Ｈ−ベンズイミダゾール−２−イル）エチル）−３
    −メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその
    医薬上許容しうる酸付加塩類を含む組成物。
  75. （７５）哺乳動物に呼吸抑制を伴なう鎮痛作用をもたら
    す方法において、該哺乳動物に鎮痛目的上有効な量の請
    求項（１）に定義した化合物を投与することを含む方法
    。
  76. （７６）請求項（７５）記載の方法において、Ｒがフェ
    ニル基、２−フルオロフェニル基及び２−メトキシフェ
    ニル基から成る群から選択される方法。
  77. （７７）請求項（７５）記載の方法において、Ｒ＿１が
    エチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１−メト
    キシエチル基から成る群から選択される方法。
  78. （７８）請求項（７５）記載の方法において、Ｒ＿２が
    ピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１−
    イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アル
    キル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イミ
    ダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−２
    −イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル低
    級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオアルキ
    ル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テトラ
    ゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２−イ
    ル低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒドロ
    キシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フ
    ラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール
    −５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イル低
    級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキル
    基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピペ
    リジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イ
    ル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキル
    基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドール
    −１−イル低級アルキル基、イソインド−ル−２−イル
    低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級ア
    ルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル
    基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、ベン
    ズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾピラ
    ン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−イル
    低級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級アル
    キル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル基、
    ベンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾリン
    −３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級アル
    キル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタ
    レンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフタ
    レンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選択
    されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す方法
    。
  79. （７９）請求項（７５）記載の方法において、Ｒ＿３が
    メトキシカルボニル基若しくはメトキシメチル基を示す
    方法。
  80. （８０）請求項（７５）記載の方法において、Ｒがフェ
    ニル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキシアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、チアゾリル低級ア
    ルキル基、オキサゾリル低級アルキル基、チアジアゾリ
    ル低級アルキル基、オキサジアゾリル低級アルキル基、
    ピペリジニル低級アルキル基、ピリミジニル低級アルキ
    ル基、ピリダジニル低級アルキル基、トリアジニル低級
    アルキル基、インドリル低級アルキル基、イソインドリ
    ル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級アルキル基
    、ベンゾピラゾリル低級アルキル基、ベンズオキサゾリ
    ル低級アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベ
    ンゾジオキサニル低級アルキル基、ベンゾチアジニル低
    級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル基、プリニル
    低級アルキル基、ナフタレンカルボキサミジル低級アル
    キル基、及びナフタレンスルファミジル低級アルキル基
    から成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アル
    キル環系を示し；かつ Ｒ＿３が低級アルコキシカルボニル基を示す方法。
  81. （８１）請求項（８０）記載の方法において、Ｒ＿２が
    ピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１−
    イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アル
    キル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イミ
    ダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−２
    −イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル低
    級アルキル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基
    、テトラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２−チ
    エニル低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒドロ
    キシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、チ
    アゾール−５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３
    −イル低級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級
    アルキル基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル
    基、ピペリジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン
    −１−イル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級
    アルキル基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、イ
    ンドール−１−イル低級アルキル基、イソインドール−
    ２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イ
    ル低級アルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級
    アルキル基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル
    基、ベンズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベ
    ンゾピラン−４−イル低級アルキル基、ベンゾジオキサ
    ン−２−イル低級アルキル基、ベンゾチアジン−４−イ
    ル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル低級アルキル
    基、プリン−１−イル低級アルキル基、プリン−７−イ
    ル低級アルキル基、Ｎ−ナフタレンカルボキサミジル低
    級アルキル基、及びＮ−ナフタレンスルファミジル低級
    アルキル基から成る群から選択されるヘテロサイクリッ
    ク低級アルキル環系を示す方法。
  82. （８２）請求項（８０）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１Ｈ−ピラゾ
    ール−１−イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−
    ４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容
    しうる酸付加塩類を含む方法。
  83. （８３）請求項（８０）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（４−メチルチ
    アゾール−５−イル）エチル）−４−メトキシカルボニ
    ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上
    許容しうる酸付加塩類を含む方法。
  84. （８４）請求項（８０）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（１，３−ジヒ
    ドロ−１，３−ジオキソ−２Ｈ−イソインドール−２−
    イル）エチル）−４−メトキシカルボニル−４−ピペリ
    ジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容しうる酸付
    加塩類を含む方法。
  85. （８５）請求項（７５）記載の方法において、Ｒがフェ
    ニル基を示し； Ｒ＿２がピロリル低級アルキル基、ピラゾリル低級アル
    キル基、イミダゾリル低級アルキル基、イミダゾリル低
    級チオアルキル基、トリアゾリル低級アルキル基、トリ
    アゾリル低級チオアルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、テトラゾリル低級チオアルキル基、チエニル低級
    オキシアルキル基、チエニル低級ヒドロキキアルキル基
    、チエン−３−イル低級アルキル基、フラニル低級ヒド
    ロキシアルキル基、チアゾリル低級アルキル基、ピリミ
    ジニル低級アルキル基、インドリル低級アルキル基、イ
    ソインドリル低級アルキル基、ベンズイミダゾリル低級
    アルキル基、ベンゾピラニル低級アルキル基、ベンゾジ
    オキサニル低級アルキル基、キナゾリニル低級アルキル
    基、プリニル低級アルキル基、及びナフタレンカルボキ
    サミジル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
    ロサイクリック低級アルキル環系を示し； Ｒ＿３が低級アルコキシメチル基を示す方法。
  86. （８６）請求項（８５）記載の方法において、Ｒ＿２基
    がピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１
    −イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級ア
    ルキル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イ
    ミダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−
    ２−イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル
    低級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオアル
    キル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テト
    ラゾール−５−イル低級チオアルキル基、２−チエニル
    低級オキシアルキル基、２−チエニル低級ヒドロキシア
    ルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フラン−
    ２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール−５−
    イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イル低級アルキ
    ル基、インドール−１−イル低級アルキル基、イソイン
    ドール−２−イル低級アルキル基、ベンズイミダゾール
    −１−イル低級アルキル基、ベンズオキサゾール−３−
    イル低級アルキル基、ベンゾピラン−４−イル低級アル
    キル基、ベンゾピラン−７−イル低級アルキル基、ベン
    ゾジオキサン−２−イル低級アルキル基、ベンゾジオキ
    サン−８−イル低級アルキル基、キナゾリン−３−イル
    低級アルキル基、プリン−１−イル低級アルキル基、プ
    リン−７−イル低級アルキル基、及びＮ−ナフタレンカ
    ルボキサミジル低級アルキル基から成る群から選択され
    るヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す方法。
  87. （８７）請求項（８５）記載の方法において、Ｒ＿１エ
    チル基を示し、かつＲ＿３がメトキシメチル基を示す方
    法。
  88. （８８）請求項（８５）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（フェニル）−Ｎ−〔１−（２−（２Ｈ−テトラ
    ゾール−２−イル）エチル）−４−メトキシメチル−４
    −ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上許容し
    うる酸付加塩類を含む方法。
  89. （８９）哺乳動物に呼吸抑制を伴なう鎮痛作用をもたら
    す方法において、該哺乳動物に鎮痛目的上有効な量の請
    求項（２１）に定義した化合物を投与することを含む方
    法。
  90. （９０）請求項（８０）記載の方法において、Ｒが２−
    フルオロフェニル基若しくは２−メトキシフェニル基を
    示す方法。
  91. （９１）請求項（８９）記載の方法において、Ｒ＿１が
    エチル基、エテニル基、メトキシメチル基及び１−メト
    キシエチル基から成る群から選択される方法。
  92. （９２）請求項（８９）記載の方法において、Ｒ＿２が
    ピラゾール−１−イル低級アルキル基、イミダゾール−
    １−イル低級アルキル基、イミダゾリン−１−イル低級
    アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキ
    ル基、及びＮ−フタルイミジル低級アルキル基から成る
    群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル環系
    を示す方法。
  93. （９３）請求項（８９）記載の方法において、Ｒ＿３が
    メトキシカルボニル基及びメトキシメチル基から成る群
    から選択される方法。
  94. （９４）請求項（８９）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（
    １Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−４−メトキシ
    カルボニル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びそ
    の医薬上許容しうる酸付加塩類を含む方法。
  95. （９５）請求項（８９）記載の方法において、該化合物
    がＮ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔１−（２−（
    Ｎ−フタルイミジル）エチル）−４−メトキシカルボニ
    ル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びその医薬上
    許容しうる酸付加塩類を含む方法。
  96. （９６）哺乳動物に呼吸抑制を伴なう鎮痛作用をもたら
    す方法において、該哺乳動物に鎮痛目的上有効な量の請
    求項（３１）に定義した化合物を投与することを含む方
    法。
  97. （９７）請求項（９６）記載の方法において、Ｒがフェ
    ニル基、２−フルオロフェニル基及びメトキシフェニル
    基から成る群から選択される方法。
  98. （９８）請求項（９６）記載の方法において、Ｒ＿１が
    エチル基、エテニル基、メトキシメチル基及びメトキシ
    エチル基から成る群から選択される方法。
  99. （９９）請求項（９６）記載の方法において、Ｒ＿２が
    ピロール−１−イル低級アルキル基、ピラゾール−１−
    イル低級アルキル基、イミダゾール−１−イル低級アル
    キル基、イミダゾール−３−イル低級アルキル基、イミ
    ダゾール−４−イル低級アルキル基、イミダゾール−２
    −イル低級チオアルキル基、トリアゾール−１−イル低
    級アルキル基、トリアゾール−３−イル低級チオアルキ
    ル基、テトラゾール−２−イル低級アルキル基、テトラ
    ゾール−５−イル低級チオアルキル基、チエン−２−イ
    ル低級オキシアルキル基、チエン−２−イル低級ヒドロ
    キシアルキル基、チエン−３−イル低級アルキル基、フ
    ラン−２−イル低級ヒドロキシアルキル基、チアゾール
    −５−イル低級アルキル基、オキサゾール−３−イル低
    級アルキル基、チアジアゾール−２−イル低級アルキル
    基、オキサジアゾール−３−イル低級アルキル基、ピペ
    リジン−１−イル低級アルキル基、ピリミジン−１−イ
    ル低級アルキル基、ピリダジン−１−イル低級アルキル
    基、トリアジン−１−イル低級アルキル基、インドール
    −１−イル低級アルキル基、イソインドール−２−イル
    低級アルキル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級ア
    ルキル基、ベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル
    基、ベンゾピラゾール−３−イル低級アルキル基、ベン
    ズオキサゾール−３−イル低級アルキル基、ベンゾピラ
    ン−４−イル低級アルキル基、ベンゾピラン−７−イル
    低級アルキル基、ベンゾジオキサン−２−イル低級アル
    キル基、ベンゾジオキサン−８−イル低級アルキル基、
    ベンゾチアジン−４−イル低級アルキル基、キナゾリン
    −３−イル低級アルキル基、プリン−１−イル低級アル
    キル基、プリン−７−イル低級アルキル基、Ｎ−ナフタ
    レンカルボキサミジル低級アルキル基、及びＮ−ナフタ
    レンスルファミジル低級アルキル基から成る群から選択
    されるヘテロサイクリック低級アルキル環系を示す方法
    。
  100. （１００）請求項（９９）記載の方法において、Ｒ＿２
    がピラゾリル低級アルキル基、テトラゾリル低級アルキ
    ル基、イソインドリル低級アルキル基、及びベンズイミ
    ダゾリル低級アルキル基から成る群から選択されるヘテ
    ロサイクリック低級アルキル環系を示す方法。
  101. （１０１）請求項（１００）記載の方法において、Ｒ＿
    ２がピラゾール−１−イル低級アルキル基、テトラゾー
    ル−１−イル低級アルキル基、テトラゾール−２−イル
    低級アルキル基、イソインドール−２−イル低級アルキ
    ル基、ベンズイミダゾール−１−イル低級アルキル基、
    及びベンズイミダゾール−２−イル低級アルキル基から
    成る群から選択されるヘテロサイクリック低級アルキル
    環系を示す方法。
  102. （１０２）請求項（９６）記載の方法において、該化合
    物が￥シス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔
    １−（２−（Ｎ−フタルイミジル）エチル）−３−メチ
    ル−４−ピペリジニル〕メトキシアセトアミド及びその
    医薬上許容しうる酸付加塩類を含む方法。
  103. （１０３）請求項（９６）記載の方法において、該化合
    物が￥シス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ−〔
    １−（２−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル）−
    ３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及びそ
    の医薬上許容しうる酸付加塩類を含む方法。
  104. （１０４）請求項（９６）記載の方法において、該化合
    物が￥トランス￥−Ｎ−（２−フルオロフェニル）−Ｎ
    −〔１−（２−（１Ｈ−ピラゾール−１−イル）エチル
    ）−３−メチル−４−ピペリジニル〕プロパンアミド及
    びその医薬上許容しうる酸付加塩類を含む方法。
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