JPH02292267A - 2―(2’,4’―ジヒドロキシフエニル)―4,6―ジアリール―s―トリアジンの製造方法 - Google Patents
2―(2’,4’―ジヒドロキシフエニル)―4,6―ジアリール―s―トリアジンの製造方法Info
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- JPH02292267A JPH02292267A JP2103290A JP10329090A JPH02292267A JP H02292267 A JPH02292267 A JP H02292267A JP 2103290 A JP2103290 A JP 2103290A JP 10329090 A JP10329090 A JP 10329090A JP H02292267 A JPH02292267 A JP H02292267A
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- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
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- C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、2−(2’ 4’ −ジヒトロキシフェニ
ル)−4.6−ジアリール−s−}−リアジンの新規な
製造方法に関する. 非対称的に置換されたジヒトロキシフェニル−s−トリ
アジンは、たとえば米国特許第3268474号明細書
に開示されている.これらの化合物は,最初にフリーデ
ルークラフツ触媒の存在下において塩化シアヌールの1
モルとジメチルベンゼンの2モルとを反応させ,そして
得られたモノクロ口アリールトリアジンをさらにフリー
デルークラフッ反応でジヒドロギシベンゼンと反応させ
ることによって製造されている.この反応に用いられる
溶剤は、ニトロベンゼン、0−ジクロロベンゼン、クロ
ロベンゼン、または高塩素化溶剤である。しかしながら
、S一トリクロロトリアシンと芳香族炭化水素とのフリ
ーデルークラフツ反応は選択性に乏しい。モノクロ口ジ
アリールトリアジンのほかに、分離か非常に困難なジク
ロ口アリールトリアシンとトリアリールトリアジンとの
混合物が生じる [ヘルフェティカ(Helv.)55
.1589(1972)参照Jここに本発明によって、
簡弔かつきわめて好収率で2− (2’ .4’ −ジ
ヒドロキシフェニル)−4、6−ジアリールーs−}−
リアジンを製造できる方法が見い出された。
ル)−4.6−ジアリール−s−}−リアジンの新規な
製造方法に関する. 非対称的に置換されたジヒトロキシフェニル−s−トリ
アジンは、たとえば米国特許第3268474号明細書
に開示されている.これらの化合物は,最初にフリーデ
ルークラフツ触媒の存在下において塩化シアヌールの1
モルとジメチルベンゼンの2モルとを反応させ,そして
得られたモノクロ口アリールトリアジンをさらにフリー
デルークラフッ反応でジヒドロギシベンゼンと反応させ
ることによって製造されている.この反応に用いられる
溶剤は、ニトロベンゼン、0−ジクロロベンゼン、クロ
ロベンゼン、または高塩素化溶剤である。しかしながら
、S一トリクロロトリアシンと芳香族炭化水素とのフリ
ーデルークラフツ反応は選択性に乏しい。モノクロ口ジ
アリールトリアジンのほかに、分離か非常に困難なジク
ロ口アリールトリアシンとトリアリールトリアジンとの
混合物が生じる [ヘルフェティカ(Helv.)55
.1589(1972)参照Jここに本発明によって、
簡弔かつきわめて好収率で2− (2’ .4’ −ジ
ヒドロキシフェニル)−4、6−ジアリールーs−}−
リアジンを製造できる方法が見い出された。
すなわち、本発明の方法は、式
?H
(式中、R.はC.−Cイーアルキルまたは水素であり
、R2はC,−C,−アルキルである)の2−(2’
,4’−ジヒドロキシフェニル)−4.6−ジアリール
ーS一トリアジンの製造に関する.この方法は,式(2
)(式中、R,とR2とは前記の式(1)について定義
した意味を有する)のメチルチオージアリールーs−ト
リアジン化合物のメチルチオ基を塩素原子で置換し、得
られた式(3)?l (式中、R,とR2とは前記の式(1)について定義し
た意味を有する)の化合物を1、3ージヒドロキシベン
ゼンとルイス酸を使用して反応させて式(1)の化合物
を製造する方法において、第1の工程において式(4)
イヘI\Cl の化合物をキシレンまたはトルエンの存在下においてル
イス酸を使用して,式(5)堅l %./\2 (式中、R1とR2とは前記の式(1)について定義し
た意味を有する)の置換ベンゼンと反応させ、得られた
式(2)の化合物を第2工程においてトルエンまたはキ
シレンの存在下において塩素または塩化スルフリルと反
応させて式(3)の化合物を得、この得られた化合物を
第3工程においてトルエン、キシレンまたはキシレン異
性体混合物の存在下においてルイス酸を使用して1、3
−ジヒトロキシベンゼンと反応させて式(1)の化合物
を得ることを特徴とする。
、R2はC,−C,−アルキルである)の2−(2’
,4’−ジヒドロキシフェニル)−4.6−ジアリール
ーS一トリアジンの製造に関する.この方法は,式(2
)(式中、R,とR2とは前記の式(1)について定義
した意味を有する)のメチルチオージアリールーs−ト
リアジン化合物のメチルチオ基を塩素原子で置換し、得
られた式(3)?l (式中、R,とR2とは前記の式(1)について定義し
た意味を有する)の化合物を1、3ージヒドロキシベン
ゼンとルイス酸を使用して反応させて式(1)の化合物
を製造する方法において、第1の工程において式(4)
イヘI\Cl の化合物をキシレンまたはトルエンの存在下においてル
イス酸を使用して,式(5)堅l %./\2 (式中、R1とR2とは前記の式(1)について定義し
た意味を有する)の置換ベンゼンと反応させ、得られた
式(2)の化合物を第2工程においてトルエンまたはキ
シレンの存在下において塩素または塩化スルフリルと反
応させて式(3)の化合物を得、この得られた化合物を
第3工程においてトルエン、キシレンまたはキシレン異
性体混合物の存在下においてルイス酸を使用して1、3
−ジヒトロキシベンゼンと反応させて式(1)の化合物
を得ることを特徴とする。
本明細書ていう“アリール”とはトリルまたはキシリル
と理解されたい。
と理解されたい。
式(1)および(2)の化合物を製造するためのルイス
酸としては、好ましくは塩化アルミニウムか使用される
。
酸としては、好ましくは塩化アルミニウムか使用される
。
R1およびR2か意味するCI−C4−アルキルの例は
メチル,エチル,n−プロビル、フチル、イソツチル、
sec−ブチルまたはtert−ブチルである。好まし
くは,R.は水素またはメチルを意味し、モしてR2は
メチルを意味する。
メチル,エチル,n−プロビル、フチル、イソツチル、
sec−ブチルまたはtert−ブチルである。好まし
くは,R.は水素またはメチルを意味し、モしてR2は
メチルを意味する。
特に興味ある化合物は,Rlか水素であってR2かメチ
ルである化合物か,またはRとR2とか共にメチルを意
味する化合物である. 式(3)のジアリールモノクロロトリアジン化合物は、
式(4)の化合物から出発して式(2)のメチルチオ中
間体を単離することなく屯容器の一段階法として製造す
ることもできる。
ルである化合物か,またはRとR2とか共にメチルを意
味する化合物である. 式(3)のジアリールモノクロロトリアジン化合物は、
式(4)の化合物から出発して式(2)のメチルチオ中
間体を単離することなく屯容器の一段階法として製造す
ることもできる。
各工程の反応温度は広い範囲、たとえば30乃至lOO
℃の範囲で選択することかできる.すなわち、第1工程
の反応は55乃至90’C、第2工程の反応は0乃至8
0゜C、そして第3工程の反応は60乃至100゜Cの
温度範囲で実施される。
℃の範囲で選択することかできる.すなわち、第1工程
の反応は55乃至90’C、第2工程の反応は0乃至8
0゜C、そして第3工程の反応は60乃至100゜Cの
温度範囲で実施される。
好ましい反応温度は、第1丁程か65乃至75℃、第2
工程か40乃至50℃、第3工程が80乃至90℃の範
囲である。
工程か40乃至50℃、第3工程が80乃至90℃の範
囲である。
式(4)の出発物質の製造は,塩化シアヌールをメチル
メルカブタンと反応させることによフて実施される.こ
の反応はレク,トラブ.ヒミー.ペイ.バス (Rec
. ,Trav.chin−Pays Bas)78,
967(1959)に詳細に記載されている. 対応するメトキシ化合物の代りにジクロ口メチルチオー
s−トリアジンを使用することにより,式(5)の置換
ベンゼンとのフリーデルークラフツ反応において式(2
)のジアリール−s−}リアジンが選択的に生成されと
いう利点かある。しかしながら、ジクロ口メトキシーS
−}−リアジンをフリーデルークラフツ反応させる従来
の方法の場合には,常にメトキシ基の脱アルキル化か生
じる[ヘルフェティカ(Helv.) 55. 157
5(1972)]本発明の方法の第l工程において製造
される式(2)のメチルチオーS−}−リアジン化合物
は、R2がメチルを意味する場合にR,か水素を意味し
ない限りにおいて、新規化合物である。
メルカブタンと反応させることによフて実施される.こ
の反応はレク,トラブ.ヒミー.ペイ.バス (Rec
. ,Trav.chin−Pays Bas)78,
967(1959)に詳細に記載されている. 対応するメトキシ化合物の代りにジクロ口メチルチオー
s−トリアジンを使用することにより,式(5)の置換
ベンゼンとのフリーデルークラフツ反応において式(2
)のジアリール−s−}リアジンが選択的に生成されと
いう利点かある。しかしながら、ジクロ口メトキシーS
−}−リアジンをフリーデルークラフツ反応させる従来
の方法の場合には,常にメトキシ基の脱アルキル化か生
じる[ヘルフェティカ(Helv.) 55. 157
5(1972)]本発明の方法の第l工程において製造
される式(2)のメチルチオーS−}−リアジン化合物
は、R2がメチルを意味する場合にR,か水素を意味し
ない限りにおいて、新規化合物である。
式(2)の化合物のメチルチオ基を塩素で置換する第2
工程の反応は、ヘミッシェ・ベリヒテ(Chem. R
er.) 100. 1874(1967)に記載され
ている。この文献に記載されている方法においては、こ
の反応は四塩化炭素中て実施されているか、本発明によ
る方法てはこの反応はトルエンまたはキシレン中で実施
される。
工程の反応は、ヘミッシェ・ベリヒテ(Chem. R
er.) 100. 1874(1967)に記載され
ている。この文献に記載されている方法においては、こ
の反応は四塩化炭素中て実施されているか、本発明によ
る方法てはこの反応はトルエンまたはキシレン中で実施
される。
第2工程の反応で生成される式(3)の化合物は同じく
[ヘルフェティカ(Helν.)H,151’+9(1
972))から公知てある。
[ヘルフェティカ(Helν.)H,151’+9(1
972))から公知てある。
第3工程の反応に相当するモノクロ口ジフェニルトリア
シンとジヒドロキシベンゼンとのフリーデルークラフッ
反応は、多くの文献に記載されている。たとえば米国特
許第3268474号明細書に記載されている。
シンとジヒドロキシベンゼンとのフリーデルークラフッ
反応は、多くの文献に記載されている。たとえば米国特
許第3268474号明細書に記載されている。
しかし、これらのすべての文献記載においては、この反
応はニトロベンゼン、0−ジクロ口ベンゼンまたはクロ
ロベンゼン中で実施されている.これに対して、本発明
による方法ては、この反応は常にトルエン,キシレンま
たはキシレン異性体混合物中て実施され、これらのいず
れかの溶剤中て実施されない反応は1つもない。これは
誠に驚くべきことである. したかって本発明は、全反応工程を弔一の′#機溶剤中
で実施でき、そして高い収率て非対称ジヒトロキシフェ
ニルーS−トリアシンを合成する新規な方法を提供する
。
応はニトロベンゼン、0−ジクロ口ベンゼンまたはクロ
ロベンゼン中で実施されている.これに対して、本発明
による方法ては、この反応は常にトルエン,キシレンま
たはキシレン異性体混合物中て実施され、これらのいず
れかの溶剤中て実施されない反応は1つもない。これは
誠に驚くべきことである. したかって本発明は、全反応工程を弔一の′#機溶剤中
で実施でき、そして高い収率て非対称ジヒトロキシフェ
ニルーS−トリアシンを合成する新規な方法を提供する
。
本発明の方法で製造された化合物は、紫外線吸収剤とし
てあるいは紫外線吸収剤製造のための出発物質として使
用することかできる。
てあるいは紫外線吸収剤製造のための出発物質として使
用することかできる。
以}、本発明をさらに実施例によって説明する。
実Jlユ
無水塩化アルミニウム(昇華精製したもの,メルク(M
erck)社供給)293gをトルエンの6001中に
懸濁し、70乃至75℃に加熱する。攪拌しながら、こ
の懸濁物に1時間半かけてトルエンの5501中の2,
4−ジクロロー6−メチルチオ−1、3、5−トリアシ
ンの200.1gの溶液を導入する。この添加の間に温
度か80゜Cを超えないように注意する。このあと反応
混合物を85乃至90゜Cに加熱し,そしてこの温度で
さらに5時間半攪拌を続ける.ついて50℃まで冷却し
,温度が50乃至60℃に保持されるように冷却しなが
らこの混合物を水600mlと30%塩酸150mlと
の混合物中で攪拌する。しかるのちこのバッチを還流加
熱し、トルエンを水蒸気蒸留により除去する。生成物を
温水で熱時に濾過し、熱水で洗い、さらにメタノールで
洗って乾燥する。しかして下記式の化合物280g (
理論値の91.2%)を得た。
erck)社供給)293gをトルエンの6001中に
懸濁し、70乃至75℃に加熱する。攪拌しながら、こ
の懸濁物に1時間半かけてトルエンの5501中の2,
4−ジクロロー6−メチルチオ−1、3、5−トリアシ
ンの200.1gの溶液を導入する。この添加の間に温
度か80゜Cを超えないように注意する。このあと反応
混合物を85乃至90゜Cに加熱し,そしてこの温度で
さらに5時間半攪拌を続ける.ついて50℃まで冷却し
,温度が50乃至60℃に保持されるように冷却しなが
らこの混合物を水600mlと30%塩酸150mlと
の混合物中で攪拌する。しかるのちこのバッチを還流加
熱し、トルエンを水蒸気蒸留により除去する。生成物を
温水で熱時に濾過し、熱水で洗い、さらにメタノールで
洗って乾燥する。しかして下記式の化合物280g (
理論値の91.2%)を得た。
融点161−163℃.
トルエン6001の代りにm−キシレン6001を使用
し、その他は前記と同様に操作を実施して下記式の化合
物を得た。
し、その他は前記と同様に操作を実施して下記式の化合
物を得た。
融点82−83℃。
文」11呈
無水塩化アルミニウム(昇華精製,メルク社供給)28
0gをm−キシレンの600ml中に懸濁し、65乃至
70℃に加熱する.攪拌しながら、この懸濁物に65乃
至700Cの温度て1時間半かけてm−キシレンの42
01中の2.4−ジクロロー6−メチルチオ−1、3、
5−トリアシン(98%)の200.1gの溶液を導入
する.この後、65乃至70℃の温度でさらに1時間半
攪拌をつづけて反応を完了させる。しかるのち、この反
応混合物を50℃まで冷却し、温度が50乃至60゜C
に保持されるように冷却し、そしてこの混合物を水90
01と30%塩酸1001との混合物中に攪拌混合する
.この添加の間に温度が80゜Cを超えないように注意
する.さらにIO分間攪拌した後に、水性相をキシレン
相から分離する。35乃至40゜Cまで放冷した後に、
2−メチルチオー4、6−ビス(2’ 4’ −ジメ
チルフェニJL,)−1.3.5−トリアジンを含有し
ているキシレン層に、140gの塩素を2時間かけて導
入する.この際に2−クロロ−4、6ービス(2’ ,
4’−ジメチルフエニル)−1.3.5−トリアジンが
沈殿する.この沈殿な0乃至5℃において濾過し、キシ
レンと石油エーテルとで洗って乾燥して下記式の化合物
266g (理論値の82.1%)を得た. ?l 融点134−136℃。
0gをm−キシレンの600ml中に懸濁し、65乃至
70℃に加熱する.攪拌しながら、この懸濁物に65乃
至700Cの温度て1時間半かけてm−キシレンの42
01中の2.4−ジクロロー6−メチルチオ−1、3、
5−トリアシン(98%)の200.1gの溶液を導入
する.この後、65乃至70℃の温度でさらに1時間半
攪拌をつづけて反応を完了させる。しかるのち、この反
応混合物を50℃まで冷却し、温度が50乃至60゜C
に保持されるように冷却し、そしてこの混合物を水90
01と30%塩酸1001との混合物中に攪拌混合する
.この添加の間に温度が80゜Cを超えないように注意
する.さらにIO分間攪拌した後に、水性相をキシレン
相から分離する。35乃至40゜Cまで放冷した後に、
2−メチルチオー4、6−ビス(2’ 4’ −ジメ
チルフェニJL,)−1.3.5−トリアジンを含有し
ているキシレン層に、140gの塩素を2時間かけて導
入する.この際に2−クロロ−4、6ービス(2’ ,
4’−ジメチルフエニル)−1.3.5−トリアジンが
沈殿する.この沈殿な0乃至5℃において濾過し、キシ
レンと石油エーテルとで洗って乾燥して下記式の化合物
266g (理論値の82.1%)を得た. ?l 融点134−136℃。
m−キシレンの代りにトルエンを使用し、その他は前記
と同様に操作を実施して下記式の化合物を得た。
と同様に操作を実施して下記式の化合物を得た。
?1
H,ど〜・″・〆ゝCH3
融点204乃至206℃.
里ジ
式(mの化合物は、次の方法によっても製造することか
てきる。
てきる。
トルエンの701中に2−メチルチオ−4、6−ビス(
4゜−メチルフエニル)l、3 5−トリアジンの30
.7gを懸濁し、この懸濁物を55乃至60℃に加熱す
る.このあとよく攪拌しながらトルエンの201中の塩
化スルフリルの27gの溶掖を40分かけて導入する.
60゜Cでさらに30分間攪拌し、5゜Cまで冷却し、
沈殿した生成物を濾過巾離する.トルエンで洗って80
゜Cで真空乾燥する。
4゜−メチルフエニル)l、3 5−トリアジンの30
.7gを懸濁し、この懸濁物を55乃至60℃に加熱す
る.このあとよく攪拌しながらトルエンの201中の塩
化スルフリルの27gの溶掖を40分かけて導入する.
60゜Cでさらに30分間攪拌し、5゜Cまで冷却し、
沈殿した生成物を濾過巾離する.トルエンで洗って80
゜Cで真空乾燥する。
収量:25.3g。
この生成物の融点は204−206℃。
笈i亘A
4001のキシレン異性体混合物に2−クロロ−4、6
−ビス(2゜ 4゜−ジメチルフェニル)−s−1−リ
アジンの161.9gと無水塩化アルミニウムの73.
4gとを順次投入する.この懸濁物を70乃至75゜C
に加熱し、この温度でキシレン異性体混合物1001と
レソルシンの66gとの懸濁物を1時間半かけて導入す
る.この懸濁物を1時間85乃至90℃に加熱し、この
温度で3時間攪拌する.反応混合物を60゜Cまで冷却
し、水4001と30%塩酸l001との混合物中に導
入する.キシレン異性体混合物を蒸留除去し、黄色の生
成物を熱時に濾過単離し,温水とメタノールとて洗って
乾燥する.しかして,下記式の化合物175乃至 177g(理論値の88乃至89%)を得融点1 9
9 − 2 0 1 ”C。
−ビス(2゜ 4゜−ジメチルフェニル)−s−1−リ
アジンの161.9gと無水塩化アルミニウムの73.
4gとを順次投入する.この懸濁物を70乃至75゜C
に加熱し、この温度でキシレン異性体混合物1001と
レソルシンの66gとの懸濁物を1時間半かけて導入す
る.この懸濁物を1時間85乃至90℃に加熱し、この
温度で3時間攪拌する.反応混合物を60゜Cまで冷却
し、水4001と30%塩酸l001との混合物中に導
入する.キシレン異性体混合物を蒸留除去し、黄色の生
成物を熱時に濾過単離し,温水とメタノールとて洗って
乾燥する.しかして,下記式の化合物175乃至 177g(理論値の88乃至89%)を得融点1 9
9 − 2 0 1 ”C。
m−キシレンの代りにトルエンを使用し、その他は前記
と同様に操作を実施して下記式の化合物を得た. ?H 融点292−293℃。
と同様に操作を実施して下記式の化合物を得た. ?H 融点292−293℃。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、式(2) (2)▲数式、化学式、表等があります▼ のメチルチオ−ジアリール−s−トリアジ ン化合物のメチルチオ基を塩素原子で置換 し、得られた式(3) (3)▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物を1,3−ジヒドロキシベンゼン とルイス酸を使用して反応させて式(1) (1)▲数式、化学式、表等があります▼ (前記の各式中、R_1はC_1−C_4−アルキルま
たは水素であり、R_2はC_−C_4−アルキルであ
る)の2−(2′,4′− ジヒドロキシフェニル)−4,6−ジア リール−s−トリアジンを製造する方法に おいて、 第1の工程において式(4) (4)▲数式、化学式、表等があります▼ の化合物をキシレンまたはトルエンの存在 下においてルイス酸を使用して、式(5) (5)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1とR_2とは前記の意味を有する)の置
換ベンゼンと反応させ、得られた 式(2)の化合物を第2工程においてトル エンまたはキシレンの存在下において塩素 または塩化スルフリルと反応させて式(3)の化合物を
得、この得られた化合物を第3 工程においてトルエン、キシレンまたはキ シレン異性体混合物の存在下においてルイ ス酸を使用して1,3−ジヒドロキシベン ゼンと反応させて式(1)の化合物を得る ことを特徴とする方法。 2、ルイス酸が塩化アルミニウムであることを特徴とす
る請求項1記載の方法。 3、R_1が水素、R_2がメチルを意味する請求項1
または2記載の方法。 4、R_1およびR_2がメチルを意味する請求項1記
載の方法。 5、式(2)の化合物を単離することなく式(3)の化
合物を製造する請求項1記載の 方法。 6、第1工程の反応温度が55乃至90℃、好ましくは
65乃至75℃の範囲であり、 第2工程の反応温度が0乃至80℃、好ま しくは40乃至50℃の範囲であり、第3 工程の反応温度が60乃至100℃、好ま しくは80乃至90℃の範囲であることを 特徴とする方法。 7、式(3)の化合物を1,3−ジヒドロキシベンゼン
とルイス酸を使用して反応させ て式(1)の化合物を製造する方法におい て、反応をトルエン、キシレンまたはキシ レン異性体混合物の存在下において実施す ることを特徴とする方法。 8、式 (2)▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1は水素またはC_1−C_4−アルキル
であり、R_2はC_1−C_4−アルキルを意味する
、ただしR_2がメチルの場合にはR_1は水素を意味
しない)の化合物。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH01536/89-4 | 1989-04-21 | ||
CH153689 | 1989-04-21 |
Publications (2)
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---|---|
JPH02292267A true JPH02292267A (ja) | 1990-12-03 |
JP2857219B2 JP2857219B2 (ja) | 1999-02-17 |
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---|---|---|---|
JP2103290A Expired - Fee Related JP2857219B2 (ja) | 1989-04-21 | 1990-04-20 | 2―(2’,4’―ジヒドロキシフエニル)―4,6―ジアリール―s―トリアジンの製造方法 |
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DE (1) | DE59010061D1 (ja) |
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ZA (1) | ZA902997B (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8716474B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-05-06 | Adeka Corporation | Method for producing 2,4,6-tris(hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compound |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
ATE192743T1 (de) * | 1991-01-31 | 2000-05-15 | Ciba Sc Holding Ag | Verfahren zur herstellung von 2-(2',4'- dihydroxyphenyl)-4,6-diaryl-s-triazinen |
TW222292B (ja) * | 1991-02-21 | 1994-04-11 | Ciba Geigy Ag | |
EP0506615B1 (de) * | 1991-03-27 | 1995-02-22 | Ciba-Geigy Ag | Stabilisierte Methylmethacrylat-Polymere |
US5298030A (en) * | 1992-02-21 | 1994-03-29 | Ciba-Geigy Corporation | Process for the photochemical and thermal stabilization of undyed and dyed or printed polyester fiber materials |
DE59306916D1 (de) * | 1992-08-18 | 1997-08-21 | Ciba Geigy Ag | Verfahren zur photochemischen und thermischen Stabilisierung von ungefärbten und gefärbten Polyesterfasermaterialien |
US5370988A (en) * | 1994-02-28 | 1994-12-06 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Print stabilizers and antifoggants for photothermography |
US5585422A (en) * | 1995-09-20 | 1996-12-17 | Ciba-Geigy Corporation | Hybrid s-triazine light stabilizers substituted by benzotriazole or benzophenone moieties and compositions stabilized therewith |
DE19735900A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-02-25 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzmittel, welche gelöste Triazinderivate und polymere UV-Filtersubstanzen auf Siliconbasis enthalten |
DE19735899A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-02-25 | Beiersdorf Ag | Wirkstoffkombinationen aus einer oder mehreren grenzflächenaktiven Substanzen und oligomeren oder polymeren UV-Filtersubstanzen mit periodisch sich wiederholenden Si-0-Gruppen |
DE19735901A1 (de) * | 1997-08-19 | 1999-02-25 | Beiersdorf Ag | Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzmittel, welche als Festkörper vorliegende UV-Filtersubstanzen und polymere UV-Filtersubstanzen auf Siliconbasis enthalten |
DE69941073D1 (de) | 1998-03-02 | 2009-08-20 | Ciba Holding Inc | Verfahren zur Herstellung von 2,4-Diaryl-6-o-hydroxyphenyl-1,3,5-triazin Derivaten in Anwesenheit eines Protonensäure-Katalysators |
DE69924490T2 (de) | 1998-06-22 | 2006-01-19 | Ciba Speciality Chemicals Holding Inc. | Poly-trisaryl-1,3,5-triazin-carbamate als uv-lichtabsorber |
US6239276B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-05-29 | Cytec Technology Corporation | Non-yellowing para-tertiary-alkyl phenyl substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
US6297377B1 (en) | 1998-06-22 | 2001-10-02 | Cytec Technology Corporation | Benzocycle-substituted triazine and pyrimidine ultraviolet light absorbers |
DE19830902A1 (de) * | 1998-07-10 | 2000-01-13 | Hoechst Schering Agrevo Gmbh | Verfahren zur Herstellung von 2-Amino-4-chlor-1,3,5-triazinen |
ATE281440T1 (de) * | 1998-09-04 | 2004-11-15 | Cytec Tech Corp | Verfahren zur herstellung von 2-(2-hydroxy-4- alkoxyphenyl)-4,6-bisaryl-1,3,5-triazinen |
KR20010073101A (ko) | 1998-09-04 | 2001-07-31 | 에프. 아. 프라저, 에른스트 알테르 (에. 알테르), 한스 페터 비틀린 (하. 페. 비틀린), 피. 랍 보프, 브이. 스펜글러, 페. 아에글러 | 2-하이드록시-4-알콕시페닐 또는 2,4-디하이드록시페닐치환된 1,3,5-트리아진 uv 흡수제의 제조방법 |
JP2002524452A (ja) | 1998-09-04 | 2002-08-06 | サイテク・テクノロジー・コーポレーシヨン | 2−(2,4−ジヒドロキシフェニル)もしくは2−(2,4−ジアルコキシフェニル)−4,6−ビスアリール−1,3,5−トリアジンの製造方法 |
TWI259182B (en) | 1998-11-17 | 2006-08-01 | Cytec Tech Corp | Process for preparing triazines using a combination of Lewis acids with reaction promoters |
US6867250B1 (en) | 2000-10-30 | 2005-03-15 | Cytec Technology Corp. | Non-yellowing ortho-dialkyl aryl substituted triazine ultraviolet light absorbers |
US6492521B2 (en) | 2000-11-03 | 2002-12-10 | Cytec Technology Corp. | Hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same |
US6727300B2 (en) | 2000-11-03 | 2004-04-27 | Cytec Technology Corp. | Polymeric articles containing hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds |
US6545156B1 (en) | 2000-11-03 | 2003-04-08 | Cytec Technology Corp. | Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same |
US6414155B1 (en) | 2000-11-03 | 2002-07-02 | Cytec Technology Corp. | Oligomeric hindered amine light stabilizers based on multi-functional carbonyl compounds and methods of making same |
US6632944B2 (en) | 2001-06-22 | 2003-10-14 | Cytec Technology Corp. | Process for isolation of monophenolic-bisaryl triazines |
US6855269B2 (en) | 2001-11-09 | 2005-02-15 | Cytec Technology Corp. | Phenyl ether-substituted hydroxyphenyl triazine ultraviolet light absorbers |
KR101773621B1 (ko) | 2009-01-19 | 2017-08-31 | 바스프 에스이 | 유기 흑색 안료 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
BE614726A (ja) * | 1961-03-06 | |||
US3118887A (en) * | 1961-03-06 | 1964-01-21 | American Cyanamid Co | O-hydroxy substituted tris aryl-s-triazines |
CH484695A (de) * | 1962-10-30 | 1970-01-31 | Ciba Geigy | Verwendung von neuen Hydroxyphenyl-1,3,5-triazinen als Ultraviolettschutzmittel ausserhalb der Textilindustrie |
NL123744C (ja) * | 1962-10-30 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8716474B2 (en) | 2008-06-04 | 2014-05-06 | Adeka Corporation | Method for producing 2,4,6-tris(hydroxyphenyl)-1,3,5-triazine compound |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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