JPH02289460A - セラミックス基板の製造方法 - Google Patents
セラミックス基板の製造方法Info
- Publication number
- JPH02289460A JPH02289460A JP1107999A JP10799989A JPH02289460A JP H02289460 A JPH02289460 A JP H02289460A JP 1107999 A JP1107999 A JP 1107999A JP 10799989 A JP10799989 A JP 10799989A JP H02289460 A JPH02289460 A JP H02289460A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polyvinyl butyral
- butyral
- substrates
- green sheet
- binder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 47
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 title claims abstract description 32
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims abstract description 59
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims abstract description 28
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims abstract description 22
- ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N Butyraldehyde Chemical group CCCC=O ZTQSAGDEMFDKMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims abstract description 19
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 22
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 claims description 20
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 11
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 21
- 238000005245 sintering Methods 0.000 abstract description 8
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract description 7
- 239000012776 electronic material Substances 0.000 abstract description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 abstract description 2
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 8
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 5
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 5
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 4
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 3
- 239000013530 defoamer Substances 0.000 description 3
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 239000004147 Sorbitan trioleate Substances 0.000 description 2
- PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N Sorbitan trioleate Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)OC[C@@H](OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC PRXRUNOAOLTIEF-ADSICKODSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 2
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 2
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229960000391 sorbitan trioleate Drugs 0.000 description 2
- 235000019337 sorbitan trioleate Nutrition 0.000 description 2
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 241001391944 Commicarpus scandens Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 239000003570 air Substances 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M copper(1+);methylsulfanylmethane;bromide Chemical compound Br[Cu].CSC PMHQVHHXPFUNSP-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 125000004435 hydrogen atom Chemical class [H]* 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical class OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 229920001515 polyalkylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 238000007127 saponification reaction Methods 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000454 talc Substances 0.000 description 1
- 229910052623 talc Inorganic materials 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 1
- 229910052727 yttrium Inorganic materials 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はセラミック基板の製造方法に関する。
本発明で得られるセラミック基板は電子材料分野におい
て蒸着基板、ICおよびLSI基板、HIC基板、抵抗
基板等の各種に使用される。
て蒸着基板、ICおよびLSI基板、HIC基板、抵抗
基板等の各種に使用される。
〔従来の技術]
セラミック基板の成形法には、セラミック粉末とバイン
ダーの混合物をプレス成形後に焼成する乾式成形法と、
セラミック粉末にバインダー可塑剤、分散剤、溶剤等を
加えてスラリーとしたものを塗工してグリーンシートを
得、これを焼成する湿式成形法とがある。乾式成形法で
は、1mm以下のセラミック基板を製造することが困難
であり、また表面平滑性を要求される場合には焼成後に
研磨する必要があり、好ましい成形法とは言い難い。こ
れに対して湿式成形法では、表面の平滑なキャリアフィ
ルム上に塗工してグリーンシートを得るので、焼成した
ままの状態で表面平滑な基板が得やすいとされている。
ダーの混合物をプレス成形後に焼成する乾式成形法と、
セラミック粉末にバインダー可塑剤、分散剤、溶剤等を
加えてスラリーとしたものを塗工してグリーンシートを
得、これを焼成する湿式成形法とがある。乾式成形法で
は、1mm以下のセラミック基板を製造することが困難
であり、また表面平滑性を要求される場合には焼成後に
研磨する必要があり、好ましい成形法とは言い難い。こ
れに対して湿式成形法では、表面の平滑なキャリアフィ
ルム上に塗工してグリーンシートを得るので、焼成した
ままの状態で表面平滑な基板が得やすいとされている。
湿式成形法は次の工程からなる。
a)スラリー調整工程:セラミック粉末と焼結助剤にバ
インダー、可塑剤、分散剤、溶剤等を加え。
インダー、可塑剤、分散剤、溶剤等を加え。
ボールミル等で十分混合・分散させてスラリーを得る工
程。
程。
b)成形工程ニスラリ−を表面の平滑なキャリアフィル
ム(例えばポリエステルフィルム等)の上にドクターブ
レードを用いて塗工し、乾燥してグリーンシートを1−
)る工程。
ム(例えばポリエステルフィルム等)の上にドクターブ
レードを用いて塗工し、乾燥してグリーンシートを1−
)る工程。
C)焼成工程ニゲリーンシート中の有機成分を仮焼成に
よって除去した後、大気中、水素中、窒素中または真空
下で本焼成して焼結体を得る工程。
よって除去した後、大気中、水素中、窒素中または真空
下で本焼成して焼結体を得る工程。
この方法に於いては成形工程が最も重要であり、歩留ま
りの向上のためには、ひび割れのない嵩密度の安定した
グリーンシートを得ることが、また焼結収縮率を小さく
し基板表面の平滑性を向上させるためには、セラミック
粉末を十分に分散させ、かつグリーンシートの嵩密度を
向上させることが必要になる。
りの向上のためには、ひび割れのない嵩密度の安定した
グリーンシートを得ることが、また焼結収縮率を小さく
し基板表面の平滑性を向上させるためには、セラミック
粉末を十分に分散させ、かつグリーンシートの嵩密度を
向上させることが必要になる。
しかしサブミクロンオーダーのセラミック粉末を使用す
る場合、上記を満足することは非常に困難である。例え
ばサブミクロンオーダーのセラミック粉末に少量の有機
バインダーを添加したスラリーを乾燥し、グリーンシー
トとしたものは十分な強度が保てずひび割れが発生する
。また有機バインダーを大川に用いると十分な強度を保
つことはできるが1分散性が悪くなり、かつグリーンシ
ートの嵩密度が低いため焼結性が悪く、得られるセラミ
ック基板の焼結密度1表面粗さは苦しく劣ったものとな
る。さらに少量の有機バインダーで十分な強度を保てる
ように高重合度の有機バインダーを用いればグリーンシ
ートの嵩密度は大きくなるが粉末の分散性が非常に悪く
、セラミック基板の表面平滑性は著しく劣ったものとな
る。
る場合、上記を満足することは非常に困難である。例え
ばサブミクロンオーダーのセラミック粉末に少量の有機
バインダーを添加したスラリーを乾燥し、グリーンシー
トとしたものは十分な強度が保てずひび割れが発生する
。また有機バインダーを大川に用いると十分な強度を保
つことはできるが1分散性が悪くなり、かつグリーンシ
ートの嵩密度が低いため焼結性が悪く、得られるセラミ
ック基板の焼結密度1表面粗さは苦しく劣ったものとな
る。さらに少量の有機バインダーで十分な強度を保てる
ように高重合度の有機バインダーを用いればグリーンシ
ートの嵩密度は大きくなるが粉末の分散性が非常に悪く
、セラミック基板の表面平滑性は著しく劣ったものとな
る。
このため、特開昭50−153018号公報(引例1)
では、ひび割れのないグリーンシートを得るために低重
合度のポリビニルブチラールと高重合度のポリビニルブ
チラールを混合使用すること、グリーンシートの嵩密度
を大きくするためにバインダーとの混合の前にアルミナ
粉末のみをボールミルで予備混合すること、また特開昭
60−239352号公報(引例2)では、ひび割れが
なく嵩密度の大きなグリーンシートを得るためにまず低
重合度の有機バインダーによりセラミック粉末を単一粒
子になるまで分散し、その後高重合度の有機バインダー
を添加して混合すると言った工夫がなされている。
では、ひび割れのないグリーンシートを得るために低重
合度のポリビニルブチラールと高重合度のポリビニルブ
チラールを混合使用すること、グリーンシートの嵩密度
を大きくするためにバインダーとの混合の前にアルミナ
粉末のみをボールミルで予備混合すること、また特開昭
60−239352号公報(引例2)では、ひび割れが
なく嵩密度の大きなグリーンシートを得るためにまず低
重合度の有機バインダーによりセラミック粉末を単一粒
子になるまで分散し、その後高重合度の有機バインダー
を添加して混合すると言った工夫がなされている。
〔発明が解決しようとする課題]
しかし引例1の方法では、ポリビニルブチラールに対す
る可塑剤の量が多いため、バインダーとセラミック粉末
間の結合力が低下し焼結時に割れ易く、かつグリーンシ
ートがべたつき取扱性が劣ると言う問題がある。また引
例1.2の方法は共に、一種類のポリビニルブチラール
を使用する場合に比較してグリーンシートの嵩密度のバ
ラツキが太き(、そのため焼結収縮率が安定せず歩留ま
りが低下すると言う問題があり、時にはポリビニルブチ
ラールのLOTが変わるとグリーンシートの嵩密度が色
部に低下しグリーンシートにひび割れが起こることさえ
ある。尚、平均粒径2〜3μのセラミック粉末を使用し
た場合も、サブミクロンオーダーのセラミック粉末を使
用した場合程ではないが、同様の傾向がみられる。
る可塑剤の量が多いため、バインダーとセラミック粉末
間の結合力が低下し焼結時に割れ易く、かつグリーンシ
ートがべたつき取扱性が劣ると言う問題がある。また引
例1.2の方法は共に、一種類のポリビニルブチラール
を使用する場合に比較してグリーンシートの嵩密度のバ
ラツキが太き(、そのため焼結収縮率が安定せず歩留ま
りが低下すると言う問題があり、時にはポリビニルブチ
ラールのLOTが変わるとグリーンシートの嵩密度が色
部に低下しグリーンシートにひび割れが起こることさえ
ある。尚、平均粒径2〜3μのセラミック粉末を使用し
た場合も、サブミクロンオーダーのセラミック粉末を使
用した場合程ではないが、同様の傾向がみられる。
〔課題を解決するための手段1
本発明前は、かかる現状に鑑み鋭意研究を行った結果、
混合使用するポリビニルブチラール間のブチラール基の
モル%(ポリビニルブチラールはポリビニルアセテート
なケン化してポリビニルアルコールとし、それをブチラ
ール化することでつくられる。しかしポリビニルアルコ
ールを完全にブチラール化することは出来ず、またケン
化の際にも少量のアセチル基が残るためポリビニルブチ
ラールの化学構造は下記の通りとなる。
混合使用するポリビニルブチラール間のブチラール基の
モル%(ポリビニルブチラールはポリビニルアセテート
なケン化してポリビニルアルコールとし、それをブチラ
ール化することでつくられる。しかしポリビニルアルコ
ールを完全にブチラール化することは出来ず、またケン
化の際にも少量のアセチル基が残るためポリビニルブチ
ラールの化学構造は下記の通りとなる。
ここでl oox I/ (1+m+n)をブチラール
基のモル%と言う)の差がグリーンシートの嵩密度とひ
び割れに大きく影響することを見いだし、本発明を完成
するに至った。
基のモル%と言う)の差がグリーンシートの嵩密度とひ
び割れに大きく影響することを見いだし、本発明を完成
するに至った。
即ち本発明は、
(1)セラミック粉末を主成分とし、バインダーとして
重合度の穴なる2種類量−Fのポリビニルブチラールを
含む非水系スラリーをシート状に成形後、焼成して基板
を製造する方法において、各々のポリビニルブチラール
間のブチラール基のモル%の差が4%以下であることを
特徴とするセラミック基板の製造方法及び(2)セラミ
ック粉末を主成分とし、バインダーとして重合度の胃な
る2種類以上のポリビニルブチラール及び可塑剤を含む
非水系スラリーをシート状に成形後、焼成して基板を製
造する方法において、各々のポリビニルブチラール間の
ブチラール基のモル%の差が4%以下であり、混合使用
するポリビニルブチラールのブチラール基のモル%の加
重平均値に対する可塑剤とバインダーの割合が第1図の
線分A−B−以上の高重合度ポリビニルブチラールとを
混合使用する。強い粘結力と柔軟性を有するグリーンシ
ートを得るためには低重合度ポリビニルブチラールと中
重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラールを5:
l〜1:1で配合するのが好ましい。
重合度の穴なる2種類量−Fのポリビニルブチラールを
含む非水系スラリーをシート状に成形後、焼成して基板
を製造する方法において、各々のポリビニルブチラール
間のブチラール基のモル%の差が4%以下であることを
特徴とするセラミック基板の製造方法及び(2)セラミ
ック粉末を主成分とし、バインダーとして重合度の胃な
る2種類以上のポリビニルブチラール及び可塑剤を含む
非水系スラリーをシート状に成形後、焼成して基板を製
造する方法において、各々のポリビニルブチラール間の
ブチラール基のモル%の差が4%以下であり、混合使用
するポリビニルブチラールのブチラール基のモル%の加
重平均値に対する可塑剤とバインダーの割合が第1図の
線分A−B−以上の高重合度ポリビニルブチラールとを
混合使用する。強い粘結力と柔軟性を有するグリーンシ
ートを得るためには低重合度ポリビニルブチラールと中
重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラールを5:
l〜1:1で配合するのが好ましい。
本発明では、混合使用するポリビニルブチラール間のブ
チラール基のモル%の差を4%以下に抑えることが重要
であり、4%を越えるとグリーンシートの嵩密度が急激
に低下し、グリーンシートにひび割れが入りやすくなる
と共に焼結体の表面平滑性が低下する。
チラール基のモル%の差を4%以下に抑えることが重要
であり、4%を越えるとグリーンシートの嵩密度が急激
に低下し、グリーンシートにひび割れが入りやすくなる
と共に焼結体の表面平滑性が低下する。
可塑剤はグリーンシートの柔軟性を調整するために使用
されるがバインダーと可塑剤の混合割合もグリーンシー
トのひび割れに83 eを及ぼす。好適な可塑剤とポリ
ビニルブチラールの混合割合はポリビニルブチラールの
ブチラール基のモル%により異なっており、混合使用す
るポリビニルブチラールのブチラール基のモル%の加重
平均値に対して、可塑剤とバインダーの割合をプロット
した点が第1図における線分A−B−C−D−E−FC
−D−E−F−Aで囲まれる範囲内にあることを特徴と
する セラミック基板の製造方法を提供するものである。
されるがバインダーと可塑剤の混合割合もグリーンシー
トのひび割れに83 eを及ぼす。好適な可塑剤とポリ
ビニルブチラールの混合割合はポリビニルブチラールの
ブチラール基のモル%により異なっており、混合使用す
るポリビニルブチラールのブチラール基のモル%の加重
平均値に対して、可塑剤とバインダーの割合をプロット
した点が第1図における線分A−B−C−D−E−FC
−D−E−F−Aで囲まれる範囲内にあることを特徴と
する セラミック基板の製造方法を提供するものである。
以下本発明について詳細に説明する。
本発明に使用されるセラミック粉末としてはアルミナ、
ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素等
が、可塑剤としてはトリエチレングリコール、ポリアル
キレングリコール、DOP、DBP、BBP等のフタル
酸エステル等が用いられる。また、有機溶剤としてはト
リクロルエチレン、n−ブタノール、エチルアルコール
、トルエン、メチルアルコール、MEK等とこれらの共
沸混合物が用いられる。
ジルコニア、窒化アルミニウム、窒化珪素、炭化珪素等
が、可塑剤としてはトリエチレングリコール、ポリアル
キレングリコール、DOP、DBP、BBP等のフタル
酸エステル等が用いられる。また、有機溶剤としてはト
リクロルエチレン、n−ブタノール、エチルアルコール
、トルエン、メチルアルコール、MEK等とこれらの共
沸混合物が用いられる。
バインダーとしてはポリビニルブチラールを使用するが
、その分子量分布がグリーンシートのひび割れ発生に大
きな影響を及ぼすので、広範な分子量分布を有するよう
に重合度が100以上で500未満の低重合度ポリビニ
ルブチラールと重合度が500以上で1000未満の中
重合度ポリビニルブチラール及びまたは重合度がtoo
。
、その分子量分布がグリーンシートのひび割れ発生に大
きな影響を及ぼすので、広範な分子量分布を有するよう
に重合度が100以上で500未満の低重合度ポリビニ
ルブチラールと重合度が500以上で1000未満の中
重合度ポリビニルブチラール及びまたは重合度がtoo
。
−八で囲まれる範囲内にあることが好ましい。面、第1
図において点A−Fの横軸(混合使用するポリビニルブ
チラールのブチラール基のモル%の加重平均値)と縦軸
(可塑剤/ポリビニルブチラールの割合)の値は次の通
りである。
図において点A−Fの横軸(混合使用するポリビニルブ
チラールのブチラール基のモル%の加重平均値)と縦軸
(可塑剤/ポリビニルブチラールの割合)の値は次の通
りである。
点 横軸 縦軸
A 75 0.70
B ?5 0.15
C710,20
D 60.5 0.50
E 60.5 1.05
F 71 0.75
可塑剤とバインダーの混合割合を上記範囲に限定した理
由は、上記範囲より可塑剤の割合を減らすとグリーンシ
ートの柔軟性が失われグリーンシートのひび割れを生じ
易(、上記範囲より可塑剤の割合を増やすとグリーンシ
ートのべたつきを生じ取扱性が劣ると共にバインダーと
セラミック粉末間の結合力が低下しグリーンシートの強
度低下を招きグリーンシートがひび割れ易くまた焼結時
に割れ易くなるためである。
由は、上記範囲より可塑剤の割合を減らすとグリーンシ
ートの柔軟性が失われグリーンシートのひび割れを生じ
易(、上記範囲より可塑剤の割合を増やすとグリーンシ
ートのべたつきを生じ取扱性が劣ると共にバインダーと
セラミック粉末間の結合力が低下しグリーンシートの強
度低下を招きグリーンシートがひび割れ易くまた焼結時
に割れ易くなるためである。
[実施例]
以下本発明を実施例と共に具体的に説明するが。
本発明の趣旨を外れない限り、本発明の技術的範囲は、
これに限定されるものではない。
これに限定されるものではない。
実施例1
平均粒径04μのアルミナ粉末(昭和電工製UΔ−50
55)100部に焼結助剤として酸化マグ参シウム(M
g O)を0.25部、粉砕助剤としてエチレングリ
コールを0.3部添加しポリエチレン製のポット中で4
0時間、乾式で粉砕した。
55)100部に焼結助剤として酸化マグ参シウム(M
g O)を0.25部、粉砕助剤としてエチレングリ
コールを0.3部添加しポリエチレン製のポット中で4
0時間、乾式で粉砕した。
そこに、バインダーとして低重合度ポリビニルブチラー
ルと中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール
((Ilし3々のポリビニルブチラール間のブチラール
基のモル%の差は4%以下)を合計で11部、可塑剤と
してジブチルフタレート7部、有機溶剤としてメチルエ
チルケトン・メタノール・ブタノールの混合溶剤42部
、分散剤としてツルとタントリオレエート1部を加えて
72時間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度
を200ボイスに調整した後ドクターブレード装置にて
ポリエステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mm
のグリーンシートを(また。
ルと中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール
((Ilし3々のポリビニルブチラール間のブチラール
基のモル%の差は4%以下)を合計で11部、可塑剤と
してジブチルフタレート7部、有機溶剤としてメチルエ
チルケトン・メタノール・ブタノールの混合溶剤42部
、分散剤としてツルとタントリオレエート1部を加えて
72時間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度
を200ボイスに調整した後ドクターブレード装置にて
ポリエステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mm
のグリーンシートを(また。
その後上記のグリーンシートを50X50mmの寸法に
金型にて打ち扱き、それを電気炉で大気雰囲気下、16
00℃で2時間焼成してアルミナセラミック基板を得た
。ポリビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの
状態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラ
ミック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第1表(試
料NO1〜3)に示す。
金型にて打ち扱き、それを電気炉で大気雰囲気下、16
00℃で2時間焼成してアルミナセラミック基板を得た
。ポリビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの
状態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラ
ミック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第1表(試
料NO1〜3)に示す。
比較例1
バインダーとして低重合度ポリビニルブチラールと中重
合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各
々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の
差は4%を越す)を合計で11部使用した以外は実施例
1と同様の工程を経てアルミナセラミック基板を得た。
合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各
々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の
差は4%を越す)を合計で11部使用した以外は実施例
1と同様の工程を経てアルミナセラミック基板を得た。
ポリビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの状
態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラミ
ック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第1表(試料
N094〜5)に示す。
態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラミ
ック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第1表(試料
N094〜5)に示す。
(以下余白)
第1表より本発明よりなるアルミナセラミック基鈑は比
較例のアルミナセラミック基鈑に比較し、グリーンシー
トの状態・嵩密度・引張り強度、及び焼結密度、表面粗
さが優れていることがわかる。
較例のアルミナセラミック基鈑に比較し、グリーンシー
トの状態・嵩密度・引張り強度、及び焼結密度、表面粗
さが優れていることがわかる。
実施例2
平均粒径0.5μのALN粉末(徳山曹達製Fグレード
)100部に焼結助剤として酸化イツトリウム(Y、O
l)を3部、粉砕助剤としてエチレングリコールを0.
3部添加しポリエチレン製のポット中で1時間、乾式で
混合した。
)100部に焼結助剤として酸化イツトリウム(Y、O
l)を3部、粉砕助剤としてエチレングリコールを0.
3部添加しポリエチレン製のポット中で1時間、乾式で
混合した。
そこにバインダーとして低重合度ポリビニルブチラール
と中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(
但し各々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモ
ル%の差は4%以下)を合計で9部、可塑剤としてジブ
チルフタレート6部、有PAP剤としてメチルエチルケ
トン・メタノール・ブタノールの混合溶剤60部、分散
剤としてソルビタントリオレエート1部を加えて40時
間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度を20
0ボイスに調整した後ドクターブレード装置にてポリエ
ステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mmのグリ
ーンシートを得た。
と中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(
但し各々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモ
ル%の差は4%以下)を合計で9部、可塑剤としてジブ
チルフタレート6部、有PAP剤としてメチルエチルケ
トン・メタノール・ブタノールの混合溶剤60部、分散
剤としてソルビタントリオレエート1部を加えて40時
間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度を20
0ボイスに調整した後ドクターブレード装置にてポリエ
ステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mmのグリ
ーンシートを得た。
その後上記のグリーンシートを50X50mmの寸法に
金型にて打ち抜き、それを非酸化性雰囲気下、1800
℃で4時間焼成してA I−N基鈑を得た。ポリビニル
ブチラールの混合内容、グリーンシートの状態、嵩密度
、引張り強度、及び(ワられたALN基扱基鈑結密度を
合わせて第2表(試料NO,6〜7)に示す。
金型にて打ち抜き、それを非酸化性雰囲気下、1800
℃で4時間焼成してA I−N基鈑を得た。ポリビニル
ブチラールの混合内容、グリーンシートの状態、嵩密度
、引張り強度、及び(ワられたALN基扱基鈑結密度を
合わせて第2表(試料NO,6〜7)に示す。
比較例2
バインダーとして低重合度ポリビニルブチラルと中重合
度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各々
のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の差
は4%を越す)を合計で9部使用した以外は実施例2と
同様の工程を経てALN基板を得た。ポリビニルブチラ
ールの混合内容、グリーンシートの状態、嵩密度、引張
り強度、及び得られたALN基板の焼結密度を合わせて
第2表(試料N008〜9)に示す。
度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各々
のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の差
は4%を越す)を合計で9部使用した以外は実施例2と
同様の工程を経てALN基板を得た。ポリビニルブチラ
ールの混合内容、グリーンシートの状態、嵩密度、引張
り強度、及び得られたALN基板の焼結密度を合わせて
第2表(試料N008〜9)に示す。
(以下余白)
第2表より本発明よりなるALN基板は比較例のALN
基板に比較し、グリーンシートの状態・嵩密度・引張り
強度、及び焼結密度が優れていることがわかる。
基板に比較し、グリーンシートの状態・嵩密度・引張り
強度、及び焼結密度が優れていることがわかる。
実施例3及び比較例3
可塑剤であるジブチルフタレートの添加量を変化させた
以外は実施例1と同様の工程を経て、アルミナセラミッ
ク基板を得た。可塑剤の添加量、グリーンシートの状態
、嵩密度、引張り強度、及びi′)られたアルミナセラ
ミック基板のひび割れ・クラックの発生状況、焼結密度
、そして混合使用するポリビニルブチラールのブチラー
ル基のモル%の加FIL平均値を合わせて第3表(試料
NO,l 0〜1g)に示す。
以外は実施例1と同様の工程を経て、アルミナセラミッ
ク基板を得た。可塑剤の添加量、グリーンシートの状態
、嵩密度、引張り強度、及びi′)られたアルミナセラ
ミック基板のひび割れ・クラックの発生状況、焼結密度
、そして混合使用するポリビニルブチラールのブチラー
ル基のモル%の加FIL平均値を合わせて第3表(試料
NO,l 0〜1g)に示す。
(以下余白)
第3表より本発明によるアルミナセラミック基板は比較
例のアルミナセラミック基板に比較し、グリーンシート
の状態、引張り強度、及び基板の収率が優れていること
がわかる。
例のアルミナセラミック基板に比較し、グリーンシート
の状態、引張り強度、及び基板の収率が優れていること
がわかる。
実施例4
f均拉径30μのアルミナ粉末(昭和電工製A[、−4
51i>100部に焼結助剤としてカオリン3部、タル
ク2部、炭酸カルシウム1部を加えアルミナポット中で
1時間、乾式で混合した。
51i>100部に焼結助剤としてカオリン3部、タル
ク2部、炭酸カルシウム1部を加えアルミナポット中で
1時間、乾式で混合した。
そこに、バインダーとして低重合度ポリビニルブチラー
ルと中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール
((lし各々のポリビニルブチラール間のブチラール基
のモル%の差は4%以下)を合計で6部、可塑剤として
ジブチルフタレート4部、有機溶剤としてメチルエチル
ケトン・メタノール・ブタノールの混合溶剤35部、分
散剤としてソルビタントリオレエート1部を加えて24
時間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度を2
00ボイスに調整した後ドクターブレード装置にてポリ
エステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mmのグ
リーンシートを得た。
ルと中重合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール
((lし各々のポリビニルブチラール間のブチラール基
のモル%の差は4%以下)を合計で6部、可塑剤として
ジブチルフタレート4部、有機溶剤としてメチルエチル
ケトン・メタノール・ブタノールの混合溶剤35部、分
散剤としてソルビタントリオレエート1部を加えて24
時間混合してスラリーとし、脱泡し、スラリー粘度を2
00ボイスに調整した後ドクターブレード装置にてポリ
エステルフィルム上に塗工し、乾燥して厚さ1mmのグ
リーンシートを得た。
その後上記のグリーンシートを50X50mmの寸法に
金型にて打ち抜き、それを電気炉で大気雰囲気下、16
00℃で2時間焼成してアルミナセラミック基板を得た
。ポリビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの
状態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラ
ミック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第4表(試
料NO19〜20)に示す。
金型にて打ち抜き、それを電気炉で大気雰囲気下、16
00℃で2時間焼成してアルミナセラミック基板を得た
。ポリビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの
状態、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラ
ミック基板の焼結密度、表面粗さを合わせて第4表(試
料NO19〜20)に示す。
比較例4
バインダーとして低重合度ポリビニルブチラールと中重
合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各
々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の
差は4%を越す)を合計で6部使用した以外は実施例4
と同様の工程を経てアルミナセラミック基板を得た。ポ
リビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの状態
、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラミッ
ク基板の焼結密度1表面粗さを合わせて第4表(試料N
O,21〜22)に示す。
合度及びまたは高重合度ポリビニルブチラール(但し各
々のポリビニルブチラール間のブチラール基のモル%の
差は4%を越す)を合計で6部使用した以外は実施例4
と同様の工程を経てアルミナセラミック基板を得た。ポ
リビニルブチラールの混合内容、グリーンシートの状態
、嵩密度、引張り強度、及び得られたアルミナセラミッ
ク基板の焼結密度1表面粗さを合わせて第4表(試料N
O,21〜22)に示す。
第4表より本発明よりなるアルミナセラミック基機は比
較例のアルミナセラミック基板に比較し、グリーンシー
トの状態・嵩密度・引張り強度、及び焼結密度、表面粗
さが優れていることがわかる。
較例のアルミナセラミック基板に比較し、グリーンシー
トの状態・嵩密度・引張り強度、及び焼結密度、表面粗
さが優れていることがわかる。
〔発明の効果]
上述の実施例から明かなように本発明により表面モ滑性
の優れた。緻密なセラミック基板を歩留まりよ(安定的
に製造できるようになった。
の優れた。緻密なセラミック基板を歩留まりよ(安定的
に製造できるようになった。
第1図は、混合使用するポリビニルブチラールのブチラ
ール基のモル%の加重平均値に対する可塑剤/ポリビニ
ルブチラールの割合の間の好適な範囲を示すグラフであ
る。
ール基のモル%の加重平均値に対する可塑剤/ポリビニ
ルブチラールの割合の間の好適な範囲を示すグラフであ
る。
Claims (2)
- 1.セラミック粉末を主成分とし、バインダーとして重
合度の異なる2種類以上のポリビニルブチラールを含む
非水系スラリーをシート状に成形後、焼成して基板を製
造する方法において、各々のポリビニルブチラール間の
ブチラール基のモル%の差が4%以下であることを特徴
とするセラミック基板の製造方法。 - 2.セラミック粉末を主成分とし、バインダーとして重
合度の異なる2種類以上のポリビニルブチラール及び可
塑剤を含む非水系スラリーをシート状に成形後、焼成し
て基板を製造する方法において、各々のポリビニルブチ
ラール間のブチラール基のモル%の差が4%以下であり
、混合使用するポリビニルブチラールのブチラール基の
モル%の加重平均値に対する可塑剤とバインダーの割合
が第1図の線分A−B−C−D−E−F−Aで囲まれる
範囲内にあることを特徴とするセラミック基板の製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1107999A JPH02289460A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | セラミックス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1107999A JPH02289460A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | セラミックス基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02289460A true JPH02289460A (ja) | 1990-11-29 |
Family
ID=14473419
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1107999A Pending JPH02289460A (ja) | 1989-04-26 | 1989-04-26 | セラミックス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02289460A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03170361A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミックグリーンシート用組成物 |
JP2007242738A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 発光素子収納用パッケージ |
-
1989
- 1989-04-26 JP JP1107999A patent/JPH02289460A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH03170361A (ja) * | 1989-11-30 | 1991-07-23 | Taiyo Yuden Co Ltd | セラミックグリーンシート用組成物 |
JP2007242738A (ja) * | 2006-03-06 | 2007-09-20 | Sumitomo Metal Electronics Devices Inc | 発光素子収納用パッケージ |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN111747756B (zh) | 一种氮化物陶瓷流延浆料及其制备的氮化物陶瓷基片 | |
EP0857702B1 (en) | Method for producing ceramic substrate | |
EP0210874B1 (en) | Thin tape for dielectric materials | |
JP3193022B2 (ja) | セラミックグリーンシート用スラリー組成物及びセラミックグリーンシート | |
JPH04270165A (ja) | シート成形用スラリー組成物及びその焼結体 | |
JPH02289460A (ja) | セラミックス基板の製造方法 | |
JPS6049149B2 (ja) | 電子部品用白色アルミナ・セラミックの製造方法 | |
JPH06237054A (ja) | セラミックス基板用グリーンシート | |
JPH03199161A (ja) | セラミック基板の製造方法 | |
KR940006429B1 (ko) | 질화알루미늄기판의 제조방법 | |
KR20150114147A (ko) | 세라믹 조성물, 세라믹 소결체 및 이의 제조방법 | |
JPS60239352A (ja) | セラミツク焼結体の製造方法 | |
TWI761821B (zh) | 應用於半導體裝置之高強度氧化鋯 一 氧化鋁複合陶瓷基板及其製造方法 | |
JPS6243956B2 (ja) | ||
JPH0987040A (ja) | セラミックグリーン体 | |
JPH10297971A (ja) | 薄板状炭化珪素焼結体の製造方法 | |
JPH02129055A (ja) | セラミックスグリーンシートの製造方法 | |
Wang et al. | High-Performance BaTiO3 Film Based on Aqueous Tape Casting for Ultrathin MLCC Applications | |
JP2687634B2 (ja) | 窒化珪素焼結体の製造方法 | |
JPH05310475A (ja) | 窒化アルミニウム質焼結体の製造方法 | |
JP3171664B2 (ja) | 基板吸着装置 | |
JPH0672756A (ja) | グリーンシートの製造方法 | |
JPH09100177A (ja) | 多孔質アルミナセラミックスの製造方法 | |
JPH01270566A (ja) | アルミナ焼結体 | |
JPH0717437B2 (ja) | アルミナ基板の製造方法 |