JPH02285086A - 連続銀精製用電解槽 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 イ、産業上の利用分野 本発明は連続銀精製用電解槽に関するものである。

口、従来技術 電気＄Ｉ＄ｌ！スライムの処理中に形成される不純銀陽
極（しばしば粗銀地金陽極と称せられる）は銀を回収す
る為に一般にメビアス（Ｈｏｅｂｉｕｓ　）電解槽か或
いはパルバック・サム（Ｂａ１ｂａｃｈ−Ｔｈｕｓ）電
解槽かを用いることによって電解される。精製銀と金及
びにその他の貴金属を含有している陽極スライムを生産
する為のメビアス法或いはパルバック・サム法に於ける
従来の粗銀地金陽極精製方法はバッチ操作であって徹底
的に労力集約的でありかつ更に相当な量の金属が工程中
に無用に滞積されることを避は難いものとさせているバ
ッチ操作を基盤としている。なおその上、メビアス電解
槽は少なからぬ口の（しばしば３０％を越える）陽極ス
クラップであって再溶解されねばならなくかつ電解槽へ
再循環せしめられねばならない陽極スクラップを発生さ
せ、これに加えてパルバック・サム電解槽は他に比して
より広い床面積を絶対的に必要とする。

ハ０発明が解決しようとする課題 −つの連続銀精製用電解槽が住友金属鉱山株式会社によ
って開発されてきた、そして今沢氏（音訳による）ちら
すき氏等によって１９８４年３月のＭＭＩＪの冶金学レ
ビューの第１巻第１号に開示されている。この電解槽は
垂直円筒状陰極であって粗銀地金陽極を含有している陽
極バスケットによって囲まれている垂直円筒状陰極から
成っている。銀は前記円筒状除権の外側表面に析出させ
られる。この連続電解槽は工程中に利用できずに取り残
される貴金属の曇を減少さＵる。しかしながら、前記中
空円筒状陰極の内側の全ての面積が無駄にされているゆ
えにこの電解槽は他と比べて小さな容量を有しかつ等崖
金属生産礒に対してメプビアス電解槽よりもより広い床
面積を絶対に必要とする。

二、ｌｆｆ１を解決するための手段 本発明の目的は、それゆえに連続銀精製用電解槽であプ
て当該を解槽中に於ける貴金属の未利用滞積陽を減少さ
せるのみならず、また最小の床面積で演む達続銀精製用
電解槽を提供することである。

本発明による連続銀Ｎ装用電解槽は、電解液含有タンク
と、半分より少し少なめの当該円盤が電解液の中に浸さ
れる様に回転水平軸にして前記タンクの上に据えられて
いる回転水平軸に装置されている少なくとも一つの垂直
陰極円盤と、陽極バスケットであって陰極円盤に近接し
て電解液の中に浸されている不純銀陽極を含有している
少なくとも一つの陽極バスケットと、陰極区分室と陽極
区分室とを形成する為に陰極円盤を陽極バスケットから
分離している隔膜と、回転している陰極円盤から純銀の
結晶を連続的に除去しそしてそれを電解槽の特定の部分
に向けている装置と、そして連続的に或いは半連続的に
タンクの底部から金とそれ以外の貴金属を含有している
スライムを引き出す装置とを含有している。陽極は完全
に溶解しそしてそれゆえに陽極スクラップを溶解する必
要はない。

電解槽タンクは、銀の結晶が陰極円盤から電解液の中に
落下して金とそれ以外の負金属と混合するのを防止する
為に好ましくは分離されている状態に分離されているの
が良い。隔膜が隔壁の中に形成されている窓の中に設置
されていてそして陰極円盤と陽極バスケットとに対面し
ている。

電解液は、陰極区分室に導入されそして隔膜を介して陽
極区分室に進むそしてタンクの外側に配置されてある濾
過装置を通って好ましくは再循環させられるのが良い。

電解液温度は再循環流動の中で、例えば熱交換装置の中
の通り扱は通過によって更に調整される。

銀を陰極円盤から連続的に持ち去る為の装置は、好まし
くは陰極円盤に対して当てられて接触させられていて且
つトラフにして銀を電解槽の特定の部分に向ける為に水
源から水を供給されているトラフの一つの壁を形成して
いるすり板式ブレードを含有しているかき取り装置アセ
ンブリであるのが良い。

本発明は、次に添付図面に図解されている好ましい具体
例を参照することにより開示されるだろう。

ホ、実施例 第１図から第３図を参照づ゛ると、ボリア０ピレン或い
は他の適当な材料でできている電解槽タンク１０が示さ
れている。該タンクは、セメント製台１４の上に載置さ
れている適当な金属フレーム１２上に支承されている。

多数の陰極円盤１６が、前記フレームに固定されている
軸台２０の上に回転可能に装着されている＠１８に固着
されている。

該軸は軸継手２４を介して速度可変ギヤモーター２２に
よって駆動される。軸は、通常、銅の様な番魂導電性材
料で作られており、更に陰極母線としての用途を有する
。この軸はそれゆえに前記ギヤモーターから絶縁されて
おり、軸台もまたフレームから電気的に絶縁されている
。適当なＴｉ源の陰端子への接触は電流分布器２８を介
してなされる。陰極円盤は電解液による化学Ｗ＆蝕に強
い金属であって、チタニュウム或いはステンレス鋼の様
な金属でできている。

弁膜状金属酸化物の生成によって溶液から保護されるチ
タニュウムの様な金属の網で作られている陽極バスケッ
ト３０が、陰極円盤の内方の側に配置されている。

この陽極バスケットは、電源の陽端子へ母線３４を介し
て電気的に接続されている。母線３２から前記タンクの
中に吊されている。母線３２は、母線支承体３６と、フ
レームから電気的に絶縁されている電流誘導母線３４と
によってフレーム上に支承されている。粗銀地金陽極３
７が任意の従来の方法でバスケット３０の中に導入され
ている。

陰極円盤は、陽極バスケットから、テリレン（ｔｅｒｒ
ｙｌｅｎｅ　）或いはその他の酸に強い材料で作られた
織物布の様な任意の適当な材料でできている隔膜３８に
よって分離されていて陽極区分室と陰極区分室とを形成
している。該隔膜は電解槽の中に設置されている隔壁４
２の中に前もって用意の適当な温度に維持されでいる貯
栖（図示せず）との間を再循環させられている。当該電
解液は濾過されるのが好ましく、その温度は、個々の入
り口（図示せず）を介して陰極区分室の中に導入される
前の熱交換装置の中の通過によって調整され、該電解液
は、パイプ４８によって陽極区分室に連結されている主
オーバーフローとい４６を介して電解槽から出る。

銀の結晶（以後根粒と称Ｖられる）は、陰極円盤の所で
電解槽の運転の間じゆう製造される。この根粒は、隣り
合っている円盤相互間に装着されているかき取り装置ア
センブリを用いることにより連続的に除去される。

諸図のうちの第４図に示されている様に、各かき取り装
置アセンブリは両頭型ピストン・Ｏラド５６を持ってい
る空気シリンダ５４によって円盤に対して当てられてい
る金属ブレード５２を各々が保持している一対のプラス
チック製トラフ５０から成っている。シリンダ５４であ
って電解槽主フレームに装着されている支承構造体６ｏ
に固定されているシリンダ５４は支承体５８に気密係合
されている。トラフの中に落下する根粒はトラフ５０の
中にむけられている再循環している水の流れ６２を用い
ることにより洗い落とされる。根粒は運搬車６４の中に
集められそして運搬中の底部から漏れる水は電解槽の側
面に設置されているりンク６６へ向けられている。円盤
から電解液の中に落下するあらゆる銀粉は交互隔壁４２
の間で電解槽の底部の所に取り付けられている適当なピ
ンチ弁６８を介して集められ得る。

精製工程の過程の間じゆう遊離させられそして電解槽の
底部へ落下する陽極スライムは交互隔壁４２の間で電解
槽の底部の所に取り付けられている適当なピンチ弁７２
を介してビン７０の中に集められ得る。この陽極スライ
ムは当該ビンから鎖式管コンベヤ７４によって除去され
てもよい。当該陽極スライムは他の装置によって除去さ
れてもよい。例えば、前記ピンチ弁は、手動または自動
で、一定ＦＲ間間隔または短時間で聞かれ得るし、そし
て少量の電解液を含んでいるスライムは固体を電解液の
主な部分から分離する為に予濾過１置を装備されている
カートにとさっと落とされ得る。

隔壁４２は円盤から落下するあらゆる銀粉を陽極スライ
ムから分離することを可能にしていることが理解される
。もしもほんの微々たる量の非−付着性の銀粉が電解槽
の底部に落下するのなら隔壁は必要でないであろう。

上述の電解槽は従来のメビ７ス電解槽或いは従来のパル
パック・サム電解槽を用いている工業に於いて一般に適
用されているのと同様の電流密度、電解液組成そして温
度という条件の下で運転され得る。

等量の銀粉及びに金スライムの生産量に対して上述の電
解槽に無用に滞積される銀粉及びに金スライムの総量は
従来のメビアス電解槽に無用に滞積される銀粉及びに金
スライムの総量よりも少なくとも５０％は少ないであろ
うと評価されているので、その結果実質的な年々の貯蓄
となっている。

本発明による連続銀精製用雷解槽を用いているの等量の
銀粉及びに金スライムの生産量の為に必要とされるＩＩ
算の床面積はメビアス電解槽を用いているそれとほぼ同
じである。更に、根粒ち金スライムも運転者の邪魔をす
ることなく電解槽の特定の部分に集められるので、上述
の連続銀精製用電解槽を運転するのに必要とされる労力
は、よりいっそう少ない。さらにもう一つの利点は、陽
極が４゜ 完全に溶解することであり、それゆえにかなりの量の陽
極スクラップを溶かすことも再循環さすことも必要でな
くなっていることである。本発明は、好ましい具体例を
参考にして実例によって開示されてきたけれども、本発
明はその様な具体例に限定されないしかつ本発明の特許
請求の範囲以内で他の代替装躍も更に考案されるという
ことは理解されるべきである。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明による連続銀精製用電解槽の平面図、第
２図は第１図のＡ−Ａ線断面図、第３図は第２図のＢ−
Ｂ線断面図、第４図は前記連続銀ｗｉ製出用電解槽平面
図である。 １０・・・電解槽タンク、１６・・・多数の陰極円盤、
３０・・・粗銀地金ＩＩＩ極用の陽極バスケット、３７
・・・粗銀地金陽極、５０・・・一対のプラスチック製
トラフ、５２・・・空気シリンダ５４によって円盤に対
して当てられている金属ブレード、５４・・・電解槽主
フレームに１４−１されている支承構造体６ｏに固定さ
れているシリンダ、５６・・・両頭型ピストン・交互隔
！１４２の間で電解槽の底部の所に取り付けられている
適当なピンチ弁。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）連続銀精製用電解槽であつて ａ）電解液含有タンクと、 ｂ）少なくとも一つの垂直陰極円盤であって半分より少
   し少なめの当該円盤が電解液の中に浸される様に回転水
   平軸にして前記タンクの上に据えられている回転水平軸
   に装着されている少なくとも一つの垂直陰極円盤と、 ｃ）少なくとも一つの陽極バスケットであつて陰極円盤
   に近接して電解液の中に浸されている不純銀陽極を含有
   している少なくとも一つの陽極バスケットと、 ｄ）隔膜であつて陰極区分室と陽極区分室とを形成する
   為に陰極円盤を陽極バスケットから分離している隔膜と
   、 ｅ）装置であつて陰極から純銀の結晶を連続的に除去し
   そしてそれを電解槽の特定の部分に向けている装置と、
   そして ｆ）装置であって連続的に或いは半連続的に電解槽の底
   部から金とそれ以外の貴金属を含有しているスライムを
   引き出す装置とを含有している連続銀精製用電解槽。
2. （２）請求項１に記載の連続銀精製用電解槽に於いて、
   前記陰極円盤がチタニュウム或いはステンレス鋼ででき
   ている連続銀精製用電解槽。
3. （３）請求項１に記載の連続銀精製用電解槽に於いて、
   前記陽極バスケットがチタニユウムの網で作られている
   連続銀精製用電解槽。
4. （４）請求項１に記載の連続銀精製用電解槽に於いて、
   前記タンクが銀の結晶が少しでも陰極円盤から電解液の
   中に落下してスライムと混合するのを防止する為に分離
   されている状態に分離されそして前記隔膜が陰極円盤と
   陽極バスケットに対面している前記隔壁の中に形成され
   ている窓の中に設置されている連続銀精製用電解槽。
5. （５）請求項１に記載の連続銀精製用電解槽に於いて、
   電解液が陰極区分室に導入されそして隔膜を介して陽極
   区分室に進みそしてタンクの外側に配置されてある濾過
   装置及びに熱交換装置に通つて循環させられている連続
   銀精製用電解槽。
6. （６）請求項１に記載の連続銀精製用電解槽に於いて、
   前記装置であって陰極から純銀の結晶を連続的に除去し
   そしてそれを電解槽の特定の部分に向けている前記装置
   がかき取り装置アセンブリであって陰極円盤の表面に対
   して当てられて接触させられていてそしてトラフにして
   銀を電解槽の特定の部分に向ける為に水源から水を供給
   されているトラフの一つの壁を形成しているブレードを
   含有しているかき取り装置アセンブリである連続銀精製
   用電解槽。