JPH02276604A - タイヤの加硫方法と装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） この発明はタイヤの加硫方法および装置の改良に関する
ものである。

（従来の技術〉 従来タイヤの加硫は第１図に断面図として示すような加
硫装置で行なわれている。

この装置の概略を説明すると、１は上部クランプリング
２と下部クランプリング３で支持されたブラダ−であり
、加硫媒体の供給によって膨張した状態を示している。

（なお、上下部クランプリング周辺のリング、金型およ
びタイヤなどの図示は省略する。）そして上部クランプ
リング２はセンターポスト４に支持されている。５はバ
グシリンダーであり、６はバグシリンダーヘッドである
。下部クランプリング３はバグシリンダー５に支持され
ている。７は下部クランプリング３に支持された邪魔板
であり、この邪魔板７と下部クランプリング３の間にス
チームやガスの供給管８の供給口９およびその対向位置
に排出管１０の排出口１１が設けられている。

尚、１２はタイマー（図示せず）に直結した電磁弁から
送られるエアー圧によって作動するダイアフラム弁であ
る。

そしてこのような装置による加硫室内のタイヤ（図示せ
ず）の加硫は、例えばシェービング工程、スチーム工程
、ガス工程、排気工程のように公知の操作ステップを経
て完了させるのである。

〈発明が解決しようとする課題〉 ところがこの方法では、スチームもガスも同じ供給口９
から供給されることが欠点となっている。

即ち、スチーム工程に続くガスの供給が、このように加
硫室１３の下方に位置する供給口９から行なわれると、
ガスの比重がスチームより大きいために、加硫室１３内
の下部１４にたまる傾向が強くて、該室内に充満してい
るスチームと均一な混合が行なわれにくいのである。

従って、逆に加硫室上部１５にはスチームがたまること
になり、結局加硫室の基準温度に比べて上部１５は７〜
８℃高く、そして下部１４は逆に７〜８℃低い状態とな
るのであり、タイヤサイドウオール部の上下部では１５
〜１６℃の温度差が生ずることによって均一な加硫のタ
イヤが得られにくいという欠点が指摘されている。

〈課題を解決するための手段〉 本発明者は、上記のような従来の加硫装置によるタイヤ
加硫の欠点を解消して、常に均一な加硫のできる加硫方
法と装置を見出すべ（種々検討した結果、この発明に至
ったものである。

即ち、この発明は加硫室内にセットしたタイヤに対する
スチームの供給とガスの供給を別々の供給口から行ない
、ガスは加硫室の上部付近に向けて噴射することを第１
の特徴とするものであり、さらにバグシリンダー内を貫
通するガス供給管の供給口に、加硫室の上部付近方向に
角度を持たせてパイプを設置することを第２の特徴とし
、さらにはスチームとガスを交互に供給することを第３
の特徴とするものである。

以下、この発明をその一実施例を示す第２図乃至第５図
に基づいて説明する。

第２図において、２１は上部クランプリング２２と下部
クランプリング２３とで支持されているブラダ−である
。（尚、上下クランプリング周辺のリング、金型および
タイヤ等の図示は省略する。）そして、下部クランプリ
ング２３の上部にバグシリンダー２５内を貫通している
スチーム供給管２６の供給口２７をを配置し、これと対
向する位置より上部に同じくバグシリンダー２５内を貫
通するガス供給管２８の供給口２９が設けられ、該供給
口に黒の矢印方向、即ち加硫室の上部方向に角度を与え
たパイプ２４がルーズに接続され、これによってガスは
黒矢印のように加硫室３３の上部付近に噴射される。こ
のガス供給管２８は加硫工程における後半の排気やバキ
ュームなどの時の排出管をも兼ねるのである。３０はダ
イアフラム弁である。

このような構造の加硫装置にてタイヤ加硫を行゛なうに
は、例え・ば、先ずスチーム（２ｋｇ／ｃｍ”）を供給
口２７から加硫室３３内に供給してシェービングし、次
いでスチーム（１５ｋｇ／ｃｍ２）を同じ（供給口２７
から供給して加熱し、しかるのちガス供給管２８からの
ガスを供給口２９に接続したパイプ２４から加硫室上部
方向に供給するのである。

これによってスチームの充満した加硫室３３内の上部付
近３２にガスが噴射されるので、スチームとガスの混合
が十分に行なわれると共にガスの下降沈澱速度を遅らせ
ることができ、タイヤサイドウオール部上下部間の温度
差を約５〜６℃にまで縮めることができるのであり、タ
イヤサイドウオール部の過加硫や加硫不足が防止され、
より均一な加硫が行なわれるのである。

以上は第２図に基づいて、ガスの供給噴射な高い位置か
ら加硫室３３の上部付近３２に向けて行なう実施例につ
いて説明したが、この新規なガスの供給位置に加えて、
スチームとガスの供給方式を工夫することによってタイ
ヤサイドウオール部上下部の温度差を縮小させることが
できる。

即ち、例えばまずスチーム（２ｋｇ／Ｃｍ２）を供給し
てシェービングし、次いでまたスチーム（５ｋｇ／ｃ＋
ｎ”）を供給口２７から３０秒間供給して加熱し、次い
でガス（ｌｏｋｇ／ｃｍ”）を供給口２９に接続したパ
イプ２４から３０秒間供給し、次いでまたスチーム（１
５ｋｇ／ｃｍ”）を供給口２７から６分間供給し、次い
でガス（２１ｋｇ／ｃｍ”）を供給口２９に接続したパ
イプ２４から供給し、次いで排出口２９から排気し、最
後にバキュームして加硫工程のワンサイクルを終る方式
また別の例では、上記のスチームとガスの交互供給をガ
ス（５ｋｇ／ｃｍ”）の３０秒間供給、次いでスチーム
（１５ｋｇ／ｃｍ”）の６分間供給、次いでガス（２１
ｋｇ／ｃｍ２）の７分間供給としても良い。

このように、第２図に示すスチーム、ガスの供給位置で
もって、かつスチーム、ガスを上記の交互供給方式とし
てやれば、その効果はさらに顕著となり、例えばタイヤ
サイドウオール部上下部間の温度差を約２〜３℃に縮め
ることができる。

尚、この発明のスチーム供給口２７の開口３４は第３図
に示すように周方向に１ケ所設けてやればよく、またガ
スの供給口２９の開口３５は第４図の如く周方向に径２
〜６．ｍｍの孔を数ヶ〜ｌＯ数ケ設ける。

次にこの発明の装置即ち第２図に示すようにスチーム供
給を下部クランプリング上部の供給口から、ガス供給を
それより上部のガス供給口に接続したパイプから行なう
場合と、スチーム、ガスともに邪魔板下部の供給口から
行なう第１図に示すような従来装置を用いた場合につい
て実際にタイヤ加硫テストを行ない、加硫時の加硫媒体
をスチームからガスへ切換えた直後から数分間のタイヤ
サイドウオール部上下部間の加硫温度差Ｒを調べたとこ
ろ第５図Ａ、Ｂの結果が得られた。

なお、このテストにおいて、この発明の装置によるもの
第５図（Ａ）はスチーム１５ｋｇを下部クランプリング
上部のスチーム供給口から供給したのち、ガス２１ｋｇ
をガス供給口に接続したパイプから供給したのものであ
り、従来装置によるもの第５図（Ｂ）はスチーム１５ｋ
ｇ、ガス１５ｋｇをともに邪魔板下部の供給口から順次
供給したものである。

第５図から、この発明による（Ａ）はスチームからガス
へ切換えて１〜５分経過しても温度差Ｒ＝４〜８℃であ
り、特にガスに切換えて５分後でも温度差はわずか４℃
であった。

これに対し、従来装置による（Ｂ）は、温度差Ｒが１３
〜１７℃と非常に大きく、この発明の装置ではより均一
なタイヤ加硫状態が得られることが確認された。

【図面の簡単な説明】

第１図はタイヤ加硫に使用する従来装置の断面図、第２
図はこの発明のタイヤ加硫装置の断面図、第３図はスチ
ーム供給口の開口部断面図、第４図はガス供給口開口部
の断面図、第５図（Ａ）および（Ｂ）はこの発明と従来
の装置によるタイヤのサイドウオール上下部間の温度差
を示す図表である。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）生タイヤをセットした金型内にスチーム、ガスな
   どの加硫媒体を順次に供給して生タイヤを加硫する方法
   において、スチームの供給とガスの供給を異なる供給口
   から行ない、ガスは加硫室の上部付近にむけて噴射され
   ることを特徴とするタイヤの加硫方法。
2. （２）生タイヤをセットした金型内にスチーム、ガスな
   どの加硫媒体を順次に供給して生タイヤを加硫する方法
   において、スチームの供給とガスの供給の異なる供給口
   から行ない、ガスは加硫室の上部付近にむけて噴射され
   ると共に、スチームとガスを交互に供給することを特徴
   とするタイヤの加硫方法。
3. （３）生タイヤをセットした金型内にスチーム、ガスな
   どの加硫媒体を供給して生タイヤの加硫を行なう加硫装
   置において、センターポストに支持された上部クランプ
   リングとバグシリンダーに支持された下部クランプリン
   グにてプラターを支持し、バグシリンダー内を貫通する
   ガス供給管の供給口に、加硫室の上部付近方向に角度を
   与えたパイプを接続し、このパイプを通じてガスを噴射
   するようにしたことを特徴とするタイヤの加硫装置。