JPH0226938Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 本考案は真空中でワーク表面に薄膜を形成する
真空成膜装置に関する。

従来この種成膜装置として真空の成膜室内で成
膜処理されるべきワークをカセツトから順次に取
出し、その処理後に再びカセツトに収める式のも
のは知られているが、かかる式のものでは成膜室
に真空と大気圧とに制御自在の準備室を設け、そ
こに複数枚のワークを収容したカセツトを設置
し、カセツトの全ワークの成膜処理が終了した段
階で準備室を大気圧に戻して該カセツトを未処理
ワークを収容した別個のカセツトに交換するを一
般とする。而して一旦大気圧に戻した準備室をカ
セツトの交換後再び成膜室の真空状態にまで排気
するには比較的時間が掛り、また生産性向上のた
めに多くのワークを準備室内に収容可能に構成す
るとカセツト交換機構が大型化しこれに伴なつて
準備室も大きくなつて真空排気により時間が掛る
不都合がある。

本考案はこうした不都合のない成膜装置を提供
することをその目的としたもので、真空の成膜室
１内で成膜処理されるべきワーク２をカセツト３
から順次に取出し、その処理後に再びカセツト３
に収める式のものに於て、該成膜室１に中間室４
を連設すると共に該中間室４に仕切バルブ５を介
して真空と大気圧とに制御自在の受渡室６を連設
し、該中間室４内に、仕切バルブ５に臨ませて前
記カセツト３を設けると共に該カセツト３と成膜
室１との間にワーク２の移送手段７を設け、該仕
切バルブ５を挾んで中間室４と受渡室６に、中間
室４の前記カセツト３と受渡室６の室外用カセツ
ト８との間でワーク２を受渡す受渡装置９を設け
て成る。

第１図は本考案装置の実施の１例を示すもの
で、成膜室１内にはその上方にウエハその他のワ
ーク２を載せて旋回するデイスク１０と、その下
方に蒸発源１１とが設けられ、ワーク２は該成膜
室１を移動中に蒸発源１１からの蒸発物質が表面
に薄膜状に附着し、成膜処理される。該成膜室１
とこれに連設した中間室４の間にはゲートバルブ
１２ａ，１２ｂを備えた通路１３ａ，１３ｂが形
成され、ワーク２は各通路１３ａ，１３ｂを介し
て両室１，４間を移動する。中間室４の仕切バル
ブ５に臨ませて１対のカセツト３ａ，３ｂを設置
するものとし、その一方のカセツト３ａからコン
ベアその他の移送手段７ａにより順次１枚宛ワー
ク２を取り出して成膜室１へと送り、他方のカセ
ツト３ｂには該成膜室１に於て処理されたワーク
２が移送手段７ｂにより収容される。各カセツト
３ａ，３ｂは第２図示のように前後及び下方を開
放した囲枠形のもので形成され、その左右の脚部
１５，１５に凹溝１６を形成してそこにワーク２
を層状に収容出来るようにした。また各カセツト
３ａ，３ｂは昇降自在のシリンダ１７ａ，１７ｂ
に上下動自在に設けられるものとし、ワーク２の
取出しに際してはシリンダ１７ａが徐々に下降し
てカセツト３ａの下方のワーク２から順次取出
し、ワーク２の収容に際してはシリンダ７ｂが
徐々に上昇してカセツト３ｂの上方から順にワー
ク２を収容する。

受渡室６内の室外用カセツト８は中間室４内の
カセツト３ａ，３ｂと略同様の構成を備え、該カ
セツト３ａ，３ｂの最も上昇した位置に合わせて
１対設置され、その一方の室外用カセツト８ａに
は未処理のワーク２が収容されると共に他方の室
外用カセツト８ｂは処理済のワーク２を受取るた
めに空で設置される。これら室外用カセツト８
ａ，８ｂは第３図示の如く受渡室６内の水平移動
自在の移動台１８上に設置され、その下方に設け
たラツク１９にピニオン２０を介して電動機２１
の回転が与えられると両カセツト８ａ，８ｂは開
かれた仕切バルブ５を介して中間室４内のカセツ
ト３ａ，３ｂに当接すべく移動台１８と共に進入
し、ワーク２の受渡しの準備を行なう。受渡装置
９はカセツト３，８の脚部１５，１５間に進入し
て層状のワーク２を一挙に押出す縦長の押出しヘ
ツド２２を備えるもので、中間室４のカセツト３
ｂの背後で移送手段７の上方と、受渡室６の室外
用カセツト８ａの背後の移動台１８上とに夫々設
けるようにした。該中間室４の受渡装置９ａは移
送手段７上で電動機２３とラツクピニオンとでヘ
ツド２２を水平移動するように構成され、受渡室
６の受渡装置９ｂは前記移動台１８にさらに電動
機２５とラツクピニオン２６でヘツド２２を水平
移動可能に取付けて構成され、各ヘツド２２が前
進するとカセツト３ｂ，８ａのワーク２を一斉に
押し出しこれらカセツトに当接した他のカセツト
８ｂ，３ａに収容する。

尚受渡室６を中間室４の左右に第４図示の如く
配列し、或は第５図示のように区画壁２７で２室
６ａ，６ｂに区画することも可能である。２８は
真空排気装置を示す。

その動作を第１図示のものにつき説明すれば、
まず受渡室６に未処理のワーク２を収容した室外
用カセツト８ａと空の室外用カセツト８ｂを収
め、該受渡室６を真空排気装置２８により真空化
する。この間成膜室１に於て中間室４のカセツト
３ａから順次移送手段７により取出したワーク２
を成膜処理し、処理の終えたワーク２をカセツト
３ｂに収容する。該カセツト３ａのワーク２の処
理が全て終了すると仕切バルブ５が開かれ、室外
用カセツト８ａ，８ｂが中間室４内のカセツト３
ａ，３ｂに当接するまで進入し、続いて各受渡装
置９ａ，９ｂがカセツト８ａ内の未処理のワーク
２をカセツト３ａに押し出すと共にカセツト３ｂ
の処理済のワーク２をカセツト８ｂに押し出す。
このワーク２の受渡しが終り室外用カセツト８
ａ，８ｂが後退すると仕切バルブ５が閉じられ、
カセツト３ａからはワーク２が順次成膜室１に送
られて成膜処理が行なわれると共に受渡室６は大
気圧に戻され、処理済のワーク２を収めた室外用
カセツト８ｂの取出しと未処理のワーク２を収め
た室外用カセツト８ａの用意とを行ない、該室６
を再び真空化して次のワーク２の受渡しに備え
る。

このように本考案によるときは成膜室１に中間
室４を連設してそこにそれ専用のカセツト３を設
け、該中間室４に仕切バルブ５を介して設けた受
渡室６の室外用カセツト８との間で受渡装置９に
よりワーク２の交換を行なうようにしたのでワー
ク２の成膜処理は仕切バルブ５を開けての交換時
に中断されるに留まり、成膜処理効率を高め得、
受渡室９には比較的簡単な構成の受渡装置９が設
けられるだけでありその容積を小さく出来るので
真空排気に要する時間も単縮することが出来る効
果があり、また室外に取出されるカセツトは中間
室内の専用カセツトと別個のものを使用するので
ワーク２を汚染する危険を遮けれる等の効果があ
る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案装置の１例の平面線図、第２図
はカセツトの斜視図、第３図は第１図示のものの
具体的実施例の截断側面図、第４図及び第５図は
本考案の他の実施例の平面線図である。 １……成膜室、２……ワーク、３……カセツ
ト、４……中間室、５……仕切バルブ、６……受
渡室、７……移送手段、８……室外用カセツト、
９……受渡装置。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. 真空の成膜室１内で成膜処理されるべきワーク
   ２をカセツト３から順次に取出し、その処理後に
   再びカセツト３に収める式のものに於て、該成膜
   室１に中間室４を連設すると共に該中間室４に仕
   切バルブ５を介して真空と大気圧とに制御自在の
   受渡室６を連設し、該中間室４内に、仕切バルブ
   ５に臨ませて前記カセツト３を設けると共に該カ
   セツト３と成膜室１との間にワーク２の移送手段
   ７を設け、該仕切バルブ５を挾んで中間室４と受
   渡室６に、中間室４の前記カセツト３と受渡室６
   の室外用カセツト８との間でワーク２を受渡す受
   渡装置９を設けて成る真空成膜装置。