JPS59165462U - 真空成膜装置 - Google Patents

真空成膜装置

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JPS59165462U
JPS59165462U JP5978583U JP5978583U JPS59165462U JP S59165462 U JPS59165462 U JP S59165462U JP 5978583 U JP5978583 U JP 5978583U JP 5978583 U JP5978583 U JP 5978583U JP S59165462 U JPS59165462 U JP S59165462U
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chamber
cassette
film forming
transfer
vacuum film
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Application number
JP5978583U
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JPH0226938Y2 (ja
Inventor
土谷　高陽
井上　養二
Original Assignee
日本真空技術株式会社
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Publication date
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Priority to JP5978583U priority Critical patent/JPS59165462U/ja
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Granted legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図は本考案装置の１例の千−線図、第２図はカセッ
トの斜視図、第３図は第１図示のものの具体的実施例の
截断側面図、第４図及び第５図は本考案の他の実施例の
平面線図である。 １・・・成膜室、２・・・ワーク、３・・・カセット、
４・・・中間室、５・・・仕切バルブ、６・・・受渡室
、７・・・移送手段、８・・・室外用カセット、９・・
・受渡装置。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空の成膜室１内で成膜処理されるべきワーク２をカセ
    ット３から順次に取出し、その処理後に再びカセット３
    に収め−る式の、ものに於て、該成膜室１に中間室４を
    連設すると共に該中間室４に仕切バルブ５を介して真空
    と大気圧とに制御自在の受渡室６を連設し、該中間室４
    内に、仕切バルブ５に臨ませて前記カセット３を設ける
    と共に該カセット３と成膜室１との間にワーク２の移送
    手段７を設け、該仕切バルブ５を挾んで中間室４と受渡
    室６に、中間室４の前記カセット３と受渡室６の室外用
    カセット８との間でワーク２を受渡す受渡装置９を設け
    て成る真空成膜装置。
JP5978583U 1983-04-21 1983-04-21 真空成膜装置 Granted JPS59165462U (ja)

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JP5978583U JPS59165462U (ja) 1983-04-21 1983-04-21 真空成膜装置

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JP5978583U JPS59165462U (ja) 1983-04-21 1983-04-21 真空成膜装置

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Publication Number Publication Date
JPS59165462U true JPS59165462U (ja) 1984-11-06
JPH0226938Y2 JPH0226938Y2 (ja) 1990-07-20

Family

ID=30190033

Family Applications (1)

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JP5978583U Granted JPS59165462U (ja) 1983-04-21 1983-04-21 真空成膜装置

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JP (1) JPS59165462U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62207866A (ja) * 1986-03-07 1987-09-12 Hitachi Ltd 連続スパツタ装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62207866A (ja) * 1986-03-07 1987-09-12 Hitachi Ltd 連続スパツタ装置

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JPH0226938Y2 (ja) 1990-07-20

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