JPH02269103A - 光開始剤混合物 - Google Patents
光開始剤混合物Info
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- JPH02269103A JPH02269103A JP2045989A JP4598990A JPH02269103A JP H02269103 A JPH02269103 A JP H02269103A JP 2045989 A JP2045989 A JP 2045989A JP 4598990 A JP4598990 A JP 4598990A JP H02269103 A JPH02269103 A JP H02269103A
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
- C08F2/00—Processes of polymerisation
- C08F2/46—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation
- C08F2/48—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light
- C08F2/50—Polymerisation initiated by wave energy or particle radiation by ultraviolet or visible light with sensitising agents
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は重合可能なポリエチレン性不飽和化合物を光重
合させるために用いるに有用な芳香族カルボニル化合物
系の光重合開始剤混合物に関する。
合させるために用いるに有用な芳香族カルボニル化合物
系の光重合開始剤混合物に関する。
芳香族カルボニル化合物と還元剤とから成る配合物につ
いては、米国特許明細書第3759807号により知ら
れている。そこには多数の芳香族カルボニル化合物が挙
げられており、その中にはアセトフェノン、4−トリル
アセトフェノン、ベンゾフェノン、3−トリルベンゾフ
ェノン、フルオレノン、アントラキノン、キサントン、
及びチオキサントンが在る。還元剤としてはアミン類、
すなわちトリエタノールアミン及びメチルジェタノール
アミンのような第3級アミン類が挙げられている、この
ような光重合性組成物は、英国特許明細書第14082
65号においても知られており、その中にもベンジル、
ベンジル誘導体、ナフチル、フエナントラキノン、ベン
ゾフェノン、ベンゾイン。
いては、米国特許明細書第3759807号により知ら
れている。そこには多数の芳香族カルボニル化合物が挙
げられており、その中にはアセトフェノン、4−トリル
アセトフェノン、ベンゾフェノン、3−トリルベンゾフ
ェノン、フルオレノン、アントラキノン、キサントン、
及びチオキサントンが在る。還元剤としてはアミン類、
すなわちトリエタノールアミン及びメチルジェタノール
アミンのような第3級アミン類が挙げられている、この
ような光重合性組成物は、英国特許明細書第14082
65号においても知られており、その中にもベンジル、
ベンジル誘導体、ナフチル、フエナントラキノン、ベン
ゾフェノン、ベンゾイン。
ベンゾインエーテル及びフルオレノン等を含む多数の芳
香族カルボニル化合物が挙げられる。
香族カルボニル化合物が挙げられる。
これら光重合開始剤系は様々な目的のために都合良く適
用できるが、許容できる照射時間内での完全硬化に問題
を起こすのは、特に1〜20mmの厚みを持つ材料の場
合である。
用できるが、許容できる照射時間内での完全硬化に問題
を起こすのは、特に1〜20mmの厚みを持つ材料の場
合である。
更に、空気阻害に敏感なメタクリレート樹脂のような重
合可能なポリエチレン性不飽和化合物の場合に、不十分
な表面硬化の問題が起こることがまだ多い、この欠陥は
粘着性の表面となって現れる。最適の特性を得るには、
材料は完全に硬化され、表面硬度を高くする必要がある
。公知の光重合開始剤系は、この二要件の中わずか一方
しか充足しないことが多い、したがって、実作業におい
て満足な表面硬度を得るためには、透明なフィルムの被
覆により硬化させる表面を雰囲気から隔離すること及び
/又は完全硬化のために長時間照射することが必要な場
合が多かった。
合可能なポリエチレン性不飽和化合物の場合に、不十分
な表面硬化の問題が起こることがまだ多い、この欠陥は
粘着性の表面となって現れる。最適の特性を得るには、
材料は完全に硬化され、表面硬度を高くする必要がある
。公知の光重合開始剤系は、この二要件の中わずか一方
しか充足しないことが多い、したがって、実作業におい
て満足な表面硬度を得るためには、透明なフィルムの被
覆により硬化させる表面を雰囲気から隔離すること及び
/又は完全硬化のために長時間照射することが必要な場
合が多かった。
本発明による光開始剤組成物は前記問題に解決を提供す
るものであり、下記から成る。
るものであり、下記から成る。
(+1ベンジル及び/又はフルオレノン、(2)次式で
表わされるビフェニリルケトン;(但し、R+は水素、
炭素原子数が1〜8のアルキル基、炭素原子数が1〜1
0のアルコキシ基。
表わされるビフェニリルケトン;(但し、R+は水素、
炭素原子数が1〜8のアルキル基、炭素原子数が1〜1
0のアルコキシ基。
炭素原子数が2〜12のアルキルカルボニル基又はハロ
ゲン原子であり、R2は炭素原子数が1〜12のアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基、フリル基、又はチオフ
ェニル基であり、族基は置換されていても良い)。
ゲン原子であり、R2は炭素原子数が1〜12のアルキ
ル基、フェニル基、ナフチル基、フリル基、又はチオフ
ェニル基であり、族基は置換されていても良い)。
R1基は、例えばR1で示される基で置換されても良い
、適切なビフェニルケトンの例としては、p−フェニル
アセトフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、p−ト
リルベンゾフェノン、p、p、’−ジアセチルピフェニ
ル、p−(p−クロロフェニル)ベンゾフェノン、p−
(p−メトキシフェニル)ベンゾフェノン、α−フリル
ビフェニルケトン、α−ナフチルビフェニリルケトン、
p−t−ブチルフェニルビフェニリルケトン、p−メト
キシフェニルビフェニリルケトン及び2.4−ジクロロ
フェニルビフェニリルケトンが挙げられる。ビフェニリ
ルケトンとして好ましいのはp−7エニルベンゾフエノ
ンである。ベンジルとフルオレノンについて注目すべき
ことは両者が53〜54にcat1モルの三重項エネル
ギーを持つことであり、これはp−フェニルベンゾフェ
ノンについて約60にca11モルになる。ビフェニリ
ルケトンとベンジル及び/又はフルオレノンとのモル比
は0.25〜9、好ましくは0.5〜3の範囲に在る。
、適切なビフェニルケトンの例としては、p−フェニル
アセトフェノン、p−フェニルベンゾフェノン、p−ト
リルベンゾフェノン、p、p、’−ジアセチルピフェニ
ル、p−(p−クロロフェニル)ベンゾフェノン、p−
(p−メトキシフェニル)ベンゾフェノン、α−フリル
ビフェニルケトン、α−ナフチルビフェニリルケトン、
p−t−ブチルフェニルビフェニリルケトン、p−メト
キシフェニルビフェニリルケトン及び2.4−ジクロロ
フェニルビフェニリルケトンが挙げられる。ビフェニリ
ルケトンとして好ましいのはp−7エニルベンゾフエノ
ンである。ベンジルとフルオレノンについて注目すべき
ことは両者が53〜54にcat1モルの三重項エネル
ギーを持つことであり、これはp−フェニルベンゾフェ
ノンについて約60にca11モルになる。ビフェニリ
ルケトンとベンジル及び/又はフルオレノンとのモル比
は0.25〜9、好ましくは0.5〜3の範囲に在る。
本発明の光開始剤混合物を、例えば、励起状態にある芳
香族カルボニル化合物を還元することができる還元剤と
共に、重合可能なポリエチレン性不飽和化合物に添加す
れば、上記問題を解決できる光重合性組成物を得ること
ができる。この光重合組成物中における本発明の光開始
剤混合物の含有量は、0.1−1.5重量%が望ましく
、0.5〜1.0重量%が好ましい。
香族カルボニル化合物を還元することができる還元剤と
共に、重合可能なポリエチレン性不飽和化合物に添加す
れば、上記問題を解決できる光重合性組成物を得ること
ができる。この光重合組成物中における本発明の光開始
剤混合物の含有量は、0.1−1.5重量%が望ましく
、0.5〜1.0重量%が好ましい。
本発明の開始剤混合物を添加した光重合性組成物は、比
較的肉厚の層に用いても急速かつ完全な硬化が可能なこ
とが判った。空気阻害に敏感な化合物の光重合において
、不粘着性の表面を得ることも可能である。ベンジル及
び/又はフルオレノンのみを使用しても一般に良好な硬
化を示すが、前記ビフェニリルケトンを相応する量使用
しただけの場合よりも表面硬度が低くなる。これらの諸
点に関して判明したことは、これらの芳香族カルボニル
化合物の相応量の混合物である本発明の光開始剤混合物
は2種の化合物の中好ましい特性のみを所有しており、
時にはこれらの特性が更に改善されることさえある。更
に、このような結果は累積効果では無く相乗作用に基づ
くものであることが意外にも判明した。しかも本発明の
開始剤混合物とは別の組み合わせの場合にはこのような
相乗効果が生まれない事も判った。
較的肉厚の層に用いても急速かつ完全な硬化が可能なこ
とが判った。空気阻害に敏感な化合物の光重合において
、不粘着性の表面を得ることも可能である。ベンジル及
び/又はフルオレノンのみを使用しても一般に良好な硬
化を示すが、前記ビフェニリルケトンを相応する量使用
しただけの場合よりも表面硬度が低くなる。これらの諸
点に関して判明したことは、これらの芳香族カルボニル
化合物の相応量の混合物である本発明の光開始剤混合物
は2種の化合物の中好ましい特性のみを所有しており、
時にはこれらの特性が更に改善されることさえある。更
に、このような結果は累積効果では無く相乗作用に基づ
くものであることが意外にも判明した。しかも本発明の
開始剤混合物とは別の組み合わせの場合にはこのような
相乗効果が生まれない事も判った。
本発明の開始剤組成物を添加する重合可能なポリエチレ
ン性の不飽和化合物の例としては、ポリアクリレート及
びポリメタクリレートが含まれており、ポリアクリレー
トにおいてはアクリル基はポリマー鎖中でヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアノ基又はエポ
キシ基を経て反応性末端基として組み込まれている。前
記タイプの化合物の例としては、ポリアクリル変性ポリ
エステル、−ポリアミド、−ポリエーテル、−ポリウレ
タン及び−ポリビニル樹脂が含まれる。ポリエチレン性
不飽和化合物は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、アクリル及びメタクリルアミド並びにアクリル
及びメタクリルニトリル例えばアクリロニトリル、メタ
クリル酸メチル及びアクリル酸2−エチルヘキシルのよ
うな共重合性の不飽和単量体と所望により混合してもよ
い、ビニルエステル、ビニリデンエステル、ビニルエー
テル及びビニルケトン、例えば酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、N−ビニルピロリドン及びビニルブチルエー
テル等が前記目的のためにさらに使用されてもよい、更
に、1以上の不飽和末端基を持つ単量体が添加されても
よい、この例としては、ジアリルフタレート、ジアリル
フマレート、エチレングリコールジメタクリレート。
ン性の不飽和化合物の例としては、ポリアクリレート及
びポリメタクリレートが含まれており、ポリアクリレー
トにおいてはアクリル基はポリマー鎖中でヒドロキシル
基、アミノ基、カルボキシル基、イソシアノ基又はエポ
キシ基を経て反応性末端基として組み込まれている。前
記タイプの化合物の例としては、ポリアクリル変性ポリ
エステル、−ポリアミド、−ポリエーテル、−ポリウレ
タン及び−ポリビニル樹脂が含まれる。ポリエチレン性
不飽和化合物は、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、アクリル及びメタクリルアミド並びにアクリル
及びメタクリルニトリル例えばアクリロニトリル、メタ
クリル酸メチル及びアクリル酸2−エチルヘキシルのよ
うな共重合性の不飽和単量体と所望により混合してもよ
い、ビニルエステル、ビニリデンエステル、ビニルエー
テル及びビニルケトン、例えば酢酸ビニル、プロピオン
酸ビニル、N−ビニルピロリドン及びビニルブチルエー
テル等が前記目的のためにさらに使用されてもよい、更
に、1以上の不飽和末端基を持つ単量体が添加されても
よい、この例としては、ジアリルフタレート、ジアリル
フマレート、エチレングリコールジメタクリレート。
ペンタエリスリトールトリアクリレート、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート及びポリエチレングリコールジアクリ
レート等が在る。使用されてよい単量体としては、スチ
レン、ビニルトルエン及びジビニルベンゼンのような適
当な共重合性炭化水素も含まれる。
ルプロパントリアクリレート、ネオペンチルグリコール
ジメタクリレート及びポリエチレングリコールジアクリ
レート等が在る。使用されてよい単量体としては、スチ
レン、ビニルトルエン及びジビニルベンゼンのような適
当な共重合性炭化水素も含まれる。
この光重合性組成物は不飽和ポリエステル樹脂と単量体
性の共重合性化合物、例えばスチレン、との混合物を含
有していてもよい、これら不飽和ポリエステル樹脂は不
飽和ポリカルボン酸若しくはその無水物、例えば無水マ
レイン酸又はフマール酸と、−船釣には芳香族及び/又
は飽和脂肪族ジカルボン酸、例えば無水フタル酸、無水
テトラヒドロフタル酸、アジピン酸等の存在下に、ポリ
オール例えばエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール等とから公知の方法によって
調製できる。ポリエステルを調製した後、末端カルボキ
シル基は更にフェニルグリシジルエーテルのような反応
性エポキシドにより反応を完結させるとよい。
性の共重合性化合物、例えばスチレン、との混合物を含
有していてもよい、これら不飽和ポリエステル樹脂は不
飽和ポリカルボン酸若しくはその無水物、例えば無水マ
レイン酸又はフマール酸と、−船釣には芳香族及び/又
は飽和脂肪族ジカルボン酸、例えば無水フタル酸、無水
テトラヒドロフタル酸、アジピン酸等の存在下に、ポリ
オール例えばエチレングリコール、ジエチレングリコー
ル、プロピレングリコール等とから公知の方法によって
調製できる。ポリエステルを調製した後、末端カルボキ
シル基は更にフェニルグリシジルエーテルのような反応
性エポキシドにより反応を完結させるとよい。
この光重合性組成物は還元剤をも含有することが望まし
い、該還元剤は芳香族ケトンが励起状態に在る時に還元
することができ、更に自身の酸化の後に、ポリエチレン
性不飽和化合物の重合を中間生成ラジカルを経由して開
始させることが、できるものである、適切な還元剤は英
国特許明細書第1408265号に記載されている。そ
こに記載され素周期律表のvb族の元素であり、R基は
同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭化水
素基、置換炭化水素基又は2つのRとM元素とで環を形
成するような基であり、R基の中水素原子であるのは2
以下である。また、元素Mがlの芳香族基Rに直接結合
されている場合には、その他の中央くとも1つの基はM
に結合したI 還元剤としては好ましく使用さるべきものはアミン、特
に3級アミンである。適切なアミンの例としてトリエタ
ノールアミン、トリイソプロパツールアミン、N−メチ
ルジェタノールアミン。
い、該還元剤は芳香族ケトンが励起状態に在る時に還元
することができ、更に自身の酸化の後に、ポリエチレン
性不飽和化合物の重合を中間生成ラジカルを経由して開
始させることが、できるものである、適切な還元剤は英
国特許明細書第1408265号に記載されている。そ
こに記載され素周期律表のvb族の元素であり、R基は
同一であっても異なっていてもよく、水素原子、炭化水
素基、置換炭化水素基又は2つのRとM元素とで環を形
成するような基であり、R基の中水素原子であるのは2
以下である。また、元素Mがlの芳香族基Rに直接結合
されている場合には、その他の中央くとも1つの基はM
に結合したI 還元剤としては好ましく使用さるべきものはアミン、特
に3級アミンである。適切なアミンの例としてトリエタ
ノールアミン、トリイソプロパツールアミン、N−メチ
ルジェタノールアミン。
N、N−ジメチルエタノールアミン、N、N−ジメチル
イソプロパツールアミン、N−ヒドロキシエチルピペリ
ジン、N−ヒドロキシエチルモルホリン、ビス(2−ヒ
ドロキシメチル)オレイルアミン、 N、N、N 、N
−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、N、
N−ジメチルベンジルアミン7N、N−ジメチルアニリ
ン、4−ジメチルアミノベンゾエート、ジメチルアミノ
エチルアクリレート及びジメチルアミノエチルメタクリ
レートが挙げられる。
イソプロパツールアミン、N−ヒドロキシエチルピペリ
ジン、N−ヒドロキシエチルモルホリン、ビス(2−ヒ
ドロキシメチル)オレイルアミン、 N、N、N 、N
−テトラメチル−1,3−ジアミノプロパン、N、
N−ジメチルベンジルアミン7N、N−ジメチルアニリ
ン、4−ジメチルアミノベンゾエート、ジメチルアミノ
エチルアクリレート及びジメチルアミノエチルメタクリ
レートが挙げられる。
この光重合性組成物は望ましくは0.1−4.5重量%
好ましくは0.25−2.0重量%の還元剤を一般に含
有する0本発明の光開始剤混合物と還元剤との混合重量
比は一般に1=3〜3:1、好ましくは2:1〜1:2
の範囲に在る。
好ましくは0.25−2.0重量%の還元剤を一般に含
有する0本発明の光開始剤混合物と還元剤との混合重量
比は一般に1=3〜3:1、好ましくは2:1〜1:2
の範囲に在る。
この光重合性組成物は公知の方法で輻射線を照射して硬
化される。この目的の為に一般に200〜500mmの
範囲の波長を持つ輻射線を放つ線源が使用される。適切
な輻射線源として中圧水銀灯が挙げられる。
化される。この目的の為に一般に200〜500mmの
範囲の波長を持つ輻射線を放つ線源が使用される。適切
な輻射線源として中圧水銀灯が挙げられる。
本発明は比較的肉厚の材料すなわち1〜20mm、特に
4〜10++u++の肉厚を持つ該光重合性組成物から
成る材料層の硬化にも向いている0本発明の光開始剤混
合物を含む光重合性組成物をこのようにして用いる時に
本発明の利点が最も効果的に発揮できる。特に硬化強化
積層材で4〜10n+n+の肉厚のものは優秀な特性を
持つ。
4〜10++u++の肉厚を持つ該光重合性組成物から
成る材料層の硬化にも向いている0本発明の光開始剤混
合物を含む光重合性組成物をこのようにして用いる時に
本発明の利点が最も効果的に発揮できる。特に硬化強化
積層材で4〜10n+n+の肉厚のものは優秀な特性を
持つ。
強化材としては束状のガラス繊維(ロービング)、ガラ
スマット、ガラス繊維又はガラスウェブが使用され、随
意に他の織物層と組み合わせてもよい。
スマット、ガラス繊維又はガラスウェブが使用され、随
意に他の織物層と組み合わせてもよい。
本発明を以下の例によって更に説明する0表面硬度及び
積層材の硬化度の測定は境界面の不粘着度とバーコル(
Barcol)押込硬度(タイプ934−13によった
。可能な最大の押込硬度は樹脂の種類。
積層材の硬化度の測定は境界面の不粘着度とバーコル(
Barcol)押込硬度(タイプ934−13によった
。可能な最大の押込硬度は樹脂の種類。
硬化度1強化材の種類及び度合によって左右される。以
下量は全て重量%で表示されている。
下量は全て重量%で表示されている。
実施例1〜6
97%の工業用4,4°−イソプロピリデンビス(フェ
ニレンオキシエチルメタクリレート)と2%のトリイソ
プロパツールアミン及び1%の芳香族ケトン(類)から
成る樹脂溶液が調製された。得られた溶液を用いてガラ
ス強化積層材が調製された。積層材は樹脂と4Nのガラ
ス繊維マットとから構成され、その厚みは約4mmであ
りガラス含有量は54%であった。核材の硬化には輻射
強度20W/amを持つフィリップ社製HTQ−4型中
圧水銀灯が使用された。灯と積層材との距離は20cm
とし硬化時間は4分とした。
ニレンオキシエチルメタクリレート)と2%のトリイソ
プロパツールアミン及び1%の芳香族ケトン(類)から
成る樹脂溶液が調製された。得られた溶液を用いてガラ
ス強化積層材が調製された。積層材は樹脂と4Nのガラ
ス繊維マットとから構成され、その厚みは約4mmであ
りガラス含有量は54%であった。核材の硬化には輻射
強度20W/amを持つフィリップ社製HTQ−4型中
圧水銀灯が使用された。灯と積層材との距離は20cm
とし硬化時間は4分とした。
第1表の実施例1〜4まではベンジル、p−フェニルベ
ンゾフェノン及びこれらカルボニル化合物の混合物の場
合に得られた結果を示す、実施例5と実施例6では比較
のために、98.5%の前記ビス−メタクリレートと1
%のトリイソプロパツールアミン及び0.5%の芳香族
ケトンから成る樹脂溶液を用いた。
ンゾフェノン及びこれらカルボニル化合物の混合物の場
合に得られた結果を示す、実施例5と実施例6では比較
のために、98.5%の前記ビス−メタクリレートと1
%のトリイソプロパツールアミン及び0.5%の芳香族
ケトンから成る樹脂溶液を用いた。
第1表
*
硬イl17−1−51)
実施例2と実施例3は本発明の光開始剤混合物の使用の
結果により得られる相乗効果を示している。
結果により得られる相乗効果を示している。
実施例7〜12
比較のために、異なった芳香族カルボニル化合物を用い
る点を除いて実施例1〜4の実験が繰り返された。結果
は第2表に示される。
る点を除いて実施例1〜4の実験が繰り返された。結果
は第2表に示される。
第2表
硬イヒ1【−ト;2F
第2表に示す結果により、p−フェニルベンゾフェノン
と他の既知の光開始剤、例えばベンゾフェノン、ベンゾ
イン、ベンジルジメチルケタール等との組み合わせは相
乗効果を全く生じないことが証明される。
と他の既知の光開始剤、例えばベンゾフェノン、ベンゾ
イン、ベンジルジメチルケタール等との組み合わせは相
乗効果を全く生じないことが証明される。
実施例13〜22
実施例1〜6に記載した樹脂と4層のガラスマットから
成る積層材が調製された。積層材の厚みは4mm、ガラ
ス含量は26%とした。硬化は実施例1〜6の方法で2
%のトリイソプロパツールアミンの存在下に行われた後
、積層材の特性テストを同様に行った。結果は第3表に
示される。
成る積層材が調製された。積層材の厚みは4mm、ガラ
ス含量は26%とした。硬化は実施例1〜6の方法で2
%のトリイソプロパツールアミンの存在下に行われた後
、積層材の特性テストを同様に行った。結果は第3表に
示される。
実施例13と実施例14の組成物だけが、本り明による
ものである。その他は比較例であって、満足のいく結果
は本発明による光重合開始剤部イ物によってのみ得られ
ることをデータが示してしる。ベンジルと本発明のビフ
ェニルケトン以外O芳香族カルボニル化合物とを組み合
わせたもの1は不十分な表面硬化にしか達しない。
ものである。その他は比較例であって、満足のいく結果
は本発明による光重合開始剤部イ物によってのみ得られ
ることをデータが示してしる。ベンジルと本発明のビフ
ェニルケトン以外O芳香族カルボニル化合物とを組み合
わせたもの1は不十分な表面硬化にしか達しない。
実施例23〜30
実施例13〜22に於ける手順を繰り返すが、但し用い
る芳香族カルボニル化合物は0.5%べ〕ジルと第4表
に記載の0.5%ビフェニリルケト〕との混合物とし、
積層材と灯との距離は15cmトした。結果は第4表に
示される。
る芳香族カルボニル化合物は0.5%べ〕ジルと第4表
に記載の0.5%ビフェニリルケト〕との混合物とし、
積層材と灯との距離は15cmトした。結果は第4表に
示される。
杏
\
第4表
上記の結果は、p−フェニルベンゾフェノン以外のビフ
ェニリルケトンの場合でも前述の相乗効果が起こること
を示している。
ェニリルケトンの場合でも前述の相乗効果が起こること
を示している。
実施例31〜39
実施例1〜6に記載の樹脂と12層のガラス繊維マット
から成るガラス強化層材が作られた。
から成るガラス強化層材が作られた。
出来た積層材の厚さは約101101.ガラス含量は5
5%であった。樹脂中には45%ベンジルと55%p−
フェニルベンゾフェノンとの芳香族ケトン混合物が溶解
された。還元剤としてはトリイソプロパツールアミンを
添加し、アミンとケトンとの混合重量比は2となる様に
した。積層材はフィリップス社製)ITQ−4型中圧水
銀灯の輻射線で照射された。灯と積層材の距離は20c
+mとし、照射時間は夫々につき8.10及び12分と
した。結果は第5表に示された。
5%であった。樹脂中には45%ベンジルと55%p−
フェニルベンゾフェノンとの芳香族ケトン混合物が溶解
された。還元剤としてはトリイソプロパツールアミンを
添加し、アミンとケトンとの混合重量比は2となる様に
した。積層材はフィリップス社製)ITQ−4型中圧水
銀灯の輻射線で照射された。灯と積層材の距離は20c
+mとし、照射時間は夫々につき8.10及び12分と
した。結果は第5表に示された。
第5表
上記のデータによるとく極めて)少量の光開始剤系を使
用しても許容時間内の照射によって満足な結果が得られ
ることが判る。
用しても許容時間内の照射によって満足な結果が得られ
ることが判る。
実施例40〜43
4.4−イソプロピリデン−ビス(フェニレンオキシエ
チル−メタクリレート)を含有する浸漬浴に1%の芳香
族ケトンと2%のトリイソプロパツールアミンとを溶解
させておき、浴中にグラスファイバーの束を通過させ次
いで該束を回転鋼円筒上に巻き上げて直径88mm肉厚
4mmのガラス繊維強化チューブが作られた0次いで該
浸漬物を回転させながらその15cm上方に配置したフ
ィリップス社製++TQ−4型灯の輻射線を15分間照
射した。得られたチューブはガラス含量70%で、結果
は第6表に示される。実施例40〜42は比較例である
。
チル−メタクリレート)を含有する浸漬浴に1%の芳香
族ケトンと2%のトリイソプロパツールアミンとを溶解
させておき、浴中にグラスファイバーの束を通過させ次
いで該束を回転鋼円筒上に巻き上げて直径88mm肉厚
4mmのガラス繊維強化チューブが作られた0次いで該
浸漬物を回転させながらその15cm上方に配置したフ
ィリップス社製++TQ−4型灯の輻射線を15分間照
射した。得られたチューブはガラス含量70%で、結果
は第6表に示される。実施例40〜42は比較例である
。
第6表
実施例44〜56
無水フタール酸と無水マレイン酸の1モル混合物に等量
のプロピレングリコールを縮合させ酸価を45とし、次
いでスチレン中に溶解させてスチレン含量34%の不飽
和ポリエステル樹脂を得た。樹脂中に1%の芳香族カル
ボニル化合物(類)と2%のトリイソプロパツールアミ
ンを溶解した0次いでこの樹脂と4層の強化ガラスマッ
トとから成る積層材が形成された。積層材の厚みは約4
mmでガラス含量は26%であった。フィリップス社製
HTQ−4型灯で照射された。積層材と灯の距離は20
cmであった。結果は第7表に要約される。実施例44
〜53は比較例である。実施例54〜56は本発明を例
証するものである8本データによっても本発明の光開始
剤混合物の相乗効果が証明されている。更に本発明によ
って得られる好ましい結果が示されている。
のプロピレングリコールを縮合させ酸価を45とし、次
いでスチレン中に溶解させてスチレン含量34%の不飽
和ポリエステル樹脂を得た。樹脂中に1%の芳香族カル
ボニル化合物(類)と2%のトリイソプロパツールアミ
ンを溶解した0次いでこの樹脂と4層の強化ガラスマッ
トとから成る積層材が形成された。積層材の厚みは約4
mmでガラス含量は26%であった。フィリップス社製
HTQ−4型灯で照射された。積層材と灯の距離は20
cmであった。結果は第7表に要約される。実施例44
〜53は比較例である。実施例54〜56は本発明を例
証するものである8本データによっても本発明の光開始
剤混合物の相乗効果が証明されている。更に本発明によ
って得られる好ましい結果が示されている。
第7表
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)(イ)ベンジル及び/又はフルオレノン及び(ロ)
次の式で表わされるビフェニリルケトン▲数式、化学式
、表等があります▼ (但し、R_1は水素、炭素原子数が1〜8のアルキル
基、炭素原子数が1〜10のアルコキシ基、炭素原子数
が2〜12のアルキルカルボニル基又はハロゲン原子で
あり、R_2は炭素原子数が1〜12のアルキル基、フ
ェニル基、ナフチル基、フリル基又はチオフェニル基で
あり、該基は置換されていてもよい) の組み合わせから成り、ビフェニリルケトン(ロ)のベ
ンジル及び/又はフルオレノン(イ)に対するモル比が
0.25〜9である光開始剤混合物。 2)該混合物中に含有されるビフェニリルケトンがp−
フェニルベンゾフェノンである特許請求の範囲第1項記
載の光開始剤混合物。 3)該混合物中に第3級アミンが還元剤として含有され
る特許請求の範囲第1項又は第2項の何れかに記載の光
開始剤混合物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| NL8006035 | 1980-11-05 | ||
| NL8006035 | 1980-11-05 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56174705A Division JPS57105402A (en) | 1980-11-05 | 1981-11-02 | Photopolymeric composition, photoinitiator and curing method |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02269103A true JPH02269103A (ja) | 1990-11-02 |
| JPH0313242B2 JPH0313242B2 (ja) | 1991-02-22 |
Family
ID=19836112
Family Applications (2)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56174705A Granted JPS57105402A (en) | 1980-11-05 | 1981-11-02 | Photopolymeric composition, photoinitiator and curing method |
| JP2045989A Granted JPH02269103A (ja) | 1980-11-05 | 1990-02-28 | 光開始剤混合物 |
Family Applications Before (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56174705A Granted JPS57105402A (en) | 1980-11-05 | 1981-11-02 | Photopolymeric composition, photoinitiator and curing method |
Country Status (9)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US4442022A (ja) |
| EP (1) | EP0051329B1 (ja) |
| JP (2) | JPS57105402A (ja) |
| AT (1) | ATE10502T1 (ja) |
| BR (1) | BR8107154A (ja) |
| CA (1) | CA1175036A (ja) |
| DE (1) | DE3167493D1 (ja) |
| ES (1) | ES8206562A1 (ja) |
| ZA (1) | ZA817613B (ja) |
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| US4894314A (en) * | 1986-11-12 | 1990-01-16 | Morton Thiokol, Inc. | Photoinitiator composition containing bis ketocoumarin dialkylamino benzoate, camphorquinone and/or a triphenylimidazolyl dimer |
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| RU2138070C1 (ru) * | 1994-05-05 | 1999-09-20 | Акционерное общество закрытого типа Совместное Российско-американское предприятие "Теком" | Способ блочной фотополимеризации, фотополимеризующаяся композиция |
| EP1594904A1 (en) * | 2003-02-20 | 2005-11-16 | Ciba SC Holding AG | Photocurable compositions |
| US20050065227A1 (en) * | 2003-09-22 | 2005-03-24 | Condon John R. | Visible-light sensitive macro-initiator |
| CA2679373A1 (en) | 2007-03-02 | 2008-09-12 | The University Of Tennessee Research Foundation | Tri-aryl/heteroaromatic cannabinoids and use thereof |
| US20100003617A1 (en) * | 2008-07-02 | 2010-01-07 | Sony Corporation | Optical information recording medium |
| JP4632101B2 (ja) * | 2008-07-02 | 2011-02-16 | ソニー株式会社 | 光情報記録媒体 |
| US8507571B2 (en) * | 2009-12-02 | 2013-08-13 | Xerox Corporation | Macro-photoinitiator via enzymatic polymerization |
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|---|---|---|---|---|
| GB1090142A (en) * | 1965-02-26 | 1967-11-08 | Agfa Gevaert Nv | Photochemical insolubilisation of polymers |
| US3759807A (en) * | 1969-01-28 | 1973-09-18 | Union Carbide Corp | Photopolymerization process using combination of organic carbonyls and amines |
| GB1408265A (en) * | 1971-10-18 | 1975-10-01 | Ici Ltd | Photopolymerisable composition |
| US3933682A (en) * | 1973-01-31 | 1976-01-20 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
| CH596241A5 (ja) * | 1974-06-27 | 1978-03-15 | Ciba Geigy Ag | |
| US3966573A (en) * | 1974-10-31 | 1976-06-29 | Sun Chemical Corporation | Photopolymerization co-initiator systems |
| DE2602419A1 (de) * | 1976-01-23 | 1977-07-28 | Basf Ag | Photopolymerisierbare masse |
| US4024297A (en) * | 1976-02-02 | 1977-05-17 | Ppg Industries, Inc. | Actinic light polymerizable coating compositions |
| US4077858A (en) * | 1976-10-04 | 1978-03-07 | Celanese Corporation | Completely polymerized ultraviolet cured coatings |
| US4054721A (en) * | 1976-11-23 | 1977-10-18 | American Cyanamid Company | Photosensitizers for radiation-curable coatings |
| CH632667A5 (de) * | 1978-01-03 | 1982-10-29 | Espe Pharm Praep | Opakes, durch uv-licht polymerisierbares zahnfuellmaterial. |
| EP0051329B1 (en) * | 1980-11-05 | 1984-11-28 | Akzo N.V. | Photopolymerizable composition, photoinitiator mixture and curing process |
-
1981
- 1981-10-19 EP EP81201151A patent/EP0051329B1/en not_active Expired
- 1981-10-19 AT AT81201151T patent/ATE10502T1/de not_active IP Right Cessation
- 1981-10-19 DE DE8181201151T patent/DE3167493D1/de not_active Expired
- 1981-10-28 US US06/315,799 patent/US4442022A/en not_active Expired - Lifetime
- 1981-10-30 CA CA000389176A patent/CA1175036A/en not_active Expired
- 1981-11-02 JP JP56174705A patent/JPS57105402A/ja active Granted
- 1981-11-04 ZA ZA817613A patent/ZA817613B/xx unknown
- 1981-11-04 BR BR8107154A patent/BR8107154A/pt unknown
- 1981-11-04 ES ES506827A patent/ES8206562A1/es not_active Expired
-
1982
- 1982-09-30 US US06/431,524 patent/US4469575A/en not_active Expired - Lifetime
- 1982-09-30 US US06/431,526 patent/US4529491A/en not_active Expired - Fee Related
-
1990
- 1990-02-28 JP JP2045989A patent/JPH02269103A/ja active Granted
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0051329B1 (en) | 1984-11-28 |
| US4529491A (en) | 1985-07-16 |
| US4469575A (en) | 1984-09-04 |
| ES506827A0 (es) | 1982-08-16 |
| CA1175036A (en) | 1984-09-25 |
| ATE10502T1 (de) | 1984-12-15 |
| JPH0313242B2 (ja) | 1991-02-22 |
| EP0051329A1 (en) | 1982-05-12 |
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| ZA817613B (en) | 1982-10-27 |
| US4442022A (en) | 1984-04-10 |
| DE3167493D1 (en) | 1985-01-10 |
| ES8206562A1 (es) | 1982-08-16 |
| JPS57105402A (en) | 1982-06-30 |
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