JPH02267288A - エッチング液再生装置 - Google Patents
エッチング液再生装置Info
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- JPH02267288A JPH02267288A JP8903189A JP8903189A JPH02267288A JP H02267288 A JPH02267288 A JP H02267288A JP 8903189 A JP8903189 A JP 8903189A JP 8903189 A JP8903189 A JP 8903189A JP H02267288 A JPH02267288 A JP H02267288A
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 title claims abstract description 108
- 238000005530 etching Methods 0.000 title claims abstract description 100
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 claims abstract description 12
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 claims abstract description 11
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims abstract description 10
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 230000001172 regenerating effect Effects 0.000 claims description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 claims description 6
- 238000003756 stirring Methods 0.000 claims description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 35
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract description 24
- BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L iron(2+) sulfate (anhydrous) Chemical compound [Fe+2].[O-]S([O-])(=O)=O BAUYGSIQEAFULO-UHFFFAOYSA-L 0.000 abstract description 4
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 abstract 1
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 abstract 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 abstract 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 description 13
- 238000007664 blowing Methods 0.000 description 8
- 238000005273 aeration Methods 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 4
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 4
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 3
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- -1 ferrous salt ions Chemical class 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N Chlorine Chemical compound ClCl KZBUYRJDOAKODT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000011068 loading method Methods 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000003595 mist Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 1
- 230000000717 retained effect Effects 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、例えば第二鉄塩を主成分とする酸性エツチン
グ液の再生装置に関する。
グ液の再生装置に関する。
鉄、ステンレス鋼などの金属材をエツチング処理するエ
ツチング液としては、第二鉄塩を主成分として、これに
PH”J整相に第二鉄塩の陰イオンと共通した陰イオン
を有する酸を添加した第二鉄塩エツチング液が多用され
ている。
ツチング液としては、第二鉄塩を主成分として、これに
PH”J整相に第二鉄塩の陰イオンと共通した陰イオン
を有する酸を添加した第二鉄塩エツチング液が多用され
ている。
このエツチング液で鉄、ステンレス鋼などの金属製品を
エツチング処理すると、 2 Fe” + Fe−= 3Fe”の反応式に基づ
いて金属製品がエツチングされる。
エツチング処理すると、 2 Fe” + Fe−= 3Fe”の反応式に基づ
いて金属製品がエツチングされる。
ところで、前記反応式から判るように、エツチング処理
によりエツチング液の主成分である第二鉄塩が第一鉄塩
に変化してエツチング液が劣化するために、第二鉄塩の
濃度を高めるよう新鮮酸の補充、ないしはエツチング液
の再生が必要となる。
によりエツチング液の主成分である第二鉄塩が第一鉄塩
に変化してエツチング液が劣化するために、第二鉄塩の
濃度を高めるよう新鮮酸の補充、ないしはエツチング液
の再生が必要となる。
一方、前記したエツチング液再生方法としては、従来よ
りH*O*、塩素ガスによる酸化法、電解酸化法などが
知られているが、最近では酸化効率に優れ、かつ簡易な
再生設備で対応できるオゾン吹き込み法が多く採用され
るようになっている。
りH*O*、塩素ガスによる酸化法、電解酸化法などが
知られているが、最近では酸化効率に優れ、かつ簡易な
再生設備で対応できるオゾン吹き込み法が多く採用され
るようになっている。
このオゾン吹き込み法は、劣化した被再生エツチング液
の液中にオゾン化ガスを吹き込んで接触反応させること
により、第一鉄塩イオンを第二鉄塩イオンに酸化してエ
ツチング液を再生する方法であって再生効率に優れ、か
つ再生設備も比較的簡単な設備で対応できるなどの利点
を有する。
の液中にオゾン化ガスを吹き込んで接触反応させること
により、第一鉄塩イオンを第二鉄塩イオンに酸化してエ
ツチング液を再生する方法であって再生効率に優れ、か
つ再生設備も比較的簡単な設備で対応できるなどの利点
を有する。
また、被再生エツチング液にオゾン化ガスを吹き込んで
接触反応させる手段として、被再生エツチング液を送り
込む接触反応槽の底部に散気管を配し、この散気管を通
じてオゾナイザで生成したオゾン化ガスをエツチング液
中に吹き込む方法、あるいは接触槽の上側から液中に浸
漬したノズルを通じてオゾン化ガスを吹き込む方法など
が、例えば特開昭62−230991号公報に開示され
て公知である。
接触反応させる手段として、被再生エツチング液を送り
込む接触反応槽の底部に散気管を配し、この散気管を通
じてオゾナイザで生成したオゾン化ガスをエツチング液
中に吹き込む方法、あるいは接触槽の上側から液中に浸
漬したノズルを通じてオゾン化ガスを吹き込む方法など
が、例えば特開昭62−230991号公報に開示され
て公知である。
前記のエツチング液再生装置の概要を図示すると第3図
のごとくである0図において、1は金属製品のエツチン
グ処理を行うエツチング装置、2はエツチング液再生装
置の接触反応槽、3は槽2の底部に配置したオゾン散気
管、4はオゾナイザ、5は送液ポンプ、6は未反応オゾ
ンを無害化するオゾン処理器である。
のごとくである0図において、1は金属製品のエツチン
グ処理を行うエツチング装置、2はエツチング液再生装
置の接触反応槽、3は槽2の底部に配置したオゾン散気
管、4はオゾナイザ、5は送液ポンプ、6は未反応オゾ
ンを無害化するオゾン処理器である。
かかる構成で、エツチング装置1の液溜部1aから抽出
した被再生エツチング液を接触反応槽2に上方から導入
しつつ、槽内の底部に配した散気管3を通じてオゾン化
ガスを液中に散気することにより、被再生エツチング液
とオゾンとが接触反応する。また、接触反応槽2の排ガ
スに含まれている未反応オゾンはオゾン処理器6で無害
化された上で大気側に放出される。
した被再生エツチング液を接触反応槽2に上方から導入
しつつ、槽内の底部に配した散気管3を通じてオゾン化
ガスを液中に散気することにより、被再生エツチング液
とオゾンとが接触反応する。また、接触反応槽2の排ガ
スに含まれている未反応オゾンはオゾン処理器6で無害
化された上で大気側に放出される。
ところで、前記した従来のエツチング液再生装置をエツ
チング装置に組合せて実施する場合に、実用面で次記の
ような難点がある。
チング装置に組合せて実施する場合に、実用面で次記の
ような難点がある。
(1)散気管を通じてオゾン化ガスをエツチング液中に
吹き込む方法では、オゾン化ガスの気泡粒径の微細化に
限度があり、かつオゾン化ガスの気泡は槽内を浮上して
いくだけで撹拌力も弱いためにオゾンの吸収率、つまり
反応効率が低く、この点をオゾンと液との接触経路を長
くしてカバーしようとすると、接触反応槽の高さが必然
的に増し、結果的に再生装置の設備が大形化する。
吹き込む方法では、オゾン化ガスの気泡粒径の微細化に
限度があり、かつオゾン化ガスの気泡は槽内を浮上して
いくだけで撹拌力も弱いためにオゾンの吸収率、つまり
反応効率が低く、この点をオゾンと液との接触経路を長
くしてカバーしようとすると、接触反応槽の高さが必然
的に増し、結果的に再生装置の設備が大形化する。
(2)エツチング液中には被エツチング製品の金属成分
、およびその塩化物などが含まれており、これら成分は
スラッジを形成して接触反応槽内を沈下する。これに対
して槽内の底部に配した散気管のガス吹出孔の孔径は4
0〜2000μm程度であり、このために比較的短い使
用期間で散気管が前記したスラッジで目詰まりするよう
になる。したがって運転の健全維持を図るには頻繁に散
気管を清掃して目詰まりを除去するメンテナンス作業が
必要となる他、この作業を行うにはその都度再生装置の
運転を停止しなければならず、装置の稼働効率が低下す
る。
、およびその塩化物などが含まれており、これら成分は
スラッジを形成して接触反応槽内を沈下する。これに対
して槽内の底部に配した散気管のガス吹出孔の孔径は4
0〜2000μm程度であり、このために比較的短い使
用期間で散気管が前記したスラッジで目詰まりするよう
になる。したがって運転の健全維持を図るには頻繁に散
気管を清掃して目詰まりを除去するメンテナンス作業が
必要となる他、この作業を行うにはその都度再生装置の
運転を停止しなければならず、装置の稼働効率が低下す
る。
(3)エツチング液とオゾンとの反応効率が比較的低く
、接触反応槽からの排ガス中には未反応オゾンを含んで
いるい、したがって作業環境保全のためには排ガス中の
オゾンを無害化するための処理設備を別に必要とする。
、接触反応槽からの排ガス中には未反応オゾンを含んで
いるい、したがって作業環境保全のためには排ガス中の
オゾンを無害化するための処理設備を別に必要とする。
本発明ば上記の点にがんがみなされたものであり、系内
でのオゾンの反応効率が高く、かつ殆どメンテナンスフ
リーで運転の健全維持が図れ、しかも設備を小形、コン
パクトに構成できるようにしたエツチング液再生装置を
提供することを目的とする。
でのオゾンの反応効率が高く、かつ殆どメンテナンスフ
リーで運転の健全維持が図れ、しかも設備を小形、コン
パクトに構成できるようにしたエツチング液再生装置を
提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、本発明のエツチング液再生
装置は、エツチング装置の液溜部から抽出した被再生エ
ツチング液を送液ポンプ、オゾナイザから給気されたオ
ゾン化ガスを液中に注入させるエジェクタ、脱気槽を経
て前記液溜部へ自重流下式に還流させる循環ループとし
て構成するものとする。
装置は、エツチング装置の液溜部から抽出した被再生エ
ツチング液を送液ポンプ、オゾナイザから給気されたオ
ゾン化ガスを液中に注入させるエジェクタ、脱気槽を経
て前記液溜部へ自重流下式に還流させる循環ループとし
て構成するものとする。
また、前記構成における脱気槽は、ポンプ、工ジェツタ
を経て送液されて来たエツチング液を底部より槽内に導
入する上面開放形の第1の液槽と、第1の液槽よりオー
バーフローしたエツチング液を集めてエツチング装置の
液溜部へ自重流下式に還流させる第2の液槽との組合せ
からなり、かつ前記第1の液槽の内部にはラシリング、
ないしは有孔板、邪魔板などの液撹拌部材が装荷して構
成するのがよい。
を経て送液されて来たエツチング液を底部より槽内に導
入する上面開放形の第1の液槽と、第1の液槽よりオー
バーフローしたエツチング液を集めてエツチング装置の
液溜部へ自重流下式に還流させる第2の液槽との組合せ
からなり、かつ前記第1の液槽の内部にはラシリング、
ないしは有孔板、邪魔板などの液撹拌部材が装荷して構
成するのがよい。
上記の構成で、エツチング装置より抽出した被再生エツ
チング液を送液ポンプで昇圧してエジェクタに導入する
ことにより、オゾン化ガスがエツチング液中に注入され
、かつエジェクタ内部の通路拡大部に生しる乱流でエツ
チング液とオゾン化ガスが激しく撹拌される。これによ
りエジェクタに給気されたオゾン化ガスの気泡粒径も微
細化してエツチング液との接触反応が行われ、さらにこ
の接触反応はエジェクタの後段に接続した脱気槽内を通
流する過程でも進行し、これによりエツチング液へのオ
ゾンの吸収はほぼ溶解平衡値に達し、はぼ100%に近
い高いオゾンの反応効率が得られるようになる。
チング液を送液ポンプで昇圧してエジェクタに導入する
ことにより、オゾン化ガスがエツチング液中に注入され
、かつエジェクタ内部の通路拡大部に生しる乱流でエツ
チング液とオゾン化ガスが激しく撹拌される。これによ
りエジェクタに給気されたオゾン化ガスの気泡粒径も微
細化してエツチング液との接触反応が行われ、さらにこ
の接触反応はエジェクタの後段に接続した脱気槽内を通
流する過程でも進行し、これによりエツチング液へのオ
ゾンの吸収はほぼ溶解平衡値に達し、はぼ100%に近
い高いオゾンの反応効率が得られるようになる。
また、脱気槽の前段に接続したエジェクタがオゾン反応
に有効に働(ので、脱気槽は殆ど、脱気機能を持たせる
だけの高さの低い液槽で十分対応できる。さらに、再生
装置の系内におけるオゾンの反応効率が高く、脱気槽か
らの排ガス中には未反応オゾンが殆ど含まれなくなるの
で、オゾンを無害化する処理設備の省略が可能である。
に有効に働(ので、脱気槽は殆ど、脱気機能を持たせる
だけの高さの低い液槽で十分対応できる。さらに、再生
装置の系内におけるオゾンの反応効率が高く、脱気槽か
らの排ガス中には未反応オゾンが殆ど含まれなくなるの
で、オゾンを無害化する処理設備の省略が可能である。
一方、前記の脱気槽を、ポンプ送液されて来たエツチン
グ液を底部より槽内に導入する上面開放形の第1の液槽
と、第1の液槽よりオーバーフローしたエツチング液を
集めてエツチング装置の液溜部へ還流させる第2の液槽
との組合せた構造とすることにより、ポンプ送液で槽内
に送り込まれたエツチング液は、第1の液槽から第2の
液槽ヘオーバーフローする過程で液中のガスが脱気され
た後、第2の液槽とエツチング装置の液溜部との間の落
差でエツチング液が自重流下式にエツチング装置側へ還
流する。したがってガスを巻き込んだままエツチング液
がエツチング装置に還流するおそれはない、また、ポン
プ送液の停止状態でエツチング液の還流により第2の液
槽が空になったとしても、第1の液槽にはエツチング液
が滞留しているので、エジェクタを通じてオゾン化ガス
が槽内に直接吹き出すを防止できる。
グ液を底部より槽内に導入する上面開放形の第1の液槽
と、第1の液槽よりオーバーフローしたエツチング液を
集めてエツチング装置の液溜部へ還流させる第2の液槽
との組合せた構造とすることにより、ポンプ送液で槽内
に送り込まれたエツチング液は、第1の液槽から第2の
液槽ヘオーバーフローする過程で液中のガスが脱気され
た後、第2の液槽とエツチング装置の液溜部との間の落
差でエツチング液が自重流下式にエツチング装置側へ還
流する。したがってガスを巻き込んだままエツチング液
がエツチング装置に還流するおそれはない、また、ポン
プ送液の停止状態でエツチング液の還流により第2の液
槽が空になったとしても、第1の液槽にはエツチング液
が滞留しているので、エジェクタを通じてオゾン化ガス
が槽内に直接吹き出すを防止できる。
さらに1.第1の液槽の内部に装荷したラシリング、な
いしは有孔板、邪魔板などの液撹拌部材は、液槽内を通
流するエツチング液に乱流を与えてオゾン反応、および
脱気を高めるように働く。
いしは有孔板、邪魔板などの液撹拌部材は、液槽内を通
流するエツチング液に乱流を与えてオゾン反応、および
脱気を高めるように働く。
(実施例〕
第1図は本発明実施例によるエツチング液再生装置のフ
ロー図、第2図は第1図における脱気槽の詳細構造を示
す断面図であり、第3図と同一部品には同じ符号が付し
である。
ロー図、第2図は第1図における脱気槽の詳細構造を示
す断面図であり、第3図と同一部品には同じ符号が付し
である。
まず、第1図において、エツチング装置1の液溜部1a
から引出しまた被再生エツチング液の循環ライン7には
送液ポンプ5.エジェクタ8.スタティックミキサ9.
脱気槽10がこの順序に介装され、かつエジェクタ8と
オゾナイザ4との間を結んでオゾン化ガス給気ライン1
1が配管され、これらでエジェクタ再生装置を構成して
いる。なお、脱気槽10はエツチング装置1との間に落
差を与えて若干高い位置に設置されている。また、図に
おける符号12は脱気槽10の排気側に接続した気液分
離用のトラップ、13は洗浄式スクラバー、J4は排気
ファン、15は再生装置の運転制御部、16は給気ライ
ン11に接続した開閉弁、17は脱気[10に組み込ん
だエツチング液の液面計である。
から引出しまた被再生エツチング液の循環ライン7には
送液ポンプ5.エジェクタ8.スタティックミキサ9.
脱気槽10がこの順序に介装され、かつエジェクタ8と
オゾナイザ4との間を結んでオゾン化ガス給気ライン1
1が配管され、これらでエジェクタ再生装置を構成して
いる。なお、脱気槽10はエツチング装置1との間に落
差を与えて若干高い位置に設置されている。また、図に
おける符号12は脱気槽10の排気側に接続した気液分
離用のトラップ、13は洗浄式スクラバー、J4は排気
ファン、15は再生装置の運転制御部、16は給気ライ
ン11に接続した開閉弁、17は脱気[10に組み込ん
だエツチング液の液面計である。
かかる構成で、エツチング液再生時に送液ポンプ5.オ
ゾナイザ4を運転すれば、エツチング装置1の液溜部1
aから抽出した被再生エツチング液がポンプ送液されて
エジェクタ8.スタティックミキサ9.脱気槽10を通
流したのち、脱気槽10から自重流下式にエツチング装
置1に還流するように循環する。一方、この送液過程で
エジェクタ8にはオゾナイザ4で生成したオゾン化ガス
がエツチング液中に注入され、エジェクタ内部および後
段のスタティックミキサ9.脱気槽10を通流する過程
でエツチング液とオゾンが接触反応する。
ゾナイザ4を運転すれば、エツチング装置1の液溜部1
aから抽出した被再生エツチング液がポンプ送液されて
エジェクタ8.スタティックミキサ9.脱気槽10を通
流したのち、脱気槽10から自重流下式にエツチング装
置1に還流するように循環する。一方、この送液過程で
エジェクタ8にはオゾナイザ4で生成したオゾン化ガス
がエツチング液中に注入され、エジェクタ内部および後
段のスタティックミキサ9.脱気槽10を通流する過程
でエツチング液とオゾンが接触反応する。
方、脱気槽10の槽内で脱気した排ガスはトラップ12
でエツチング液のミストを分離した後に、スクラバー1
3で洗浄処理して大気中に放出される。
でエツチング液のミストを分離した後に、スクラバー1
3で洗浄処理して大気中に放出される。
次に前記脱気槽10の具体的な構造を第2図に示す、す
なわち、脱気槽10は、ポンプ送液されて来たエツチン
グ液を底部より槽内に導入する上面開放形の第1の液槽
18と、第1の液槽18よりオーバーフローしたエツチ
ング液を集めてエツチング装置1の液溜部1aへ自重流
下式に還流させる第20液槽19との組合せからなり、
かつ前記第1の液槽18の内部には液撹拌部材としてラ
シリング20が充填しである。なお、2Iはラシリング
20が液流によって押し上げられるのを防止する押え板
、22は液槽18の底部に接続したドレンコック、23
は第2の液槽19の上!!23から引出した排気管であ
る。
なわち、脱気槽10は、ポンプ送液されて来たエツチン
グ液を底部より槽内に導入する上面開放形の第1の液槽
18と、第1の液槽18よりオーバーフローしたエツチ
ング液を集めてエツチング装置1の液溜部1aへ自重流
下式に還流させる第20液槽19との組合せからなり、
かつ前記第1の液槽18の内部には液撹拌部材としてラ
シリング20が充填しである。なお、2Iはラシリング
20が液流によって押し上げられるのを防止する押え板
、22は液槽18の底部に接続したドレンコック、23
は第2の液槽19の上!!23から引出した排気管であ
る。
また、先記した液面計17は第1の液槽18の槽内傾城
に配置して液面レベルHを監視し、液面レベルHがあら
かじめ設定した上限、下限レベルになった際に検出信号
を第1図の制御部15に出力する。
に配置して液面レベルHを監視し、液面レベルHがあら
かじめ設定した上限、下限レベルになった際に検出信号
を第1図の制御部15に出力する。
そして、再生装置の運転中にエツチング液の循環ライン
に異常が発生して液面が上限レベルを超えると、液面計
17の検出信号を基に運転制御部15からの指令で送液
ポンプ5を停止してエツチング液が脱気槽10より溢れ
出るのを防止する。また液面が下限レベル以下に低下し
た場合には、オゾナイザ4の運転を停止してオゾンが直
接脱気槽10の槽内へ抜は出るのを防止する。さらに送
液ポンプ5の停止時には給気ライン11に接続した開閉
弁16を閉じ、脱気槽10内からエジェクタ8を通じて
エツチング液がオゾナイザ4へ逆流するのを防止する。
に異常が発生して液面が上限レベルを超えると、液面計
17の検出信号を基に運転制御部15からの指令で送液
ポンプ5を停止してエツチング液が脱気槽10より溢れ
出るのを防止する。また液面が下限レベル以下に低下し
た場合には、オゾナイザ4の運転を停止してオゾンが直
接脱気槽10の槽内へ抜は出るのを防止する。さらに送
液ポンプ5の停止時には給気ライン11に接続した開閉
弁16を閉じ、脱気槽10内からエジェクタ8を通じて
エツチング液がオゾナイザ4へ逆流するのを防止する。
なお、通常の運転起動時には、最初に送液ポンプ5を始
動し、脱気槽10の液面が下限レベル以上ムこ上昇した
ことを確認してからオゾナイザ4を運転開始してオゾン
化ガスをエジェクタ8に給気するよう制御する。
動し、脱気槽10の液面が下限レベル以上ムこ上昇した
ことを確認してからオゾナイザ4を運転開始してオゾン
化ガスをエジェクタ8に給気するよう制御する。
なお、発明者の行った実機テスト結果によれば、エツチ
ング液の貯留量2000ffiのエツチング装置に対し
、エツチング液の循環量を801/分、オゾナイザから
のオゾン給気量を250 g/時とし、第1の液槽の高
さが40cmの脱気槽と組合せて運転したところによれ
ば、排ガス中のオゾン濃度はほぼ零であって100%に
近いオゾン反応率。
ング液の貯留量2000ffiのエツチング装置に対し
、エツチング液の循環量を801/分、オゾナイザから
のオゾン給気量を250 g/時とし、第1の液槽の高
さが40cmの脱気槽と組合せて運転したところによれ
ば、排ガス中のオゾン濃度はほぼ零であって100%に
近いオゾン反応率。
並びにエツチング液を再生する高い酸化率の得られるこ
とが確認されている。
とが確認されている。
本発明のエツチング液再生装置は、以上述べたように構
成されているので、決起の効果を奏する。
成されているので、決起の効果を奏する。
(1)再生装置の系内で脱気槽の前段にエジェクタを接
続し、このエジェクタを通じてオゾン化ガスを被再生エ
ツチング液の液中に注入するようにしたことにより、エ
ジェクタ内部での撹拌効果が有効に働いて系内でのオゾ
ン反応率が高まる。したがって脱気槽も低い高さで十分
対応でき、散気管を通じてオゾン化ガスを接触反応槽内
に吹き込む従来方式と比べて、装置全体の小形、コンパ
クト化が図れる。したがって、エツチング液再生装置を
エツチング装置に一体に組込んで構成することも可能で
ある。
続し、このエジェクタを通じてオゾン化ガスを被再生エ
ツチング液の液中に注入するようにしたことにより、エ
ジェクタ内部での撹拌効果が有効に働いて系内でのオゾ
ン反応率が高まる。したがって脱気槽も低い高さで十分
対応でき、散気管を通じてオゾン化ガスを接触反応槽内
に吹き込む従来方式と比べて、装置全体の小形、コンパ
クト化が図れる。したがって、エツチング液再生装置を
エツチング装置に一体に組込んで構成することも可能で
ある。
(2)また、散気管を使用しないのでスラッジによる目
詰まりなどのトラブル発生のおそれがなく、殆どメンテ
ナンスフリーで長い期間連続運転することができて信転
性の向上が図れる。
詰まりなどのトラブル発生のおそれがなく、殆どメンテ
ナンスフリーで長い期間連続運転することができて信転
性の向上が図れる。
(3)系内でのオゾンの反応効率が高く、排ガス中の未
反応オゾン濃度が殆ど零となるので、特別に徘オゾンを
無害化する処理設備を省略できる。
反応オゾン濃度が殆ど零となるので、特別に徘オゾンを
無害化する処理設備を省略できる。
第1図は本発明実施例によるエツチング液再生装置のフ
ロー図、第2図は第1図における脱気槽の詳細構造を示
す断面図、第3図は従来におけるエツチング液再生装置
の構成概要図である。図において、
ロー図、第2図は第1図における脱気槽の詳細構造を示
す断面図、第3図は従来におけるエツチング液再生装置
の構成概要図である。図において、
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)第二鉄塩などを主成分とする酸性エッチング液を対
象に、被再生エッチング液にオゾン化ガスを接触反応さ
せて再生するエッチング液再生装置であって、エッチン
グ装置の液溜部から抽出した被再生エッチング液を、送
液ポンプ、オゾナイザから給気されたオゾン化ガスを液
中に注入させるエジェクタ、脱気槽を経て前記液溜部へ
自重流下式に還流させる循環ループとして構成したこと
を特徴とするエッチング液再生装置。 2)請求項1に記載のエッチング液再生装置において、
脱気槽が、ポンプ、エジェクタを経て送液されて来たエ
ッチング液を底部より槽内に導入する上面開放形の第1
の液槽と、第1の液槽よりオーバーフローしたエッチン
グ液を集めてエッチング装置の液溜部へ自重流下式に還
流させる第2の液槽との組合せからなり、かつ前記第1
の液槽の内部にはラシリング、ないしは有孔板、邪魔板
などの液撹拌部材が装荷されていることを特徴とするエ
ッチング液再生装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1089031A JP2701444B2 (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | エッチング液再生装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1089031A JP2701444B2 (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | エッチング液再生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02267288A true JPH02267288A (ja) | 1990-11-01 |
JP2701444B2 JP2701444B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=13959529
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1089031A Expired - Lifetime JP2701444B2 (ja) | 1989-04-07 | 1989-04-07 | エッチング液再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2701444B2 (ja) |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04337089A (ja) * | 1991-04-03 | 1992-11-25 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 塩化第2鉄エッチング液の再生 |
JPH06306667A (ja) * | 1993-04-16 | 1994-11-01 | Ebara Densan:Kk | アルカリ過マンガン酸塩溶液の電解再生装置 |
JPH06306668A (ja) * | 1993-04-16 | 1994-11-01 | Ebara Densan:Kk | マンガン酸塩から過マンガン酸塩への再生法およびその再生装置 |
WO1998030734A1 (es) * | 1997-01-09 | 1998-07-16 | Depeltronik, S.A. | Procedimiento para regenerar liquidos corrosivos, especialmente liquidos corrosivos para placas de circuitos impresos, y dispositivo para ello |
JP2011077364A (ja) * | 2009-09-30 | 2011-04-14 | Hitachi Cable Ltd | プリント配線基板の製造方法及びその製造装置 |
JP2014528516A (ja) * | 2011-10-08 | 2014-10-27 | ヘルクレ、クリストフHERKLE, Christoph | 銅の電解エッチングを行うエッチング装置 |
JP2016500923A (ja) * | 2012-10-30 | 2016-01-14 | エスエムシー カンパニー リミテッド | 微細回路の製造方法 |
WO2020074541A1 (en) * | 2018-10-08 | 2020-04-16 | Degrémont Technologies Ag | Using ozone for manganese* oxidation in etching application |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62132593A (ja) * | 1985-12-04 | 1987-06-15 | Meidensha Electric Mfg Co Ltd | 排水処理装置 |
JPS62230991A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-09 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 酸性エツチング液の再生方法 |
-
1989
- 1989-04-07 JP JP1089031A patent/JP2701444B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2701444B2 (ja) | 1998-01-21 |
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