JPH02265691A - 水処理装置 - Google Patents
水処理装置Info
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- JPH02265691A JPH02265691A JP8538089A JP8538089A JPH02265691A JP H02265691 A JPH02265691 A JP H02265691A JP 8538089 A JP8538089 A JP 8538089A JP 8538089 A JP8538089 A JP 8538089A JP H02265691 A JPH02265691 A JP H02265691A
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Landscapes
- Water Treatment By Electricity Or Magnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
本発明は、磁場を利用して水質の改善或いは水の浄化を
行うことを目的とした水処理装置に関する。
行うことを目的とした水処理装置に関する。
(ロ)従来の技術
工業用水や飲料水等の給水系、冷却水等の循環水また使
用後の水を適切な処理をして放水する排水系等、水を利
用する施設の殆どのものは、流路を構成する配管或いは
途上にある水処理機器の腐食、及びスケールの付着とい
う問題を内包している。
用後の水を適切な処理をして放水する排水系等、水を利
用する施設の殆どのものは、流路を構成する配管或いは
途上にある水処理機器の腐食、及びスケールの付着とい
う問題を内包している。
それらの問題を予防する手段として防錆剤等の薬品の投
入が古くから行われているが、薬品の投入の場合は、薬
品の費用と水質に応じた投入量の管理が必要な点で労力
を要する。
入が古くから行われているが、薬品の投入の場合は、薬
品の費用と水質に応じた投入量の管理が必要な点で労力
を要する。
また、特に上水道等飲用に供する給水系の場合は、安全
衛生上の観点から薬品の投入は好ましくない。
衛生上の観点から薬品の投入は好ましくない。
以上の様な前景から、化学薬品を用いずに電場や磁場を
使って物理的に水を処理し、配管や機器の腐食、スケー
ル付着を予防しようとする水処理装置が最近注目されて
きた。
使って物理的に水を処理し、配管や機器の腐食、スケー
ル付着を予防しようとする水処理装置が最近注目されて
きた。
例えば、電気学会研究会資料1’1AG−88−155
0にそれらの水処理装置が紹介されているが、その中で
も磁場を利用した水処理装置は、既に多数のタイプのも
のが実用化されており、同装置は運転上の費用や労力が
殆どかからないことから注目を集めている。
0にそれらの水処理装置が紹介されているが、その中で
も磁場を利用した水処理装置は、既に多数のタイプのも
のが実用化されており、同装置は運転上の費用や労力が
殆どかからないことから注目を集めている。
この磁場を利用した水処理装置は、冷凍空調技術Vo1
.1.34 No、403. P120 ”P+23(
1983)に説明されているように、その効果として、
1)スケールの生成防止と除去、2)水中微生物の抑制
、3)腐食防止を掲げられる。
.1.34 No、403. P120 ”P+23(
1983)に説明されているように、その効果として、
1)スケールの生成防止と除去、2)水中微生物の抑制
、3)腐食防止を掲げられる。
しかし、実用化されている水処理装置の大部分が強い磁
場が形成されている磁極間の狭い間隙を流体が流れるよ
うになっており、流体中に鉄さび(Feig4)等の強
磁性微粒子が浮遊している場合は、磁極に吸着し、目詰
まりを起こしやすいという欠点がある。
場が形成されている磁極間の狭い間隙を流体が流れるよ
うになっており、流体中に鉄さび(Feig4)等の強
磁性微粒子が浮遊している場合は、磁極に吸着し、目詰
まりを起こしやすいという欠点がある。
そこで、水処理装置の上流に強磁性体微粒子を分離除去
する手段が講じられていることが好ましく、その−例と
して特開昭63−539号に記載のものがある。
する手段が講じられていることが好ましく、その−例と
して特開昭63−539号に記載のものがある。
この公知例によれば、磁気処理装置の上流に流体中の強
磁性微粒子を吸着分離する為の別の磁石を内包する容器
を設置し、その磁石の磁極面に強磁性微粒子を吸着させ
るようになっている。また、この公知側以外の強磁性微
粒子の分離手段とじては、上流にストレーナや濾過槽等
の機械的な濾過装置を設置することが考えられる。
磁性微粒子を吸着分離する為の別の磁石を内包する容器
を設置し、その磁石の磁極面に強磁性微粒子を吸着させ
るようになっている。また、この公知側以外の強磁性微
粒子の分離手段とじては、上流にストレーナや濾過槽等
の機械的な濾過装置を設置することが考えられる。
(ハ)発明が解決しようとする課題
上述したように1.磁気処理装置に流入する流体中の強
磁性微粒子は、その前段で分離除去することが望ましい
が、流体中に浮遊している強磁性微粒子は非常に微小で
あり、しかも、連続的に供給されることが考えられ、特
に、上流の配管が鉄鋼を主体とする材料で構成されてい
る場合は、その可能性が非常に大きい。
磁性微粒子は、その前段で分離除去することが望ましい
が、流体中に浮遊している強磁性微粒子は非常に微小で
あり、しかも、連続的に供給されることが考えられ、特
に、上流の配管が鉄鋼を主体とする材料で構成されてい
る場合は、その可能性が非常に大きい。
しかし、特開昭63−539号に記載されている公知例
では、磁石の磁極面に強磁性微粒子を直接吸着するよう
にしており、その吸着面積は限られている為、連続的に
供給される微小な強磁性微粒子を常時吸着するに足りる
能力は得られず、しかも−旦吸着した強磁性微粒子は磁
石の磁極面に直接吸着されているため、−船釣な洗浄等
の方法では容易に回収除去できないので長期の使用につ
いては磁石の交換が必要になるという問題がある。
では、磁石の磁極面に強磁性微粒子を直接吸着するよう
にしており、その吸着面積は限られている為、連続的に
供給される微小な強磁性微粒子を常時吸着するに足りる
能力は得られず、しかも−旦吸着した強磁性微粒子は磁
石の磁極面に直接吸着されているため、−船釣な洗浄等
の方法では容易に回収除去できないので長期の使用につ
いては磁石の交換が必要になるという問題がある。
また、ストレーナや濾過槽等では、極微小な粒子は除去
できず、かつ、強磁性微粒子のみならずすべての浮遊微
粒子を分離するので、すぐに目詰まりを起こし頻繁に逆
洗等の操作が必要になるという問題がある。
できず、かつ、強磁性微粒子のみならずすべての浮遊微
粒子を分離するので、すぐに目詰まりを起こし頻繁に逆
洗等の操作が必要になるという問題がある。
本発明は、前記の磁気処理装置に悪い影響を及ぼす強磁
性微粒子を効率良く選択的に分離除去することができる
水処理装置を提供することを目的とする。
性微粒子を効率良く選択的に分離除去することができる
水処理装置を提供することを目的とする。
(ニ)iJ題を解決するための手段
本発明は、流体処理流路に、永久磁石、電磁石、超電導
磁石等により発生形成された磁界内に処理水を導入し、
同処理水中に多数の強磁性細線または磁性体小片からな
るフィルタエレメントとを配設した高勾配磁場により処
理水に浮遊している強磁性微粒子を吸着除去させる磁気
分離装置と、永久磁石、電磁石、超電導磁石等により発
生形成された磁界内を処理水を導入して磁気的処理を行
う磁気処理装置とを設置し、かつ、磁気分離装置を磁気
処理装置の前段に配設したことを特徴とする水処理装置
に係るものである。
磁石等により発生形成された磁界内に処理水を導入し、
同処理水中に多数の強磁性細線または磁性体小片からな
るフィルタエレメントとを配設した高勾配磁場により処
理水に浮遊している強磁性微粒子を吸着除去させる磁気
分離装置と、永久磁石、電磁石、超電導磁石等により発
生形成された磁界内を処理水を導入して磁気的処理を行
う磁気処理装置とを設置し、かつ、磁気分離装置を磁気
処理装置の前段に配設したことを特徴とする水処理装置
に係るものである。
(ホ)作用及び効果
上記したように、本発明では、前段にて、磁気分離装置
を用い、強磁性細線または磁性体小片の周囲に形成され
る高勾配磁場により水中に浮遊している磁性体微粒子を
効果的に吸着させ、後段にて、磁気処理装置内に形成し
た磁場内を流体が通過することにより、流体を構成する
水分子または水中に溶けている溶存物質、或いは水中に
浮遊している微粒子やコロイド物質の状態を変化せしむ
ることにより、下流に設置されている配管や機器の腐食
及びスケールの付着を防止することができる。
を用い、強磁性細線または磁性体小片の周囲に形成され
る高勾配磁場により水中に浮遊している磁性体微粒子を
効果的に吸着させ、後段にて、磁気処理装置内に形成し
た磁場内を流体が通過することにより、流体を構成する
水分子または水中に溶けている溶存物質、或いは水中に
浮遊している微粒子やコロイド物質の状態を変化せしむ
ることにより、下流に設置されている配管や機器の腐食
及びスケールの付着を防止することができる。
即ち、磁気処理装置の前段に、高勾配磁場を形成可能な
磁気分離装置を配設したことによって、磁気処理装置へ
流入する強磁性微粒子を効率良く選択的に除去し、長期
にわたり連続的に同磁気処理装置の性能を保持すること
ができる。
磁気分離装置を配設したことによって、磁気処理装置へ
流入する強磁性微粒子を効率良く選択的に除去し、長期
にわたり連続的に同磁気処理装置の性能を保持すること
ができる。
(へ)実施例
以下、添付図に示す実施例に基づいて、本発明に係る水
処理装置Aを具体的に説明する。
処理装置Aを具体的に説明する。
第1図に示したように、本実施例は、ビルBに水処理装
置Aを設置した例である。
置Aを設置した例である。
同図において、図示しない水道本管から分岐した第1給
水管11は、止水栓12.量水器13を通して受水タン
ク14に接続されている。
水管11は、止水栓12.量水器13を通して受水タン
ク14に接続されている。
また、受水タンク14は、ポンプ15によって、第2給
水管16を介してビルBの屋上に設置した高置タンク1
7に接続されている。
水管16を介してビルBの屋上に設置した高置タンク1
7に接続されている。
さらに、高置タンク17は、第3給水管18によってビ
ルBの各階の使用個所に接続されている。
ルBの各階の使用個所に接続されている。
かかる給水流路において、本発明の要旨をなす水処理装
置Aは、第1給水管11及び第3給水管18の中途に設
けられている。
置Aは、第1給水管11及び第3給水管18の中途に設
けられている。
そして、同水処理装置Aは、第1図に示すように、前段
装置を形成する磁気分離装置MSUと、後段装置を形成
する磁気処理装置1’lTυとから形成されている。
装置を形成する磁気分離装置MSUと、後段装置を形成
する磁気処理装置1’lTυとから形成されている。
ここに、磁気分離装置MSLIは、後述するように、永
久磁石、電磁石、超電導磁石等により発生形成された磁
界内に処理水を導入し、同処理水中に多数の強磁性細線
または磁性体小片からなるフィルタエレメントを配置し
て、内部に磁気分離流路ptを形成しており、同磁気分
離流路P2内に形成した高勾配磁場により、処理水に浮
遊している強磁性微粒子を吸着除去させることができる
。
久磁石、電磁石、超電導磁石等により発生形成された磁
界内に処理水を導入し、同処理水中に多数の強磁性細線
または磁性体小片からなるフィルタエレメントを配置し
て、内部に磁気分離流路ptを形成しており、同磁気分
離流路P2内に形成した高勾配磁場により、処理水に浮
遊している強磁性微粒子を吸着除去させることができる
。
一方、磁気処理装置MTIIは、後述するように、永久
磁石、電磁石、超電導磁石等により発生形成された磁界
内を処理水を導入して磁気的処理を行うものである。
磁石、電磁石、超電導磁石等により発生形成された磁界
内を処理水を導入して磁気的処理を行うものである。
第2図〜第5図を参照して、水処理装置Aの構造をさら
に詳細に説明する。
に詳細に説明する。
なお、本実施例では、水処理装置Aを構成する磁気分離
装置MSUと磁気処理装置?ITIIとは、水処理装置
Aの全体構成のコンパクト化を図るために一体的に形成
されている。
装置MSUと磁気処理装置?ITIIとは、水処理装置
Aの全体構成のコンパクト化を図るために一体的に形成
されている。
しかし、磁気分離装置MSUと磁気処理装置MTUとは
、それぞれ独立した別体として形成することもできるこ
とは勿論である。
、それぞれ独立した別体として形成することもできるこ
とは勿論である。
第2図及び第3図において、30け軟鉄等を素材とする
リターンフレームであり、後述する永久磁石31.32
とともに、磁気回路を形成することができる。
リターンフレームであり、後述する永久磁石31.32
とともに、磁気回路を形成することができる。
本実施例において、かかるリターンフレーム30は、上
下壁30a、30bと、左右側壁30c、 30dとか
ら構成されている。
下壁30a、30bと、左右側壁30c、 30dとか
ら構成されている。
また、リターンフに一ム30は、その上下壁30a30
bの内面に、それぞれ、矩形板状の上下永久磁石31.
’32を取付けており、両永久磁石31.32間に第3
図に示す磁界発生部Mが形成されている。
bの内面に、それぞれ、矩形板状の上下永久磁石31.
’32を取付けており、両永久磁石31.32間に第3
図に示す磁界発生部Mが形成されている。
かかる磁界発生部M内部には、第4.5図に示すように
それぞれ流体流入口33と流体流出口34とを具備する
長尺の矩形箱体からなるひ磁性体セル35と、同セル3
5内に並列状態に形成し、磁気処理装置MTUとして機
能する磁気処理槽36と、磁気分離装置MSUとして機
能する磁気分離槽37とから形成される。
それぞれ流体流入口33と流体流出口34とを具備する
長尺の矩形箱体からなるひ磁性体セル35と、同セル3
5内に並列状態に形成し、磁気処理装置MTUとして機
能する磁気処理槽36と、磁気分離装置MSUとして機
能する磁気分離槽37とから形成される。
そして、磁気処理槽36内には磁気処理流路P1が設け
られるるとともに、磁気分離処理槽37内には、上記磁
気処理流路P+と連通連結する磁気分離流路P、が設け
られている。
られるるとともに、磁気分離処理槽37内には、上記磁
気処理流路P+と連通連結する磁気分離流路P、が設け
られている。
なお、本実施例において、磁気分離槽37は、屈曲流路
を形成するため、複数の区画処理槽37a〜37eより
構成されている。
を形成するため、複数の区画処理槽37a〜37eより
構成されている。
第4図及び第5図を参照してさらに詳細に説明すると、
長尺箱体形状を有する非磁性体セル35は、仕切板38
.39.40,41.42によって一つの磁気処理槽3
6と、磁気分離処理槽37を形成する五つの区画処理槽
37a〜37eに仕すられている。
長尺箱体形状を有する非磁性体セル35は、仕切板38
.39.40,41.42によって一つの磁気処理槽3
6と、磁気分離処理槽37を形成する五つの区画処理槽
37a〜37eに仕すられている。
そして、磁気処理装置M丁Uを形成する上記磁気処理槽
36は、その内部に磁気処理流路p、を形成するととも
に、その前面に流体流出口34を設けており、一方、磁
気分離装置MSUを形成する区画処理槽37a〜37e
は、それぞれ、その内部に磁気分離流路P2を形成する
とともに、その他端側に位置する区画処理槽37eは、
その前面に流体流入口33を設けている。
36は、その内部に磁気処理流路p、を形成するととも
に、その前面に流体流出口34を設けており、一方、磁
気分離装置MSUを形成する区画処理槽37a〜37e
は、それぞれ、その内部に磁気分離流路P2を形成する
とともに、その他端側に位置する区画処理槽37eは、
その前面に流体流入口33を設けている。
さらに、第4図に示すように、仕切+ff3B、39,
40゜41.42のうち、仕切板3B、 40.42は
前端を非磁性体セル35の前面に連結するとともにその
後端と非磁性体セル35の下面との間に連絡流路45,
46.47を形成している。一方、仕切板39.41は
後端を非磁性体セル35の上面に連結するとともにその
上端と非磁性体セル35の下面との間に連絡流路48.
49を形成している。
40゜41.42のうち、仕切板3B、 40.42は
前端を非磁性体セル35の前面に連結するとともにその
後端と非磁性体セル35の下面との間に連絡流路45,
46.47を形成している。一方、仕切板39.41は
後端を非磁性体セル35の上面に連結するとともにその
上端と非磁性体セル35の下面との間に連絡流路48.
49を形成している。
かかる構成によって、磁気処理装置MTUを構成する磁
気処理槽36と、磁気分離装置MSUを構成する全区画
処理槽37a〜37eは、連絡通路45.48,46゜
49.47を介して直列的にかつ屈曲しながら連通され
ることになり、非磁性体セル35内に屈曲処理流路を形
成することができる。
気処理槽36と、磁気分離装置MSUを構成する全区画
処理槽37a〜37eは、連絡通路45.48,46゜
49.47を介して直列的にかつ屈曲しながら連通され
ることになり、非磁性体セル35内に屈曲処理流路を形
成することができる。
また、第5図から明らかなように、磁気処理装置MTU
を形成する磁気処理流路P1は、上下方向の間隔を薄く
して、その断面積を、磁気分離装置hsuを形成する各
区画処理槽37a〜37eの磁気分離流路P2の断面積
より小さくしている。
を形成する磁気処理流路P1は、上下方向の間隔を薄く
して、その断面積を、磁気分離装置hsuを形成する各
区画処理槽37a〜37eの磁気分離流路P2の断面積
より小さくしている。
かかる構成によって、磁気処理装置MTUを形成する磁
気処理流路p、は、磁気処理の高効率を確保するのに必
要な流速を得ることができる。
気処理流路p、は、磁気処理の高効率を確保するのに必
要な流速を得ることができる。
次に、磁気分離装置MSUを形成する各区画処理槽37
a、37b、37c、37d、37eの内部構成につい
て説明する。
a、37b、37c、37d、37eの内部構成につい
て説明する。
第4図及び第5図に示すように、フィルタエレメントと
して作用する多数の強磁性細線5oが、各区画処理槽3
7a、37b、、37c、37d、37eの内で処理流
体の流れの方向と平行に配設されている。
して作用する多数の強磁性細線5oが、各区画処理槽3
7a、37b、、37c、37d、37eの内で処理流
体の流れの方向と平行に配設されている。
そして、これらの強磁性細線50は、等間隔を隔てて、
密で、しかも相互に平行に並設されている。
密で、しかも相互に平行に並設されている。
以下、上記した磁気分離装置MSUにおける高勾配磁場
の形成原理を説明する。
の形成原理を説明する。
第6図に磁場の方向に直交するように強磁性細線50を
配置した磁気分離装置MSUの概念的構成を示す。
配置した磁気分離装置MSUの概念的構成を示す。
即ち、第6図において、強磁性細線50に対して垂直方
向の磁気分離装置MSUの断面が表されており、間隔を
開けて配設したN極磁石31とS極磁石32との間で、
流体は紙面に垂直に紙面の表から■(または裏から表)
へ流れていくことになる。
向の磁気分離装置MSUの断面が表されており、間隔を
開けて配設したN極磁石31とS極磁石32との間で、
流体は紙面に垂直に紙面の表から■(または裏から表)
へ流れていくことになる。
そして、かかる磁気分離装置hSUによって発生した磁
場において、磁力線49の流れは、矢印を含む実線で示
すようになる。
場において、磁力線49の流れは、矢印を含む実線で示
すようになる。
即ち、磁力線49は、N極磁石31からS極磁石32へ
向かうが、途中に配置されている強磁性細線50内を集
積して流れ、強磁性細線50の近傍は磁界が強磁性細線
50の近傍のため為、高勾配の磁場が形成される。
向かうが、途中に配置されている強磁性細線50内を集
積して流れ、強磁性細線50の近傍は磁界が強磁性細線
50の近傍のため為、高勾配の磁場が形成される。
従って流体中に浮遊している磁性微粒子51は破線で示
す矢印に沿って強磁性細線50に吸着する。
す矢印に沿って強磁性細線50に吸着する。
このように、磁気分離装置MSUでは、強磁性細線50
に磁性微粒子51を吸着させることができ、かつ、強磁
性細線50の吸着能力は、磁化が大きい強磁性の磁性微
粒子51に対して著しく大きくなる。
に磁性微粒子51を吸着させることができ、かつ、強磁
性細線50の吸着能力は、磁化が大きい強磁性の磁性微
粒子51に対して著しく大きくなる。
従って、N極磁石31とS極磁石32間に多数の強磁性
細線50を配置しておけば、その吸着面積を増大させる
ことができ、多量の強磁性微粒子を効率良く確実に吸着
除去することができる。
細線50を配置しておけば、その吸着面積を増大させる
ことができ、多量の強磁性微粒子を効率良く確実に吸着
除去することができる。
さらに、磁気分離装置MSUの性能は、一般に、実効長
さLeを用いて、 Le=(L/a)(Vm/Vo) H’ HHHH
’L H(1)ここに、Lとaはそれぞれ強磁性細線
50の有効長と半径で、Voは処理水流速、Vmは次式
(2)で与えられる磁気速度である。
さLeを用いて、 Le=(L/a)(Vm/Vo) H’ HHHH
’L H(1)ここに、Lとaはそれぞれ強磁性細線
50の有効長と半径で、Voは処理水流速、Vmは次式
(2)で与えられる磁気速度である。
Vm=(2/9)(Xp ・Ms−Ho・b”/
+7 ・a) ・・12)上記式(2)で、χρとbは
磁性微粒子51の比磁化率と半径、Msは強磁性細線の
飽和磁束密度、Hoは印加磁界の強さ、ηは磁性微粒子
51に対する流体の粘性係数である。
+7 ・a) ・・12)上記式(2)で、χρとbは
磁性微粒子51の比磁化率と半径、Msは強磁性細線の
飽和磁束密度、Hoは印加磁界の強さ、ηは磁性微粒子
51に対する流体の粘性係数である。
つまり、Leの値が大きいほど高勾配磁気分離としての
性能は向上することになり、磁気分離装置ll5Uの磁
性微粒子51の吸着除去性能を向上させるには、式(1
)で示される処理水流速Voを低下させればよく、故に
、磁気分離装置MSUを構成する各区画処理槽37a、
37b、37c、37d、37e内に形成した磁気分離
流路P2は、その断面積゛を磁気処理流路P1の断面積
より大きくしているので、処理水の流速を低下すること
ができ、より高い磁気分離性能を提供することが可能と
なる。
性能は向上することになり、磁気分離装置ll5Uの磁
性微粒子51の吸着除去性能を向上させるには、式(1
)で示される処理水流速Voを低下させればよく、故に
、磁気分離装置MSUを構成する各区画処理槽37a、
37b、37c、37d、37e内に形成した磁気分離
流路P2は、その断面積゛を磁気処理流路P1の断面積
より大きくしているので、処理水の流速を低下すること
ができ、より高い磁気分離性能を提供することが可能と
なる。
次に上記構成を有する水処理装置Aによる処理水の処理
方法について説明する。
方法について説明する。
処理水は、まず、流体流入口33を通して磁気分離装置
MSU内、即ち、屈曲処理流路を形成する複数の磁気分
離流路p、内を通過し、その後、磁気処理流路P、内に
流入し、最後に、流体流出口34より所望の個所へ送給
されることになる。
MSU内、即ち、屈曲処理流路を形成する複数の磁気分
離流路p、内を通過し、その後、磁気処理流路P、内に
流入し、最後に、流体流出口34より所望の個所へ送給
されることになる。
このように、本実施例では、水処理装置Aは、前段にて
、磁気分離装置)’1stlを用い、強磁性細線50の
周囲に形成される高勾配磁場内により水中に浮遊してい
る強磁性微粒子を効果的に吸着させ、後段にて、磁気処
理装置MTU内に形成した磁場内を流体が通過すること
により、流体を構成する水分子または水中に溶けている
溶存物質、或いは水中に浮遊している微粒子やコロイド
物質の状態を変化せしむることにより、下流に設置され
ている配管や機器の腐食及びスケールの付着を防止する
ことができる。
、磁気分離装置)’1stlを用い、強磁性細線50の
周囲に形成される高勾配磁場内により水中に浮遊してい
る強磁性微粒子を効果的に吸着させ、後段にて、磁気処
理装置MTU内に形成した磁場内を流体が通過すること
により、流体を構成する水分子または水中に溶けている
溶存物質、或いは水中に浮遊している微粒子やコロイド
物質の状態を変化せしむることにより、下流に設置され
ている配管や機器の腐食及びスケールの付着を防止する
ことができる。
即ち、磁気処理装置MTtlの前段に、高勾配磁場を形
成可能な磁気分離装置MSυを配設したことによって、
磁気処理装置MTtlへ流入する強磁性微粒子を効率良
く選択的に除去し、長期にわたり連続的に同磁気処理装
置MTUの性能を保持することができる。
成可能な磁気分離装置MSυを配設したことによって、
磁気処理装置MTtlへ流入する強磁性微粒子を効率良
く選択的に除去し、長期にわたり連続的に同磁気処理装
置MTUの性能を保持することができる。
また、本実施例では、同一の水処理装置A内に磁気分離
装置hsuと磁気処理装置−TUとを形成することがで
きるので、水処理装置Aの構造をコンパクトに保持しな
がら、処理水の磁気処理と磁気分離を行うことができ、
強磁性微粒子を効果的に除去することができる。
装置hsuと磁気処理装置−TUとを形成することがで
きるので、水処理装置Aの構造をコンパクトに保持しな
がら、処理水の磁気処理と磁気分離を行うことができ、
強磁性微粒子を効果的に除去することができる。
さらに、本実施例では、磁気処理流路P、の断面積と磁
気分離流路P2の断面積を異ならせている、即ち、磁気
処理流路P、の断面積を磁気分離流路P2の断面積より
小さくしている。
気分離流路P2の断面積を異ならせている、即ち、磁気
処理流路P、の断面積を磁気分離流路P2の断面積より
小さくしている。
従って、流路断面積が狭い磁気処理流路P1において、
流速を磁気処理を行うのに最も適した速度に設定するこ
とが可能となり、磁気処理の効果の効率を顕著に向上さ
せることが出来る さらに、流路断面積が広い磁気分離流路P、においでは
、流速を磁気処理流路P1よりもかなり低下させること
が可能となり、磁気分離の磁性微粒子除去性能を顕著に
向上させることが出来る。
流速を磁気処理を行うのに最も適した速度に設定するこ
とが可能となり、磁気処理の効果の効率を顕著に向上さ
せることが出来る さらに、流路断面積が広い磁気分離流路P、においでは
、流速を磁気処理流路P1よりもかなり低下させること
が可能となり、磁気分離の磁性微粒子除去性能を顕著に
向上させることが出来る。
従って、上述した強磁性微粒子の除去効果をさらに向上
することができる。
することができる。
なお、上記した実施例において、磁場を形成するに際し
ては永久磁石31.32を用いたが、これに限定される
ものではなく、電磁石、超電導磁石等により磁場を形成
することもできる。
ては永久磁石31.32を用いたが、これに限定される
ものではなく、電磁石、超電導磁石等により磁場を形成
することもできる。
また、強磁性細線50は、腐食等を考慮して、強磁性の
ステンレス線を用いるのが好ましいが、何らステンレス
線に限定されるものではなく、強磁性を有するものであ
れば、他の素材からなる線を用いることもできる。
ステンレス線を用いるのが好ましいが、何らステンレス
線に限定されるものではなく、強磁性を有するものであ
れば、他の素材からなる線を用いることもできる。
さらに、強磁性細線50は、綱目状或いは実状に織り込
まれてたもの、グラスウール状に形成したもの、磁性体
の薄板をエツチングまたは打ち抜き等により細線部分が
残るように加工したもの、又は、非磁性体薄板に強磁性
体をプリント加工したものとすることもできる。
まれてたもの、グラスウール状に形成したもの、磁性体
の薄板をエツチングまたは打ち抜き等により細線部分が
残るように加工したもの、又は、非磁性体薄板に強磁性
体をプリント加工したものとすることもできる。
また、第1表に、磁気分離装置MSIIを形成する磁気
分離流路P!に用いられる強磁性細線の好ましい特性及
び流路空間占積率を示す。
分離流路P!に用いられる強磁性細線の好ましい特性及
び流路空間占積率を示す。
第1表
しかし、強磁性細線50は、何ら強磁性体のステンレス
線等の線状体に限定されるものではなく、例えば、フィ
ラメント状、帯状、或いは、強磁性体小片を用いること
もできる。
線等の線状体に限定されるものではなく、例えば、フィ
ラメント状、帯状、或いは、強磁性体小片を用いること
もできる。
第1図は本発明に係る水処理装置をビルに設置した場合
の設置状態説明図、第2図は水処理装置の全体構造を示
す斜視図、第3図は水処理装置の概念的断面側面図、第
4図は同断面平面図、第5図は第4図1−1線による断
面図、第6図は高勾配磁気分離の原理説明図である。 第1図 図中、 A:水処理装置 MSII :磁気分離装置 MTU :磁気処理装置 Pl:磁気処理流路 P2:磁気分離流路 30: リターンフレーム 31:永久磁石 32:永久磁石 50:強磁性細線 51:@性徴粒子
の設置状態説明図、第2図は水処理装置の全体構造を示
す斜視図、第3図は水処理装置の概念的断面側面図、第
4図は同断面平面図、第5図は第4図1−1線による断
面図、第6図は高勾配磁気分離の原理説明図である。 第1図 図中、 A:水処理装置 MSII :磁気分離装置 MTU :磁気処理装置 Pl:磁気処理流路 P2:磁気分離流路 30: リターンフレーム 31:永久磁石 32:永久磁石 50:強磁性細線 51:@性徴粒子
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、流体処理流路に、永久磁石、電磁石、超電導磁石等
により発生形成された磁界内に処理水を導入し、同処理
水中に多数の強磁性細線または磁性体小片からなるフィ
ルタエレメントとを配設した高勾配磁場により処理水に
浮遊している磁性体微粒子を吸着除去させる磁気分離装
置(MSU)と、永久磁石、電磁石、超電導磁石等によ
り発生形成された磁界内を処理水を導入して磁気的処理
を行う磁気処理装置(MTU)とを設置し、かつ、磁気
分離装置(MSU)を磁気処理装置(MTU)の前段に
配設したことを特徴とする水処理装置。 2、磁気分離装置(MSU)のフィルタエレメントを構
成する磁性線は、網目状或いは簾状に織り込まれている
ことを特徴とする請求項1記載の水処理装置。 3、磁気分離装置(MSU)のフィルタエレメントを構
成する磁性線は、グラスウール状に形成されていること
を特徴とする請求項1記載の水処理装置。 4、磁気分離装置(MSU)のフィルタエレメントを構
成する磁性線は、磁性体の薄板をエッチングまたは打ち
抜き等により線部分が残るように加工したもの、又は非
磁性体薄板に強磁性体をプリント加工したものからなる
ことを特徴とする請求項1記載の水処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8538089A JPH02265691A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP8538089A JPH02265691A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 水処理装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02265691A true JPH02265691A (ja) | 1990-10-30 |
Family
ID=13857128
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP8538089A Pending JPH02265691A (ja) | 1989-04-03 | 1989-04-03 | 水処理装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02265691A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019166496A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 株式会社富士計器 | 微細気泡液供給システム |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5676215A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Magnetic filter |
JPS5943208A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-10 | 上津原 一人 | ジヨイント方法 |
JPS6159163A (ja) * | 1984-08-30 | 1986-03-26 | 松下電器産業株式会社 | 冷媒加熱式空気調和機の冷媒循環量制御装置 |
JPS63539A (ja) * | 1986-06-19 | 1988-01-05 | 株式会社 ビ−・エム | 屋内給水系における給水方法及び給水装置 |
-
1989
- 1989-04-03 JP JP8538089A patent/JPH02265691A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5676215A (en) * | 1979-11-26 | 1981-06-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | Magnetic filter |
JPS5943208A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-10 | 上津原 一人 | ジヨイント方法 |
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JPS63539A (ja) * | 1986-06-19 | 1988-01-05 | 株式会社 ビ−・エム | 屋内給水系における給水方法及び給水装置 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019166496A (ja) * | 2018-03-26 | 2019-10-03 | 株式会社富士計器 | 微細気泡液供給システム |
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