JP3223450B2 - 超高磁気流体処理装置 - Google Patents
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- C02F1/48—Treatment of water, waste water, or sewage with magnetic or electric fields
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- C02F1/52—Treatment of water, waste water, or sewage by flocculation or precipitation of suspended impurities
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、流体を複数の磁
場空間に導入し流体の特性に対応した合理的な磁気的処
理を図るとともに、処理流体の凝集沈殿物を効率よく排
出できる改良された超高磁気流体処理装置に関する。
場空間に導入し流体の特性に対応した合理的な磁気的処
理を図るとともに、処理流体の凝集沈殿物を効率よく排
出できる改良された超高磁気流体処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来の技術による流体磁気処理装置にお
いて、磁石を装置の外部に配置して処理室内を通過する
磁力線を発生させ、処理室内部に中間磁極体を列設して
形成した磁界ユニットの隙間を流れる流体を磁気処理す
る方法を開示している。（特公平７−１０６３５２）こ
の発明による内部中間磁極体は、非磁性材製の上下プレ
−ト間に強磁性材製の円柱状磁極体を挟持させ、各磁極
体の間隙の幅を一定間隔で、その装置に固定され配置さ
れている。外部磁石を利用する方法は、処理流体中の磁
性体が磁石に吸着されることを防ぐことができる技術上
の利点は認められる。また、このような内部磁極体部を
用いて、それらの間隙の幅を狭めて設定した場合超高磁
場が得られ、内部磁極体を交換すれば、用途に応じて磁
気処理回数の効率を向上させる発明として提供されてい
る。さらに、従来の技術による流体磁気処理装置におい
ては、内部磁極体の形状を改良することによって、内部
磁極体による処理流体への抵抗による流体の流速低下を
防ぎ、もって磁界による処理流体の活性化を向上させる
ため、内部磁極体の形状を改良する流体処理方法が提供
されている。
いて、磁石を装置の外部に配置して処理室内を通過する
磁力線を発生させ、処理室内部に中間磁極体を列設して
形成した磁界ユニットの隙間を流れる流体を磁気処理す
る方法を開示している。（特公平７−１０６３５２）こ
の発明による内部中間磁極体は、非磁性材製の上下プレ
−ト間に強磁性材製の円柱状磁極体を挟持させ、各磁極
体の間隙の幅を一定間隔で、その装置に固定され配置さ
れている。外部磁石を利用する方法は、処理流体中の磁
性体が磁石に吸着されることを防ぐことができる技術上
の利点は認められる。また、このような内部磁極体部を
用いて、それらの間隙の幅を狭めて設定した場合超高磁
場が得られ、内部磁極体を交換すれば、用途に応じて磁
気処理回数の効率を向上させる発明として提供されてい
る。さらに、従来の技術による流体磁気処理装置におい
ては、内部磁極体の形状を改良することによって、内部
磁極体による処理流体への抵抗による流体の流速低下を
防ぎ、もって磁界による処理流体の活性化を向上させる
ため、内部磁極体の形状を改良する流体処理方法が提供
されている。
【０００３】従来の技術による流体磁気処理装置におい
ては、一般的に流体中の磁性体が内部磁極体に吸着され
た場合に磁極体を取り出し分解整備する必要が生じ、ス
トレ−ナを備えてスケ−ルを除去する方法が開示されて
いる。
ては、一般的に流体中の磁性体が内部磁極体に吸着され
た場合に磁極体を取り出し分解整備する必要が生じ、ス
トレ−ナを備えてスケ−ルを除去する方法が開示されて
いる。
【０００４】一般的に、従来の技術による流体磁気処理
装置において内部磁極体に吸着された処理流体中の磁性
体などを除去、清掃し磁気処理装置の性能維持を図る場
合において、処理流体の流速を上げる効果が図られ、処
理装置の内部において強磁場の形成を達成することに発
明の要旨が重視され、磁極体の取り付け構造、形状及び
材質その材質を改良して磁性体除去の方法を効率化した
り、処理流体の態様により装置部品の取り替えがおこな
われうる流体磁気処理装置の構成が開示されている。
装置において内部磁極体に吸着された処理流体中の磁性
体などを除去、清掃し磁気処理装置の性能維持を図る場
合において、処理流体の流速を上げる効果が図られ、処
理装置の内部において強磁場の形成を達成することに発
明の要旨が重視され、磁極体の取り付け構造、形状及び
材質その材質を改良して磁性体除去の方法を効率化した
り、処理流体の態様により装置部品の取り替えがおこな
われうる流体磁気処理装置の構成が開示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来の技術によ
れば、円柱状の内部磁極体部を用い、それらの間隙の幅
を狭めて設定し強磁場が得られる発明が開示されている
が、磁極体の主要部材を形成する円柱状磁極体の形状及
び構造から、その間隙を流れる処理流体が干渉しあい流
体の流速が低下するおそれがある。したがって、磁場の
強さを引き上げて磁気処理効果を向上しようとしても、
流量が減少し流体磁気処理能率が低下するという不都合
があった。また、このような設計や材料を利用して円柱
状磁極体を流体磁気処理装置の内部に取り付け、磁界の
強度をさらに引き上げ流体の処理効率を一層向上させる
ために磁極体部の間隙をさらに狭めようとすれば、設
計、材料費が割高になり、また、用途に応じて内部磁極
体を交換しようとすれば、その交換費用はコスト高を招
く経済的な不利益をともなった。すなわち、製造・維持
コスト面において適切な技術的改良が不充分であり、こ
の意味において従来の技術による流体磁気処理装置は、
その実施にともなう経済性が重視されておらず、不経済
かつ不能率な装置構成であるという問題が十分には解決
されていない。複数の磁極体列を構成する中間磁極体間
に付着した一過水や循環水の不純物、スケ−ル等の清掃
はできない。この他、例えば特開平６−１９００２３に
開示されているように、処理流体の流路にメッシュ状の
ワイヤ−よりなる強磁性体又は針状体の磁性体を配置す
る発明が開示されているが、これらの磁界ユニットは、
それ自体装置に固定されているので、それらの磁性体へ
吸着した凝集物の清掃、除去を行ない磁気処理効果を向
上させるためには、磁性体を交換するかわりに装置自体
の交換が必要であった。
れば、円柱状の内部磁極体部を用い、それらの間隙の幅
を狭めて設定し強磁場が得られる発明が開示されている
が、磁極体の主要部材を形成する円柱状磁極体の形状及
び構造から、その間隙を流れる処理流体が干渉しあい流
体の流速が低下するおそれがある。したがって、磁場の
強さを引き上げて磁気処理効果を向上しようとしても、
流量が減少し流体磁気処理能率が低下するという不都合
があった。また、このような設計や材料を利用して円柱
状磁極体を流体磁気処理装置の内部に取り付け、磁界の
強度をさらに引き上げ流体の処理効率を一層向上させる
ために磁極体部の間隙をさらに狭めようとすれば、設
計、材料費が割高になり、また、用途に応じて内部磁極
体を交換しようとすれば、その交換費用はコスト高を招
く経済的な不利益をともなった。すなわち、製造・維持
コスト面において適切な技術的改良が不充分であり、こ
の意味において従来の技術による流体磁気処理装置は、
その実施にともなう経済性が重視されておらず、不経済
かつ不能率な装置構成であるという問題が十分には解決
されていない。複数の磁極体列を構成する中間磁極体間
に付着した一過水や循環水の不純物、スケ−ル等の清掃
はできない。この他、例えば特開平６−１９００２３に
開示されているように、処理流体の流路にメッシュ状の
ワイヤ−よりなる強磁性体又は針状体の磁性体を配置す
る発明が開示されているが、これらの磁界ユニットは、
それ自体装置に固定されているので、それらの磁性体へ
吸着した凝集物の清掃、除去を行ない磁気処理効果を向
上させるためには、磁性体を交換するかわりに装置自体
の交換が必要であった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】この発明による超高磁気
流体処理装置は、ケ−シングを仕切り板で仕切って形成
される第1、第2、第３処理室、分離槽室及び処理流体の
流路からなる連続処理装置として構成されており、ケ−
シングの両側面の外部に、第１、第３処理室及び分離槽
室を通過する磁力線を発生させる磁気ユニットがそれぞ
れ取り付けられている。第1処理室には、処理流体の導
入口と、処理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で
並設して取り付けられたル−バと少なくとも２個の格子
体と、処理流体が第２処理室へ導入される排出口とが配
設されており、第2処理室には、その上面に多数孔を穿
設して形成された処理流体の流入口と、その底面に配設
された、分離槽室へ導入される処理流体の排出口とが配
設されており、分離槽室には、ケ−シングの底面を被装
するように取付けられた金網と、ケ−シングの底面中央
部に形成された沈殿凝集物の排出用ドレ−ンと第３処理
室へ導入される処理流体の流路とが配設されており、ま
た、第３処理室は、処理流体の処理効果を向上させるた
め、処理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で並設
されたル−バ及び少なくとも２個の格子体と、処理流体
の流路と排出口とが配設されている。
流体処理装置は、ケ−シングを仕切り板で仕切って形成
される第1、第2、第３処理室、分離槽室及び処理流体の
流路からなる連続処理装置として構成されており、ケ−
シングの両側面の外部に、第１、第３処理室及び分離槽
室を通過する磁力線を発生させる磁気ユニットがそれぞ
れ取り付けられている。第1処理室には、処理流体の導
入口と、処理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で
並設して取り付けられたル−バと少なくとも２個の格子
体と、処理流体が第２処理室へ導入される排出口とが配
設されており、第2処理室には、その上面に多数孔を穿
設して形成された処理流体の流入口と、その底面に配設
された、分離槽室へ導入される処理流体の排出口とが配
設されており、分離槽室には、ケ−シングの底面を被装
するように取付けられた金網と、ケ−シングの底面中央
部に形成された沈殿凝集物の排出用ドレ−ンと第３処理
室へ導入される処理流体の流路とが配設されており、ま
た、第３処理室は、処理流体の処理効果を向上させるた
め、処理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で並設
されたル−バ及び少なくとも２個の格子体と、処理流体
の流路と排出口とが配設されている。
【０００７】この発明による超高磁気流体処理装置の磁
気ユニットは、ケ−シングの両側面から着脱できるよう
に取り付けられている。
気ユニットは、ケ−シングの両側面から着脱できるよう
に取り付けられている。
【０００８】ケ−シングの一方の側壁は、ケ−シング本
体から着脱できるように取り付けられている。
体から着脱できるように取り付けられている。
【０００９】さらに、この発明による超高磁気流体処理
装置は、ケ−シングの上面において、第１、第３処理室
に、及び第２処理室上に配設された流路に、並びにケ−
シングの正面及び背面において第１、第３処理室及び分
離槽室に、並びにケ−シングの両側面において、第２処
理室及び分離槽室に、それぞれ貫通する複数の添加剤注
入口が配設されている。
装置は、ケ−シングの上面において、第１、第３処理室
に、及び第２処理室上に配設された流路に、並びにケ−
シングの正面及び背面において第１、第３処理室及び分
離槽室に、並びにケ−シングの両側面において、第２処
理室及び分離槽室に、それぞれ貫通する複数の添加剤注
入口が配設されている。
【００１０】ル−バ及び格子体は、第１、第３処理室の
上面及び底面に形成された案内溝に挟装されており、ま
た、それらの案内溝を摺動して第１、第３処理室からそ
れぞれ着脱できるように取り付けられている。
上面及び底面に形成された案内溝に挟装されており、ま
た、それらの案内溝を摺動して第１、第３処理室からそ
れぞれ着脱できるように取り付けられている。
【００１１】この発明による超高磁気流体処理装置のル
−バの羽板は、流れの方向にフレア状に絞られた処理流
体の導入口を形成する。
−バの羽板は、流れの方向にフレア状に絞られた処理流
体の導入口を形成する。
【００１２】この発明による超高磁気流体処理装置は、
格子体に形成された各格子の目の面積を、処理流体の特
性に対応して拡大し、又は縮小して形成される。
格子体に形成された各格子の目の面積を、処理流体の特
性に対応して拡大し、又は縮小して形成される。
【００１３】この発明による超高磁気流体処理装置は、
大容量の処理流体を効率よく処理するために、ル−バ
と、隣接する格子体との間に、処理流体が液体の場合は
スクリュ−が、また、気体の場合は軸流ファンが配設さ
れることを特徴としている。
大容量の処理流体を効率よく処理するために、ル−バ
と、隣接する格子体との間に、処理流体が液体の場合は
スクリュ−が、また、気体の場合は軸流ファンが配設さ
れることを特徴としている。
【００１４】
【発明の実施の形熊】以下、図面によって、この発明の
実施の形態を詳細に説明する。
実施の形態を詳細に説明する。
【００１５】図ｌは、この発明による超高磁気流体処理
装置の側面図、図２は、側面斜視図、図３は、正面図、
図４は、側面断面図、図５は、ル−バの羽板の形状を示
す正面図、図６は、ル−バの構成図、図７は、格子体の
構成図である。
装置の側面図、図２は、側面斜視図、図３は、正面図、
図４は、側面断面図、図５は、ル−バの羽板の形状を示
す正面図、図６は、ル−バの構成図、図７は、格子体の
構成図である。
【００１６】各図において、１はケ−シング、２は第１
処理室、３は第２処理室、４は第３処理室、５は分離槽
室、６は仕切り板、７は磁気ユニット、８は流体導入
口、９は流体排出口、１０はル−バ、１１はル−バの羽
板、１２は格子の目、１３は格子体、１４は案内溝、１
５はドレ−ン、１６は金網、１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、
１７ｄ、１７ｅ、１７ｆは流体の流路、、１８は第１処
理室の排出口、１９は第２処理室上面の流入口、２０は
第二処理室の排出口、２１は添加剤注入口、２２はパッ
キング、２３は取り外しできるケ−シングの一方の側
壁。
処理室、３は第２処理室、４は第３処理室、５は分離槽
室、６は仕切り板、７は磁気ユニット、８は流体導入
口、９は流体排出口、１０はル−バ、１１はル−バの羽
板、１２は格子の目、１３は格子体、１４は案内溝、１
５はドレ−ン、１６は金網、１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、
１７ｄ、１７ｅ、１７ｆは流体の流路、、１８は第１処
理室の排出口、１９は第２処理室上面の流入口、２０は
第二処理室の排出口、２１は添加剤注入口、２２はパッ
キング、２３は取り外しできるケ−シングの一方の側
壁。
【００１７】この発明による超高磁気流体処理装置に
は、ケ−シング１を仕切り板６によって仕切って第1処
理室２、第２処理室３、第３処理室４、分離槽室５及び
処理流体の流路１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄ、１７
ｅ、１７ｆが形成されるている。ケ−シング１の両側面
の外部において、第１処理室２、第３処理室４及び分離
槽室５を通過する磁力線を発生させる１対の磁気ユニッ
ト７がそれぞれ取り付けられている。この場合ケ−シン
グ１の底面を除く各面は、非磁性体のステンレス鋼、そ
の底面は磁性体の素材であることがこのましい。また、
永久磁石を密閉して磁気ユニット７を形成している容器
は、ケ−シング１に隣接した面の素材を非磁性体のステ
ンレス鋼製、その他の各面の素材を、磁性体の鋼製とす
ることがこのましい。
は、ケ−シング１を仕切り板６によって仕切って第1処
理室２、第２処理室３、第３処理室４、分離槽室５及び
処理流体の流路１７ａ、１７ｂ、１７ｃ、１７ｄ、１７
ｅ、１７ｆが形成されるている。ケ−シング１の両側面
の外部において、第１処理室２、第３処理室４及び分離
槽室５を通過する磁力線を発生させる１対の磁気ユニッ
ト７がそれぞれ取り付けられている。この場合ケ−シン
グ１の底面を除く各面は、非磁性体のステンレス鋼、そ
の底面は磁性体の素材であることがこのましい。また、
永久磁石を密閉して磁気ユニット７を形成している容器
は、ケ−シング１に隣接した面の素材を非磁性体のステ
ンレス鋼製、その他の各面の素材を、磁性体の鋼製とす
ることがこのましい。
【００１８】上述したように、この発明による超高磁気
流体処理装置においては、ケ−シング１の一方の側壁２
３が、ケ−シング１本体から着脱できるように取り付け
られている。ケ−シング１本体に側壁２３を取付ける場
合、ケ−シング１本体と側壁２３は、耐熱性のパッキン
グ２２を介して封着されるように形成されている。
流体処理装置においては、ケ−シング１の一方の側壁２
３が、ケ−シング１本体から着脱できるように取り付け
られている。ケ−シング１本体に側壁２３を取付ける場
合、ケ−シング１本体と側壁２３は、耐熱性のパッキン
グ２２を介して封着されるように形成されている。
【００１９】図１に示されているように、第１処理室２
には、ケ−シング１の正面に当接し、第１処理室２に連
通する導入口８が配設されている。また、第１処理室２
内にはル−バ１０と少なくとも２個の格子体１３とが処
理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で並設されて
いる。この場合導入口８は、ステンレス鋼製の非磁性体
により形成され、格子体１３の格子の目１２は、強磁性
体の純鉄製であることがこのましい。
には、ケ−シング１の正面に当接し、第１処理室２に連
通する導入口８が配設されている。また、第１処理室２
内にはル−バ１０と少なくとも２個の格子体１３とが処
理流体の流れに対しほぼ直角に、一定間隔で並設されて
いる。この場合導入口８は、ステンレス鋼製の非磁性体
により形成され、格子体１３の格子の目１２は、強磁性
体の純鉄製であることがこのましい。
【００２０】図７に図示されているとおり、格子体１３
は、純鉄製の鋼線を格子状に、例えば溶着して、形成さ
れた多数の格子の目１２から構成されている。格子体１
３は、案内溝１４に挟装することを容易にするため必要
がある場合は非磁性体の枠に支持させることがこのまし
い。
は、純鉄製の鋼線を格子状に、例えば溶着して、形成さ
れた多数の格子の目１２から構成されている。格子体１
３は、案内溝１４に挟装することを容易にするため必要
がある場合は非磁性体の枠に支持させることがこのまし
い。
【００２１】また、請求項３に記載のとおり、ル−バ１
０及び少なくとも２個の格子体１３は、第１及び第３処
理室２、４において、ル−バ１０及び各格子体１３を支
持するため配設された案内溝１４を摺動させて、第１及
び第３処理室２、４から容易に着脱することができるよ
うに配設されている。
０及び少なくとも２個の格子体１３は、第１及び第３処
理室２、４において、ル−バ１０及び各格子体１３を支
持するため配設された案内溝１４を摺動させて、第１及
び第３処理室２、４から容易に着脱することができるよ
うに配設されている。
【００２２】第１処理室２の下流方向の底部に形成され
た処理流体の排出口１８から、仕切り板６によって形成
された第２処理室３方向の流路１７ａ、１７ｂを流れる
処理流体が、第２処理室３の上面に配設された複数の流
入口１９から第２処理室３へ流入する。
た処理流体の排出口１８から、仕切り板６によって形成
された第２処理室３方向の流路１７ａ、１７ｂを流れる
処理流体が、第２処理室３の上面に配設された複数の流
入口１９から第２処理室３へ流入する。
【００２３】第二処理室３の上面は、上述のとおり処理
流体の流路１７ｂと隣接しており、複数の処理流体の流
入口１９が穿設されている。第二処理室３の底面を形成
する仕切り板６は、流体を分離槽室５方向へ排出する排
出口２０が形成されるように配設されており、流路１７
ｃに連通する。
流体の流路１７ｂと隣接しており、複数の処理流体の流
入口１９が穿設されている。第二処理室３の底面を形成
する仕切り板６は、流体を分離槽室５方向へ排出する排
出口２０が形成されるように配設されており、流路１７
ｃに連通する。
【００２４】請求項４に記載されたように、ケ−シング
１の上面において、第１、第３処理室２、４及び第２処
理室３上に配設された流路１７ｂに貫通する複数の添加
剤注入口２１が配設されている。同様にケ−シングの正
面及び背面並びにケ−シングの両側面において第１、第
３処理室２、４、及び分離槽室５に貫通する複数の添加
剤注入口２１が配設されている。これらの添加剤注入口
２１は、ステンレス鋼製であることがこのましい。な
お、添加剤注入口は、使用しないときは栓が冠着されて
おり、処理流体は装置内に封入されている。
１の上面において、第１、第３処理室２、４及び第２処
理室３上に配設された流路１７ｂに貫通する複数の添加
剤注入口２１が配設されている。同様にケ−シングの正
面及び背面並びにケ−シングの両側面において第１、第
３処理室２、４、及び分離槽室５に貫通する複数の添加
剤注入口２１が配設されている。これらの添加剤注入口
２１は、ステンレス鋼製であることがこのましい。な
お、添加剤注入口は、使用しないときは栓が冠着されて
おり、処理流体は装置内に封入されている。
【００２５】分離槽室５には、図４に示されているよう
に、分離槽室５の底面、すなわちケ−シング１の底面を
被装する金網１６が配設されている。金網１６は、それ
を支持するためケ−シングの正面と背面に当接して配設
された案内溝に挟設されていることがこのましい。さら
に、分離槽室５には、沈殿した凝集物を装置の外部に排
出するためにケ−シング１の底面にステンレス鋼製のド
レ−ン１５が穿設されている。
に、分離槽室５の底面、すなわちケ−シング１の底面を
被装する金網１６が配設されている。金網１６は、それ
を支持するためケ−シングの正面と背面に当接して配設
された案内溝に挟設されていることがこのましい。さら
に、分離槽室５には、沈殿した凝集物を装置の外部に排
出するためにケ−シング１の底面にステンレス鋼製のド
レ−ン１５が穿設されている。
【００２６】分離槽室５に連通する流路１７ｃ、１７ｄ
は、そのゆるやかな流れの過程において処理流体から分
離された凝集物が効率よく分離されるように、できるだ
け長い行程を形成することが好ましい。
は、そのゆるやかな流れの過程において処理流体から分
離された凝集物が効率よく分離されるように、できるだ
け長い行程を形成することが好ましい。
【００２７】図１に示されているように、第３処理室４
には、ケ−シング１の背面に当接し、第３処理室４に連
通する処理流体の排出口９が配設されている。また、第
３処理室４内において上流から下流に向かって、かつ、
処理流体の流れに対しほぼ直角に、ル−バ１０と少なく
とも２個の格子体１３とが一定間隔で並設されている。
には、ケ−シング１の背面に当接し、第３処理室４に連
通する処理流体の排出口９が配設されている。また、第
３処理室４内において上流から下流に向かって、かつ、
処理流体の流れに対しほぼ直角に、ル−バ１０と少なく
とも２個の格子体１３とが一定間隔で並設されている。
【００２８】
【実施例】処理流体は、導入口８から導入され、第１処
理室２内において、処理流体の流れに対しほぼ直角に配
設されたル−バ１０の羽板１１の隙間を通り、並設され
ている複数の格子体１３の方向へ流れる。磁性体の羽板
１１の形状は、図５に示されているように、流れ方向に
フレア状に狭められた開口部が形成されている。このよ
うに羽板１１は、下流側に狭められた、すなわち磁束通
路の断面が狭められた開口部を形成しており、その開口
部を通過する処理流体は、ル−バ１０の羽板１１の形成
する強磁界をほぼ直角に横切りながら、その流速は急に
減速され、処理室１に流入して一挙に拡散し加速され
る。処理流体は、拡散、加速される過程において均一に
整流されて、ル−バ１０の後部に並設されている複数の
格子体１３の形成する強磁場を早い流速でほぼ直角に横
切り効率よく磁気処理される。
理室２内において、処理流体の流れに対しほぼ直角に配
設されたル−バ１０の羽板１１の隙間を通り、並設され
ている複数の格子体１３の方向へ流れる。磁性体の羽板
１１の形状は、図５に示されているように、流れ方向に
フレア状に狭められた開口部が形成されている。このよ
うに羽板１１は、下流側に狭められた、すなわち磁束通
路の断面が狭められた開口部を形成しており、その開口
部を通過する処理流体は、ル−バ１０の羽板１１の形成
する強磁界をほぼ直角に横切りながら、その流速は急に
減速され、処理室１に流入して一挙に拡散し加速され
る。処理流体は、拡散、加速される過程において均一に
整流されて、ル−バ１０の後部に並設されている複数の
格子体１３の形成する強磁場を早い流速でほぼ直角に横
切り効率よく磁気処理される。
【００２９】また、この発明による磁気処理装置を利用
して河川、沼沢等の大量の処理流体を処理する他の実施
例においては、処理流量に見合って磁気処理装置の構造
規模を増大し、流体の抵抗を少なくするため流体導入口
８及び流体排出口９の口径の大きさを調節し、かつ、ル
−バ１０と、ル−バ１０に隣接する格子体１３との間に
スクリュ−（図示されていない。）を配設することによ
って、処理流体の流速を加速して流量に応じた効率的な
磁気処理を行うことができる。この場合スクリュ−は、
例えばヤマハ発動機系６００馬力、処理量16，000ｍ３/
H級のものを使用することがこのましい。さらに大容量
の気体の磁気処理を行なう場合においては、スクリュ−
にかえて軸流ファン（図示されていない。）、例えば荏
原製作所製、処理能力60，000ｍ３/H級のものを使用す
ることがこのましい。
して河川、沼沢等の大量の処理流体を処理する他の実施
例においては、処理流量に見合って磁気処理装置の構造
規模を増大し、流体の抵抗を少なくするため流体導入口
８及び流体排出口９の口径の大きさを調節し、かつ、ル
−バ１０と、ル−バ１０に隣接する格子体１３との間に
スクリュ−（図示されていない。）を配設することによ
って、処理流体の流速を加速して流量に応じた効率的な
磁気処理を行うことができる。この場合スクリュ−は、
例えばヤマハ発動機系６００馬力、処理量16，000ｍ３/
H級のものを使用することがこのましい。さらに大容量
の気体の磁気処理を行なう場合においては、スクリュ−
にかえて軸流ファン（図示されていない。）、例えば荏
原製作所製、処理能力60，000ｍ３/H級のものを使用す
ることがこのましい。
【００３０】図１及び図２に示されているとおり、ケ−
シング１の両側面の外部に、第１、第３処理室２、４及
び分離槽室５を通過する磁力線を発生させる磁気ユニッ
ト７がそれぞれ１対取り付けられている。上述したとお
り、第１処理室２内において磁性体からなるル−バ１０
は、その隙間を流れる処理流体を磁気処理し、さらに後
部に並設されている少なくとも２個の格子体１３を構成
する格子の目１２は、強磁性の純鉄を素材として形成さ
れているので、磁気ユニット７から発生する磁力線によ
って、格子１２の間に磁束が集中し超高磁界を形成させ
ることができる。処理流体は、流れ方向に対してほぼ直
角に形成された磁場を横切るときに効率よく磁気処理さ
れる。
シング１の両側面の外部に、第１、第３処理室２、４及
び分離槽室５を通過する磁力線を発生させる磁気ユニッ
ト７がそれぞれ１対取り付けられている。上述したとお
り、第１処理室２内において磁性体からなるル−バ１０
は、その隙間を流れる処理流体を磁気処理し、さらに後
部に並設されている少なくとも２個の格子体１３を構成
する格子の目１２は、強磁性の純鉄を素材として形成さ
れているので、磁気ユニット７から発生する磁力線によ
って、格子１２の間に磁束が集中し超高磁界を形成させ
ることができる。処理流体は、流れ方向に対してほぼ直
角に形成された磁場を横切るときに効率よく磁気処理さ
れる。
【００３１】流れ方向に対してほぼ直角に形成された磁
場を通過する処理流体の特性や処理量に応じ、格子体１
３を構成する各格子の目１２の面積を拡大し、又は縮小
することによって、各格子の目を通過する処理流体に作
用する磁界の強弱が調整される。
場を通過する処理流体の特性や処理量に応じ、格子体１
３を構成する各格子の目１２の面積を拡大し、又は縮小
することによって、各格子の目を通過する処理流体に作
用する磁界の強弱が調整される。
【００３２】上述の磁気ユニット７を構成する永久磁石
は、その磁気特性を異にするものを装着し使用すること
によって、処理流体の特性に応じて低磁界、中磁界、高
磁界又は超高磁界による可変的磁気処理が可能である。
は、その磁気特性を異にするものを装着し使用すること
によって、処理流体の特性に応じて低磁界、中磁界、高
磁界又は超高磁界による可変的磁気処理が可能である。
【００３３】さらに、上述したように磁気ユニット７
は、ケ−シング１の両側面の外部において、ケ−シング
１から着脱自由に装着されているので、処理流体の特性
に適応した磁気ユニット７と容易に交換できる。
は、ケ−シング１の両側面の外部において、ケ−シング
１から着脱自由に装着されているので、処理流体の特性
に適応した磁気ユニット７と容易に交換できる。
【００３４】第１処理室２において磁気処理された処理
流体は、第１処理室２の底面下流側に形成された流体排
出口１８を通り、流路１７a及び１７ｂを流れて第２処
理室３の上面に複数孔を穿設して形成された処理流体の
流入口１９を通り、容積の広い第２処理室３へ流入し拡
散しながら減速する。
流体は、第１処理室２の底面下流側に形成された流体排
出口１８を通り、流路１７a及び１７ｂを流れて第２処
理室３の上面に複数孔を穿設して形成された処理流体の
流入口１９を通り、容積の広い第２処理室３へ流入し拡
散しながら減速する。
【００３５】上述のように、第２処理室３に遅い流速で
流入した処理流体に、その特性に応じて、複数の添加剤
注入口２１から濾剤、凝集剤等の充填剤若しくは圧縮空
気、圧縮水、スティ−ムを注入し、又は紫外線等の電磁
波の干渉作用を通じ、処理流体の浄化、ろ過、殺菌等を
行うことによって多種の処理流体の不純物を効率よく凝
集し、沈殿させる。
流入した処理流体に、その特性に応じて、複数の添加剤
注入口２１から濾剤、凝集剤等の充填剤若しくは圧縮空
気、圧縮水、スティ−ムを注入し、又は紫外線等の電磁
波の干渉作用を通じ、処理流体の浄化、ろ過、殺菌等を
行うことによって多種の処理流体の不純物を効率よく凝
集し、沈殿させる。
【００３６】また、第１、第３処理室２、４又は分離槽
室５に貫通してケ−シング１に穿設された複数の添加剤
注入口２１も同様に、必要に応じ濾剤、凝集剤等を充填
するために使用する。なお添加剤注入口２１は、各室を
清掃するため、処理流体の凝集物やその他不純物を装置
の外部に排出する排出口として利用できる。
室５に貫通してケ−シング１に穿設された複数の添加剤
注入口２１も同様に、必要に応じ濾剤、凝集剤等を充填
するために使用する。なお添加剤注入口２１は、各室を
清掃するため、処理流体の凝集物やその他不純物を装置
の外部に排出する排出口として利用できる。
【００３７】第２処理室３において凝集物が効率よく分
離され、又は殺菌され浄化された処理流体は、流路１７
ｃ、１７ｄを通り分離槽室５に排出される。
離され、又は殺菌され浄化された処理流体は、流路１７
ｃ、１７ｄを通り分離槽室５に排出される。
【００３８】上述のとおり、分離槽室５の両側面、すな
わちケ−シング１の両側面の外部において、分離槽室５
を通過する磁力線を発生させる磁気ユニット７が取り付
けられている。分離槽室５に流入した処理流体と、すで
に分離された凝集物が、磁気ユニット７の形成する磁界
を比較的ゆるやかな流れで通過する過程において、処理
流体と凝集物は、磁気ユニット７により磁気処理され
る。凝集物は、磁気作用により分離槽室５の底面を被装
した金網１６に吸着され金網の隙間から分離槽室５の底
面に配設されたドレ−ン１５の部位近くに急速に沈殿堆
積する。これらの沈殿した凝集物は、ドレ−ン１５を通
じて定期的に装置外部に除去することができる。
わちケ−シング１の両側面の外部において、分離槽室５
を通過する磁力線を発生させる磁気ユニット７が取り付
けられている。分離槽室５に流入した処理流体と、すで
に分離された凝集物が、磁気ユニット７の形成する磁界
を比較的ゆるやかな流れで通過する過程において、処理
流体と凝集物は、磁気ユニット７により磁気処理され
る。凝集物は、磁気作用により分離槽室５の底面を被装
した金網１６に吸着され金網の隙間から分離槽室５の底
面に配設されたドレ−ン１５の部位近くに急速に沈殿堆
積する。これらの沈殿した凝集物は、ドレ−ン１５を通
じて定期的に装置外部に除去することができる。
【００３９】分離槽室５の流路１７ｄ、１７ｅに進入し
た処理流体は、、狭められた流路１７ｆを流れる過程で
減速され第３処理室４のル−バ１０方向に流れる。上流
からの流路においてすでに浄化された処理流体は、上述
したように、ル−バ１０の羽板１１を通過した後拡散
し、整流される。処理流体は、流速を増大して並設され
ている格子体１３の格子の目１２の隙間へ流入する。
た処理流体は、、狭められた流路１７ｆを流れる過程で
減速され第３処理室４のル−バ１０方向に流れる。上流
からの流路においてすでに浄化された処理流体は、上述
したように、ル−バ１０の羽板１１を通過した後拡散
し、整流される。処理流体は、流速を増大して並設され
ている格子体１３の格子の目１２の隙間へ流入する。
【００４０】ケ−シング１の両側面の外部に取り付けら
れた磁気ユニット７から発生した磁力線によって、第３
処理室４に取付けられた格子体を構成する各格子の目１
２間に強力な均一磁場が発生される。かくて、各格子の
目１２間を横切った処理流体は少なくとも２回にわたっ
て再び超高磁気処理され、残存不純物が分離し流体は効
率よく浄化される。
れた磁気ユニット７から発生した磁力線によって、第３
処理室４に取付けられた格子体を構成する各格子の目１
２間に強力な均一磁場が発生される。かくて、各格子の
目１２間を横切った処理流体は少なくとも２回にわたっ
て再び超高磁気処理され、残存不純物が分離し流体は効
率よく浄化される。
【００４１】さらに、処理流体が気体、液体である場合
の態様、処理流量等に対応し、第３処理室４に取付けら
れた格子体１３の各格子の目１２の面積を拡大し、又は
縮小することによって低磁場から超高磁場まで形成でき
るので、すでに十分な磁気処理が行われたのち第３処理
室４に流入した各種流体からも残存不純物、凝集物が清
浄、除去される。第３処理室４において再磁気処理され
た処理流体は、流体排出口９から排出される。
の態様、処理流量等に対応し、第３処理室４に取付けら
れた格子体１３の各格子の目１２の面積を拡大し、又は
縮小することによって低磁場から超高磁場まで形成でき
るので、すでに十分な磁気処理が行われたのち第３処理
室４に流入した各種流体からも残存不純物、凝集物が清
浄、除去される。第３処理室４において再磁気処理され
た処理流体は、流体排出口９から排出される。
【００４３】請求項７に記載のとおり、この発明による
磁気処理装置により河川、沼沢等の大量の処理流体を処
理する他の実施例においては、処理流量に見合って磁気
処理装置の構造を拡大し、又は流体の抵抗を少なくする
ために流体導入口８及び流体排出口９の口径の大きさが
調節される。さらに処理流体の流速を増大するように、
図示されていないが、第１処理室２又は第３処理室４に
取付けられたル−バ１０と、ル−バ１０に隣接する格子
体１３との間に、液体に対してはスクリュ−を、気体に
対しては軸流ファンを配設することがこのましい。この
場合スクリュ−又は軸流ファンは、それぞれ第１処理室
２又は第３処理室４の底面と上面に固定されて取付けら
れる。
磁気処理装置により河川、沼沢等の大量の処理流体を処
理する他の実施例においては、処理流量に見合って磁気
処理装置の構造を拡大し、又は流体の抵抗を少なくする
ために流体導入口８及び流体排出口９の口径の大きさが
調節される。さらに処理流体の流速を増大するように、
図示されていないが、第１処理室２又は第３処理室４に
取付けられたル−バ１０と、ル−バ１０に隣接する格子
体１３との間に、液体に対してはスクリュ−を、気体に
対しては軸流ファンを配設することがこのましい。この
場合スクリュ−又は軸流ファンは、それぞれ第１処理室
２又は第３処理室４の底面と上面に固定されて取付けら
れる。
【００４３】請求項２に記載のとおり、ケ−シング１の
一方の側壁は、ケ−シング１本体から取り外すことがで
き、かつル−バ１０及び各格子体１３は、案内溝に沿っ
て摺動させ第１処理室２又は第３処理室４から容易に着
脱できるように取付けられているから、必要に応じル−
バ１０又は格子体１３を清掃し、又は交換することがで
きる。
一方の側壁は、ケ−シング１本体から取り外すことがで
き、かつル−バ１０及び各格子体１３は、案内溝に沿っ
て摺動させ第１処理室２又は第３処理室４から容易に着
脱できるように取付けられているから、必要に応じル−
バ１０又は格子体１３を清掃し、又は交換することがで
きる。
【００４４】磁気処理装置の耐久性を向上させるため
に、処理流体の流路を形成する仕切り板６、ケ−シング
１の内壁部、その他処理流体と接触する装置の部分は、
公知の酸化チタンを含む光触媒による加工を施すことが
このましい。
に、処理流体の流路を形成する仕切り板６、ケ−シング
１の内壁部、その他処理流体と接触する装置の部分は、
公知の酸化チタンを含む光触媒による加工を施すことが
このましい。
【００４５】
【発明の効果】この発明の超高磁気流体処理装置の磁気
ユニットは、交換が容易に行えるように形成されている
から、処理流体の特性に対応して５００ガウスから１，
０００ガウスまでの低磁界から１０，０００ガウス以上
の超高磁界の範囲にわたる異なった永久磁石を使用する
ことによって、この流体処理装置を、各種流体の特性に
適切に対応した多目的超高磁気処理装置として提供する
ことができる。すなわち、気体から上水、工業用水、河
川、海水及び石油等にわたる多種類の処理流体から有害
なスケ−ル、スライム等の凝集物又は気体中に浮遊する
パティキュレ−トを効率よく分離、除去できる。
ユニットは、交換が容易に行えるように形成されている
から、処理流体の特性に対応して５００ガウスから１，
０００ガウスまでの低磁界から１０，０００ガウス以上
の超高磁界の範囲にわたる異なった永久磁石を使用する
ことによって、この流体処理装置を、各種流体の特性に
適切に対応した多目的超高磁気処理装置として提供する
ことができる。すなわち、気体から上水、工業用水、河
川、海水及び石油等にわたる多種類の処理流体から有害
なスケ−ル、スライム等の凝集物又は気体中に浮遊する
パティキュレ−トを効率よく分離、除去できる。
【００４６】流体磁気処理装置は、ケ−シングと、仕切
り板で仕切って第1処理室、第2処理室、分離槽室、及び
第３処理室処理流体の流路が形成されており、比較的コ
ンパクトな構成で、しかも高性能を備えた連続処理装置
として提供される。
り板で仕切って第1処理室、第2処理室、分離槽室、及び
第３処理室処理流体の流路が形成されており、比較的コ
ンパクトな構成で、しかも高性能を備えた連続処理装置
として提供される。
【００４７】ケ−シングの一方の側壁をケ−シング本体
から取り外した後、ル−バ、格子体等中間磁極体を形成
する磁界ユニットは、簡単にケ−シングから着脱できる
構造により、流体磁気処理装置を構成する各室の清掃、
中間磁極体の清掃が容易にできるので、長期間にわたる
磁気処理効果の維持、管理がしやすく、装置の耐久性を
向上させ経済的な効果が顕著である。
から取り外した後、ル−バ、格子体等中間磁極体を形成
する磁界ユニットは、簡単にケ−シングから着脱できる
構造により、流体磁気処理装置を構成する各室の清掃、
中間磁極体の清掃が容易にできるので、長期間にわたる
磁気処理効果の維持、管理がしやすく、装置の耐久性を
向上させ経済的な効果が顕著である。
【００４８】さらに分離槽室を設け凝集物の磁気処理を
行うため凝集物の沈殿、分離効果を向上させ、ドレ−ン
を通じ凝集物を常時装置外に排出できるので、このまし
い水準の流体磁気処理能率を長期間にわたって維持する
ことができる環境にやさしい装置を提供する。
行うため凝集物の沈殿、分離効果を向上させ、ドレ−ン
を通じ凝集物を常時装置外に排出できるので、このまし
い水準の流体磁気処理能率を長期間にわたって維持する
ことができる環境にやさしい装置を提供する。
【図１】流体磁気処理装置の側面図。
【図２】側面斜視図。
【図３】正面図。
【図４】側面断面図、
【図５】ル−バの羽板の構造図。
【図６】ル−バの正面図
【図７】格子体の正面図
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ // Ｃ１０Ｇ 32/02 Ｃ１０Ｇ 32/02 Ｂ (58)調査した分野(Int.Cl.7，ＤＢ名) C02F 1/48 B01D 21/00 B01D 51/00 C02F 5/00 C10G 32/00
Claims (7)
- 【請求項１】流体磁気処理装置を、ケ−シングを仕切り
板で仕切って形成される第1、第2、第３処理室、分離槽
室及び処理対象の流体（以下処理流体という。）の流路
並びに前記ケ−シングの両側面にそれぞれ取り付けら
れ、第１、第３処理室及び分離槽室を通過する磁力線を
発生させる永久磁石を収容した１対の容器（以下磁気ユ
ニットという。）からなる連続処理装置として構成し、 第1処理室には、（１）処理流体の導入口と、（２）処
理流体の流れに対しほぼ直角に並設された、ル−バ及び
格子状に形成した鋼線からなる複数の格子体と、（３）
処理流体が第２処理室へ導入される排出口とが配設され
ており、 第2処理室には、（１）その上面に多数孔を穿設して形
成された処理流体の流入口と、（２）その底面に形成さ
れた、分離槽室へ導入される処理流体の排出口とが配設
されており、 分離槽室には、（１）前記ケ−シングの底面を被装する
ように取り付けられた金網と、（２）前記ケ−シングの
底面中央部に形成された排出用ドレ−ンと第３処理室へ
導入される処理流体の流路とが配設されており、 第３処理室には、（１）処理流体の流れに対しほぼ直角
に並設された前記ル−バ及び前記複数の格子体と、
（２）処理流体の流路と排出口とが配設されていること
を特徴とする超高磁気流体処理装置。 - 【請求項２】ケ−シングの一方の側壁は、ケ−シング本
体から着脱できるように取り付けられていることを特徴
とする請求項１に記載の超高磁気流体処理装置。 - 【請求項３】ル−バ及び各格子体は、第２又は第３処理
室の上面及び底面に形成されたそれぞれの案内溝に挟装
されており、かつ、その案内溝を摺動させて第２又は第
３処理室から着脱できることを特徴とする請求項１に記
載の超高磁気流体処理装置。 - 【請求項４】ケ−シングの上面において第１、第３処理
室に、及び第２処理室の上面に配設された流路に、並び
にケ−シングの正面及び背面において第１、第３処理
室、分離槽室に、並びにケ−シングの両側面において第
２処理室及び分離槽室に、それぞれ貫通する複数の添加
剤注入口が配設されたことを特徴とする請求項１に記載
の超高磁気流体処理装置。 - 【請求項５】ル−バの羽板は、流れ方向にフレア状に絞
られた処理流体の流入口を形成することを特徴とする請
求項１又は請求項３に記載の超高磁気流体処理装置。 - 【請求項６】格子体に形成された各格子の目の面積は、
処理流体の特性に対応して拡大し、又は縮小して形成さ
れることを特徴とする請求項１又は請求項３に記載の超
高磁気流体処理装置。 - 【請求項７】ル−バと格子体との間にスクリュ−又は軸
流ファンを配設することを特徴とする請求項１に記載の
超高磁気流体処理装置。
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