JPH0225847A - 半水系現像可能な感光性セラミックコーテイング組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、改良されたセラミックコーティング組成物に
係り、特に多層厚膜回路の形成に有用な誘電材料として
役立ち得る焼成セラミックの前駆体として機能するコー
ティング組成物に関する。

本発明は、米国特許節４，６１３，５６０号に記載され
ている、実質的に非酸化性の雰囲気で焼成される改良さ
れた感光性セラミックコーティング組成物に関するもの
である。この特許は、（ａ）１０ｍ２／ｇ以下の表面積
／重量比を有し、７５重量％以上が１〜１０μｍの粒径
を有するセラミック固体の微細粒子、（ｂ）１０ｍ２７
ｇ以下の表面積／重量比を有し、９５重量％以上が１〜
１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子、（
ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であり、
前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されている、
（ｃ）前記有機媒体に含まれる、（１）　Ｃ１−Ｃ１０
フルキルアクリレート、Ｃｌ−Ｃ１０メタクリレート、
スチレン、α−メチルスチレン及び０〜２重量％のエチ
レン性不飽和カル、ボン酸、アミンマたはシラン含有化
合物のホモポリマーおよびコポリマー　（２）　Ｃｌ−
Ｃｌ０アルキルモノオレフインのホモポリマー及びコポ
リマー　（３）ＣＩ−４アルキレンオキサイド、及びそ
の混合物からなる群から選択され、前記全無機固形物の
５〜２５重量％を構成する有機ポリマーバインダー（ｄ
）前記有機媒体に含まれる光開始系、（ｅ）前記光開始
系を溶解する光硬化性モノマー、および（ｆ）揮発性非
水溶性有機溶媒の混合物からなるコーティング組成物が
開示されている。この特許に記載されているプロセスは
、（１）セラミック基体にコーティング組成物をラミネ
ートすること、（２）化学線をイメージ様に照射してフ
ィルムの照射された領域を硬化させること、（３）溶媒
により現像してフィルムの非照射領域を除去すること、
及び（４）実質的に非酸化性雰囲気で焼成して有機溶媒
を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体を焼結す
ることである。

更に他の背景技術として、多層厚膜回路が、単位面積あ
たりの回路の濃能を増加させるために、多年にわたり用
いられてきた。更に、最近の回路技術の進歩は、この用
途に対する誘電材料の新しい要求を生じさせた。これま
で、多層回路に用いられた誘電材料の多くは、通常の厚
膜誘電組成物であつた。

これらは、不活性有機媒体に分散された誘電体と無機バ
インダーの微粒子から構成される。そのような厚膜材料
は、他の手段でも施し得るが、通常、スクリーン印刷に
より施される。

この型の厚膜材料は非常に重要であり、そうされ続ける
であろう。しかし、スクリーン印刷によると、微細なラ
インやスペースの解像度を得ることが困難である。スク
リーンの質、スキージ−硬度、印刷速度、分散特性のよ
うなスクリーン印刷のすべでのパラメーターを注意深く
制御し、良好な収率が得られるように一定にモニターす
る事が必要である。もちろん、同様の問題が厚膜導電体
および抵抗材料を用いる場合にも存在する。

この問題の一つの解決法は、（１）感光媒体中の分散体
により、基体に誘電体の層を適用し２、この層に化学線
をイメージ様に照射し、（３）溶媒によりパターンを現
像し、非照射部分を除去［２、（４）パターンの残留照
射部分を焼成して、すべての残留有機物質を除去し、無
機材料を焼結する事である。

従来の組成物、特に米国特許第４．６１３，５６０号に
記載されている組成物の欠点は、化学線のイメージ様の
照射の後に、そのような材料を現像するために溶媒が必
要であるということである。

即ち、有機溶媒が、照射された領域を除去せずに、照射
されない領域を除去してしまう。

本発明は、以下の成分の混合物を包含する実質的に非酸
化性雰囲気で焼成され得る感光性セラミックコーティン
グ組成物である。

（ａ）１０ｍ２／ｇ以下の表面積／重量比を有し、８０
重置火以上が１〜１０μｍの粒径を有するセラミック固
体の微細粒子、 （ｂ）５５０ないし８２５℃のガラス転移点と１０ｍ２
／ｇ以下の表面積７重正比を有し、９０重重二以上が１
〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子、
（ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であり
、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されており
、；該有機媒体は、 （ｃ）有機ポリマーバインダーおよび、（ｄ）光開始系 を包含し、それは （ｅ）光硬化性モノマー、および （ｆ）有機媒体 に溶解されており、 その改良とするところは、０１〜Ｃ，ｌ）アルキルアク
リレートまたはＣ１−０１０メタクリレート、及びエチ
レン性不飽和カルボン酸のコポリマーまたはインターポ
リマーを含む有機ボリマーノ（インダーを含有し、前記
バインダー中の不飽和カルボン酸から誘導された部分は
該ポリマーの５重量％から１５重量％未満までを構成し
、前記バインダーは１００，０００を越えない分子量を
有し、前記組成物は、化学線にイメージ様露光されて０
゜６２重量％のホウ酸ナトリウムおよび８．７重量％の
ブチルセロソルブを含む水溶液により現像され得ること
にある。

本発明は、米国特許第４．６１３，５６０号に記載され
ている改良された感光性セラミックコーティングに係る
ものである。この特許の成分は、修正された形で本発明
において採用されているので、この特許は、本明細書に
おいて一部再現されている。また、異なる現像剤を用い
ていることを除いて、米国特許第４，６１３，５６０号
に記載されているのと同様のプロセスを採用することが
出来る。

セラミック固体 本発明は、事実上、どのような高融点無機固体材料にも
適用可能である。しかし、アルミナ、チタン酸塩、ジル
コン酸塩、及びスズ酸塩のような誘電体の分散体の製造
に特に適切である。また、そのような材料の前駆体、即
ち焼成により誘電体に変換され得るもの及びこれらの混
合物にも適用可能である。

本発明に使用され得る多くの誘電材料の中には、ＢａＴ
１０３、ＣａＴ１０１．５ｒＴＩ　０３、Ｐｂ　Ｔｌ　
０３　、Ｃａ　Ｚｒ　Ｏ８、Ｂａ　Ｚｒ　０３　、Ｃａ
Ｓｎ　０３　、Ｂａ　Ｓｎ　０３及びＡｌ２Ｏ３がある
。

セラミックの当業者に明らかなように、本発明の組成物
に用いられるセラミックの正確な化学的組成は、レオロ
ジーの意味において通常は厳密ではない。セラミックは
、分散体のレオロジー特性はそれによって実質的に変化
しないので、有機分散体において膨潤特性を持たないこ
とが好ましい。

フィルムを焼成し、有機媒体を除去し、無機バインダー
とセラミックとを焼結するとき、有機媒体を十分に完全
に焼失させるために、本発明の分散体は、０．２μｍ未
満の粒径のものを有意量含むべきではないことが見いだ
されている。しかし、通常、セラミックは２０μｍを越
えず、その８０５重量以上が１〜１０μｍのサイズでな
ければならない。通常、スクリーン印刷で施される厚膜
ペーストをつくるために分散体を用いるとき、最大粒子
径はスクリーンの厚さを越えてはならず、分散体がドラ
イ感光フィルムをつくるために用いられる場合には、最
大粒子径はフィルムの厚さを越えてはならない。セラミ
ックの８０重量％以上が１〜１０μｍのサイズであるこ
とが好ましい。

加えて、セラミック粒子の表面積／重量比は、無機バイ
ンダーの焼結特性に悪影響を与えるため、１０ｍ２／ｇ
を越えないことが好ましい。更に、表面ｍ／１ｉｊｌ比
は、５ｍ２／ｇを越えないことが好ましい。表面積／！
を量比は、１〜５ｍ’／ｇが最も好ましい。

ｄ５０、即ち小さい粒子の重量と大きい粒子の重量とが
等しい点に於ける好ましい粒子径は、２゜３０〜２．７
０ミクロンである。この範囲は、密封構造を維持しつつ
気泡のない表面を得る上で好ましい。この範囲は、ガラ
スフリットの無機バインダーにとって好ましい範囲、即
ち２．３０−２゜７０ミクロンと類似である。

微細なメツシュ、スクリーン（例えば４００メツシユ）
に粉砕された水アルミナスラリーを通し大きな粒子を除
去し、または磁気セパレーターを通す場合に好ましい材
料はアルミナである。磁気セパレーターはすべての磁気
導電物質を除去し、そうでなければ最終製品の導電性が
増加してしまう。

重要なことは、塊状とならないセラミック組成物を達成
することであ・る。所望の粒径分布を達成するためには
、通常、セラミックの粉砕後に、真空中での加熱または
空気流中での加熱により水または混合溶媒を除去する。

この方法は、セラミック粒子のある程度を塊状とし、焼
成後に、大きな粒子塊及び／または気泡を生じさせる。

この特に重大な欠点は、粉砕されたアルミナを凍結乾燥
させるという好ましい方法により除去される。凍結乾燥
の非常に緩やかな条件は、通常、粉体が加熱される時に
生ずる塊状化の可能性を除去する。類似の方法は、異な
るセラミックにも適用可能である。

無機バインダー 本発明に用いられるガラスフリットは、無機結晶粒子の
焼結を助けるものであり、セラミック体の融点より低い
融点を有する公知の組成物とすることが出来る。それに
も関わらず、デバイスの十分な気密性を得るために、無
機バインダーのガラス転移点（Ｔｇ　）は５５０〜８２
５℃であり、好ましくは５７５〜７５０℃である。５５
０℃以下で融解が生ずるならば、有機物質がカプセル化
され、有機物質が分解するにしたがって誘電体層中に気
泡を形成する傾向にある。一方、８２５℃以上のガラス
転移点は、銅のメタライゼーションに匹敵する焼結温度
たとえば９００℃が用いられるときに、気孔質誘電体を
形成する傾向にある。

最も好ましく用いられるガラスフリットは、ホウケイ酸
鉛フリット、ビスマス、カドミウム、バリウム、カルシ
ウムまたは他のアルカリ土類ホウケイ酸塩フリットであ
る。そのようなガラスフリットの製造は公知であり、例
えば酸化物の形のガラス成分とともに溶解し、水中に注
いでフリットを形成することからなる。もちろん、バッ
チ成分は、通常のフリット生成条件の下で、所望の酸化
物を与えるものであってもよい。例えば、酸化ホウ素は
ホウ酸から得られ、二酸化珪素はフリントから得られ、
酸化バリウムは炭酸バリウムから得られる。ガラスは、
好ましくは水とともに振動ミルで粉砕され、フリットの
粒子径を減少され、実質的に均一なサイズのフリットが
得られる。

その後、フリットは好ましくはセラミック固体と同様の
方法で加工される。固体組成物は凝集塊が存在しない状
態でなければならないから、このフリットは微細なスク
リーンを通され、大きな粒子を除去される。セラミック
固体のような無機ｌ（ベンズは１０ｍ２／ｇ以下の表面
積／重量比と、好ましくは粒径１〜１０μｍの粒子を少
なくとも９０重重量有しなければならない。

等重量部の大きい粒子および小さい粒子で定義される無
機バインダのｄ５０は、セラミック固体のそれ以下であ
ることが好ましい。セラミック固体の所与の大きさに対
して、気密性を達成するためにに必要とされる無機バイ
ンダ／セラミック固体の比は、無機バインダの大きさの
減少するに伴って減少する。所与のセラミック固体−無
機バインダ系に関して、もしセラミック固体に対する無
機バインダの比率が気密性を達成するために必要な比率
よりも顕著に高いと、誘電体層は焼成に際して膨れ生じ
る晶い。この比率が顕著に低いと焼成された誘電体層は
多孔質となり、従って非気密性となる。

上記粒子サイズおよび表面積の限界内において、無機バ
インダ粒子はむしろ０．５〜６μｍであるのが好ましい
。その理由は、高い表面積を有する小さい粒子は有機材
料を吸着し安く、従って清浄な分解を妨げるからである
。他方、粒子寸法が大きいと焼結特性が劣化し易い。セ
ラミック固体に対する無機バインダの比率は、０．６−
２であるのが好ましい。

光開始系 好ましい光開始系は、熱的に不安定で且つ１８５℃以下
での化学線露光により遊離ラジカルを生じるものである
。このような光開始系には、共役炭素環系における二つ
の環内炭素原子を有する置換もしくは非置換の多核キノ
ン、例えば９．１０−アントラキノン、２−メチルアン
トラキノン、２−エチルアントラキノン、２−ｔａｒｔ
−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン
、１２，４−ナフトキノン、９、ｌＯ−フェナントレン
キノン、ベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオン
、２，３−ナフタセン−５，１２−ジオン、２−メチル
−１，４−ナフトキノン、１．４−ジメチル−アントラ
キノン、２，３−ジメチルアントラキノン、２−フェニ
ルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン
、レチンキノン、７，８．９．ＩＯ−テトラヒドロナフ
タセン−５，１２−ジオン及び１．２．３．４−テトラ
ヒドロベンズ（ａ）アントラセン−７，１２−ジオンが
含まれる。米国特許第２．７８０．８Ｈ号には、幾つか
は８５℃以下の温度において活性であるかもしれないが
、他の有用な光開始剤が記載されている。その中にはベ
ンゾイン、ビバロインのようなり１ｃｍケトアルドニル
アルコール、例えばベンゾインメチルエーテル及びベン
ゾインエチルエーテルのようなアシロインエーテル、α
−メチルベンゾイン、α−アリルベンゾイン及びα−フ
ェニルベンゾインを含むα−炭化水素置換芳香族アシロ
インが含まれる。米国特許第２．８５０．４４５号、第
２，８７５，０４７号、第３．０９７，０９８号、第３
，０７４，９７４号、第３．０９７．０９７号および第
３．１４５．１０４号に記載された光還元可能な色素及
び還元剤は、米国特許第３．”４２７．１６１号、第３
，４７９，１８５号および第３．５４９，３６７号に記
載されたロイコ色素類およびこれらの混合物と共に用い
るフェナジン、オキサジン及びキノン級のミヒラーズケ
トン（旧ｃｈｅｏｒ’ｓ　ｋｅｔｏｎｅ）、ベンゾフェ
ノン、２．４．５−トリフェニルイミダゾイルニ量体と
同様に、開始剤として用いることができる。また光開始
剤及び光陰止剤と共に、米国特許ｍ　４．１１ｉ２．１
８２号に開示された感光剤も有用である。光開始系また
は光阻止系は、乾燥した光重合可能な層の全重量を基準
として０．０５〜ｌＯ重量％存在する。

光硬化可能なモノマー 本発明の光硬化可能な成分は、少なくとも一つの重合可
能なエチレン性基を有する、付加重合可能な少なくとも
一つのエチレン的不飽和化合物を包含する。このような
化合物は、遊離ラジカルで開始された連鎖成長付加重合
によって高重合体を形成することができる。このモノマ
ー化合物類は非ガス状である。即ち、これらは１００℃
より高い正常沸点を有し、有機重合体バインダに対する
可塑化作用を有する。

単独または他のモノマーと組み合わせて使用し得る好適
なモノマーには、次のものが含まれる。

即ち、ｔ−ブチルアクリレート及びｔ−ブチルメタクリ
レート、ｌ、５−ペンタンジオ−ルアクリレート及び１
．５−ベンタンジオールメタクリレート、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノエチルアクリレート及びＮ、Ｎ−ジメチルア
ミノエチルメタクリレート、エチレングリコールジアク
リレート及びエチレングリコールジメタクリレート、１
．４−ブタンジオールジアクリレート及び１．４−ブタ
ンジオールジメタクリレート、ジエチレングリコールジ
アクリレート及びジエチレングリコールジメタクリレー
ト、ヘキサメチレングリコールジアクリレート及びヘキ
サメチレングリコールジメタクリレート、１．３−プロ
パンジオールジアクリレート及び１．３−プロパンジオ
ールジメタクリレート、デカメチレングリコールジアク
リレート及びデカメチレングリコールジメタクリレート
、１．４−シクロヘキサンジオールジアクリレート及び
１．４−シクロヘキサンジオールジメタクリレート、２
．２−ジメチロールプロパンジアクリレート及び２．２
−ジメチロールプロパンジメタクリレート、グリセロー
ルジアクリレート及びグリセロールジメタクリレート、
トリプロピレングリコールジアクリレート及びトリプロ
ピレングリコールジメタクリレートζグリセロールトリ
アクリレート及びグリセロールトリメタクリレート、ト
リメチロールプロパントリアクリレート及びトリメチロ
ールプロパントリメタクリレート、ペンタエリトリトー
ルトリアクリレート及びペンタエリトリトールトリメタ
クリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパ
ントリアクリレート及びポリオキシエチル化トリメチロ
ールプロパントリメタクリレート並びに米国特許第３，
３８０，８３１号に開示された同様の化合物、２．２−
ジ（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジアクリレー
ト、ペンタエリトリトールテトラアクリレート及びペン
タエリトリトールテトラメタクリレート、２．２−ジー
（ｐ−ヒドロキシフェニル）−プロパンジメタクリレー
ト、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリオキ
シエチル−２，２−ジー（ｐ−ヒドロキシフェニル）プ
ロパンジメタクリレート、ビスフェノールＡのジー（３
−メタクリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル
、ビスフェノールＡのジー（２−メタクリロキシエチル
）エーテル、ビスフェノールＡのジー（３−アクリロキ
シ−２−ヒドロキシプロピル）エーテル、ビスフェノー
ルＡのジー（２−アクリロキシエチル）エーテル、１．
４−ブタンジオールのジー（３−メタクリロキシ−２−
ヒドロキシプロピル）エーテル、トリエチレングリコー
ルジメタクリレート、ポリオキシプロピルトリメチロー
ルプロパントリアクリレート、ブチレングリコールジア
クリレート及びブチレングリコールジメタクリレート、
Ｌ、２．４−ブタントリオールトリアクリレート及び１
．２．４−ブタントリオールトリメタクリレート、２．
２．４−）ジメチル−１，３−ベンタンジオールジアク
リレート及び２，２．４−トリメチル−１，３−ベンタ
ンジオールジメタクリレート、ｌ−フェニルエチレン−
１，２−ジメチタクリレート、ジアリルフマレート、ス
チレン、ｌ、４−ベンゼンジオールジメタクリレート、
１．４−ジイソプロペニルベンゼン、１．３．５−）ジ
イソプロペニルベンゼンである。分子量が少なくとも３
００のエチレン的不飽和化合物、例えば炭素数２〜１５
のアルキレングリコールレイ若しくはエーテル結合１〜
１０のポリアルキレンエーテルグリコールから調製され
たアルキレン又はポリアルキレングリコールジアクリレ
ート、並びに米国特許第２．９２７，０２２号に開示さ
れた、例えば重合可能な複数の付加されたエチレン的結
合を特に末端結合として有するものもまた有用である。

好ましいモノマー類は、ポリオキシエチル化トリメチロ
ールプロパントリアクリレート、エチル化ペンタエリト
リトールトリアクリレート、ジペンタエリトリトールモ
ノヒドロキシペンタアクリレート及び１．ＩＯ−デンカ
ンジオールジメチルアクリレートである。本発明のこの
不飽和成分は、乾燥した光重合可能な層の全重量を基準
として５〜４５ｆｆｉ　ｍ％の量で存在する。

官製媒質 有機媒質の主な目的は、組成物の微細に粉砕された固体
を、セラミックス又は他の基体に容易に塗布できる形に
分散するための媒体として作用することである。従って
、有機媒質は、第一に上記固体が十分な安定性をもって
その中に分散できるものでなければならない。第二に、
この有機媒質の流体学的性質は、分散体に良好な塗布性
を与えるものでなければならない。

分散体がフィルムに整形されるときは、その中にセラミ
ック固体および無機バインダが分散される有機媒質には
、揮発性有機溶媒中に溶解された重合体バインダ、モノ
マー及び開始剤が含有され、また任意に可塑剤、剥離剤
、分散剤、ストリッピング剤、汚れ防止剤および湿潤剤
のような溶解された他の材料を含んでいる。

有機媒質のこの溶媒成分（複数の溶媒の混合物であって
もよい）はポリマーの完全な溶液が得られるように、ま
た大気圧下で比較的低いレベルの熱を適用することによ
り溶媒が分散液から蒸発できるほど充分に高い揮発性で
あるように選択される。加えて、溶媒は有機媒質中に含
まれる他のどのような添加剤の沸点及び分解温度より充
分に低い温度で沸騰しなければならない。従って、大気
圧下で１５０℃未満の沸点を有する溶媒が最も頻繁に用
いられる。このような溶媒には、ベンゼン、アセトン、
キシレン、メタノール、エタノール、メチルエチルケト
ン、ｔ、ｉ、ｔ−トリクロロエタン、テトラクロロエチ
レン、アミルアセテート、２．２゜４−トリエチルペン
タンジオ−ルー１，３−モノイソブチレート、トルエン
、塩化メチレン、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピ
ルエーテルのようなエチレングリコールモノアルキルエ
ーテル及びエチレングリコールジアルキルエーテルが含
まれる。フィルムのキャスティングには、その揮発性の
ために塩化メチレンが特に好ましい。

また、有機媒質には重合体バインダのＴｇを低下させる
ように作用する１以上の可塑剤がしばしば含有される。

このような可塑剤は、セラミック基板に対する良好な積
層を確実化するのを補助し、また組成物の非露光領域の
現像性を高める。しかしながらこのような材料の使用は
、この材料からキャストされたフィルムが焼成されたと
きに除去しなければならない有機材料の量を減少させる
ために、最小限におさえなければならない。もちろん、
可塑剤の選択は主として変性されるべきポリマーによっ
て決定される。種々のバインダ系中に用いられてい′る
可塑剤のなかには、次のような可塑剤が含まれる。即ち
、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ブチルベ
ンジルフタレート、ジベンジルフタレート、アルキルホ
スフェート、ポリアルキレングリコール類、グリセロー
ル、ポリ（エチレンオキサイド）、ヒドロキシエチル化
アルキルフェノール、トリクレジルホスフェート、トリ
エチレングリコールジアセテート及びポリエステルであ
る。ジブチルフタレートは比較的低濃度で効果的に使用
され得るため、アクリルポリマー系中にしばしば用いら
れる。

本発明の感光性組成物は、基体フィルムに感光層が被覆
されるレジスト素子（ｒｅｓｔｓｔ　ｅｌｅｍｅｎｔ）
の感光層としてしばしば用いられる。

従来の光レジスト素子においては、これをロールの形で
保存するときに、感光層と基体の裏面との間のブロッキ
ングを防止するために、除去可能なカバーシートで感光
層を保護することが必要とされ、或いは少なくとも極め
ての望ましいとされている。また、撮像露光の間、基体
に積層される層と光器具との間のブロッキングを防止す
るために、この層を除去可能な支持フィルムを用いて保
護するのが望ましい。

光重合可能な組成物は、乾燥被覆での厚さが約ｏ、ｏｏ
ｉインチ（約０．００２５ｃｍ）　〜約０．０１インチ
（約０．０２５ｃｍ　）以上になる量で、支持フィルム
上に被覆される。好ましくは温度変化に対して高度の寸
法安定性を有する剥離可能な好適な支持体は、例えばポ
リアミド類、ポリオレフィン類、ポリエスチル類、ビニ
ルポリマー類およびセルロースエステル等の高分子量ポ
リマーかうなる広範な種類のフィルムの中から選択すれ
ばよい。また、この支持体は、０．０００５インチ（約
０．００１８ｃ＋＊）〜０．００８インチ（約０．０２
ｃｍ）またはそれ以上の厚さを有し得る。言うまでもな
く、剥離可能な支持体を除去する前に露光が行われるな
らば、支持体はその上に照射される化学線の殆どの部分
を透過させなければならない。露光の前に剥離可能な支
持体が除去されるならば、このような制限は全く適用さ
れない。特に好ましい支持体は、厚さ約０．００１イン
チ（約０．００２５ｅｓ）の透明なポリエチレンテレフ
タレートのフィルムである。

素子が除去可能５な保護カバーシートを全く含まず、且
つロールの形で保存されるものであるときは、剥離可能
な支持体の裏面には、光重合可能な層とのブロッキング
を防止するために、好ましくはワックス又はシリコーン
のような材料の薄い剥離層が塗布される。或いは、被覆
されるべき支持体表面を火炎処理又は電気放電処理する
ことによって、好ましくは光重合可能な被覆層に対する
付着性を増大させてもよい。

使用に際し、除去可能な好適な保護被覆シートは上記と
同様の高分子量ポリマーフィルムの群から選択されれば
よく、また同様に広範な厚さを有すればよい。厚さ０．
００１インチ（約０．００２５ｃ■）のポリエチレン被
覆シートが特に好ましい。上記の支持体および被覆シー
トは、使用前の貯蔵の間、光重合可能なレジスト僧に対
して良好な保護を与える。

有機成分に対する無機固体（誘電体およびガラス）の重
量比は２．０〜６．０の範囲内であるのが好ましく、２
．６〜４．５がより好ましい。充分な分散および流動学
的性質を得るためには、８．０以下の比率が必要である
。しかしながら、２．５よりも小さいと焼却しなければ
ならない有機成分の量が多くなり過ぎ、最終的な層の質
が損なわれる。有機成分に対する無機固体の比率は無機
固体の粒子サイズ、有機成分に依有し、また無機固体の
表面予備処理に依存する。粒子がオルガノシランカップ
リング剤で処理されるとき、有機成分に対する無機固体
の比率は増大し得る。焼成欠陥を最小限にするために、
低レベルの有機成分を用いるのが好ましい。有機成分に
対する無機成分の比率をできるだけ高くすることが特に
重要である。本発明において使用される好適なオルガノ
シランは、一般式Ｒ３ｉ　（ＯＲ）　３に対応するもの
である。但し、Ｒ−はメチル又はエチルであり、Ｒはア
ルキル、メタクリロキシプロピル、ポリアルキレンオキ
サイド又はフィルムの有機母体と相互作用する他の有機
官能基から選択される。

一方、分散液が厚いフィルムペーストとして塗布される
ときは、従来の厚膜有機媒質を適当な流動学的調節剤と
共に用いることができ、また揮発性の低い溶媒を用いる
ことができる。

本発明の組成物が厚膜組成物として処方されるときは、
該組成物はスクリーン印刷によって基体に塗布される。

従って、スクリーンを容易に通過できるように適当な粘
度をもたなければならない。

第一に重要なのは流動学的性質であるが、有機媒質はま
た、好ましくは固体及び基体の適当な濡れ性、良好な乾
燥速度、荒い取扱いに絶えるに十分な乾燥フィルム強度
および良好な焼成性を与えるように処方される。焼成さ
れた組成物の満足できる外観も重要である。

これら基準の全ての観点において、広範な不活性液体が
有機媒質として用いられ得る。殆どの厚膜組成物のため
の有機媒質は、典型的には溶媒中の樹脂溶液である。通
常、この溶媒は１３０〜３５０℃の範囲で沸騰する。

この目的のために特に適した樹脂は低級アルコールのポ
リメタクリレートと、エチレングリコールモノアクリレ
ートの酸含有部分とのモノブチルエーテルである。厚膜
塗布のために最も広く用いられる溶媒は、α−若しくは
β−テルピネオールのようなテルペン類、またはこれら
とケロセン、ジブチルフタレート、ブチルカルピトール
、ブチルカルピトールアセテート、ヘキサメチレングリ
コール及び高沸点アルコールやアルコールエステルのよ
うな他の溶媒との混合物である。夫々の塗布のために要
求される望ましい粘度および揮発性を得るために、これ
ら及び他の溶媒の種々の組み合わせが処方される。

この技術分野における従来の技術に従って、最終組成物
はチキソトロピックであってもよく、または組成物中に
導入される添加物に依存してニュートン特性を有してい
てもよい。

分散液中での無機固体に対する有機媒質の比率は、分散
液を塗布する方法および使用する有機媒質の種類に応じ
て顕著に変化し得る。良好な被覆を達成するために、分
散液は通常５０〜９０重量％の固体および５０〜ＩＯ重
量％の有機媒質を相補的に含有する。通常、このような
分散液は粘性の半流動物で、普通は「ペースト」と称さ
れる。

べ・−ストは三ロールミル（ｔｈｒｅｅ−ｒｏｌｌ　ｍ
１ｌｌ）で都合よく調製される。ペーストの粘度は、典
型的には、測定したとき以下の範囲内にある。使用され
る有機媒質（ベヒクル）の量およびタイプは、最終的な
望ましい処方濃度およびプリント厚さによって主に決定
される。

水系バインダー 半水系におＣする加工性にとつで重要であり、高い解像
性をもたらすバインダーポリマーは、Ｃ。

〜Ｃ１０アルキルアクリレートまたはｃｌ−ｃｔｏメタ
クリレートとエチレン性不飽和カルボン酸含有部位との
共重合体または相互重合体（ｉｎｔｅｒｐｏｌｙｍｅｒ
）でありて、該部位は前記ポリマー重量の５９６から１
５％未満を占めるものを含有する。好ましい範囲は８な
いし１２％である。好適な共重合性カルボン酸は、アク
リル酸、メタクリル酸およびクロトン酸のようなエチレ
ン性不飽和モノカルボン酸、並びにフマル酸、イタコン
酸、シトラコン酸、ビニルコハクおよびマレイン酸のよ
うなエチレン性不飽和ジカルボン酸、さらにはそれらの
半エステル、並びに適当であれば、それらの無水物およ
び混合物を含む。低酸素雰囲気中でよりきれいに燃焼す
るので、メタクリルポリマーがアクリルポリマーよりも
好ましい。

非酸系コモノマーについての上記制限の範囲内で、アル
キルアクリレートまたはメタクリレートは、ポリマーの
少なくとも７０重重量好ましくは少なくとも７５重量％
を構成していることが好ましい。

非カルボン酸部分のためにポリマーバインダー上述の組
成的要件並びに以下の物理的要件が満たされる限り、ポ
リマーのアルキルアクリレートまたはメタクリレート部
分の代替として約５０重量％までの他の非アクリル系お
よび非酸系コモノマー例えばスチレン、アクリロニトリ
ル、酢酸ビニル、アクリルアミド、アミノアルキルアク
リレートもしくはメタクリレート等を含有していてもよ
い。もっとも、そのようなモノマーを約２５重量％以下
用いることが好ましい。それらモノマーはきれいに焼却
することがより困難であるからである。

それ故、上記アクリル系およびメタクリル系ポリマーに
加えて、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン
、ポリイソブチレン、およびエチレン−プロピレン共重
合体のような種々のポリオレフィンを用いることもでき
る。また、この発明において、ポリエチレンオキシドの
ような低級アルキレンオキシドのポリマーであるいわゆ
るポリエーテルも有用である。

ポリマーは、通常の溶液重合法により当業者により製造
することができる。典型的に、酸系アクリレートポリマ
ーは、アルファ、ベーターエチレン性不飽和酸を、ｌｔ
’ｌｉまたはそれ以上の共重合性ビニルモノマーと、比
較的低沸点（７５〜１５０℃）有機溶媒中で組み合わせ
てモノマー混合物の１０ないし６０％溶液を作り、つい
で、重合触媒の添加および大気圧下での溶液の還流温度
における該混合物の加熱によりモノマーを重合させるこ
とにより調製される。重合反応が実質的に完結した後、
得られた酸ポリマー溶液を室温まで冷却し、ポリマーの
粘度、分子量、酸価等を測定するために試料を採取する
。

該組成物の酸系成分の存在は、本技術にとって重要であ
る。酸官能基は、ｏ、６２％のホウ酸ナトリウムおよび
８．７％のブチルセロソルブを含有する現像剤のような
水と水混和性有機溶媒との混合物中での現像性を生み出
す。ここでの現像性は、米国特許Ｌ４５８・、３１１に
記載されているような半水系加工性を参照され得る。

さらに、酸含有バインダーポリマーの分子量を１００．
０００を越えない、好ましくは５０，０００を越えない
、さらに好ましくは２０．０００を越えない値に保持す
ることが必要である。

バインダーポリマーのＴｇは、ペーストの要求が、スク
リーン印刷された後、ペーストを１００℃までの温度で
乾燥するということであるから、１００℃を越えること
が好ましい。この値よりも低いＴｇは、一般に、非常に
粘着性の組成物をもたらす。より低いＴｇ値は、スクリ
ーン印刷以外の方法で適用された材料に対して用いるこ
とができる。

分散剤 分散剤は、無機物質の有機ポリマーおよびモノマーによ
る効率のよい濡れを確保するために使用される。良好な
スクリーン印刷性およびレベリング性並びに焼却特性と
いう必要な特性を有する光活性ペーストの調製には、完
全に分散した無機物質が望ましい。分散剤は、ポリマー
バインダーをして無機固体を会合もしくは湿潤させて、
凝集物の無い系を与えるように作用する。好ましい分散
剤は、ジャーナル・オプ・コーティング・テクノロジー
　５８巻、ナンバー７３６．７１〜８２頁のＨ，Ｌ、ジ
ャクバラスカスによる「非水系コーティングシステム用
の分散剤としてのＡ−Ｂブロック共重合体の使用」に一
般的に記載されているＡ−８分散剤である。有用なＡ−
８分散剤は、米国特許３．６８４．７７１；　３．７８
ｇ、、９９Ｂ、　４，０７０．３８８および４．０３２
，８９８　、並びに英国特許１，３３９，９８０に記載
されている。これら文献の開示内容はここに含めておく
。Ａ−８分散剤の好ましいクラスは、構造（ここで、Ｑ
は、 ａ、アクリル酸またはメタクリル 酸と、炭素数１〜１８のアルカノールとのエステル、 ｂ、スチレンまたはアクリロニト リル、 Ｃ，エステル部位が２〜１８個の 炭素原子を含有するビニルエステル、またはｄ、ビニル
エーテル の重合もしくは共重合セグメント； Ｘは、連鎖移動剤の残基； Ｙは、イソシアネート基の除去後のジ、トリ、またはテ
トライソシアネート基の残基；Ａは、反応前のものとし
ては５〜１４ のＰｋαを有している塩基ラジカルまたはその塩の残基
；および ｍおよびｎは、１，２または３であっ て合計は４を越えない。ただし、ｎが２または３のとき
、Ａのみが上記定義の通りである）で示される、米国特
許４，０３２．８９Ｂに記載されたポリマー材料である
。このクラスの中で特に好ましいものは、後にＡ−Ｂ分
散剤Ｉとして表示され、構造（ここで、Ｑは、６０００
ないし８０００の重量平均分子量を有するメチルメタク
リレートポリマーセグメント）で示されるポリマー材料
である。

また、特に好ましいものは、構造 （ここで、Ｑは、約２０単位のブチルメタクリレートを
含有するアルキルメタクリレートポリマーセグメント、
ｎは２０、ｍは８ないし１２、およびＲは、連鎖停止剤
残基）で示されるポリマー材料である。

光重合性組成物中には、小量の他の成分例えば、顔料、
染料、熱重合開始剤、オルガノシランカップリング剤の
ような接着促進剤、可塑剤、ポリエチレンオキシドのよ
うな塗布助剤等が、光重合性組成物がその必須の性質を
保持する限り、存在していてもよい。オルガノシランは
、無機粒子の重量を基準と（７て３．０重量％以下の量
において特に有用である。処理された粒子は、有機物質
に対するより低い要求を有する。従って、コーティング
中の有機物質のレベルを減少させることができ、焼成時
の焼却がより容易となる。オルガノシランは、また、分
散性を改善し、同じ気密度においてより低い無機バイン
ダー／セラミック固体比を許容する。

加工 感光性セラミックコーティング組成物は、基板に適用さ
れたフィルムの形態または例えばシルクスクリーニング
によって適用されたペーストの形態にあるような層の形
成において常法により基板に適用される。しかる後、セ
ラミック組成物は、化学放射に画像露光されて、化学放
射線に曝された領域と、露光されていない領域を得る。

層の非露光領域は、現像として知られているプロセスで
除去される。水系現像のためには、層は露光されていな
い部分において除去されるが露光された部分は０，６２
重量％のホウ酸ナトリウムおよび８゜７重量％のブチル
セロソルブを含有する水溶液のような液体による現像中
に典型的な現像時間内で実質的に影響を受けない。一般
的に、現像は１〜４分の時間間隔で生じる。

常法であり得る他の加工工程は、特に実質的に非酸化性
雰囲気中での焼成操作がおこなわれる前におこなわれ、
有機成分を揮発させ、無機バインダーとセラミック固体
を焼結させる。

以下の実施例において、他の指示がない限り、全ての部
およびパーセントは重量により、度は百分度である。

無機物質 ガラス７１７８８２．３〜２．７ミクロンの粒子サイズ
範囲ｄ５０まで水中で粉砕され、磁気的に分離され、凍
結乾燥されたフェロガラス＃　３４８７　：組成（成分
モル％）；酸化鉛（５，６）、二酸化珪素（６８，１）
、酸化ホウ素（４，７）、アルミナ（６，５）、酸化カ
ルシウム（１１，１）、酸化ナトリウム（２，８）　、
および酸化カリウム（１，３）。

アルミナ二酸化アルミニウム（Ａ１２０３）；粒子サイ
ズｄ５０−２．４〜２．６ミクロン、表面積３．５〜４
．５ｍ２ｇ。

顔料：コバルトアルミネート（ｃＯＡ１２０４）。

ポリマーバインダー ＣＰ　　１９　　Ｙ：メチルメタクリレート９０％およ
びメタクリル酸１０％の共重合体、 ＭＷ−５０００、Ｔｇ−１２０℃、酸価１２０゜溶媒 ブチルカルピトールアセテート 七ツマ− ＴＥＯＴＡ　１０００−ポリオキシエチル化トリメチロ
ールプロパントリアクリレート；Ｍｗ−１１６２゜開始
剤 ＴＢＡＱ　：　２−ｔａｒｔ−ブチルアントラキノン。

安定剤 酸化防止剤：ビオノール：２，６−ジーｔｅｒｔ−ブチ
ル−４−メチルフェノール。

分散剤 Ａ−Ｂ分散剤工　（前記記載参照） 誘電性ペーストの調製 Ａ、有機ベヒクルの調製 有機成分、溶媒およびアクリル系ポリマーを混合し、撹
拌しながら１３５℃に熱し、加熱および撹拌を、全ての
アクリル系ポリマーが溶解するまで続ける。この溶液を
１００℃に冷却し、開始剤および安定剤を加える。この
混合物を、固形分が溶解するまで撹拌し、しかる後溶液
を４００メツシユフイルターに通じ、冷却させる。

Ｂ、誘電性無機物質−ガラスフリットの調製ガラスフリ
ットフェロ８４８７　８　Ｋ　ｇを、スウエコミル中８
リットルの水において、直径０６５インチ、長さ０．５
インチのアルミナシリンダーを用いて約１６時間粉砕し
、２，３〜２．７ミクロンのｄ５０粒子サイズ分布を達
成する。このフリット水混合物を４００メツシユスクリ
ーンに通じ、１１．５Ｖ（７）ＤＣ設定値、３０７　ン
ヘ７テＳ　、　Ｇ。

フランツモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通じる。

ついで、ガラスフリット混合物をヴイルチスコンソール
１２フリーズドライヤを用いて凍結乾燥する。この手法
は、全ての水を除去するために、通常、３日を要する。

セラミックーアルミナ アルコア社から受は取ったままのアルミナＡ１４の８　
Ｋ　ｇを、スウェコミル中８リットルの水において、直
径０．５インチ、長さ０．５インチのアルミナシリンダ
ーを用いて１４〜１５時間粉砕する。この粉砕時間およ
び構成は２．３〜２．７ミクロンのｄ５０粒子サイズ範
囲を与える。この水アルミナ混合物を４００メツシユス
クリーンに通じ、１１．５ＶのＤＣ設定値、３０アンペ
アでＳ、Ｇ、フランツモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通
じる。ついで、水アルミナ混合物をヴイルチスコンソー
ル１２フリーズドライヤを用いて凍結乾燥する。この手
法は、全ての水を除去するために約３日を要する。得ら
れたアルミナ粉末は、凝集物の無い自由流動性粉末であ
る。

アルミナ−コバルトアルミネート アルミナ８Ｋｇおよびコバルトアルミネート顔料１４４
グラムを８リツトルの水中で混合し、スウェコミル中で
直径０．５インチ、長さ０６５インチのアルミナシリン
ダーを用いて１時間粉砕する。これは、これら材料を完
全に混合するためにおこなう。この粉砕したアルミナ−
顔料混合物を４００メツシユスクリーンに通じ、ついで
１１゜５ｖのＤＣ設定値、３０アンペアでＳ、Ｇ、フラ
ンツモデル２４１Ｆ２磁気分離器に通じる。ついで、こ
の混合物をヴイルチスコンソール１２フリーズドライヤ
を用いて凍結乾燥する。この手法は、全ての水を除去す
るために約３日を要する。

Ｃ，ペーストの配合 黄色光の下で、有機ベヒクル、モノマーおよび分散剤を
混合容器中に混合することにより誘電性ペーストを調製
する。ついで、ガラスフリットおよびアルミナ／コバル
トアルミネート混合物を加える。この組成物を３０分間
混合する。この混合物を約１２時間熟成させ、ついでロ
ール圧４００ｐｓｉで三本ロールミルを用いてロール粉
砕する。

通常、組成物を完全に混合するためにはミルに５回通じ
ることで充分である。ついで、ペーストを４００メツシ
ユスクリーンに通じてスクリーニングする。

この時点でペースト粘度は、ブチルカルピトールアセテ
ートの添加により８０〜１２０Ｐ、Ｓ。

に調節する。この粘度範囲はスクリーン印刷に最適であ
る。

Ｄ、プロセス条件 コーティング組成物の調製プロセスおよび誘電性部材の
調製において、汚れ汚染を避けるように注意する。その
ような汚染は、焼成された誘電体に欠陥をもたらすから
である。プロセス操作は、クラス−１００のクリーンル
ームでおこなうのが最もよい。

ペーストは、３２５メツシユスクリーンを用いたスクリ
ーン印刷によりセラミック部材に適用される。部材は、
窒素雰囲気もしくは空気雰囲気オーブン中、７５〜１０
０℃で乾燥する。乾燥したコーティングは２０ミクロン
の厚さを有する。より厚い部材（４０ミクロン）を得る
ために、通常、第２の印刷および乾燥工程がおこなわれ
る。

部材は、光ターゲットとの接触により、バーキー−アス
コール真空プリンタまたはコラム化された（ｃｏｌｕｓ
ｎａｔｅｄ）　ＨＴ　Ｇ　　Ｕ　Ｖ露光源ノイずレカで
、１５秒の窒素パージおよび真空プリンタにおける１５
秒の引落しく　ｄｒａｖｄｏｖｎ）を用いて、露光され
る。最適の露光時間は、現像後に誘電体中に正確なサイ
ズのヴアイアもしくは光形成された孔を生じさせる最も
よい露光についての情報を与える露光シリーズから決定
される。

露光された部分は、０．６２％のホウ酸ナトリウムおよ
び８．７％のブチルセロソルブを含有する（残りは水）
デュポンＡＤＳ−２４プロセッサーを用いて現像される
。温度は、２０〜４５℃に渡り得る。溶媒は、４フイー
【・チャンバを介して３．４〜１５フイ一ト／分の現像
速度のために３０ｐｓｉでスプレーされる。

現像された部分は、７５℃の強制ドラフトオーブン中で
１５分間乾燥され、ピーク温度９００℃を有する炉中で
２時間サイクルで焼成される。焼成に当たり、この発明
の組成物は、無機バインダーのガラス転移点温度まで実
質的に非酸化性雰囲気に曝され、および最終工程の焼結
相中に本質的に完全な非酸化性雰囲気に曝される。

「実質的に非酸化性雰囲気」という語は、銅金属の有意
の酸化をおこなうには不十分の酸素を含有するが、なお
有機物質の酸化をおこなうには充分な酸素を含有する雰
囲気を意味する。実際、焼成工程の予備焼結相において
は、１００〜１１０００ｐｐの０２の窒素雰囲気が適切
であることが分かっている。３００〜８００ｐｐｍの０
２が好ましい。酸素の量は、誘電性層の厚さが増えるに
つれ増加される。焼却されて２０ミクロンになる誘電性
ペーストの２つの層については、３００〜４００ｐｐｍ
の０２で充分である。他方、焼成工程のガラス焼結工程
中に使用される本質的に完全な非酸化性雰囲気とは、わ
ずか残渣量の、例えば約１０ｐｐｍの０２しか含有しな
い窒素雰囲気のことである。焼成層における物理的欠陥
を最小限とするために、この発明の組成物を低い加熱速
度で焼成することが好ましい。

以下の実施例のそれぞれにおいて、以下のものを用いた
。

アルミナ／コバルトアルミネート　　　％アルミナ　　
　　　　　　　　９８．２コバルトアルミネート　　　
　　１．８ガラスフリツト ｉ０２ ａＣＯ３ ｎＯ ｇＯ Ｂ２０゜ ａＯ ｂ０ ％ ４０、２ １７、９ ９、９ ５．９ ５、１ 試験手順 １ｃ−の面積を有する銅デイスク、およびアルミナ基板
上に支持されたコンタクトタブからなるキャパシタを上
記誘電性フィルムから形成する。銅デイスクを覆って誘
電性フィルムの層があり、この誘電性層を覆って、下側
のタブに対して９０−１８０度回転しているコンタクト
タブを有する同一サイズの第２の銅デイスクがある。

キャパシタンスおよび誘電正接（ｄｌｓｓｉｐａｔｔｏ
ｎｆａｃｔｏｒ）を、ヒユーレット−バラカードＨＰ　
４２７４Ａマルチ−周波ＬＣＲメータを用いて１ｋＨｚ
で測定し、絶縁抵抗値は、スーパーメグオームメータモ
デルＲＭ１７０（ビドル・インストルメント。

ＡＶＯ，Ｌｔｄ、、Ｕ、に、）を用イテ測定する。

絶縁抵抗値測定は、キャパシタをｔｏ（ＩＶＤｃに荷電
した後におこなう。各数値は、少なくとも１０回の測定
の平均である。誘電性層の厚さは、グ・−ルビサーフア
ナライザー１５０フレコーダー２５０を用いて測定する
。誘電率は、式 ％式％） （ここで、Ｃは、キャパシタのキャパシタンス、Ａは、
誘電性層と接触する小電極の面 積、および ｔは、誘電性層の厚さ）を用いて計算 する。

全てのキャパシタは、焼成後電気的測定をおこなう前に
少なくとも１５時間熟成する。誘電正接（Ｄ　Ｆ）は、
この熟成時間内に０．５〜２％低下することは普通であ
る。しかしながら、キャパシタンスは、一般に、この期
間中には影響を受けない。

湿潤基準の誘電正接は、ディスクを濡らすがコンタクト
タブを濡らさないように上側銅デイスク上に一滴の水を
置くことによって測定する。３０秒間放置した後、ＤＦ
を通常の方法で測定する。

誘電体は、湿潤ＤＦが１％未満であるとき気密性（ｈｅ
ｒ膳ｅｔｌｃ）であるとみなされる。０．５％未満が好
ましい。

実施例　１ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７．６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー：　ＣＰ−１
９Ｙ　　　３６．　０溶媒ニブチルカルピトール アセテート　　５４．３ 開始剤：ＴＢＡＱ　　　　　５．４ 酸化防止剤：イオノール　０．３ モノマー：ＴＥＯＴＡ　　　　　　　　８．４分散剤：
Ａ−Ｂ分散剤！２．１ 結果 解像性：６〜８ミルヴアイア 光速度：　５０〜９０ｍｊ／ｃＪ 現像：水中０．６２％ホウ酸ナトリウム、８゜７％ブチ
ルセロソルブ（２−ブトキシェタノール）実施例　２ 成分　　　　　　　　　　　部 アルミナ／コバルトアルミネート　　２７，６ガラスフ
リツト　　　　　　　　　　２７．４ベヒクル　　　　
　　　　　　　　　　３１．０バインダー：　ＣＰ−１
９Ｙ　　　３５．　０溶媒ニブチルカルピトール アセテート　　５９．９ 開始剤：　　　　　　　　　４．８０ ベンゾフエノン　４．０ ミヒラーズケトン０．８０ 酸化防止剤：イオノール　　　　　０．３０モノマー：
ＴＥＯＴＡ　　　　　　　　１０．６分散剤：　Ａ−Ｂ
分散剤！　　　　　　　２．１結果 解像性：６〜８ミルヴアイア

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. （１）（ａ）１０ｍ＾２／ｇ以下の表面積／重量比を有
   し、８０重量％以上が１〜１０μｍの粒径を有するセラ
   ミック固体の微細粒子、 （ｂ）５５０ないし８２５℃のガラス転移点と１０ｍ＾
   ２／ｇ以下の表面積／重量比を有し、９０重量％以上が
   １〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子
   、（ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であ
   り、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されてい
   る、； （ｃ）前記有機媒体に含まれる有機ポリマーバインダー
   、 （ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、 （ｅ）前記光開始系を溶解する光硬化性モノマー、およ
   び （ｆ）有機媒体 の混合物からなり、実質的に非酸化性雰囲気で焼成され
   得る感光性セラミックコーティング組成物において、Ｃ
   ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキルアクリレートまたはＣ＿１〜
   Ｃ＿１＿０メタクリレート、及びエチレン性不飽和カル
   ボン酸のコポリマーまたはインターポリマーを含む有機
   ポリマーバインダーを含有し、前記バインダー中の不飽
   和カルボン酸から派生する部分はポリマーの５重量％か
   ら１５重量％未満までを構成し、前記バインダーは１０
   ０，０００を越えない分子量を有し、前記組成物は、化
   学線にイメージ様露光されて０．６２重量％のホウ酸ナ
   トリウムおよび８．７重量％のブチルセロソルブを含む
   水溶液により現像され得る感光性セラミックコーティン
   グ組成物。
2. （２）前記ポリマーバインダーは、メチルメタクリレー
   トのコポリマーである請求項１に記載の組成物。
3. （３）前記有機ポリマーバインダーは、不飽和カルボン
   酸から派生した部分を含み、それはバインダー重量の１
   ０重量％以下である請求項１に記載の組成物。
4. （４）前記有機ポリマーバインダーの分子量は、５０，
   ０００以下である請求項１に記載の組成物。
5. （５）前記分子量は２０，０００以下である請求項１に
   記載の組成物。
6. （６）前記有機媒体は、ｎ−ブチルカルビトールアセテ
   ートである請求項１に記載の組成物。
7. （７）前記有機媒体は分散剤を含有する請求項１に記載
   の組成物。
8. （８）（ａ）１０ｍ＾２／ｇ以下の表面積／重量比を有
   し、８０重量％以上が１〜１０μｍの粒径を有するセラ
   ミック固体の微細粒子、 （ｂ）５５０ないし８２５℃のガラス転移点と１０ｍ＾
   ２／ｇ以下の表面積／重量比を有し、９０重量％以上が
   １〜１０μｍの粒径を有する無機バインダーの微細粒子
   、（ａ）に対する（ｂ）の重量比が０．６ないし２であ
   り、前記（ａ）及び（ｂ）は、有機媒体に分散されてい
   る、； （ｃ）前記有機媒体に含まれる有機ポリマーバインダー
   、 （ｄ）前記有機媒体に含まれる光開始系、 （ｅ）前記光開始系を溶解する光硬化性モノマー、およ
   び （ｆ）有機媒体の混合物からなり、実質的に非酸化性雰
   囲気で焼成され得る感光性セラミックコーティング組成
   物であって、Ｃ＿１〜Ｃ＿１＿０アルキルアクリレート
   またはＣ＿１〜Ｃ＿１＿０メタクリレート、及びエチレ
   ン性不飽和カルボン酸の、コポリマーまたはインターポ
   リマーを含む有機ポリマーバインダーを含有し、前記バ
   インダー中の不飽和カルボン酸から派生する部分はポリ
   マーの５重量％から１５重量％未満までを構成し、前記
   バインダーは１００，０００を越えない分子量を有し、
   前記組成物は、化学線にイメージ様露光されて０．６２
   重量％のホウ酸ナトリウムおよび８．７重量％のブチル
   セロソルブを含む水溶液により現像され得る感光性セラ
   ミックコーティング組成物の製造方法において、前記成
   分（ａ）、（ｂ）、（ｃ）、（ｄ）、（ｅ）、（ｆ）の
   混合前に、成分（ａ）及び（ｂ）をその形成の際に凍結
   乾燥することを特徴とする感光性セラミックコーティン
   グ組成物の製造方法。
9. （９）前記成分（ａ）は、磁気セパレーターを通される
   請求項８に記載の方法。
10. （１０）前記有機媒体は分散剤を含有する請求項９に記
    載の方法。