JPH02255517A - シリカ微粒子の製造方法 - Google Patents
シリカ微粒子の製造方法Info
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- JPH02255517A JPH02255517A JP1076640A JP7664089A JPH02255517A JP H02255517 A JPH02255517 A JP H02255517A JP 1076640 A JP1076640 A JP 1076640A JP 7664089 A JP7664089 A JP 7664089A JP H02255517 A JPH02255517 A JP H02255517A
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C01—INORGANIC CHEMISTRY
- C01B—NON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
- C01B33/00—Silicon; Compounds thereof
- C01B33/113—Silicon oxides; Hydrates thereof
- C01B33/12—Silica; Hydrates thereof, e.g. lepidoic silicic acid
- C01B33/16—Preparation of silica xerogels
- C01B33/163—Preparation of silica xerogels by hydrolysis of organosilicon compounds, e.g. ethyl orthosilicate
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
- Silicon Polymers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発明は、歯科材料用フィラー、半導体封止材樹脂用フ
ィラー、化粧品用基材、IC基板焼成用敷粉等に使用す
るシリカ微粒子の製造方法に関する。
ィラー、化粧品用基材、IC基板焼成用敷粉等に使用す
るシリカ微粒子の製造方法に関する。
(従来の技術)
従来シリカ微粒子は、天然石英及び溶融シリカのバルク
体を機械的に粉砕して得られる方法、また四塩化ケイ素
(SiCII4)の火炎加水分解による方法(例えば、
アエロジル; Aerosil I8)Degussa
社、Cab−o−8110Cabot社)によって製・
遺されている。しかし、前者の方法では、シリカの精製
が困難であること、特に、天然石英を半導体封止樹脂用
フィラーとして使用した場合には、石英から出るα線に
よるソフトエラーの問題があった。
体を機械的に粉砕して得られる方法、また四塩化ケイ素
(SiCII4)の火炎加水分解による方法(例えば、
アエロジル; Aerosil I8)Degussa
社、Cab−o−8110Cabot社)によって製・
遺されている。しかし、前者の方法では、シリカの精製
が困難であること、特に、天然石英を半導体封止樹脂用
フィラーとして使用した場合には、石英から出るα線に
よるソフトエラーの問題があった。
またバルクシリカを微粒子化するためには、ボールミル
や粉砕機等、粉砕にかかるエネルギーが必要なことがあ
げられる。これに対して後者方法で得られるシリカは、
十数nmから数+nmのオーダーの粒径範囲の微粒子し
か製造されておらず、この粒径ではフィラーとして使用
したときに、粘性が大きいことがあげられる。
や粉砕機等、粉砕にかかるエネルギーが必要なことがあ
げられる。これに対して後者方法で得られるシリカは、
十数nmから数+nmのオーダーの粒径範囲の微粒子し
か製造されておらず、この粒径ではフィラーとして使用
したときに、粘性が大きいことがあげられる。
ところで、最近上記の技術と異なるシリカ微粒子の合成
法として、シリコンアルコキシドの加水分解反応を利用
するゾル−ゲル法によるシリカ微粒子の製造方法が注目
されている。すなわち、ゾル−ゲル法においては、出発
原料となるシリコンアルコキシドの高純度品が手に入り
やすく、また、液相を経由する合成方法のため、反応容
器や乾燥器といった比較的簡単な装置の使用で済むこと
から、低コストの合成方法として注目されてきている。
法として、シリコンアルコキシドの加水分解反応を利用
するゾル−ゲル法によるシリカ微粒子の製造方法が注目
されている。すなわち、ゾル−ゲル法においては、出発
原料となるシリコンアルコキシドの高純度品が手に入り
やすく、また、液相を経由する合成方法のため、反応容
器や乾燥器といった比較的簡単な装置の使用で済むこと
から、低コストの合成方法として注目されてきている。
シリコンアルコキシドを加水分解して酸化物を合成する
場合には、最終的な乾燥体の形状は、溶液中のpHや水
の濃度によって大きく変化することが分かっており、ゾ
ル中に成長する分子種の構造の違いによって繊維状、膜
状、バルク状あるいは微粒子状のゲルを生成させること
ができる。
場合には、最終的な乾燥体の形状は、溶液中のpHや水
の濃度によって大きく変化することが分かっており、ゾ
ル中に成長する分子種の構造の違いによって繊維状、膜
状、バルク状あるいは微粒子状のゲルを生成させること
ができる。
普通の条件下すなわち、酸やアルカリ等の触媒量がアル
コキシドに比べて十分に少ないときは、加水分解生成物
は寒天状の均一なゲル体となり、その乾燥体も硬いゲル
となる。これに対して塩基の触媒量が極端に多く、かつ
アルコキシドの濃度が非常に薄い場合は、単分散の球状
シリカ微粒子が生成することが知られている( W、5
toberら、Journal of’ Co11oi
d and Interf’ace 5cience
2B巻62=89(196B)) 。
コキシドに比べて十分に少ないときは、加水分解生成物
は寒天状の均一なゲル体となり、その乾燥体も硬いゲル
となる。これに対して塩基の触媒量が極端に多く、かつ
アルコキシドの濃度が非常に薄い場合は、単分散の球状
シリカ微粒子が生成することが知られている( W、5
toberら、Journal of’ Co11oi
d and Interf’ace 5cience
2B巻62=89(196B)) 。
(発明が解決しようとする課題)
しかし、アルコキシドから微粒子を製造するプロセスは
、上記の9tBberらによる単分散シリカ微粒子の製
造方法が知られているのみであり、またこの方法は粒径
分布を狭くするためにアルコキシド濃度を低くする必要
があり、このため溶媒としてのエタノールを大量に必要
とし、シリカ単位重量あたりの原料費も高くなる。
、上記の9tBberらによる単分散シリカ微粒子の製
造方法が知られているのみであり、またこの方法は粒径
分布を狭くするためにアルコキシド濃度を低くする必要
があり、このため溶媒としてのエタノールを大量に必要
とし、シリカ単位重量あたりの原料費も高くなる。
そこで、本発明者らは、ゾル−ゲル法による新規なシリ
カ微粒子の製造方法を鋭意検討したところ、シリコンア
ルコキシドをある特定条件下で加水分解してゲル化させ
たのち乾燥して得られるシリカゲルのなかに、非常にか
さ密度の小さい微粒子の凝集体があること、さらにこの
微粒子の凝集体は、非常に弱い力(例えば容器を振動す
る程度の外力)で、数十μs以下の微粒子に粉砕できる
ことを見いだし、本発明を完成した。
カ微粒子の製造方法を鋭意検討したところ、シリコンア
ルコキシドをある特定条件下で加水分解してゲル化させ
たのち乾燥して得られるシリカゲルのなかに、非常にか
さ密度の小さい微粒子の凝集体があること、さらにこの
微粒子の凝集体は、非常に弱い力(例えば容器を振動す
る程度の外力)で、数十μs以下の微粒子に粉砕できる
ことを見いだし、本発明を完成した。
(課題を解決するための手段)
上記目的を達成するために、本発明は、テトラエトキシ
シラン及び触媒を含む溶液の加水分解反応によって生成
するゲル体を乾燥し、このゲル体を機械的に粉砕してシ
リカ微粒子を得る方法であって、前記触媒として、25
℃における塩基解離定数Kbが10−3以上のアルキル
アミンを用い、その添加量をテトラエトキシシランに対
してモル比で0.01倍から3倍、前記テトラエトキシ
シランの加水分解のために添加する水の量を、テトラエ
トキシシランに対してモル比で等倍から30倍の範囲と
することを特徴とする。
シラン及び触媒を含む溶液の加水分解反応によって生成
するゲル体を乾燥し、このゲル体を機械的に粉砕してシ
リカ微粒子を得る方法であって、前記触媒として、25
℃における塩基解離定数Kbが10−3以上のアルキル
アミンを用い、その添加量をテトラエトキシシランに対
してモル比で0.01倍から3倍、前記テトラエトキシ
シランの加水分解のために添加する水の量を、テトラエ
トキシシランに対してモル比で等倍から30倍の範囲と
することを特徴とする。
本発明に使用する触媒としてのアルキルアミンは、ジエ
チルアミン、ジー1so−プロピルアミン。
チルアミン、ジー1so−プロピルアミン。
ジ−n−ブチルアミンなどが有効であるが、特に、ジー
1so−プロピルアミン及びジエチルアミンが好ましい
。
1so−プロピルアミン及びジエチルアミンが好ましい
。
これらのアルキルアミンを使用すると、25℃における
塩解離定数Kbが10−3以上なので、これ以下の解離
定数のものを用いたときよりも、乾燥ゲル体は微粒子間
の結合力が小さく、指で揉むんたのみでミクロンオーダ
ー迄粉砕できる状態であり、粉砕に要するエネルギーは
小さいものとなる。
塩解離定数Kbが10−3以上なので、これ以下の解離
定数のものを用いたときよりも、乾燥ゲル体は微粒子間
の結合力が小さく、指で揉むんたのみでミクロンオーダ
ー迄粉砕できる状態であり、粉砕に要するエネルギーは
小さいものとなる。
従って、乾燥体の粉砕方法には、例えばフルイ振盪機を
利用する方法の他に、ミキサー程度の装置で粉砕するこ
とも可能である。また従来の粉砕機やボールミル等の粉
砕機を用いることも当然可能であり、その使用を妨げな
い。この様な場合は運転時間が非常に短くて済むことが
期待される。
利用する方法の他に、ミキサー程度の装置で粉砕するこ
とも可能である。また従来の粉砕機やボールミル等の粉
砕機を用いることも当然可能であり、その使用を妨げな
い。この様な場合は運転時間が非常に短くて済むことが
期待される。
(作用・効果)
本発明のシリカ微粒子の製造方法は、触媒及び溶液の組
成を特定の範囲として、シリカ微粒子を生成させた後、
乾燥ゲル体を得ており、この乾燥ゲル体が入った容器を
振動させると容易に発煙し、指の間に挟んで、揉むと指
頭に感じない程度の細かい粒子迄簡単に粉砕できる状態
になる。
成を特定の範囲として、シリカ微粒子を生成させた後、
乾燥ゲル体を得ており、この乾燥ゲル体が入った容器を
振動させると容易に発煙し、指の間に挟んで、揉むと指
頭に感じない程度の細かい粒子迄簡単に粉砕できる状態
になる。
従って、例えば、ふるい振盪機程度の振動力で数十即程
度迄粉砕でき、この場合は分級も同時に行なえるので製
造工程の短縮化かはがられる。
度迄粉砕でき、この場合は分級も同時に行なえるので製
造工程の短縮化かはがられる。
(実 施 例)
以下本発明を実施例により詳細に説明する。
実施例1
テトラエトキシシラン559m1(2,5モル)に対し
て、0.5倍のモル比のジイソプロピルアミン(塩基解
離定数Kb−1,15X10’−’)180m1.4倍
のモル比のエタノール583.5mj、4倍のモル比の
蒸留水180ajを、2j?の三角フラスコ中で30分
間攪拌して混合し、内面をテフロンコーティングしたス
テンレス容器に入れ、アルミ箔で密閉して50℃のオー
ブンに入れゲル化させた。ゲル化したのち温度を60℃
まで上げ、その温度で24時間保持して反応を完結させ
た。
て、0.5倍のモル比のジイソプロピルアミン(塩基解
離定数Kb−1,15X10’−’)180m1.4倍
のモル比のエタノール583.5mj、4倍のモル比の
蒸留水180ajを、2j?の三角フラスコ中で30分
間攪拌して混合し、内面をテフロンコーティングしたス
テンレス容器に入れ、アルミ箔で密閉して50℃のオー
ブンに入れゲル化させた。ゲル化したのち温度を60℃
まで上げ、その温度で24時間保持して反応を完結させ
た。
アルミ箔に直径51111の穴を15個開け、次いでオ
ーブンの温度を120℃まで上げてその温度で24時間
保持して乾燥を行なった。
ーブンの温度を120℃まで上げてその温度で24時間
保持して乾燥を行なった。
得られたゲルは、はとんど収縮せずに、乳白色でかさ密
度の非常に小さい乾燥体が生成していた。
度の非常に小さい乾燥体が生成していた。
この乾燥体が入った容器を振動させると容易に発煙状と
なることから、乾燥体はかなり細かい粒子からなってい
ることがわかった。
なることから、乾燥体はかなり細かい粒子からなってい
ることがわかった。
これらの微粒子は、指の間にはさんで揉むと、指頭に感
じない程度の細かい粒子まで簡単に粉砕できることがわ
かり、遠心沈降式の粒度分布計によって粒度を測定した
結果、数μsから致十岬の粒径範囲にピークをもち、ま
た最も小さいもので0゜1−以下の粒子も若干含まれて
いた。また、走査型電子顕微鏡による観察から、これら
の粉砕粒子は0.01.cm前後の一次粒子からなり、
機械的なエネルギーによって一次粒子が多数集まった2
次粒子状態をとっていることがわかり、これらの超微粒
子間の結合が弱いために小さな力で粉砕が可能になった
と考えられる。
じない程度の細かい粒子まで簡単に粉砕できることがわ
かり、遠心沈降式の粒度分布計によって粒度を測定した
結果、数μsから致十岬の粒径範囲にピークをもち、ま
た最も小さいもので0゜1−以下の粒子も若干含まれて
いた。また、走査型電子顕微鏡による観察から、これら
の粉砕粒子は0.01.cm前後の一次粒子からなり、
機械的なエネルギーによって一次粒子が多数集まった2
次粒子状態をとっていることがわかり、これらの超微粒
子間の結合が弱いために小さな力で粉砕が可能になった
と考えられる。
得られた乾燥体を直径200mm、深さ45mmのふる
い(200メッシュ二通過径75μs)に入れ、中白機
工(株)製に一1型ロータツブ型ふるい振盪機にセット
し、ハンマー打数156回/分、振盪数290 r、p
、mで1時間行なった。得られた微粒子は75p以下の
微粒子が、87.1%であった。
い(200メッシュ二通過径75μs)に入れ、中白機
工(株)製に一1型ロータツブ型ふるい振盪機にセット
し、ハンマー打数156回/分、振盪数290 r、p
、mで1時間行なった。得られた微粒子は75p以下の
微粒子が、87.1%であった。
実施例2
上記実施例1に対して加水分解に使用する水の量が少な
い溶液組成である、テトラエトキシシラン559mj(
2,5モル)、ジイソプロピルアミン180m1(1,
275モル)、エタノール583mj(10モル)、蒸
留水90mJ(5モル)からなる溶液から実施例1と同
様の手順でゲルを調製し、乾燥した後にふるい振盪機に
かけた。200メツシユ(通過径75贋)のふるいを通
過した微粒子は58.3%であった。
い溶液組成である、テトラエトキシシラン559mj(
2,5モル)、ジイソプロピルアミン180m1(1,
275モル)、エタノール583mj(10モル)、蒸
留水90mJ(5モル)からなる溶液から実施例1と同
様の手順でゲルを調製し、乾燥した後にふるい振盪機に
かけた。200メツシユ(通過径75贋)のふるいを通
過した微粒子は58.3%であった。
上記の粒子を330メツシユ(通過径:45μs)のふ
るいにかけて通過した粒子を液体に分散させた。この場
合、水に溶は込まず分散しなかったが、エタノールには
容易に分散した。しかし、これを大気中で700℃まで
焼成した粒子は、水に容易に分散した。また焼成前後の
粒径分布の変化はほとんどなく、焼成後も粉砕直後と同
様の粒度分布を示し、焼成による粉砕粒子同士の結合は
ほとんどみられなかった。
るいにかけて通過した粒子を液体に分散させた。この場
合、水に溶は込まず分散しなかったが、エタノールには
容易に分散した。しかし、これを大気中で700℃まで
焼成した粒子は、水に容易に分散した。また焼成前後の
粒径分布の変化はほとんどなく、焼成後も粉砕直後と同
様の粒度分布を示し、焼成による粉砕粒子同士の結合は
ほとんどみられなかった。
実施例3
テトラエトキシシラン559mj(2,5モル)、ジエ
チルアミン(塩基解離定数Kb−1,26X10−’)
130mj (1,26モル)、エタノール583mJ
(10モル)、蒸留水90m1(5モル)からなる溶液
から実施例1と同様の手順でゲルを調製し、乾燥した後
にふるい振盪機にかけた。200メツシユを通過した粒
子は74.5%であった。
チルアミン(塩基解離定数Kb−1,26X10−’)
130mj (1,26モル)、エタノール583mJ
(10モル)、蒸留水90m1(5モル)からなる溶液
から実施例1と同様の手順でゲルを調製し、乾燥した後
にふるい振盪機にかけた。200メツシユを通過した粒
子は74.5%であった。
比較例
実施例1に対して、塩基解離定数Kbが1×10−3よ
り小さいn−アミルアミンを用い、テトラエトキシシラ
ン559mJ(2,5モル)、エタノール583m1(
10モル)、n−アミルアミン(塩基解離定数Kb=4
.6xlO−’)132ml(1,14モル)、蒸留水
180mJ(10モル)からなる溶液から、実施例1と
同様の手順でゲルを調製し、乾燥した。乾燥ゲル体はや
や半透明であった。これをふるい振盪機にかけたが、細
かく粉砕されず、200メツシユのふるいを通過した粒
子はほとんどなかった。
り小さいn−アミルアミンを用い、テトラエトキシシラ
ン559mJ(2,5モル)、エタノール583m1(
10モル)、n−アミルアミン(塩基解離定数Kb=4
.6xlO−’)132ml(1,14モル)、蒸留水
180mJ(10モル)からなる溶液から、実施例1と
同様の手順でゲルを調製し、乾燥した。乾燥ゲル体はや
や半透明であった。これをふるい振盪機にかけたが、細
かく粉砕されず、200メツシユのふるいを通過した粒
子はほとんどなかった。
なお、上記実施例1において、テトラエトキシシランに
対する水のモル比を2倍付近とすると乾燥後も微粒子表
面に未反応のエトキシ基(C2H2O−)が残留するた
めに微粒子表面が疎水性となり水には分散しないが、お
よそ700℃まで焼成すると表面のエトキシ基が脱離し
てシロキサン結合もしくは、OH基が生成するので親水
性となり、水によく分散する。これらの粒子の加熱前後
の粒径分布は変化がなく、焼成しても粉砕粒子同士が結
合することはほとんどないことから、本発明の微粒子は
加水分解に使用する水の量及び焼成によって媒質に対す
る分散性を変化させることもできる。
対する水のモル比を2倍付近とすると乾燥後も微粒子表
面に未反応のエトキシ基(C2H2O−)が残留するた
めに微粒子表面が疎水性となり水には分散しないが、お
よそ700℃まで焼成すると表面のエトキシ基が脱離し
てシロキサン結合もしくは、OH基が生成するので親水
性となり、水によく分散する。これらの粒子の加熱前後
の粒径分布は変化がなく、焼成しても粉砕粒子同士が結
合することはほとんどないことから、本発明の微粒子は
加水分解に使用する水の量及び焼成によって媒質に対す
る分散性を変化させることもできる。
Claims (1)
- テトラエトキシシラン及び触媒を含む溶液の加水分解反
応によって生成するゲル体を乾燥し、このゲル体を機械
的に粉砕してシリカ微粒子を得る方法であって、前記触
媒として、25℃における塩基解離定数Kbが10^−
^3以上のアルキルアミンを用い、その添加量をテトラ
エトキシシランに対してモル比で0.01倍から3倍、
前記テトラエトキシシランの加水分解のために添加する
水の量を、テトラエトキシシランに対してモル比で等倍
から30倍の範囲とすることを特徴とするシリカ微粒子
の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1076640A JP2724200B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | シリカ微粒子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1076640A JP2724200B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | シリカ微粒子の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02255517A true JPH02255517A (ja) | 1990-10-16 |
JP2724200B2 JP2724200B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=13610979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1076640A Expired - Fee Related JP2724200B2 (ja) | 1989-03-30 | 1989-03-30 | シリカ微粒子の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2724200B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100260015B1 (ko) * | 1990-10-02 | 2000-06-15 | 나루세 스스무 | 액정 표시 장치 및 그 제조방법 |
WO2022107365A1 (ja) * | 2020-11-20 | 2022-05-27 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | エアロゲル粉末の製造方法及びこれを用いた断熱材 |
-
1989
- 1989-03-30 JP JP1076640A patent/JP2724200B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100260015B1 (ko) * | 1990-10-02 | 2000-06-15 | 나루세 스스무 | 액정 표시 장치 및 그 제조방법 |
WO2022107365A1 (ja) * | 2020-11-20 | 2022-05-27 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | エアロゲル粉末の製造方法及びこれを用いた断熱材 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2724200B2 (ja) | 1998-03-09 |
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