JPH0224790B2 - - Google Patents

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JPH0224790B2
JPH0224790B2 JP57152113A JP15211382A JPH0224790B2 JP H0224790 B2 JPH0224790 B2 JP H0224790B2 JP 57152113 A JP57152113 A JP 57152113A JP 15211382 A JP15211382 A JP 15211382A JP H0224790 B2 JPH0224790 B2 JP H0224790B2
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JP
Japan
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sintering
atm
atmosphere
silicon nitride
powder
Prior art date
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Expired - Lifetime
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JP57152113A
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English (en)
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JPS5945970A (ja
Inventor
Matsuo Higuchi
Hiroshi Tsukada
Masaaki Pponda
Tatsuya Nishimoto
Eiji Kamijo
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Electric Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Electric Industries Ltd
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Publication date
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Priority to DE8282305421T priority patent/DE3266050D1/de
Priority to EP19820305421 priority patent/EP0079678B1/en
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Publication of JPH0224790B2 publication Critical patent/JPH0224790B2/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
(イ) 技術分野 この発明は高温強度が高く、高密度を有する窒
化けい素焼結体を得るための窒化けい素の焼結方
法に関するものである。 (ロ) 技術の背景 最近セラミツクス材料、特に耐熱性材料として
のセラミツクスの開発が盛んに行われており、な
かでも高温において安定な耐熱性物質である共有
結合性化合物、特に窒化けい素(Si3N4)が非常
にすぐれた材料であることが知られている。 一般にセラミツクスは、原料セラミツクス粉末
を成形焼結して使用されるものであるが、Si3N4
の場合は、一般の酸化物セラミツクスと異なり、
難焼結性物質であるため、単独組成たとえば
Si3N4粉末のみを焼結しても緻密な焼結体を得る
ことは困難である。 このためSi3N4粉末の場合などにはMgO、
Al2O3、Y2O3、CeO2、BeOなどの酸化物粉末、
周期律表a、a、a族金属の窒化物、炭化
物を焼結助剤として添加して焼結することが行わ
れている。 しかしてこのような焼結助剤を加えたSi3N4
末を使用して通常行われているプレス成形をして
真空あるいは常圧で加熱焼結する方法は、焼結コ
ストが低く工業的に有用ではあるが、Si3N4焼結
体に微孔がそのまま残存するので高密度の焼結体
を得ることは困難である。 これに対して、高温下で加圧しながら焼結する
ホツトプレス法は、より緻密な焼結体を得ること
はできるが、高温において強度低下が生ずる欠点
があり、また焼結コストが高くつくという難点が
ある。 この高温における強度低下は、焼結助剤の添加
よりSi3N4の粉末界面に低融点物質が生成するこ
とによるものであると考えられ、焼結助剤を使用
する場合は不可避である。 さらに焼結助剤の混合割合を減少し、あるいは
焼結助剤を添加せずに高圧ガス雰囲気中で焼結し
たり、爆発成型などで粉末に瞬間的に高圧を加え
て粉砕したのち、焼結するなどの方法が試みられ
ているが、何れの方法も焼結コストが高く、また
高温強度の低下現象が残る欠点があり、工業的な
方法として成功していない。 (ハ) 発明の開示 本発明者らは上記の点に鑑みて焼結助剤を用い
ながら高温強度、高密度のSi3N4焼結体を得る
Si3N4粉末の焼結法について、焼結助剤粉末を添
加したSi3N4粉末をプレス成形したのち、真空、
減圧あるいは加圧などの各種の雰囲気および温度
など焼結条件を変化させて焼結を行つて試験を繰
返した結果、この発明に至つたものである。 即ち、この発明は焼結助剤を添加したSi3N4
末の成型体を焼結するに際し、昇温して焼結完了
するまで過程の雰囲気を、第1段階を10-3atm以
下の真空雰囲気とし、第2段階を10-3〜0.9atmの
減圧窒素雰囲気とし、更に第3段階は1atm以上
の加圧雰囲気というように段階的に変えて焼結す
ることを特徴とするものであり、これによつて前
記従来の焼結体特性の欠点即ち、高温特性の劣化
を解消し、高密度で高温強度にすぐれたSi3N4
結体が得られるのである。 以下この発明の焼結法を詳細に説明する。 窒化硅素粉末に焼結助剤として、周期律表
a、a、a族金属の窒化物、炭化物の1種ま
たは2種以上、又は上記炭化物又は窒化物にLi、
Be、Mg、Al、Ca、Ti、Y、Zr、Ba、Ce等の酸
化物を加えたものの粉末を添加して充分混合後成
型体とし、この成型体を焼結炉に装填し昇温して
焼結する。この昇温開始から焼結完了までの過程
を、例えば第1図にする如く、 (1) 常温〜1100℃までの第1段階を10-3atm以下
の真空雰囲気とする。 (2) 1100゜〜1800℃までの第2段階を10- 3
0.9atmの窒素分圧を有する減圧雰囲気とする。 (3) 1800℃の焼結キープ途中で1atm以上の加圧
窒素雰囲気とする。 3段階の雰囲気とするものである。 (1)の10-3atm以下の真空雰囲気にすることによ
つて焼結助剤を含有するSi3N4粉末成型体に吸着
している酸素や水分を除去することができる。 (2)の段階では、該Si3N4粉末成型体表面の酸素
を除去すること、粒界組成をコントロールし
Si3N4結晶の粗大化成長を抑制すること等の効果
がある。又(3)の第3段階では1atm以上の加圧窒
素雰囲気にすることによつてSi3N4の分解を抑制
しつつ焼結を完結させるものである。 上記第1〜3段階の雰囲気を段階的に変えて焼
結することによつて緻密で強度の高い焼結体が得
られるのである。 焼結進行は第2段階の1100〜1800℃において最
も進行し、その時の雰囲気圧力はできるだけ小さ
い方が焼結体中に微細孔が残存しなくなる。 しかしてSi3N4の焼結は第2段階の1100〜1600
℃にて大きく進行するのであり、その時の雰囲気
圧力はできるだけ小さい方が、焼結体中に微孔が
残存しない点から好ましい。 またこの第2段階における10-3〜0.9atmの減圧
雰囲気としては、N2ガス、N2+H2の混合ガス2
+COの混合ガスあるいはN2+H2+COの混合ガ
スが有効である。 第3段階の1atm以上の加圧窒素雰囲気として
は、2〜150atmでの通常の加圧雰囲気、
2000atm程度の熱間静水圧(HIP)などいずれで
もよい。 第1図は本発明の方法を説明するための昇温カ
ーブ1と雰囲気圧力2の実施例である。 以下この発明を実施例により詳細に説明する。 実施例 1 α型を90%以上含むSi3N4(西独シユタルク社
製)100gに対してTiN5gをボールミルで混合
し粉砕を行つた。 次いでこの粉末を2t/cm2の圧力で長さ50mm幅25
mm、厚さ10mmの板に成形したのち、焼結炉に装填
した。 そして炉内を真空(1.3×10-4atm)にしたの
ち、昇温をはじめ1100℃に達したところで流量5
/minでN2ガスを導入し、排気バルブを調整
して0.6atmに設定し、さらに昇温をつづけ、
1800℃の焼結キープの途中で排気バルブを止め、
N2ガスを導入して雰囲気圧力を10atmとし、同
温度で焼結を完了せしめた。 次いで炉内を1200℃まで降温したのち、雰囲気
圧力を1atmにしてさらに降温をつづけた。 十分に冷却したのち焼結体を炉から取出し、得
られた焼結体の特性を調べたところ第1表に示す
結果を得た。 なお比較例として実施例1と同じ粉末を用いて
昇温初期より1atmあるいは10atmのN2ガス雰囲
気で焼結したもの、および1100℃までは真空1100
℃以上を10atmのN2ガス雰囲気として焼結した
焼結体を示した。
【表】 実施例 2 実施例1における流量5/minのN2ガスを
導入して0.6atmに設定するという1100〜1600℃
の昇温過程を流量5/minのN2ガスと流量2
/minのH2ガスを同時に導入して圧力を
0.8atmに設定した以外は実施例1と全く同様に
して焼結し、Si3N4焼結体を得た。 その物性は第2表に示した。
【表】
【表】 上表の第1表、第2表をみると実施例1に比べ
て酸素含有量の低い実施例2の方が高温曲げ強度
も高くなることが認められた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の方法を説明するための説明図
で実線1が温度カーブ、点線2が雰囲気圧力の劣
化を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 焼結助剤として珪素以外の窒化物またはこれ
    と炭化物、Si以外酸化物と組合せて添加した窒化
    硅素粉末の成型体を焼結するに際し、昇温から焼
    結完了までの雰囲気を第1段階を真空雰囲気、第
    2段階を減圧窒素雰囲気、第3段階を加圧窒素雰
    囲気と段階的にかえて焼結することを特徴とする
    窒化硅素の焼結方法。 2 真空雰囲気が10-3atm以下であることを特徴
    とする特許請求の範囲第1項記載の窒化けい素の
    焼結方法。 3 減圧窒素雰囲気が窒素分圧10-3〜0.9atmであ
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    窒化けい素の焼結方法。 4 加圧窒素雰囲気が1atm以上であることを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の窒化けい素
    の焼結方法。 5 焼結助剤がa,a,a族金属の窒化
    物、炭化物、Li、Be、Mg、Al、Ca、Ti、Y、
    Zr、Ba、Ce等の酸化物から選ばれた1種または
    2種以上であることを特徴とする特許請求の範囲
    第1項記載の窒化硅素の焼結方法。
JP57152113A 1981-10-12 1982-08-31 窒化硅素の焼結方法 Granted JPS5945970A (ja)

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JP57152113A JPS5945970A (ja) 1982-08-31 1982-08-31 窒化硅素の焼結方法
DE8282305421T DE3266050D1 (en) 1981-10-12 1982-10-12 Method for sintering silicon nitride
EP19820305421 EP0079678B1 (en) 1981-10-12 1982-10-12 Method for sintering silicon nitride

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JPS5945970A JPS5945970A (ja) 1984-03-15
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS60186470A (ja) * 1984-03-02 1985-09-21 日本セメント株式会社 窒化ケイ素焼結体の製造方法
CN115551818A (zh) * 2020-05-07 2022-12-30 Agc株式会社 陶瓷烧结体的制造方法和陶瓷烧结体

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JPS5945970A (ja) 1984-03-15

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