JPH02232811A - 磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(発明の分野)
本発明は、非磁性支持体と磁性層及びバック層よシなる
磁気記録媒体の改良に関する。
磁気記録媒体の改良に関する。
(発明の背景および従米技術の説明)
一般にオーディオ用、ビデオ用、コンピューター用(デ
ィスク、メモリーテーブ)等の磁気記録媒体として、頒
磁性粉末を結合剤(バインダー)中に分散させた磁性層
を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられてい
る。
ィスク、メモリーテーブ)等の磁気記録媒体として、頒
磁性粉末を結合剤(バインダー)中に分散させた磁性層
を非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体が用いられてい
る。
近年、とれらの磁気記録媒体は高密度記録が要求され、
強磁性粉末の微粒子化、合金粉末化、高充填化、磁気B
ピ録媒体の超平滑表面化などによシ信号/雑音の高信号
化や低雑音化が達成されている。父、同一時間で高密度
記録を行うには磁気記録媒体への書き込み速度や呼び込
み速度の短縮化が必要で磁気記録媒体の高速搬送が要求
される。
強磁性粉末の微粒子化、合金粉末化、高充填化、磁気B
ピ録媒体の超平滑表面化などによシ信号/雑音の高信号
化や低雑音化が達成されている。父、同一時間で高密度
記録を行うには磁気記録媒体への書き込み速度や呼び込
み速度の短縮化が必要で磁気記録媒体の高速搬送が要求
される。
この高速搬送適性の為、走行性や帯電特性、ヘッド・ク
リーニング特性は不可欠であり、この目的のためカーボ
ン・ブラックやモース硬度がl以上の研磨剤と称される
フイラーが用いられる。しかしこれらの磁気記録媒体の
もう一つの大きな問題点は、これらの磁気記録媒体が数
70年にわたり安定に磁気記録を保存できるかどうかと
言うことである。磁気記録媒体における安定保存適性の
問題は、主につぎの3点に要約される。即ち第lに、強
磁性粉末の磁気特性の変化を抑える事であり、合金粉末
における錆による磁気特性劣化、CO含有r−Fc20
3におけるC o +F e++c7)粒子内存在量分
布の変化による磁@特注劣化等を抑えることである。第
2に結什剤(バインダー)の劣化を抑えることである。
リーニング特性は不可欠であり、この目的のためカーボ
ン・ブラックやモース硬度がl以上の研磨剤と称される
フイラーが用いられる。しかしこれらの磁気記録媒体の
もう一つの大きな問題点は、これらの磁気記録媒体が数
70年にわたり安定に磁気記録を保存できるかどうかと
言うことである。磁気記録媒体における安定保存適性の
問題は、主につぎの3点に要約される。即ち第lに、強
磁性粉末の磁気特性の変化を抑える事であり、合金粉末
における錆による磁気特性劣化、CO含有r−Fc20
3におけるC o +F e++c7)粒子内存在量分
布の変化による磁@特注劣化等を抑えることである。第
2に結什剤(バインダー)の劣化を抑えることである。
結合剤(バインダー)塗膜は一般的に紫外線や温度・湿
匿によシ劣化することが知られている。( E.F.C
uddhy,IEEETrans.Mag: ,Ma
g/ 6 , u , j j r
(July/タto)。塩化ビニル酢酸ビニル樹脂゛や
繊維素系樹脂はポリウレタン樹脂より劣化しにくいζと
が知られ、結会剤中の/ 0,t O重量チほどで便用
される。@3は、磁気記録媒体におけるドロップ・アウ
トの増加である。ドロップ・アタトの増加には磁気記録
媒体自身が原因となる内因性のものと、外界の粉塵に起
因する外因性のものがある。
匿によシ劣化することが知られている。( E.F.C
uddhy,IEEETrans.Mag: ,Ma
g/ 6 , u , j j r
(July/タto)。塩化ビニル酢酸ビニル樹脂゛や
繊維素系樹脂はポリウレタン樹脂より劣化しにくいζと
が知られ、結会剤中の/ 0,t O重量チほどで便用
される。@3は、磁気記録媒体におけるドロップ・アウ
トの増加である。ドロップ・アタトの増加には磁気記録
媒体自身が原因となる内因性のものと、外界の粉塵に起
因する外因性のものがある。
内因性のドロップ・アウトは磁気記録媒体からの異物の
生成であクこれらはドロップ・アウトの原因となったシ
、ヘッド・ギャップの目詰まシを鋳発しスベーシング・
ロスを引き起こしたシして磁気記録の再生を困蛾にする
。この異物の生成には多くの原因が知られ検討されてき
た。例えば、或る植の脂肪酸、或る種の脂肪酸エステル
、高分子支持体のオリゴマー、無機塩等である。外因性
のドロップ・アウトは本気中に存在する粉塵が磁気記録
媒体表層に静電気的な原因で誘引・付着しスペーシング
・ロスを引き起こすものと考えられている。このうち静
電気の生起については、磁気記録媒体の表面電気抵抗を
下げる方法が知られ、磁気記録媒体内の各構成する層内
や層外にカーボン・プ2ツクや帯電防止剤を含めること
が知られている。しかしこれらの技術をもってしても外
因性の粉塵によるドロップ・アウトの発生を抑えること
は極めて困難であった。この原因は外因性の粉塵の静電
気的酵引を抑えたとしても、磁気記録媒体は大気中の粉
塵環境の中に存在して確率的に粉塵に暴露されざるを得
ないためであると考えられる。粉塵に暴露されれば粉塵
は磁気記録媒体の巻き取り時に必然的にテープ関K巻き
込まれ、これが原因でドロップ・アウトとなる。
生成であクこれらはドロップ・アウトの原因となったシ
、ヘッド・ギャップの目詰まシを鋳発しスベーシング・
ロスを引き起こしたシして磁気記録の再生を困蛾にする
。この異物の生成には多くの原因が知られ検討されてき
た。例えば、或る植の脂肪酸、或る種の脂肪酸エステル
、高分子支持体のオリゴマー、無機塩等である。外因性
のドロップ・アウトは本気中に存在する粉塵が磁気記録
媒体表層に静電気的な原因で誘引・付着しスペーシング
・ロスを引き起こすものと考えられている。このうち静
電気の生起については、磁気記録媒体の表面電気抵抗を
下げる方法が知られ、磁気記録媒体内の各構成する層内
や層外にカーボン・プ2ツクや帯電防止剤を含めること
が知られている。しかしこれらの技術をもってしても外
因性の粉塵によるドロップ・アウトの発生を抑えること
は極めて困難であった。この原因は外因性の粉塵の静電
気的酵引を抑えたとしても、磁気記録媒体は大気中の粉
塵環境の中に存在して確率的に粉塵に暴露されざるを得
ないためであると考えられる。粉塵に暴露されれば粉塵
は磁気記録媒体の巻き取り時に必然的にテープ関K巻き
込まれ、これが原因でドロップ・アウトとなる。
従来より、ドロップ・アウトを低減することを目的とし
て種々検討をし、例えば特開昭j/−1!1.20号K
おける如くバック層にバインダーとしてポリウレタン樹
脂、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重会体(例え
ばサランレジ/など)、ポリインシアネート化台物を含
み、非磁性粉末として平均粒子サイズ317−/jam
μの倣粒子のカーボンブラックと平均粒子サイズ/60
〜60omμの粗粒子のカーボンプラックを所定の比率
で言むことを提案した。このような技術によ力摩擦係数
が増加せず、又けずれ等も生ぜず、これらに起因してい
友ドロップ・アウトを減少することができ、S/N’持
性を改良することができた。しかし、ドロップ・アウト
もλ00パスというような厳しい条件下では更に改良の
余地があることがわかつ九。
て種々検討をし、例えば特開昭j/−1!1.20号K
おける如くバック層にバインダーとしてポリウレタン樹
脂、塩化ビニリデンーアクリロニトリル共重会体(例え
ばサランレジ/など)、ポリインシアネート化台物を含
み、非磁性粉末として平均粒子サイズ317−/jam
μの倣粒子のカーボンブラックと平均粒子サイズ/60
〜60omμの粗粒子のカーボンプラックを所定の比率
で言むことを提案した。このような技術によ力摩擦係数
が増加せず、又けずれ等も生ぜず、これらに起因してい
友ドロップ・アウトを減少することができ、S/N’持
性を改良することができた。しかし、ドロップ・アウト
もλ00パスというような厳しい条件下では更に改良の
余地があることがわかつ九。
そこで更に検討を行なった結果本発明者等は、従来知ら
れていなかったドロップ・アウト発生の機構と大気中の
粉塵との因果関係を明確にして保存適性良化の顕著な効
果を得ることにより本発明を為すに到った。
れていなかったドロップ・アウト発生の機構と大気中の
粉塵との因果関係を明確にして保存適性良化の顕著な効
果を得ることにより本発明を為すに到った。
(発明の目的)
本発明は磁気記録媒体を構成する各々の層の表面自由エ
ネルギーを明確に規定することによって、保存適性に優
れ、ドロップ・アウト増加のない磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
ネルギーを明確に規定することによって、保存適性に優
れ、ドロップ・アウト増加のない磁気記録媒体を提供す
ることを目的とする。
(問題点を解決するための手段)
本発明は強磁性粉末、バインダー、カーボンプラック、
研磨剤、潤滑剤を含む磁性層を非磁性支持体上に設け、
バインダー、カーボンブラックを含むバック層を磁性層
とは反対面の前記非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体
において、前記磁性層の表面自由エネルギーよシ前記バ
ック層の表面自由エネルギーの方が’dyn/a+s以
上大きく、かつ前記磁性層の光沢が/!θ以上であり、
前記バツク層の光沢が2〜7であることを特徴とする磁
気記録媒体である。
研磨剤、潤滑剤を含む磁性層を非磁性支持体上に設け、
バインダー、カーボンブラックを含むバック層を磁性層
とは反対面の前記非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体
において、前記磁性層の表面自由エネルギーよシ前記バ
ック層の表面自由エネルギーの方が’dyn/a+s以
上大きく、かつ前記磁性層の光沢が/!θ以上であり、
前記バツク層の光沢が2〜7であることを特徴とする磁
気記録媒体である。
本発明は好ましくは前記磁性層は表面自由エネルギーが
弘o − j j dyn/asで、表面電気抵抗がt
X / Ol0Ω/ cm 2 p下であ9、前記バ
ック層は表面自由エネルギーが弘!〜4 0 dyn/
cmであυ、表面電気抵抗が/×/OSΩ/備2以下で
ある磁気記録媒体である。
弘o − j j dyn/asで、表面電気抵抗がt
X / Ol0Ω/ cm 2 p下であ9、前記バ
ック層は表面自由エネルギーが弘!〜4 0 dyn/
cmであυ、表面電気抵抗が/×/OSΩ/備2以下で
ある磁気記録媒体である。
(発明の作用・効果)
本発明の磁気記録媒体において、当該磁性層の表面自由
エネルギーf 4cO 〜j j dyn/cm%@該
バック層の表面自由エネル.ギーを41Cj〜t O
dyn/cynとし、且つ当該磁性層の表面自由エネル
ギーより当該バツク1@の表面自由エネルギーを/dB
以上大きくすると、これによシ巻かれた状態でλ層の間
に介在するドロップ・アウトの原因となる塵埃は、表面
自由エネルギー的に大きい値のバック層側に吸収される
ため磁性層側に残存せず、従ってドロップ・アウトを低
減せしめ、且つビデオ感度・RF出力に優れた磁気記録
媒体を得ることができると考えられ、特に保存に係わる
ドロップ・アウト増加に有効である。更に磁性層の表面
電気抵抗がjxlO10Ω/譚2以下で且つバック層の
表面電気抵抗が/×/05Ω/ c1n2以下とするこ
とによシ空気中に存在する塵埃の磁気記録媒体への付f
’k低減せしめ、前述のヤング率の効果と組み会わせる
とドロップ・アウト増加の低減に特に有効で、且つビデ
オ感度・RF出力に優れた磁気記録媒体を得ることがで
きる。更に磁性層の光沢t−150以上、バック層の光
沢を2〜7とすることによ夛当該磁性層と当該バック層
の表面自由エネルギーを安定化せしめドロップ・アウト
増加を低減せしめ、且ビデオ感度・RF出力に優れた磁
気記録媒体を得ることができる。上記磁気記録媒体にお
いて特に前記磁性層の表面自由エネルギーより前記バッ
ク層の表面自由エネルギーの方が/dyn/c+a以上
大きく、かつ前記磁性層の光沢がl!θ以上、バック層
の光沢がλ〜7であることが本発明の必須の要件であり
、顕著にドロップ・アウト及びRF出力が改良される。
エネルギーf 4cO 〜j j dyn/cm%@該
バック層の表面自由エネル.ギーを41Cj〜t O
dyn/cynとし、且つ当該磁性層の表面自由エネル
ギーより当該バツク1@の表面自由エネルギーを/dB
以上大きくすると、これによシ巻かれた状態でλ層の間
に介在するドロップ・アウトの原因となる塵埃は、表面
自由エネルギー的に大きい値のバック層側に吸収される
ため磁性層側に残存せず、従ってドロップ・アウトを低
減せしめ、且つビデオ感度・RF出力に優れた磁気記録
媒体を得ることができると考えられ、特に保存に係わる
ドロップ・アウト増加に有効である。更に磁性層の表面
電気抵抗がjxlO10Ω/譚2以下で且つバック層の
表面電気抵抗が/×/05Ω/ c1n2以下とするこ
とによシ空気中に存在する塵埃の磁気記録媒体への付f
’k低減せしめ、前述のヤング率の効果と組み会わせる
とドロップ・アウト増加の低減に特に有効で、且つビデ
オ感度・RF出力に優れた磁気記録媒体を得ることがで
きる。更に磁性層の光沢t−150以上、バック層の光
沢を2〜7とすることによ夛当該磁性層と当該バック層
の表面自由エネルギーを安定化せしめドロップ・アウト
増加を低減せしめ、且ビデオ感度・RF出力に優れた磁
気記録媒体を得ることができる。上記磁気記録媒体にお
いて特に前記磁性層の表面自由エネルギーより前記バッ
ク層の表面自由エネルギーの方が/dyn/c+a以上
大きく、かつ前記磁性層の光沢がl!θ以上、バック層
の光沢がλ〜7であることが本発明の必須の要件であり
、顕著にドロップ・アウト及びRF出力が改良される。
(発明の詳細な記述)
本発明の表面自由エネルギーはフオークス、オーエンス
ノ式、並びに畑の式(F.M.Fowkes:J.Ph
ys.chem.Als ,jr2(/5F4J);6
7,231!(/タ63)、D.K.Owens,R.
C.Wendt:J.Appl.Polymer S
ci.,/3 ,/7≠/(/タ45’)i/44,/
72j(/タ70)、畑敏雄:高分子,/7,1F弘(
/?AJ’)H日本接着協会誌,I,/3/(/97λ
))に従って、ヨウ化メチレン、エチレングリコール、
水の接触角より求めることができる。
ノ式、並びに畑の式(F.M.Fowkes:J.Ph
ys.chem.Als ,jr2(/5F4J);6
7,231!(/タ63)、D.K.Owens,R.
C.Wendt:J.Appl.Polymer S
ci.,/3 ,/7≠/(/タ45’)i/44,/
72j(/タ70)、畑敏雄:高分子,/7,1F弘(
/?AJ’)H日本接着協会誌,I,/3/(/97λ
))に従って、ヨウ化メチレン、エチレングリコール、
水の接触角より求めることができる。
これらの手順は、高分子学会編集の「入門高分子物性」
(共立出版株式会社、lタrz年)fj〜l!頁を参考
にできる。接触角の測定乗件は−230C,70チRH
である。
(共立出版株式会社、lタrz年)fj〜l!頁を参考
にできる。接触角の測定乗件は−230C,70チRH
である。
本発明の表面自由エネルギーは、磁性1一及び/<ツク
層を構成する組成と表面性及び製造方法により制御出来
る。
層を構成する組成と表面性及び製造方法により制御出来
る。
本発明の表面自由エネルギーが4cO−jjdyn/c
WLの磁性層の組成は強磁性粉末、バインダーカーボン
・ブラック、研磨剤、潤滑剤を含んでなシ、粉末/バイ
ンダーが/oo7i r−弘Oで得られる。粉末には強
磁性粉末、カーボン・ブラック、研磨剤等を含む。特に
バインダーは塩化ビニル樹脂及び/或いは塩、化ビニル
酢酸ビニル樹脂とポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
トからな夛、そのioo分比率は重量比で≠j−1!”
./j〜2!:20〜3jが好ましい。本発明の磁性ノ
ーに用いる潤滑剤量は、総計強磁性粉末ioo11f部
に対しl−ぶ重量部が好ましい。本発明の長面自由エネ
ルギーが≠j〜6 0dyn/cmのバック層は、バイ
ンダー、カーボン・ブラック、その他のフイラーを含ん
でなク、粉末/バインダーが重鍍比で100/弘!〜i
ooで得られる。粉末にはカーボン・ブランク、その他
フイラーを含む。′爵にバインダーはフエノキシ樹脂及
び/或いはフェノール樹脂とポリウレタン樹脂及び/或
いはエボキシ樹脂、ポリイソシアネートからなり、その
/00分比率は重量比でコO〜!0:lAO〜70:l
O〜参〇である。本発明に用いるポリウレタン樹脂等の
ヤング率は/〜/ 0 0 ’Kll/ wrn 2で
ある。力一ボン・ブラックを分散したこれらの素材にポ
リインシアネートを加えて、バック層塗布膜のヤング率
をコoo−jOok9/簡2にする。
WLの磁性層の組成は強磁性粉末、バインダーカーボン
・ブラック、研磨剤、潤滑剤を含んでなシ、粉末/バイ
ンダーが/oo7i r−弘Oで得られる。粉末には強
磁性粉末、カーボン・ブラック、研磨剤等を含む。特に
バインダーは塩化ビニル樹脂及び/或いは塩、化ビニル
酢酸ビニル樹脂とポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
トからな夛、そのioo分比率は重量比で≠j−1!”
./j〜2!:20〜3jが好ましい。本発明の磁性ノ
ーに用いる潤滑剤量は、総計強磁性粉末ioo11f部
に対しl−ぶ重量部が好ましい。本発明の長面自由エネ
ルギーが≠j〜6 0dyn/cmのバック層は、バイ
ンダー、カーボン・ブラック、その他のフイラーを含ん
でなク、粉末/バインダーが重鍍比で100/弘!〜i
ooで得られる。粉末にはカーボン・ブランク、その他
フイラーを含む。′爵にバインダーはフエノキシ樹脂及
び/或いはフェノール樹脂とポリウレタン樹脂及び/或
いはエボキシ樹脂、ポリイソシアネートからなり、その
/00分比率は重量比でコO〜!0:lAO〜70:l
O〜参〇である。本発明に用いるポリウレタン樹脂等の
ヤング率は/〜/ 0 0 ’Kll/ wrn 2で
ある。力一ボン・ブラックを分散したこれらの素材にポ
リインシアネートを加えて、バック層塗布膜のヤング率
をコoo−jOok9/簡2にする。
本発明の磁気記録媒体において、当該磁性層の表面自由
エネルギーを弘o−j j dyn/an、当該バック
層の表面自由エネルギーを弘!〜6 0 dye/偲と
し、且つ当該磁性層の表面自由エネルギーよシ当該バッ
ク層の表面自由エネルギーt−/dyn/cWL以上大
きくする組成上の具体的方法は、各々の層に用いるバイ
ンダーの臨界表面張力に蔓ヲつける事により達成できる
。臨界表面張力の数埴は、例えば「化学と工i J J
2巻,rylr頁(/タ7タ)、本吉正信著「プラス
チックの滑性と滑剤」日刊工業新聞社発行(昭和!2年
刊行)コt6頁、日本化学会m[化学便覧基礎編IIJ
/タ7!年丸善発行等を参考にできる。臨界我面張力の
具体的数匝を例示すると、テフロン( / I dyn
/備)〈シリコン樹脂(2弘d y n/cm ) (
ポリエチレン樹脂( J i dyn/on ) <塩
化ビニル樹脂(3タdyn/ cm ) <ナイロンg
g ( ti b dyn/m)+7)順に値が増大
する。また各々の樹脂のなかに−C0〇一基<−oco
o一基<−ONHCO一基を導入すると値が増大する。
エネルギーを弘o−j j dyn/an、当該バック
層の表面自由エネルギーを弘!〜6 0 dye/偲と
し、且つ当該磁性層の表面自由エネルギーよシ当該バッ
ク層の表面自由エネルギーt−/dyn/cWL以上大
きくする組成上の具体的方法は、各々の層に用いるバイ
ンダーの臨界表面張力に蔓ヲつける事により達成できる
。臨界表面張力の数埴は、例えば「化学と工i J J
2巻,rylr頁(/タ7タ)、本吉正信著「プラス
チックの滑性と滑剤」日刊工業新聞社発行(昭和!2年
刊行)コt6頁、日本化学会m[化学便覧基礎編IIJ
/タ7!年丸善発行等を参考にできる。臨界我面張力の
具体的数匝を例示すると、テフロン( / I dyn
/備)〈シリコン樹脂(2弘d y n/cm ) (
ポリエチレン樹脂( J i dyn/on ) <塩
化ビニル樹脂(3タdyn/ cm ) <ナイロンg
g ( ti b dyn/m)+7)順に値が増大
する。また各々の樹脂のなかに−C0〇一基<−oco
o一基<−ONHCO一基を導入すると値が増大する。
また一般的にCOOH基、8 03H基、燐酸基等を導
入すると値が増大する。従って本発明の磁気記録媒体に
おいて、当該磁性層の表面自由エネルギー1frp o
〜z r ayn/c1n,当該バック層の表面自由
エネルギーを4A!〜l−O dyn/備と、するには
、当該磁性層に用いるバインダーの種類を当該バック層
に用いる檀類よシ臨界表面張力が低く成るように設計す
ることにより達成できる。具体的には、磁性層に塩化ビ
ニル樹脂とポリウレタン樹脂を用い死場会、バック層に
は磁性膚の塩化ビニル樹脂よシ少ない割合で便用し、か
つ塩化ビニル樹脂よシ臨界表面張力の高い樹脂、たとえ
ばウレタン樹脂、ナイロン樹脂をもちいるかあるいはそ
の疑似構造をバック層中に生成せしめることによって達
成することができる。
入すると値が増大する。従って本発明の磁気記録媒体に
おいて、当該磁性層の表面自由エネルギー1frp o
〜z r ayn/c1n,当該バック層の表面自由
エネルギーを4A!〜l−O dyn/備と、するには
、当該磁性層に用いるバインダーの種類を当該バック層
に用いる檀類よシ臨界表面張力が低く成るように設計す
ることにより達成できる。具体的には、磁性層に塩化ビ
ニル樹脂とポリウレタン樹脂を用い死場会、バック層に
は磁性膚の塩化ビニル樹脂よシ少ない割合で便用し、か
つ塩化ビニル樹脂よシ臨界表面張力の高い樹脂、たとえ
ばウレタン樹脂、ナイロン樹脂をもちいるかあるいはそ
の疑似構造をバック層中に生成せしめることによって達
成することができる。
本発明の磁気記録媒体の磁性層の表面電気抵抗をjX/
010Ω/SQ(スクエアー)以下とするためには、適
量の4電性カーボ/・ブラックを強磁性粉末lθO重量
部に対しo . j,r重量部加えるか、酸化鉄である
ならば二両の鉄を2〜t部含ましめる。またバック層の
表面電気抵抗をl×/O Ω/SQ以下とするためには
カーボン・ブラック/00重量部に対しその余の7イラ
ーを30重箪部以下とする。
010Ω/SQ(スクエアー)以下とするためには、適
量の4電性カーボ/・ブラックを強磁性粉末lθO重量
部に対しo . j,r重量部加えるか、酸化鉄である
ならば二両の鉄を2〜t部含ましめる。またバック層の
表面電気抵抗をl×/O Ω/SQ以下とするためには
カーボン・ブラック/00重量部に対しその余の7イラ
ーを30重箪部以下とする。
本発明の磁気gC録媒体の磁性層の光沢を/夕Q以上、
バック層の尤沢1k2〜7とするためには、盆布後スー
パーカレンダー処理を施しこの条件を限定することによ
り達成される。スーパーカレンダー処理は、温度70〜
/λo 0C、線圧ioo〜j 0 0 k9/ cm
が好ましい。スー/t一カレンダー処理温度は、磁性層
に用いる潤滑剤の融点以上であることが磁性層表面にお
けるeJf#剤の分布を均一にする上で好ましい。磁性
層の表面性は、JIS−f3060/−/912に準拠
して測定したとき、カット・オフが0.2jlmで中心
線平均表面粗さが磁性層の場合0.J〜/.j×/0
”μm1バンク層の場合3〜/2X/0−2μmであ
ることが好ましい。これら磁気記録媒体の磁性層の光沢
1&:ljOp上、バック層の光沢を2〜7としかつ上
記の表面性を満足するためには、塗布直前に塗布液に与
えるずシ速度がμ0 0 0 / 5 e(以上であシ
、この時の粘度がO./〜/ボイズ(2j0C)である
。この粘度は、(すり応力)/(ずシ速度)で与えられ
る。これらの関係に関しては、バットン著「ペイント
7ロー アンド ビグメント ヂスバージョンJ(TE
MPLE C.PATTON,″’PAINT FLO
W AND PIGMENT DISPERSION#
John Wiley and Sons, /
タ6≠)を参考にできる。
バック層の尤沢1k2〜7とするためには、盆布後スー
パーカレンダー処理を施しこの条件を限定することによ
り達成される。スーパーカレンダー処理は、温度70〜
/λo 0C、線圧ioo〜j 0 0 k9/ cm
が好ましい。スー/t一カレンダー処理温度は、磁性層
に用いる潤滑剤の融点以上であることが磁性層表面にお
けるeJf#剤の分布を均一にする上で好ましい。磁性
層の表面性は、JIS−f3060/−/912に準拠
して測定したとき、カット・オフが0.2jlmで中心
線平均表面粗さが磁性層の場合0.J〜/.j×/0
”μm1バンク層の場合3〜/2X/0−2μmであ
ることが好ましい。これら磁気記録媒体の磁性層の光沢
1&:ljOp上、バック層の光沢を2〜7としかつ上
記の表面性を満足するためには、塗布直前に塗布液に与
えるずシ速度がμ0 0 0 / 5 e(以上であシ
、この時の粘度がO./〜/ボイズ(2j0C)である
。この粘度は、(すり応力)/(ずシ速度)で与えられ
る。これらの関係に関しては、バットン著「ペイント
7ロー アンド ビグメント ヂスバージョンJ(TE
MPLE C.PATTON,″’PAINT FLO
W AND PIGMENT DISPERSION#
John Wiley and Sons, /
タ6≠)を参考にできる。
本発明の磁気記録媒体の光沢匝は,JIS Zr7μ
/K従い入射角弘!度に対する反射角≠j度の鏡面光沢
変の値で、屈折$/.J−67の黒色ガラスの鏡面光沢
度をioo%としてこれらの相対値で表した鷹である。
/K従い入射角弘!度に対する反射角≠j度の鏡面光沢
変の値で、屈折$/.J−67の黒色ガラスの鏡面光沢
度をioo%としてこれらの相対値で表した鷹である。
この光沢[は磁気記録媒体表層の微細な表面粗さを示す
と考えられ、一般的に磁気記録媒体表層の表面粗さが粗
くなるほど表面自由エネルギーは正となシ、ぬれが起こ
りにくくなる。また表面粗さが平滑になるほど表面自由
エネルギーは負となり、ぬれが起こ9易くなる。
と考えられ、一般的に磁気記録媒体表層の表面粗さが粗
くなるほど表面自由エネルギーは正となシ、ぬれが起こ
りにくくなる。また表面粗さが平滑になるほど表面自由
エネルギーは負となり、ぬれが起こ9易くなる。
本発明に便用する強磁性粉末としては、γ−Fe203
、CO含有(被層、変成、ドープ)のr−Fe203、
F e 3 0 4、CO含有(被着、変成、ドーブ)
のFe304、FeOx,Co含有(被層、変成、ドー
ブ)のFeOx(X=/ . 3J〜/ .to )、
Cr02や)Ln%Te, Sb. S r, Fe,
T i,V%Mn,Cr203の少なくとも一檀類を
含むCr02、Fe,Co、Ni,Fe−Cof金、F
e−Ni@−金、F e −C o −N i会金、C
o−Ni−P合金、Co −N i−Fe−B合金、F
e一N i − Z n ”o金、Ni−Co合金、C
o−Ni−Fe合金、Fe−N合金、Fe−Co−Cr
合金、M n − B i合金など、公知の強磁性粉末
が便用できる。
、CO含有(被層、変成、ドープ)のr−Fe203、
F e 3 0 4、CO含有(被着、変成、ドーブ)
のFe304、FeOx,Co含有(被層、変成、ドー
ブ)のFeOx(X=/ . 3J〜/ .to )、
Cr02や)Ln%Te, Sb. S r, Fe,
T i,V%Mn,Cr203の少なくとも一檀類を
含むCr02、Fe,Co、Ni,Fe−Cof金、F
e−Ni@−金、F e −C o −N i会金、C
o−Ni−P合金、Co −N i−Fe−B合金、F
e一N i − Z n ”o金、Ni−Co合金、C
o−Ni−Fe合金、Fe−N合金、Fe−Co−Cr
合金、M n − B i合金など、公知の強磁性粉末
が便用できる。
強磁性合金粉末の製造方法の例としては、下記の方法を
挙げることができる (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法: (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法:(c)金属カル
ボニル化合物を熱分解する方法:(d)強磁性金稿の水
溶液に水素化ホウ素ナトリウム,次亜リン酸塩あるいは
ヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法: (e)水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法: げ)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法: これら強磁性粉末の粒子サイズは約o.ooz〜/ミク
ロンの長さで、軸長/軸幅の比は、///〜jO//程
度である。又、これらの強磁性粉末の比表面積は、lm
2/f〜70m2/f程度である。これらの強磁性粉末
の含水率は、0.2〜2.0wt%である。これらの強
磁性粉末を用いた場会の塗布液の含水率は、0.00−
2.Oo w t %である。これらの強磁性粉末の表
面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれ
ぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、
吸着させてもよい。これらの強磁性粉末は、/wt%以
内でSr,Pb,Mn%Ni%Cd,C『、Al1S
i,T i,c..Zn等の重金属を含む事が好ましい
。これらの強磁性粉末にアルミナ等を被層、溶融させて
もよい。
挙げることができる (a)複合有機酸塩(主としてシュウ酸塩)を水素など
の還元性気体で還元する方法: (b)酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してFeあ
るいはFe−Co粒子などを得る方法:(c)金属カル
ボニル化合物を熱分解する方法:(d)強磁性金稿の水
溶液に水素化ホウ素ナトリウム,次亜リン酸塩あるいは
ヒドラジンなどの還元剤を添加して還元する方法: (e)水銀陰極を用い強磁性金属粉末を電解析出させた
のち水銀と分離する方法: げ)金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて微粉末を得
る方法: これら強磁性粉末の粒子サイズは約o.ooz〜/ミク
ロンの長さで、軸長/軸幅の比は、///〜jO//程
度である。又、これらの強磁性粉末の比表面積は、lm
2/f〜70m2/f程度である。これらの強磁性粉末
の含水率は、0.2〜2.0wt%である。これらの強
磁性粉末を用いた場会の塗布液の含水率は、0.00−
2.Oo w t %である。これらの強磁性粉末の表
面に、後に述べる分散剤、潤滑剤、帯電防止剤等をそれ
ぞれの目的の為に分散に先だって溶剤中で含浸させて、
吸着させてもよい。これらの強磁性粉末は、/wt%以
内でSr,Pb,Mn%Ni%Cd,C『、Al1S
i,T i,c..Zn等の重金属を含む事が好ましい
。これらの強磁性粉末にアルミナ等を被層、溶融させて
もよい。
また本発明に使用する強磁性粉末としては、板状六万晶
のバリウムフエライトも使用できる。バリウム7エライ
トの粒子サイズは約o.ooi〜lミクロンの直径で厚
みが直径の//2〜l/20でろる。バリウムフエライ
トの比重は4A−tf/Ccで、比表面積は/ m 2
/ t 〜7 0 m 2/ tである。これらの彌
磁性粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯亀防
止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で
含反させて、吸着させてもよい。
のバリウムフエライトも使用できる。バリウム7エライ
トの粒子サイズは約o.ooi〜lミクロンの直径で厚
みが直径の//2〜l/20でろる。バリウムフエライ
トの比重は4A−tf/Ccで、比表面積は/ m 2
/ t 〜7 0 m 2/ tである。これらの彌
磁性粉末の表面には後に述べる分散剤、潤滑剤、帯亀防
止剤等をそれぞれの目的の為に分散に先立って溶剤中で
含反させて、吸着させてもよい。
本発明の磁性I−とバック層に便用されるバインダーと
しては従米公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂やこれらの混合物が使用される。
しては従米公知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型
樹脂やこれらの混合物が使用される。
熱可塑性樹脂としては軟化温度がlzo 0c以下、平
均分子量がio,ooo〜3000 ,000、重合度
が約jO−2,000程度のもので、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル共重会体、塩化ビニル
塩化ビニリデン共重会体、塩化ビニルアクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アク
リル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルステレン
共重合体、ウレタンエジストマーナイロンーシリコン系
w脂、ニトロセルロースーポリアミド樹脂、ボリフツカ
ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブ
タジエンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニルプチラール、セルロース誘4体(セルロース
アセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、
ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセルロー
ス、プロビルセルロース、メチルエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロ一ス、アセチルセルロース等)、
スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテルアクリル戚エステル共重会体、アミノ
樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混
合物等が便用される。
均分子量がio,ooo〜3000 ,000、重合度
が約jO−2,000程度のもので、例えば塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル共重会体、塩化ビニル
塩化ビニリデン共重会体、塩化ビニルアクリロニトリル
共重合体、アクリル酸エステルアクリロニトリル共重合
体、アクリル酸エステル塩化ビニリデン共重合体、アク
リル酸エステルスチレン共重合体、メタクリル酸エステ
ルアクリロニトリル共重合体、メタクリル酸エステル塩
化ビニリデン共重合体、メタクリル酸エステルステレン
共重合体、ウレタンエジストマーナイロンーシリコン系
w脂、ニトロセルロースーポリアミド樹脂、ボリフツカ
ビニル、塩化ビニリデンアクリロニトリル共重合体、ブ
タジエンアクリロニトリル共重合体、ポリアミド樹脂、
ポリビニルプチラール、セルロース誘4体(セルロース
アセテートブチレート、セルロースダイアセテート、セ
ルローストリアセテート、セルロースプロピオネート、
ニトロセルロース、エチルセルロース、メチルセルロー
ス、プロビルセルロース、メチルエチルセルロース、カ
ルボキシメチルセルロ一ス、アセチルセルロース等)、
スチレンブタジエン共重合体、ポリエステル樹脂、クロ
ロビニルエーテルアクリル戚エステル共重会体、アミノ
樹脂、各種の合成ゴム系の熱可塑性樹脂及びこれらの混
合物等が便用される。
熱硬化性樹脂又は反応型樹脂としては塗布液の状態では
200 ,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フエノキシ
樹脂、エボキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキツド樹脂、シリコン樹脂、ア
クリル系反応樹脂、エボキシーボリアミド樹脂、ニトロ
セルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂と
イソシアネートプレボリマーの混合物、メタクリル酸塩
共重合体とジイソシアネートプレボリマーの混曾物、ポ
リエステルボリオールとポリイソシアネートとの混台物
、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高
分子蒼ジオール/トリ7エニルメタントリイソシアネー
トの混合物、ポリアミン樹脂、ボリイミン樹脂及びこれ
らの混曾物等である。
200 ,000以下の分子量であり、塗布、乾燥後に
加熱することにより、縮合、付加等の反応により分子量
は無限大のものとなる。又、これらの樹脂のなかで、樹
脂が熱分解するまでの間に軟化又は溶融しないものが好
ましい。具体的には例えばフェノール樹脂、フエノキシ
樹脂、エボキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキツド樹脂、シリコン樹脂、ア
クリル系反応樹脂、エボキシーボリアミド樹脂、ニトロ
セルロースメラミン樹脂、高分子量ポリエステル樹脂と
イソシアネートプレボリマーの混合物、メタクリル酸塩
共重合体とジイソシアネートプレボリマーの混曾物、ポ
リエステルボリオールとポリイソシアネートとの混台物
、尿素ホルムアルデヒド樹脂、低分子量グリコール/高
分子蒼ジオール/トリ7エニルメタントリイソシアネー
トの混合物、ポリアミン樹脂、ボリイミン樹脂及びこれ
らの混曾物等である。
これらのバインダーの単独又は組合わされたものが使わ
れ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と
バインダーとの混会割合は重量比で強磁性粉末/00重
量部に対してバインダーj〜.iooxt部の範囲で便
用される。バック層の微粉末とバインダーの混會割合は
重量比で微粉末/00重量部に対してバインダー30〜
300重量部の範囲で使用される。添加剤は分散剤、潤
滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等がくわ
えられる。
れ、ほかに添加剤が加えられる。磁性層の強磁性粉末と
バインダーとの混会割合は重量比で強磁性粉末/00重
量部に対してバインダーj〜.iooxt部の範囲で便
用される。バック層の微粉末とバインダーの混會割合は
重量比で微粉末/00重量部に対してバインダー30〜
300重量部の範囲で使用される。添加剤は分散剤、潤
滑剤、研磨剤、帯電防止剤、酸化防止剤、溶剤等がくわ
えられる。
これらの熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応聖樹脂は、
主たる官能基以外に官能基としてカルボ7tR%スルフ
イン酸、スルフエン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホス
ホン、ホス7イン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基(これ
らの酸性基は、Na塩などの形でもよい)、アミノ酸類
;アミノスルホン戚類、アミノアルコールのtlIlc
#1または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両
性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エ
ボキシ基、等また、水酸基、アルコシル基、チオール基
、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常/檀以上
t橿以内含み、各々の官能基は樹脂/1あたF)/×/
0 ’eq 〜/X/(7 ”eq含む事が好まし
い。
主たる官能基以外に官能基としてカルボ7tR%スルフ
イン酸、スルフエン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸、ホス
ホン、ホス7イン、ホウ酸、硫酸エステル基、燐酸エス
テル基、これらのアルキルエステル基等の酸性基(これ
らの酸性基は、Na塩などの形でもよい)、アミノ酸類
;アミノスルホン戚類、アミノアルコールのtlIlc
#1または燐酸エステル類、アルキルベタイン型等の両
性類基、アミノ基、イミノ基、イミド基、アミド基、エ
ボキシ基、等また、水酸基、アルコシル基、チオール基
、ハロゲン基、シリル基、シロキサン基を通常/檀以上
t橿以内含み、各々の官能基は樹脂/1あたF)/×/
0 ’eq 〜/X/(7 ”eq含む事が好まし
い。
本発明にもちいるバインダーの硬化剤としてポリイソシ
アネートが用いられ、トリレンジイソシアネート、弘,
4!’−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、キシリレンジインシアネート
、ナフチレンー/,!−ジイソシアネート、o−}ルイ
ジンインシアネート、インホロンジイソシアネート、ト
リフェニルメタントリイソシアネート、インホロンジイ
ンシアネート等のインシアネート類、又当該インシアネ
ート類とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート
類の縮合に依って生成したλ〜/!量体のポリインシア
ネート等を便用することができる。これらのポリインシ
アネート類の平均分子量は、f00〜λo,oooのも
のが好適である。
アネートが用いられ、トリレンジイソシアネート、弘,
4!’−ジフエニルメタンジイソシアネート、ヘキサメ
チレンジイソシアネート、キシリレンジインシアネート
、ナフチレンー/,!−ジイソシアネート、o−}ルイ
ジンインシアネート、インホロンジイソシアネート、ト
リフェニルメタントリイソシアネート、インホロンジイ
ンシアネート等のインシアネート類、又当該インシアネ
ート類とポリアルコールとの生成物、又イソシアネート
類の縮合に依って生成したλ〜/!量体のポリインシア
ネート等を便用することができる。これらのポリインシ
アネート類の平均分子量は、f00〜λo,oooのも
のが好適である。
これらポリインシアネートの市販されている商品名とし
ては、コロネートL,コロネートHL,コロネートλ0
30、コロネート203/、ミリオネートMR, ミ
リオネー}MTL(日本ポリウレタン■製)、タケネー
トD−/02、タケネートD−//ON.タケネートD
一λ00,タケネー}D−Ji7コ、タケネート300
S1タケネート100 (武田薬品■製)、スミジュー
ル’1’−to,スミジュール弘≠S,スミジュールP
F,スミジュールL,スミシュールN1デスモジュール
L1デスモジュールIL,fスモジュールN,デスモジ
ュールHL, デスモジュールTtj,fスモジュール
/J,fスモジュールR1デスモジュールRF1Fスモ
ジュールSL,デスモジュールZ4t273(住友バイ
エル社#!)等がメク、これらを単独若しくは硬化反応
性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み会わせに
よって使用することができる。又、硬化反応を促進する
目的で、水酸基(ブタンジオール、ヘキ丈ンジオール、
分子量がi,ooo〜io,oooのポリウレタン、水
等)、アミノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン等)fK有する化合物や金W4酸化物
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基金有する化甘物は多官能である事が望ましい。これら
のポリイソシアネートはバインダー総量の!〜弘Owt
%で用いることが好ましい。
ては、コロネートL,コロネートHL,コロネートλ0
30、コロネート203/、ミリオネートMR, ミ
リオネー}MTL(日本ポリウレタン■製)、タケネー
トD−/02、タケネートD−//ON.タケネートD
一λ00,タケネー}D−Ji7コ、タケネート300
S1タケネート100 (武田薬品■製)、スミジュー
ル’1’−to,スミジュール弘≠S,スミジュールP
F,スミジュールL,スミシュールN1デスモジュール
L1デスモジュールIL,fスモジュールN,デスモジ
ュールHL, デスモジュールTtj,fスモジュール
/J,fスモジュールR1デスモジュールRF1Fスモ
ジュールSL,デスモジュールZ4t273(住友バイ
エル社#!)等がメク、これらを単独若しくは硬化反応
性の差を利用して二つ若しくはそれ以上の組み会わせに
よって使用することができる。又、硬化反応を促進する
目的で、水酸基(ブタンジオール、ヘキ丈ンジオール、
分子量がi,ooo〜io,oooのポリウレタン、水
等)、アミノ基(モノメチルアミン、ジメチルアミン、
トリメチルアミン等)fK有する化合物や金W4酸化物
の触媒を併用する事も出来る。これらの水酸基やアミノ
基金有する化甘物は多官能である事が望ましい。これら
のポリイソシアネートはバインダー総量の!〜弘Owt
%で用いることが好ましい。
本発明に便用する分散剤としては、カブリル酸、カブリ
ン戚、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン戚、ステ
アリン酸、ベヘン酸、オレイン醒、エライジン酸、リノ
ール酸、リノレ/酸、ステアロール酸等の炭素数IO−
−26個の脂肪酸(RtCOO}1%R.は炭素数タ〜
λ!個のアルキル基)、前記の脂肪葭のアルカリ金Ji
jl(Li.Na,K.NH4+等)またはアルカリ土
類金属(Mg.Ca、Ba等)、Cu%pblから成る
金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド;レシチン等が使
用される.この他に炭素数弘以上の高級アルコール、(
ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、ステアリルアルコール)及びこれらの硫酸エステル
、燐酸エステル、アミン化合物等も使用可能である。ま
た、ポリアルキレンオキザイド及びこれの硫酸エステル
、燐酸エステル、アミン化合物等やスルホ琥珀酸、スル
ホ城珀酸エステル等も使用可能である。これらの化会物
にはバインダーとの相溶性や特性を変えることからSi
%FのIt換基を導入することも可能である。これらの
分散剤は通常一檀類以上で用いられ、−a[類の分散剤
はバインダー700重量部に対して0.003〜λQ重
量部の範囲で添加される。これら分散剤の便用方法は、
強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く
、また分散途中で隋加してもよい。
ン戚、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン戚、ステ
アリン酸、ベヘン酸、オレイン醒、エライジン酸、リノ
ール酸、リノレ/酸、ステアロール酸等の炭素数IO−
−26個の脂肪酸(RtCOO}1%R.は炭素数タ〜
λ!個のアルキル基)、前記の脂肪葭のアルカリ金Ji
jl(Li.Na,K.NH4+等)またはアルカリ土
類金属(Mg.Ca、Ba等)、Cu%pblから成る
金属石鹸、上記脂肪酸の脂肪酸アミド;レシチン等が使
用される.この他に炭素数弘以上の高級アルコール、(
ブタノール、オクチルアルコール、ミリスチルアルコー
ル、ステアリルアルコール)及びこれらの硫酸エステル
、燐酸エステル、アミン化合物等も使用可能である。ま
た、ポリアルキレンオキザイド及びこれの硫酸エステル
、燐酸エステル、アミン化合物等やスルホ琥珀酸、スル
ホ城珀酸エステル等も使用可能である。これらの化会物
にはバインダーとの相溶性や特性を変えることからSi
%FのIt換基を導入することも可能である。これらの
分散剤は通常一檀類以上で用いられ、−a[類の分散剤
はバインダー700重量部に対して0.003〜λQ重
量部の範囲で添加される。これら分散剤の便用方法は、
強磁性粉末や非磁性粉末の表面に予め被着させても良く
、また分散途中で隋加してもよい。
このほかに分散剤として好ましい化付物としては、カル
ボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素系界面活
性剤7ロラードFC!PJ%FC/λタ、pctLti
o%FC4t3/を用いる事ができる。
ボン酸、燐酸エステル等の界面活性剤やフッ素系界面活
性剤7ロラードFC!PJ%FC/λタ、pctLti
o%FC4t3/を用いる事ができる。
本発明の磁性層とバツクl−に使用される潤滑剤、酸化
防止剤としては、二硫化モリブデン、窒化硼累、弗化黒
鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ば化ケイン、酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化夕/グステン笠の無
機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ペンゾグア
ナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレ
7イン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリ
アミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ弗
化エチレン系樹脂微粉末、シリコンオイル、脂肪酸変性
シリコンオイル、グラファイト、フッ素アルコール、ポ
リオレフイン(ポリエチレンワックス等)、ポリグリコ
ール(ポリエチレンオキシドワックス#)、テトラ7ル
オロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフルオログ
リコール、パーフルオロ脂肪戚、パーフルオロ脂肪酸エ
ステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パーフル
オロアルキル燐酸エステル、アルキル燐酸エステル、ポ
リフエニルエーテル、炭素数/ 0,20の一頃基性脂
肪酸と炭素数3〜/一個の一価のアルコールもしくは二
価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール
、六価のアルコールのいスレカ1つもしくはλつ以上と
から成る脂肪酸エステル類、炭素数/0個以上の一塩基
性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が//〜
2Ir個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸
エステル類等の有機化合物潤滑剤が使用できる。又、炭
素数!−ココの脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アル
コールも使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体例
としては、カブリル酸プチル、カプリル酸オクチル、ラ
ウリン酸エチル、ラウリン酸プチル、ラウリン酸オクチ
ル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸プチル、ミリス
チン戚オクチル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸プ
チル、パルミチン酸オクチル、ステアリン戚エチル、ス
テアリン酸プチル、ステアリン漬オクチル、ステアリン
酸アミル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、ア
ンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビ
タントリステアレート、アンヒドロンルピタンテトラス
テアレート、ア/ヒドロソルビタンエチレンオキシドモ
ノステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコー
ル、ラウリルアルコール等が有シ単独若しくはくみあわ
せ便用出来る。また本発明に使用される潤滑剤としては
所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせて便用出米
、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆どめ剤(ナ
7テン戚、アルケニルコハク酸、ジラウリルフオスフエ
ート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール等)
、極圧削(ジベンジルスルフイド、トリクレジルフオス
フエート、トリフチルホスファイト等)、清浄分散剤、
粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡とめ剤等がある。こ
れらの潤滑剤はバインダー/00Nt部に対して0.0
!〜20重量部の範囲で添加される。
防止剤としては、二硫化モリブデン、窒化硼累、弗化黒
鉛、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ば化ケイン、酸化
チタン、酸化亜鉛、酸化錫、二硫化夕/グステン笠の無
機微粉末、アクリルスチレン系樹脂微粉末、ペンゾグア
ナミン系樹脂微粉末、メラミン系樹脂微粉末、ポリオレ
7イン系樹脂微粉末、ポリエステル系樹脂微粉末、ポリ
アミド系樹脂微粉末、ポリイミド系樹脂微粉末、ポリ弗
化エチレン系樹脂微粉末、シリコンオイル、脂肪酸変性
シリコンオイル、グラファイト、フッ素アルコール、ポ
リオレフイン(ポリエチレンワックス等)、ポリグリコ
ール(ポリエチレンオキシドワックス#)、テトラ7ル
オロエチレンオキシドワックス、ポリテトラフルオログ
リコール、パーフルオロ脂肪戚、パーフルオロ脂肪酸エ
ステル、パーフルオロアルキル硫酸エステル、パーフル
オロアルキル燐酸エステル、アルキル燐酸エステル、ポ
リフエニルエーテル、炭素数/ 0,20の一頃基性脂
肪酸と炭素数3〜/一個の一価のアルコールもしくは二
価のアルコール、三価のアルコール、四価のアルコール
、六価のアルコールのいスレカ1つもしくはλつ以上と
から成る脂肪酸エステル類、炭素数/0個以上の一塩基
性脂肪酸と該脂肪酸の炭素数と合計して炭素数が//〜
2Ir個と成る一価〜六価のアルコールから成る脂肪酸
エステル類等の有機化合物潤滑剤が使用できる。又、炭
素数!−ココの脂肪酸或いは脂肪酸アミド、脂肪族アル
コールも使用できる。これら有機化合物潤滑剤の具体例
としては、カブリル酸プチル、カプリル酸オクチル、ラ
ウリン酸エチル、ラウリン酸プチル、ラウリン酸オクチ
ル、ミリスチン酸エチル、ミリスチン酸プチル、ミリス
チン戚オクチル、パルミチン酸エチル、パルミチン酸プ
チル、パルミチン酸オクチル、ステアリン戚エチル、ス
テアリン酸プチル、ステアリン漬オクチル、ステアリン
酸アミル、アンヒドロソルビタンモノステアレート、ア
ンヒドロソルビタンジステアレート、アンヒドロソルビ
タントリステアレート、アンヒドロンルピタンテトラス
テアレート、ア/ヒドロソルビタンエチレンオキシドモ
ノステアレート、オレイルオレート、オレイルアルコー
ル、ラウリルアルコール等が有シ単独若しくはくみあわ
せ便用出来る。また本発明に使用される潤滑剤としては
所謂潤滑油添加剤も単独若しくはくみあわせて便用出米
、酸化防止剤(アルキルフェノール等)、錆どめ剤(ナ
7テン戚、アルケニルコハク酸、ジラウリルフオスフエ
ート等)、油性剤(ナタネ油、ラウリルアルコール等)
、極圧削(ジベンジルスルフイド、トリクレジルフオス
フエート、トリフチルホスファイト等)、清浄分散剤、
粘度指数向上剤、流動点降下剤、泡とめ剤等がある。こ
れらの潤滑剤はバインダー/00Nt部に対して0.0
!〜20重量部の範囲で添加される。
また、酸化防止材としてはペンゾトリアジン、ペンゾチ
アゾール、ペンゾジアジン,EDTA等の:41索環化
曾物、複素化合物を用いる事ができる。
アゾール、ペンゾジアジン,EDTA等の:41索環化
曾物、複素化合物を用いる事ができる。
本発明に用いる帯電防止剤としてはグラファイト、カー
ボンプラック、カーポンプラックグラフトポリマー、酸
化錫一酸化アンテモン、酸化錫、酸化チタン一酸化錫一
酸化アンテモン、等の41IL性粉末:サボニン等の天
然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセリン系
、グリシドール系、多価アルコール、多価アルコールエ
ステル、アルキルフェノールEO付加体等のノ二オン界
而活性剤;高級アル中ルアミン類、環状アミン、ヒダン
トイン訪導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級
アンモニウム塩類、ビリジンそのほかの複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性
剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基などの収性基を含むアニオン界面活性剤
iアミノ酸類;アミノスルホンI!fl、アミノアルコ
ールのtAdlまたは燐酸エステル類、アルキルペタイ
ン型等の両性界面活性剤等が使用される。これらの界面
活性剤は単独または混合して添加しても良い。また、こ
れらの界面活性剤は磁気記録媒体の表面に/In9/m
2〜1jaw/m2オーバーコートしても良い。
ボンプラック、カーポンプラックグラフトポリマー、酸
化錫一酸化アンテモン、酸化錫、酸化チタン一酸化錫一
酸化アンテモン、等の41IL性粉末:サボニン等の天
然界面活性剤;アルキレンオキサイド系、グリセリン系
、グリシドール系、多価アルコール、多価アルコールエ
ステル、アルキルフェノールEO付加体等のノ二オン界
而活性剤;高級アル中ルアミン類、環状アミン、ヒダン
トイン訪導体、アミドアミン、エステルアミド、第四級
アンモニウム塩類、ビリジンそのほかの複素環類、ホス
ホニウムまたはスルホニウム類、等のカチオン界面活性
剤;カルボン酸、スルホン酸、燐酸、硫酸エステル基、
燐酸エステル基などの収性基を含むアニオン界面活性剤
iアミノ酸類;アミノスルホンI!fl、アミノアルコ
ールのtAdlまたは燐酸エステル類、アルキルペタイ
ン型等の両性界面活性剤等が使用される。これらの界面
活性剤は単独または混合して添加しても良い。また、こ
れらの界面活性剤は磁気記録媒体の表面に/In9/m
2〜1jaw/m2オーバーコートしても良い。
磁気記録媒体における、これらの界面活性剤の使用量は
、強磁性粉末/00重量部当たりo.oi〜ioH部で
ある。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が、時としてそのほかの目的、V」えば分散、磁気特性
の改良、潤滑性の改良、堕布助剤として適用される場合
もある。
、強磁性粉末/00重量部当たりo.oi〜ioH部で
ある。これらは帯電防止剤として用いられるものである
が、時としてそのほかの目的、V」えば分散、磁気特性
の改良、潤滑性の改良、堕布助剤として適用される場合
もある。
本発明に使用されるカーボンプランクはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセテレンブ
ラックl’t用いる事ができる。これらカーボンブラッ
クの米国における略称の具体例をしめすとSAF% I
SAF,IISAF%T,H A F%SPF,FF,
FEF%}IMF,GPF,APF%SRF%MPF%
ECF,SCF,CF.ET,MT%IIcc,}ic
F%MCF%LFF,R C F等があり、米国のAS
TM規格のD一/76j−g2aに分類されているもの
を便用することができる。本発明に使用されるこれらカ
ーボンプラックの平均粒子サイズは、r,i,ooθミ
リミクロン(1!子顕微鏡)、窒素吸着去比表面積は/
〜/ ,100m2/f、P Hはλ〜l3(JIS
規格K−422/−/112法)、ジブfルフタレート
(DBP)吸油量は、j〜コ,000d//00t(J
IS規格K−62コ/−i5Pyλ法)である。本発明
に使用されるこれらカーボンプラックの含水率は、0.
00〜λOwtqbである。本発明に使用されるカーポ
ンプラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる
目的で、!〜/OOミリミクロンのカーボンプラックを
、また塗布膜の強度を制御するときによO〜i,o00
ミリミクロンのカーボンブラックをもちいる。
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセテレンブ
ラックl’t用いる事ができる。これらカーボンブラッ
クの米国における略称の具体例をしめすとSAF% I
SAF,IISAF%T,H A F%SPF,FF,
FEF%}IMF,GPF,APF%SRF%MPF%
ECF,SCF,CF.ET,MT%IIcc,}ic
F%MCF%LFF,R C F等があり、米国のAS
TM規格のD一/76j−g2aに分類されているもの
を便用することができる。本発明に使用されるこれらカ
ーボンプラックの平均粒子サイズは、r,i,ooθミ
リミクロン(1!子顕微鏡)、窒素吸着去比表面積は/
〜/ ,100m2/f、P Hはλ〜l3(JIS
規格K−422/−/112法)、ジブfルフタレート
(DBP)吸油量は、j〜コ,000d//00t(J
IS規格K−62コ/−i5Pyλ法)である。本発明
に使用されるこれらカーボンプラックの含水率は、0.
00〜λOwtqbである。本発明に使用されるカーポ
ンプラックのサイズは、塗布膜の表面電気抵抗を下げる
目的で、!〜/OOミリミクロンのカーボンプラックを
、また塗布膜の強度を制御するときによO〜i,o00
ミリミクロンのカーボンブラックをもちいる。
また塗布膜の表面粗さを制御する目的でスベーシングロ
ス減少のための平滑化の丸めにより微粒子のカーボンプ
ラック(iooミリミクロン以下)を、粗面化して摩擦
係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(10ミ
リミクロン以上)をもちいる。このようにカーボンプラ
ックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に
応じて使い分けられる。
ス減少のための平滑化の丸めにより微粒子のカーボンプ
ラック(iooミリミクロン以下)を、粗面化して摩擦
係数を下げる目的で粗粒子のカーボンブラック(10ミ
リミクロン以上)をもちいる。このようにカーボンプラ
ックの種類と添加量は磁気記録媒体に要求される目的に
応じて使い分けられる。
また、これらのカーボンプラックを、後述の分牧剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化してもよい。また
、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を2,o
oo 0c以上で処理して表面の一部tグラファイト
化したものも使用できる。
で表面処理したり、樹脂でグラフト化してもよい。また
、カーボンブラックを製造するときの炉の温度を2,o
oo 0c以上で処理して表面の一部tグラファイト
化したものも使用できる。
また、特殊なカーボンブラックとして中空カーボンブラ
ックを使用することもできる。
ックを使用することもできる。
これらのカーボンブラックは磁性層の場合強磁性粉末/
00重量部に対して0.7〜λO]it部で用いること
が望ましい。本発明に便用出来るカーボンプラック及び
カーボンプラックの動性直は例えば『カーボンプラック
便覧」、カーボンブラック協会編、(昭和≠6年発行)
を参考にすることが出米る。
00重量部に対して0.7〜λO]it部で用いること
が望ましい。本発明に便用出来るカーボンプラック及び
カーボンプラックの動性直は例えば『カーボンプラック
便覧」、カーボンブラック協会編、(昭和≠6年発行)
を参考にすることが出米る。
本発明に用いる磁性層とバック層の研磨剤としては一般
に匣用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、
α−アルミナ、r−アルミナ、α一γ−アルミナ、熔融
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コ
ランダム、人造ダイヤモンド、α一酸化鉄、ザクロ石、
エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネット
、ケイ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、トリポ
リ、ケインウ士、ドロマイト等で、王としてモース硬度
2以上より好ましくはモース硬度!以上の材料がl内至
+tBI迄の組合わせで使用される、これらの研磨剤は
平均粒子サイズが0.005〜!ミクロンの大きさのも
のが使用され、特に好ましくハ0 . 0 /〜λミク
ロンである。これらの研磨剤はバインダー/00重量部
に対して0.0/,20重址部の範囲で添加される。
に匣用される研磨作用若しくは琢磨作用をもつ材料で、
α−アルミナ、r−アルミナ、α一γ−アルミナ、熔融
アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、コ
ランダム、人造ダイヤモンド、α一酸化鉄、ザクロ石、
エメリー(主成分:コランダムと磁鉄鉱)、ガーネット
、ケイ石、窒化ケイ素、窒化硼素、炭化モリブデン、炭
化タングステン、チタンカーバイド、クオーツ、トリポ
リ、ケインウ士、ドロマイト等で、王としてモース硬度
2以上より好ましくはモース硬度!以上の材料がl内至
+tBI迄の組合わせで使用される、これらの研磨剤は
平均粒子サイズが0.005〜!ミクロンの大きさのも
のが使用され、特に好ましくハ0 . 0 /〜λミク
ロンである。これらの研磨剤はバインダー/00重量部
に対して0.0/,20重址部の範囲で添加される。
本発明の分散、混練、塗布の際に使用する有機溶媒とし
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルインプチルケトン、シクロヘキサノン、インホロン
、テトラヒドロフ2ン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロノノール、ブタノール、イソブチルアルコ
ール、インブロビルアルコール、メチルシクロヘキテノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソブロビル、乳酸:
r−fル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエス
テル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、クリ
コールジメチルエーテル、グリコ一ルモノエチルエーテ
ル、シオキサンナトのエーテル系;ベンゼン、トルエン
、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンナ
トのタール系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド
、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エ
チレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の壇索化炭
化水素、N.N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン
等のものが使用できる。
ては、任意の比率でアセトン、メチルエチルケトン、メ
チルインプチルケトン、シクロヘキサノン、インホロン
、テトラヒドロフ2ン等のケトン系;メタノール、エタ
ノール、プロノノール、ブタノール、イソブチルアルコ
ール、インブロビルアルコール、メチルシクロヘキテノ
ールなどのアルコール系;酢酸メチル、酢酸エチル、酢
酸ブチル、酢酸イソブチル、酢酸イソブロビル、乳酸:
r−fル、酢酸グリコールモノエチルエーテル等のエス
テル系;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、クリ
コールジメチルエーテル、グリコ一ルモノエチルエーテ
ル、シオキサンナトのエーテル系;ベンゼン、トルエン
、キシレン、クレゾール、クロルベンゼン、スチレンナ
トのタール系(芳香族炭化水素);メチレンクロライド
、エチレンクロライド、四塩化炭素、クロロホルム、エ
チレンクロルヒドリン、ジクロルベンゼン等の壇索化炭
化水素、N.N−ジメチルホルムアルデヒド、ヘキサン
等のものが使用できる。
混線の方法には特に制限はなく、また谷成分の添加順序
などは通宜設定することができる。磁性黴科およびバッ
ク層塗料の調製には通常の混線機、例えば、二本ロール
ミル、三本ロールミル、ボールミル、ペプルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ツエグバリ(Szegv
ari)、アトライタ、高速インペラー、分散機、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイス/κ− 二−ダ
ー、高速ミ(−9−− ’Jボンプレンダー コニー
ダ−、イ7テンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー
、デイス,e−ザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー
押し出し磯、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分
散機などを用いることができる。混線分散に関する技術
の詳細は、T.C.PATTON著(テーシー.パット
ン)“Paint Flow andPigmen
t Dispersion” (ペイント フロアン
ド ピグメント デイスバージョン)/タt弘年Joh
n Wiley & Sons社発行(ジョン ウイリ
ー アンド サンズ )や田中信一著「工業材料』コt
巻37(lタ77)などや当該誉籍の引用文献に記載さ
れてお9、連続処理の為これらの混線分散機を適宜組み
会わせ送液し塗布する。また、米国特許第211/弘l
弘号及び同第一1111116号などの明I@誓にも記
載がある。
などは通宜設定することができる。磁性黴科およびバッ
ク層塗料の調製には通常の混線機、例えば、二本ロール
ミル、三本ロールミル、ボールミル、ペプルミル、トロ
ンミル、サンドグラインダー、ツエグバリ(Szegv
ari)、アトライタ、高速インペラー、分散機、高速
ストーンミル、高速度衝撃ミル、デイス/κ− 二−ダ
ー、高速ミ(−9−− ’Jボンプレンダー コニー
ダ−、イ7テンシブミキサー、タンブラー、ブレンダー
、デイス,e−ザー、ホモジナイザー、単軸スクリュー
押し出し磯、二軸スクリュー押し出し機、及び超音波分
散機などを用いることができる。混線分散に関する技術
の詳細は、T.C.PATTON著(テーシー.パット
ン)“Paint Flow andPigmen
t Dispersion” (ペイント フロアン
ド ピグメント デイスバージョン)/タt弘年Joh
n Wiley & Sons社発行(ジョン ウイリ
ー アンド サンズ )や田中信一著「工業材料』コt
巻37(lタ77)などや当該誉籍の引用文献に記載さ
れてお9、連続処理の為これらの混線分散機を適宜組み
会わせ送液し塗布する。また、米国特許第211/弘l
弘号及び同第一1111116号などの明I@誓にも記
載がある。
本発明においても上記の書籍や当該書籍の引用文献など
に記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料およ
びバック層塗料を調製することができる。
に記載された方法に準じて混練分散を行い磁性塗料およ
びバック層塗料を調製することができる。
磁性層の形成は上記の組成などを任意に組合せて有機溶
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚みλ.!〜
/OOミクロン程度、好ましくは3〜70ミクロン程度
が良い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みがo.
oi〜iom程度であり、ドラムの場合は円筒状で用い
る事も出来る。素材としてはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポ
リプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフイン類、セル
ローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の
セルロースfIIJ体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、ボリアミ
ド、ボリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニウ
ム、鋼等の金嬉、ガラス号のセラミックス等も使用出米
る。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理
、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属
蒸着処理、アルカリ処理をおこなってもよい。
媒に溶解し、塗布溶液として支持体上に塗布・乾燥する
。テープとして使用する場合には支持体の厚みλ.!〜
/OOミクロン程度、好ましくは3〜70ミクロン程度
が良い。ディスクもしくはカード状の場合は厚みがo.
oi〜iom程度であり、ドラムの場合は円筒状で用い
る事も出来る。素材としてはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル類、ポ
リプロピレン、ポリエチレン等ポリオレフイン類、セル
ローストリアセテート、セルロースダイアセテート等の
セルロースfIIJ体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニ
リデン等のビニル系樹脂、ポリカーボネート、ボリアミ
ド、ボリスルホン等のプラスチックのほかにアルミニウ
ム、鋼等の金嬉、ガラス号のセラミックス等も使用出米
る。これらの支持体は塗布に先立って、コロナ放電処理
、プラズマ処理、下塗処理、熱処理、除塵埃処理、金属
蒸着処理、アルカリ処理をおこなってもよい。
支持体上へ前記の磁性層ならびにバック層を塗布する方
法としてはエアードクターコート、ブレードコート、エ
アナイ7コート、スクイズコート、含浸コート、リバー
スロールコート、トランスファーロールコート、グラビ
アコート、キスコート、キャストコート、スプレイコー
ト、バーコート、等が利用出来、その他の方法も可能で
あり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーティ
ング工学」2j3頁〜277頁(昭和弘6.3.20.
発行)に詳細に記載されている。
法としてはエアードクターコート、ブレードコート、エ
アナイ7コート、スクイズコート、含浸コート、リバー
スロールコート、トランスファーロールコート、グラビ
アコート、キスコート、キャストコート、スプレイコー
ト、バーコート、等が利用出来、その他の方法も可能で
あり、これらの具体的説明は朝倉書店発行の『コーティ
ング工学」2j3頁〜277頁(昭和弘6.3.20.
発行)に詳細に記載されている。
このような方法により、支持体上に塗布された磁性層は
必要によシ層中の彊磁性粉末を直ちに乾燥しなからPj
r望の方向へ配向させる処理を流したのち、形成した磁
性層を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常
/Om/分〜i,ooom/分でおこなわれ、乾燥温度
が20 0C〜/300Cで制御される。又必要により
表面平滑化加工を施したシ、所望の形状に歳断したシし
て、本発明の磁気記録体を製造する。これらの製造方法
はフイラーの表面処理、混線・分散、釜布、熱処理、カ
レンダー、EB処理、表面研磨処理、裁断の工程を連続
して行ラ事が好ましい。また必要に応じて幾つかに工程
を分ける事ができる。
必要によシ層中の彊磁性粉末を直ちに乾燥しなからPj
r望の方向へ配向させる処理を流したのち、形成した磁
性層を乾燥する。このときの支持体の搬送速度は、通常
/Om/分〜i,ooom/分でおこなわれ、乾燥温度
が20 0C〜/300Cで制御される。又必要により
表面平滑化加工を施したシ、所望の形状に歳断したシし
て、本発明の磁気記録体を製造する。これらの製造方法
はフイラーの表面処理、混線・分散、釜布、熱処理、カ
レンダー、EB処理、表面研磨処理、裁断の工程を連続
して行ラ事が好ましい。また必要に応じて幾つかに工程
を分ける事ができる。
これらの工程においては、温度、湿度が制御され、温度
は/ 0 ’C−/ J O ’C, fifld空f
i中の水分量で擬すと、j〜/ m 3〜20■/ m
3である。
は/ 0 ’C−/ J O ’C, fifld空f
i中の水分量で擬すと、j〜/ m 3〜20■/ m
3である。
(実施クリ)
以下に本発明を実施レ1]によシ更に具体的に説明する
。ここに示す成分、割合、操作)@序等は本発明の精神
から逸脱しない範囲において変更しうるものであること
は本業界に携わるものにとっては容易に理解されること
である。
。ここに示す成分、割合、操作)@序等は本発明の精神
から逸脱しない範囲において変更しうるものであること
は本業界に携わるものにとっては容易に理解されること
である。
従って、本発明は下記の実施例に制限されるべきではな
い。猶を、実施例中の部は重量部をしめす。
い。猶を、実施例中の部は重量部をしめす。
〔実施−1/]
下記磁性層組成物のCI)を二−ダーに入れ元分混練し
たあと〔■〕を追加投入し充分混疎し、殖布前に(11
11金入れ混合分散して磁性塗料を作成した。
たあと〔■〕を追加投入し充分混疎し、殖布前に(11
11金入れ混合分散して磁性塗料を作成した。
CI)Co含有r−Fe203粉末 300部(窒素
吸層比表面積二グj m 2/t粉末Hc:タ0 0
0e ) 塩化ビニル樹脂 31部( SO3H
、エボキシ基含有、 MR/ / 0,日本ゼオン社製) ポリウレタン樹脂 it部(クリスボン
720タ、 大日本インキ社製) カーボン・ブラック l2部(バルカンX
C7λ、キャポット社製、平均粒子サイズ30mμ) 研磨剤: (1−AI203 / 1部(
住友化学社製、HIT/OO) 研磨剤:Cr203 3部(日本化
学工業製、Sl 平均粒子サイズ0./μm) オレイン酸 3部シクロヘキ
サノン ljO部(n)酢酸プチル
r.to部ミリスチン酸tertプチル
3部CI[[]ボリイソシアネート
21部(コロネート30401バイエル社製)ス
テアリン改 3部酢酸プチル
ioo部この磁性塗料を粘度al4祭
した後/タμmの非磁性支持体のポリエチレンテレフタ
レート上に乾燥膜厚よ.Oμmで塗布し、そのVI1i
,oooガウスの磁石で磁場配向したあと乾燥し、引き
続きカレンダーをかけて磁性1−を作成した。引き続き
磁性層を設けた非磁性支持体の裏側面に、下記バック組
成物[:IJをポール・ミルで混線分散し〔■〕を加え
て混合攪拌してバックg.ヲvI4整し乾燥膜厚みλ,
OμmK塗布してパンク層を設けた。
吸層比表面積二グj m 2/t粉末Hc:タ0 0
0e ) 塩化ビニル樹脂 31部( SO3H
、エボキシ基含有、 MR/ / 0,日本ゼオン社製) ポリウレタン樹脂 it部(クリスボン
720タ、 大日本インキ社製) カーボン・ブラック l2部(バルカンX
C7λ、キャポット社製、平均粒子サイズ30mμ) 研磨剤: (1−AI203 / 1部(
住友化学社製、HIT/OO) 研磨剤:Cr203 3部(日本化
学工業製、Sl 平均粒子サイズ0./μm) オレイン酸 3部シクロヘキ
サノン ljO部(n)酢酸プチル
r.to部ミリスチン酸tertプチル
3部CI[[]ボリイソシアネート
21部(コロネート30401バイエル社製)ス
テアリン改 3部酢酸プチル
ioo部この磁性塗料を粘度al4祭
した後/タμmの非磁性支持体のポリエチレンテレフタ
レート上に乾燥膜厚よ.Oμmで塗布し、そのVI1i
,oooガウスの磁石で磁場配向したあと乾燥し、引き
続きカレンダーをかけて磁性1−を作成した。引き続き
磁性層を設けた非磁性支持体の裏側面に、下記バック組
成物[:IJをポール・ミルで混線分散し〔■〕を加え
て混合攪拌してバックg.ヲvI4整し乾燥膜厚みλ,
OμmK塗布してパンク層を設けた。
バンク層組成物
(1)カーボン・ブラック rz部(MT
CI: 室素吸着比表面積: /Om2/t 平均粒子サイズ2jOmμ セバルコ社製) カーボン・ブラック /よ部(コンダクテ
ツクスSC 窒素吸着比表面積: 2 0 0 m2/f平均粒子サ
イズ2omμ コロンビアン社製) ポリウレタンボリカーボネート樹脂 35部(FJ2、
大日精化社製) フエノキシ樹脂 /0部(PKHH, ユニオンカーバイド社#!) オレイ/酸銅 0./部メチルエチル
ケトン 7oo部シクロヘキサノン
300部(If)ポリインシアネー}
10部(コロネート30弘01 日本ポリウレタ
ン社製) 潤滑剤 O・/部(シリコーン
、KFAタ、 信越化学社製) 潤滑剤 1部(オレイン酸
) メチルエチルケトン ioo部この後、lイ
ンチ幅にスリットして、ビデオ・テ一プを製造し次。
CI: 室素吸着比表面積: /Om2/t 平均粒子サイズ2jOmμ セバルコ社製) カーボン・ブラック /よ部(コンダクテ
ツクスSC 窒素吸着比表面積: 2 0 0 m2/f平均粒子サ
イズ2omμ コロンビアン社製) ポリウレタンボリカーボネート樹脂 35部(FJ2、
大日精化社製) フエノキシ樹脂 /0部(PKHH, ユニオンカーバイド社#!) オレイ/酸銅 0./部メチルエチル
ケトン 7oo部シクロヘキサノン
300部(If)ポリインシアネー}
10部(コロネート30弘01 日本ポリウレタ
ン社製) 潤滑剤 O・/部(シリコーン
、KFAタ、 信越化学社製) 潤滑剤 1部(オレイン酸
) メチルエチルケトン ioo部この後、lイ
ンチ幅にスリットして、ビデオ・テ一プを製造し次。
実施例/において、バック層のバインダーを第l表のよ
うに変更してテープを作成し他は実施例/と同様にサン
プルを作成した。
うに変更してテープを作成し他は実施例/と同様にサン
プルを作成した。
〔実施例3〕
実施例/に2いて、バック層のバインダーを塩化ビニル
酢酸ビニル樹脂(SO3H,エポキシ基含有、MR/
t o,日本ゼオン社製)j部、ポリウレタン樹脂(ク
リスボン720タ、大日本インキ社製)/弘部、ポリイ
ソシアネート(コロネート30ψ01日本ポリウレタン
社製)7部に変更してテープを作成し池は実施例lと同
様にサンプルを作成した。
酢酸ビニル樹脂(SO3H,エポキシ基含有、MR/
t o,日本ゼオン社製)j部、ポリウレタン樹脂(ク
リスボン720タ、大日本インキ社製)/弘部、ポリイ
ソシアネート(コロネート30ψ01日本ポリウレタン
社製)7部に変更してテープを作成し池は実施例lと同
様にサンプルを作成した。
次の組成物をボールミルに入れ、弘t時間混線分散した
後、ポリインンアネート化会物(日本ポリウレタンKK
製[コロネー}L−7jJ/0部を加えて更に/時間混
線分散した。混線分散後、/μの平均孔径を有するフィ
ルターで戸過し、磁性層用塗布液とした。
後、ポリインンアネート化会物(日本ポリウレタンKK
製[コロネー}L−7jJ/0部を加えて更に/時間混
線分散した。混線分散後、/μの平均孔径を有するフィ
ルターで戸過し、磁性層用塗布液とした。
Co含有r−FezOa粉末
ioo部
塩化ビニルー酢酸ビニルー無水マレインlj部
酸共重合体( [−MPR−TMJ日信化学製)ニトロ
セルロース j部ポリウレタン樹
脂 6部(「クリスボン4//P
j大日本インギ製)カーボンプラック
3部(平均粒子サイズ 20mμ) 酸化クロム 3部オレイン
酸 λ部ブテルステアレ
ート 1部ステアリンiR
O−’部脂肪酸変性シリコーン
2部オレイン酸アミド
O.t部酢酸プチル コ弘θ部
メチルエチルケトン /20部上記の磁
性層用塗布液を20μのポリエチレンテレフタレート基
体表面に乾燥厚が6μになるようにリバースロールで塗
布、乾燥して、下記の組成のバック層用塗布液をボール
ミルで70時間混線分散した後、ポリイソシアネート化
合物([コロネートL7!4日本ポリウレタンKK製)
/j部を加えて更に1時間混線分散し、混線分散後、3
μの平均孔径全有するフィルターで一過し、バック層用
堕布液とした。このバック層用塗布液を磁性層と逆のポ
リエチレンテレフタレート基体上K乾燥厚がλμになる
ようにリバースロールで塗布乾燥した。
セルロース j部ポリウレタン樹
脂 6部(「クリスボン4//P
j大日本インギ製)カーボンプラック
3部(平均粒子サイズ 20mμ) 酸化クロム 3部オレイン
酸 λ部ブテルステアレ
ート 1部ステアリンiR
O−’部脂肪酸変性シリコーン
2部オレイン酸アミド
O.t部酢酸プチル コ弘θ部
メチルエチルケトン /20部上記の磁
性層用塗布液を20μのポリエチレンテレフタレート基
体表面に乾燥厚が6μになるようにリバースロールで塗
布、乾燥して、下記の組成のバック層用塗布液をボール
ミルで70時間混線分散した後、ポリイソシアネート化
合物([コロネートL7!4日本ポリウレタンKK製)
/j部を加えて更に1時間混線分散し、混線分散後、3
μの平均孔径全有するフィルターで一過し、バック層用
堕布液とした。このバック層用塗布液を磁性層と逆のポ
リエチレンテレフタレート基体上K乾燥厚がλμになる
ようにリバースロールで塗布乾燥した。
メルク(日本メルク製) to部ポリウ
レタン樹脂 47部([ニツボラン
ーλ304AJ日本ポリウレタン製)サランレジン
3λ部(lF−3/OJ旭ダウ製
) オレイン酸 0.2部オレイ
ン酸アミド O.よ部メチルエチルケ
トy zoo部酢酸プチル
100部シクロヘキサン
リO部このテープをスーパーカレンダーロール
処理を行ない、その後l吋巾にスリットして、サンプル
を作成した。
レタン樹脂 47部([ニツボラン
ーλ304AJ日本ポリウレタン製)サランレジン
3λ部(lF−3/OJ旭ダウ製
) オレイン酸 0.2部オレイ
ン酸アミド O.よ部メチルエチルケ
トy zoo部酢酸プチル
100部シクロヘキサン
リO部このテープをスーパーカレンダーロール
処理を行ない、その後l吋巾にスリットして、サンプル
を作成した。
磁性層、バック層の表面自由エネルギーはノκ一キンエ
ルマーのゴニオメーターを用い、23 °C7θチで「
入門高分子物性」(共立出版株式会社/タrr年)の第
tri〜tz頁の記載に基づき、接触角を水、ヨウ化メ
チレ/、エチレングリコールKついて測定し,Fowk
es式によって求めた。
ルマーのゴニオメーターを用い、23 °C7θチで「
入門高分子物性」(共立出版株式会社/タrr年)の第
tri〜tz頁の記載に基づき、接触角を水、ヨウ化メ
チレ/、エチレングリコールKついて測定し,Fowk
es式によって求めた。
実施例3において、バツクノーのバインダー全表lのよ
うに変更してテープを作成し池は実施例lと同様にサン
プルを作成した。
うに変更してテープを作成し池は実施例lと同様にサン
プルを作成した。
〔比較例3〕
実施?IJ/において、スーパーカレンダー条件を20
?01線圧3ooゆ/譚から、4!’C,線圧300k
9/cmに変更してテープを作成し他は実施例/と同様
Kサンプルを作成した。
?01線圧3ooゆ/譚から、4!’C,線圧300k
9/cmに変更してテープを作成し他は実施例/と同様
Kサンプルを作成した。
ドロップ・アウト( D.0.)
室温(23 °C,≠θ%R}{)に於いて、ソニー製
のBvHj00のVTRでドロップ・アウトを測定(初
期[)シた後、繰シ返し走行200パスし、ビデオ・テ
ープt−4A0 0C%to%RH(相対湿度)で1週
間保管後室温に戻し、再びドロップ・アウトを測定(径
時1直)し、l分間あたシのドロップ・アウトの経時値
とドロップ・アウトの初期須との差の個数を求めた。
のBvHj00のVTRでドロップ・アウトを測定(初
期[)シた後、繰シ返し走行200パスし、ビデオ・テ
ープt−4A0 0C%to%RH(相対湿度)で1週
間保管後室温に戻し、再びドロップ・アウトを測定(径
時1直)し、l分間あたシのドロップ・アウトの経時値
とドロップ・アウトの初期須との差の個数を求めた。
RF出力
上記テストf3tJ後でのRF出力を相対値で求めた。
本発明の磁気記録媒体は第l表の実施例から明らかなよ
うに、ドロップ・アウト,RF出力特性が優れ次性能を
示している。比蚊レリ/〜3の@会は、磁気記録媒体の
磁性層とバック層の各々の表面自由エネルギーのバラン
スが不適切であると認められる。また比dIR例3の場
会磁性層の各々の表面自由エネルギーのバランスが適切
であっても表面光沢籠が不通切であり本発明の有効性が
裏付けられる。
うに、ドロップ・アウト,RF出力特性が優れ次性能を
示している。比蚊レリ/〜3の@会は、磁気記録媒体の
磁性層とバック層の各々の表面自由エネルギーのバラン
スが不適切であると認められる。また比dIR例3の場
会磁性層の各々の表面自由エネルギーのバランスが適切
であっても表面光沢籠が不通切であり本発明の有効性が
裏付けられる。
特粁出願人 富士写真フイルム株式会社手続補正書
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)強磁性粉末、バインダー、カーボンブラック、研磨
剤、潤滑剤を含む磁性層を非磁性支持体上に設け、バイ
ンダー、カーボンブラックを含むバック層を磁性層とは
反対面の前記非磁性支持体上に設けた磁気記録媒体にお
いて、前記磁性層の表面自由エネルギーより前記バック
層の表面自由エネルギーの方が1dyn/cm以上大き
く、かつ前記磁性層の光沢が150以上であり、前記バ
ック層の光沢が2〜7であることを特徴とする磁気記録
媒体、 2)前記磁性層の表面自由エネルギーが40〜55dy
n/cmで、その表面電気抵抗が5×10^1^0Ω/
cm^2以下であり、前記バック層の表面自由エネルギ
ーが45〜60dyn/cmであり、その表面電気抵抗
が1×10^5Ω/cm^2以下であることを特徴とす
る請求項1項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5345089A JP2632036B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 磁気記録媒体 |
US07/466,547 US5063105A (en) | 1989-01-17 | 1990-01-17 | Magnetic recording medium in which certain physical properties of the magnetic layer and the backcoat layer are specified |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5345089A JP2632036B2 (ja) | 1989-03-06 | 1989-03-06 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02232811A true JPH02232811A (ja) | 1990-09-14 |
JP2632036B2 JP2632036B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=12943192
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5345089A Expired - Fee Related JP2632036B2 (ja) | 1989-01-17 | 1989-03-06 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2632036B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017157251A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
JP2017157252A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
JP2017157253A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
-
1989
- 1989-03-06 JP JP5345089A patent/JP2632036B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017157251A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
JP2017157252A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
JP2017157253A (ja) * | 2016-02-29 | 2017-09-07 | 富士フイルム株式会社 | 磁気テープ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2632036B2 (ja) | 1997-07-16 |
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Legal Events
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