JPH0222837A - ウエハプロービング装置 - Google Patents
ウエハプロービング装置Info
- Publication number
- JPH0222837A JPH0222837A JP63173413A JP17341388A JPH0222837A JP H0222837 A JPH0222837 A JP H0222837A JP 63173413 A JP63173413 A JP 63173413A JP 17341388 A JP17341388 A JP 17341388A JP H0222837 A JPH0222837 A JP H0222837A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- stage
- inspection
- alignment
- suction device
- Prior art date
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- Pending
Links
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 14
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 55
- 238000012360 testing method Methods 0.000 claims description 11
- 238000007689 inspection Methods 0.000 abstract description 21
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
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- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Testing Of Individual Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はウェハプロービング装置に関し、特にウェハ
状態にある半導体集積回路の検査装置の改良に関するも
のである。
状態にある半導体集積回路の検査装置の改良に関するも
のである。
半導体製造装置である従来“のウェハプロービング装置
の機構を示す平面図を第3図に示す0図において(1)
は被検査ウェハを供給する供給カセット。
の機構を示す平面図を第3図に示す0図において(1)
は被検査ウェハを供給する供給カセット。
(2)は検査流ウェハを収納するための収納カセット・
(3)はウェハを供給カセット(1)からアライメント
部(8)へ搬送するための搬送ベルト、(4)は検査流
ウェハを収納カセット(2)まで搬送するベルト搬送系
、(7)はウェハを保持するステージ、(5)(6)は
搬送ベルト系(4)とステージ(7)間を運ぶ吸着装置
、(9)はステージを移動させる移動機構、 QOはI
Cテスターとの接続を行う探針装置の設けられた検査領
域である。アライメント部(8)はステージ(7)上の
ウェハの位置合せを行う。
(3)はウェハを供給カセット(1)からアライメント
部(8)へ搬送するための搬送ベルト、(4)は検査流
ウェハを収納カセット(2)まで搬送するベルト搬送系
、(7)はウェハを保持するステージ、(5)(6)は
搬送ベルト系(4)とステージ(7)間を運ぶ吸着装置
、(9)はステージを移動させる移動機構、 QOはI
Cテスターとの接続を行う探針装置の設けられた検査領
域である。アライメント部(8)はステージ(7)上の
ウェハの位置合せを行う。
次に動作について説明する。供給カセット(1)より搬
送ベルト(3)により運ばれたウェハは吸着装置(5)
によりステージ(7)に搭載されアライメント部(8)
で詳細な位置合せが行なわれ、位置合せの完了後検査領
域Q1に運ばれ、探針装置を介してICテスターにより
電気的測定が行われる。個々の半導体素子の検査を行う
検査領域Q1に運ばれたウェハは、ブロービング装置か
らの制御信号によりICテスター側で検査をスタートし
、ICテスター側からの検査の完了信号により、次の試
験素子を探針装置の位置へ移動する。被試験ウェハ上の
すべての半導体素子の検査が上記動作の繰り返しで行わ
れた後、収納を行う吸着装置(6)によりステージ(7
)から運ばれ、ベルト搬送系(4)により収納カセット
(2)へ収納される、この後供給カセット(1)より次
の被検査ウェハが供給され検査を行う。この一連の動作
の繰り返しにより複数枚のウェハの検査が完了する。
送ベルト(3)により運ばれたウェハは吸着装置(5)
によりステージ(7)に搭載されアライメント部(8)
で詳細な位置合せが行なわれ、位置合せの完了後検査領
域Q1に運ばれ、探針装置を介してICテスターにより
電気的測定が行われる。個々の半導体素子の検査を行う
検査領域Q1に運ばれたウェハは、ブロービング装置か
らの制御信号によりICテスター側で検査をスタートし
、ICテスター側からの検査の完了信号により、次の試
験素子を探針装置の位置へ移動する。被試験ウェハ上の
すべての半導体素子の検査が上記動作の繰り返しで行わ
れた後、収納を行う吸着装置(6)によりステージ(7
)から運ばれ、ベルト搬送系(4)により収納カセット
(2)へ収納される、この後供給カセット(1)より次
の被検査ウェハが供給され検査を行う。この一連の動作
の繰り返しにより複数枚のウェハの検査が完了する。
従来のウェハプロービング装置は以上のように構成され
ているので被検査ウェハが搬送、位置合せを完了し検査
領域に運ばれるまでICテスターは待機しなければなら
ず、また検査完了後の搬送処理時間等の時間を費やさな
ければならない。また半導体集積回路の高集積化により
位置合せに要する時間も大きくなり、歩留りの低い素子
の検査では検査全体に占めるICテスターの稼動時間が
少なくなり生産コストが増大などの問題点があつた。
ているので被検査ウェハが搬送、位置合せを完了し検査
領域に運ばれるまでICテスターは待機しなければなら
ず、また検査完了後の搬送処理時間等の時間を費やさな
ければならない。また半導体集積回路の高集積化により
位置合せに要する時間も大きくなり、歩留りの低い素子
の検査では検査全体に占めるICテスターの稼動時間が
少なくなり生産コストが増大などの問題点があつた。
この発明は上記のような問題点を解消するためになされ
たもので、ウェハ状態の半導体素子の検査を効率的に実
施できるとともに、半導体素子の生産コストを低減でき
るウェハプロービング装置を得ることを目的とする。
たもので、ウェハ状態の半導体素子の検査を効率的に実
施できるとともに、半導体素子の生産コストを低減でき
るウェハプロービング装置を得ることを目的とする。
この発明に係るウェハプロービング装置は、ウェハを保
持するステージと、上記ステージを移動する機構を、検
査領域にあるウェハ及びステージの位置制御を行う機構
、検査完了ウェハの不良マーキングやウェハの供給、収
納、アライメントに関する位置制御機構に分割するとと
もに、ウェハを保持するステージを複数個設は互いの機
構間の移動を可能にしたものである。
持するステージと、上記ステージを移動する機構を、検
査領域にあるウェハ及びステージの位置制御を行う機構
、検査完了ウェハの不良マーキングやウェハの供給、収
納、アライメントに関する位置制御機構に分割するとと
もに、ウェハを保持するステージを複数個設は互いの機
構間の移動を可能にしたものである。
この発明における第1の機構は、ICテスターからの信
号とプローバーからの制御信号により被検査ウェハの検
査のための位置制御を実施する。
号とプローバーからの制御信号により被検査ウェハの検
査のための位置制御を実施する。
第2の機構は上記第1の機構の動作の有無を問わず同一
時に独自に動作し、またウェハプロービング装置からの
制御信号に基づき動作する。ウェハ保持ステージは2つ
の移動機構によりウェハの供給部、アライメント部、検
査領域、収納部を互いに移動ができる。
時に独自に動作し、またウェハプロービング装置からの
制御信号に基づき動作する。ウェハ保持ステージは2つ
の移動機構によりウェハの供給部、アライメント部、検
査領域、収納部を互いに移動ができる。
以下、この発明に係る半導体製造装置の一実施例を図に
ついて説明する。第1図はウェハプロービング装置を示
す平面図、第2図は第1図の■・■における断面図で、
共に一部省略して表わしたものである。図中(1)〜(
6) I (8) j QOは第3図の従来例に示した
ものと同等であるので説明を省略する。
ついて説明する。第1図はウェハプロービング装置を示
す平面図、第2図は第1図の■・■における断面図で、
共に一部省略して表わしたものである。図中(1)〜(
6) I (8) j QOは第3図の従来例に示した
ものと同等であるので説明を省略する。
(7a) 、 (’yb)はウェハを保持するステージ
、(9a) 。
、(9a) 。
(9b)は駆動力により平面上を移動することのできる
移動機構、@はウェハプローバーのステージ移動範囲を
定める固定軸である。αυはウェハ保持をするステージ
(7a) 、 (7b)とそれを移動する移動機構(9
a)、(9b)との接続、分離を行うための保持台であ
る。(lla)、(flb)は移動機構(9a) (9
b)が(7a) (7b)のステージを移動するための
ポイントを示す。
移動機構、@はウェハプローバーのステージ移動範囲を
定める固定軸である。αυはウェハ保持をするステージ
(7a) 、 (7b)とそれを移動する移動機構(9
a)、(9b)との接続、分離を行うための保持台であ
る。(lla)、(flb)は移動機構(9a) (9
b)が(7a) (7b)のステージを移動するための
ポイントを示す。
次に動作について説明する。このようなウェハプロービ
ング装置においては、供給カセット(1)から搬送ベル
ト(3)により運ばれたウェハは吸着装置(5)により
、ステージ(7a)に搭載される。ステージ(7a)は
移動機構(9a)によりアライメント部(8)に運ばれ
、詳細な位置合せが行われる。位置合せ完了後、ポイン
ト(lla)で移動機構(9a)に基づく制御を離れ、
移動機構、(9b)により検査領域QOに移動しウェハ
の検査がスタートする。移動機構(9a)はポイント(
llb)に移動し、ステージ(7a)を制御し、収納側
の吸着装置(6)によりステージ(7b)より検査完了
流ウェハをベルト搬送系(4)で収納カセット(2)に
収納する。検査法ウェハを吸着装置(6)に渡したのち
、ステージ(7b)は供給側の吸着装置(5)によりウ
ェハを受は取りアライメント部(8)へ移動する。
ング装置においては、供給カセット(1)から搬送ベル
ト(3)により運ばれたウェハは吸着装置(5)により
、ステージ(7a)に搭載される。ステージ(7a)は
移動機構(9a)によりアライメント部(8)に運ばれ
、詳細な位置合せが行われる。位置合せ完了後、ポイン
ト(lla)で移動機構(9a)に基づく制御を離れ、
移動機構、(9b)により検査領域QOに移動しウェハ
の検査がスタートする。移動機構(9a)はポイント(
llb)に移動し、ステージ(7a)を制御し、収納側
の吸着装置(6)によりステージ(7b)より検査完了
流ウェハをベルト搬送系(4)で収納カセット(2)に
収納する。検査法ウェハを吸着装置(6)に渡したのち
、ステージ(7b)は供給側の吸着装置(5)によりウ
ェハを受は取りアライメント部(8)へ移動する。
アライメント完了後ステージ(7b)はポイント(ll
a)で待機する。一方検査中のウェハを搭載したステー
ジ(7a)、移動機構(9b)はICテスターとの相互
信号によりウェハの検査を実施し、完了後移動機構(9
b)によりポイント(11b)まで移動し、移動機構(
9a) 、 (9b)は互イニポイント(lla)*(
llb)で検査法ウェハの処理と次の検査ウェハの処理
をスタートする。このようにして全ウェハの検査が実行
される。
a)で待機する。一方検査中のウェハを搭載したステー
ジ(7a)、移動機構(9b)はICテスターとの相互
信号によりウェハの検査を実施し、完了後移動機構(9
b)によりポイント(11b)まで移動し、移動機構(
9a) 、 (9b)は互イニポイント(lla)*(
llb)で検査法ウェハの処理と次の検査ウェハの処理
をスタートする。このようにして全ウェハの検査が実行
される。
なお、上記実施例では、ウェハを保持するステージ及び
移動機構を各々2つの場合について説明したが、ウェハ
プローバーの機能例えば、不良マーキングを検査完了後
側の機能として実施する場合などマーキング機構専用の
ステージ、移動機構を設けるなど、複数の制御機能を設
けてもよい。
移動機構を各々2つの場合について説明したが、ウェハ
プローバーの機能例えば、不良マーキングを検査完了後
側の機能として実施する場合などマーキング機構専用の
ステージ、移動機構を設けるなど、複数の制御機能を設
けてもよい。
以上のように、この発明によれば、ウェハを保持するス
テージと上記ステージを制御に基づいて移動する機構を
、検査領域における制御領域と、検査のためのアライメ
ント、不良マーキング領域での制御領域に分割し、独自
に制御することが可能なように構成したので、ウェハ状
態の半導体素子の検査を効率的に実施でき、また、半導
体素子の生産コストを低減する効果がある。
テージと上記ステージを制御に基づいて移動する機構を
、検査領域における制御領域と、検査のためのアライメ
ント、不良マーキング領域での制御領域に分割し、独自
に制御することが可能なように構成したので、ウェハ状
態の半導体素子の検査を効率的に実施でき、また、半導
体素子の生産コストを低減する効果がある。
第1図はこの発明に係る半導体製造装置の一実施例によ
るウェハプロービング装置を示す平面図、第2図は第1
図のI−Iにおける断面図、第3図は従来のウェハプロ
ービング装置を示す平面図である。 図において(1)は供給カセット、(2)は収納カセッ
ト、(3)は搬送ベルト、(4)はベルト搬送系、(5
) I (6)は吸着装置、(7a)、(7b)はステ
ージ、(8)はアライメント部、(9a) 、 (9b
)は移動機構、α1は検査領域、aυは保持台、(ll
a)、(llb)はポイント、(6)は固定軸である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
るウェハプロービング装置を示す平面図、第2図は第1
図のI−Iにおける断面図、第3図は従来のウェハプロ
ービング装置を示す平面図である。 図において(1)は供給カセット、(2)は収納カセッ
ト、(3)は搬送ベルト、(4)はベルト搬送系、(5
) I (6)は吸着装置、(7a)、(7b)はステ
ージ、(8)はアライメント部、(9a) 、 (9b
)は移動機構、α1は検査領域、aυは保持台、(ll
a)、(llb)はポイント、(6)は固定軸である。 なお、図中、同一符号は同一、又は相当部分を示す。
Claims (1)
- ウェハ状態にある半導体素子を検査するウェハプロービ
ング装置において、ICテスターと半導体素子との電気
的接続を行う探針装置の設けられた検査領域におけるI
Cテスターとの制御による半導体素子を搭載したウェハ
の位置制御をするための機構と、検査ウェハの供給、収
納、及び詳細なアライメントを行うための機構とを複数
備え、上記複数の機構が独立して動作可能とする制御機
能を備えたウェハプロービング装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63173413A JPH0222837A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | ウエハプロービング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP63173413A JPH0222837A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | ウエハプロービング装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0222837A true JPH0222837A (ja) | 1990-01-25 |
Family
ID=15959975
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP63173413A Pending JPH0222837A (ja) | 1988-07-11 | 1988-07-11 | ウエハプロービング装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0222837A (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5604444A (en) * | 1992-06-11 | 1997-02-18 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US5963027A (en) * | 1997-06-06 | 1999-10-05 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having environment control chambers with orthogonally flexible lateral wall assembly |
US6002263A (en) * | 1997-06-06 | 1999-12-14 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having inner and outer shielding |
US6313649B2 (en) | 1992-06-11 | 2001-11-06 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US6380751B2 (en) | 1992-06-11 | 2002-04-30 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
-
1988
- 1988-07-11 JP JP63173413A patent/JPH0222837A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6636059B2 (en) | 1992-06-11 | 2003-10-21 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US6380751B2 (en) | 1992-06-11 | 2002-04-30 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US7009383B2 (en) | 1992-06-11 | 2006-03-07 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US6801047B2 (en) | 1992-06-11 | 2004-10-05 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US6313649B2 (en) | 1992-06-11 | 2001-11-06 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US5604444A (en) * | 1992-06-11 | 1997-02-18 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US6486687B2 (en) | 1992-06-11 | 2002-11-26 | Cascade Microtech, Inc. | Wafer probe station having environment control enclosure |
US5963027A (en) * | 1997-06-06 | 1999-10-05 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having environment control chambers with orthogonally flexible lateral wall assembly |
US6639415B2 (en) | 1997-06-06 | 2003-10-28 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having multiple enclosures |
US6362636B1 (en) | 1997-06-06 | 2002-03-26 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having multiple enclosures |
US6489789B2 (en) | 1997-06-06 | 2002-12-03 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having multiple enclosures |
US6252392B1 (en) | 1997-06-06 | 2001-06-26 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having environment control chamber with bendably extensible and retractable lateral wall assembly |
US6842024B2 (en) | 1997-06-06 | 2005-01-11 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having multiple enclosures |
US6002263A (en) * | 1997-06-06 | 1999-12-14 | Cascade Microtech, Inc. | Probe station having inner and outer shielding |
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