JPH02223587A - カルバペネム誘導体 - Google Patents
カルバペネム誘導体Info
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
Landscapes
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明は、2位に二環性複素環チオ基を、1位にアルキ
ル基をもつカルバペネム誘導体I及びその塩に関するも
のである。
ル基をもつカルバペネム誘導体I及びその塩に関するも
のである。
〈従来の技術〉
従来から広く使用されている有力な抗生物質には抗菌ス
ペクトルの広いペニシリン、セファロスポリン系抗生物
質がある。これらは各種感染症に対し優れた効果を発揮
してぎた。しかし、有効な抗菌剤が次々に使用されるた
め病原菌の耐性株を生じ、このため新しい抗菌剤の必要
が絶えず生じる。即ち、上記ペニシリン、セファロスポ
リン系抗生物質でも、耐性菌の出現のため抗菌スペクト
ル、抗菌活性、体内動態あるいは安全性などの面で、必
ずしも満足度は高くない。
ペクトルの広いペニシリン、セファロスポリン系抗生物
質がある。これらは各種感染症に対し優れた効果を発揮
してぎた。しかし、有効な抗菌剤が次々に使用されるた
め病原菌の耐性株を生じ、このため新しい抗菌剤の必要
が絶えず生じる。即ち、上記ペニシリン、セファロスポ
リン系抗生物質でも、耐性菌の出現のため抗菌スペクト
ル、抗菌活性、体内動態あるいは安全性などの面で、必
ずしも満足度は高くない。
チェナマイシンはカルバペネム誘導体の一種で(特開昭
51−73191号)、ペニシリン、セファロスポリン
系抗生物質の耐性菌に対しても感受性を示し、広い抗菌
スペクトルを有する。このものの発見以来、カルバペネ
ム誘導体の合成研究および類似の骨格を持つ化合物の合
成研究が盛んに行われている。しかし、従来公知のカル
バペネム系、ペネム系抗生物質は物理化学的に不安定で
あり、腎臓のデヒドロペプチダーゼなどにより分解を受
は易く、医薬品として評価の高い化合物は得られていな
い。
51−73191号)、ペニシリン、セファロスポリン
系抗生物質の耐性菌に対しても感受性を示し、広い抗菌
スペクトルを有する。このものの発見以来、カルバペネ
ム誘導体の合成研究および類似の骨格を持つ化合物の合
成研究が盛んに行われている。しかし、従来公知のカル
バペネム系、ペネム系抗生物質は物理化学的に不安定で
あり、腎臓のデヒドロペプチダーゼなどにより分解を受
は易く、医薬品として評価の高い化合物は得られていな
い。
〈発明が解決しようとする問題点さ
感染症の治療には抗生物質が有効であるが、方で耐性菌
の出現という問題があり、これは広い抗菌スペクトルを
有するものとして多用されてきたペニシリン、セファロ
スポリン系抗生物質についても例外ではなく、耐性菌の
出現に伴い抗菌スペクトルなどの点で問題となっている
。
の出現という問題があり、これは広い抗菌スペクトルを
有するものとして多用されてきたペニシリン、セファロ
スポリン系抗生物質についても例外ではなく、耐性菌の
出現に伴い抗菌スペクトルなどの点で問題となっている
。
本発明の目的は広い抗菌スペクトルを有し、ペニシリン
、セファロスポリン系抗生物質の耐性菌に対しても感受
性を示し、しかも物理化学的性質においても有利な新し
い抗生物質を提供することにある。
、セファロスポリン系抗生物質の耐性菌に対しても感受
性を示し、しかも物理化学的性質においても有利な新し
い抗生物質を提供することにある。
く問題点を解決するための手段〉
本研究者らは鋭意研究を重ねた結果、次の一般式■を有
するカルバペネム84体は、ダラム陽性菌、陰性菌に対
して強力な抗菌活性を示し、また偏性嫌気性菌に対して
も高活性を示し、更に、ペニシリン、セファロスポリン
耐性菌にも高い感受性を示す等、極めて広い抗菌スペク
トルを有することを見いだした。更に、本発明のカルバ
ペネム誘導体は物理化学的安定性にも優れ、また腎臓の
デヒドロペプチダーゼ■、β−ラクタメース等による酵
素分解も受けにくい等、抗菌薬として有用性が高いこと
を見いだし本発明を完成した。
するカルバペネム84体は、ダラム陽性菌、陰性菌に対
して強力な抗菌活性を示し、また偏性嫌気性菌に対して
も高活性を示し、更に、ペニシリン、セファロスポリン
耐性菌にも高い感受性を示す等、極めて広い抗菌スペク
トルを有することを見いだした。更に、本発明のカルバ
ペネム誘導体は物理化学的安定性にも優れ、また腎臓の
デヒドロペプチダーゼ■、β−ラクタメース等による酵
素分解も受けにくい等、抗菌薬として有用性が高いこと
を見いだし本発明を完成した。
即ち、本発明は一般式1
[上記式中、
(() R+は水素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ) COOR2はカルボキシル基、カルボキシレー
トアニオンまたは保護されたカルボキシル基、(八)
R3は低級アルキル基、 (ニ) R4は以下の一般式で示される置換または無置
換の二環性複素環基、 (式中、語基の部分構造である は五員環または六員環の窒素含有複素環を意味し、該窒
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
を意味する。
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ) COOR2はカルボキシル基、カルボキシレー
トアニオンまたは保護されたカルボキシル基、(八)
R3は低級アルキル基、 (ニ) R4は以下の一般式で示される置換または無置
換の二環性複素環基、 (式中、語基の部分構造である は五員環または六員環の窒素含有複素環を意味し、該窒
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
を意味する。
ここにおいてR5は:
水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルバメー
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたC、−C6アルキル・場合によ
り置換されたC2−C6アルケニル・場合により置換さ
れたC2−C,アルキニル・場合により置換されたCs
−Ceシクロアルキル・場合により置換されたC3−C
,シクロアルケニル・場合により置換されたヘテロシク
リル・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,
アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルll:2 C
aアルケニル ・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,アル
キニル ・場合により置換されたC3Caシクロアルキリデン ・場合により置換されたC3 C8へテロシフリリデ
ン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R5上の置換基は、独立に以下の群:・ハロゲ
ン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC,−C6アルキル基、
アリール基またはへテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個のC,−C,アルキル基、
アリール基またはへテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC,−C,アルキル基により置換さ
れたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC,−C,アルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素において置換され
たアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個−4個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルファモイル基、・スルフィナモイル基、 ・場合により1個−2個のClCaアルキル基、アリー
ル基またはへテロアリール基によって窒素において置換
されたスルフィナモイル基、・カルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC+ Caアルキル基、ア
リール基またはヘテロアリール基によって窒素において
置換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個−2泪のC,−[:、アルキル基、ア
リール基またはへテロアリール基によ)て窒素において
置換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはヘテロアリール基によって窒素において置
換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC+ Caアルキル基、アリール
基またはへテロアリール基によりて窒素において置換さ
れたヒドロキシカルバモイル基、・チオカルバモイル基
、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたチオカルバモイル基、・トリフルオロメチル基
、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC、−C,アルコキシカルボニ
ル基、 ・場合により置換されたC、−C,アルキルカルボニル
オキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたC、−C6アルキル・場合によ
り置換されたC2−C6アルケニル・場合により置換さ
れたC2−C,アルキニル・場合により置換されたCs
−Ceシクロアルキル・場合により置換されたC3−C
,シクロアルケニル・場合により置換されたヘテロシク
リル・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,
アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルll:2 C
aアルケニル ・場合により置換されたヘテロシクリルC,−C,アル
キニル ・場合により置換されたC3Caシクロアルキリデン ・場合により置換されたC3 C8へテロシフリリデ
ン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R5上の置換基は、独立に以下の群:・ハロゲ
ン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC,−C6アルキル基、
アリール基またはへテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個のC,−C,アルキル基、
アリール基またはへテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC,−C,アルキル基により置換さ
れたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC,−C,アルキル基、アリール基
またはへテロアリール基によって窒素において置換され
たアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個−4個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたスルファモイル基、・スルフィナモイル基、 ・場合により1個−2個のClCaアルキル基、アリー
ル基またはへテロアリール基によって窒素において置換
されたスルフィナモイル基、・カルバモイル基、 ・場合により1個−2個のC+ Caアルキル基、ア
リール基またはヘテロアリール基によって窒素において
置換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個−2泪のC,−[:、アルキル基、ア
リール基またはへテロアリール基によ)て窒素において
置換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個−2個のC,−C,アルキル基、アリ
ール基またはヘテロアリール基によって窒素において置
換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC+ Caアルキル基、アリール
基またはへテロアリール基によりて窒素において置換さ
れたヒドロキシカルバモイル基、・チオカルバモイル基
、 ・場合により1個−2個のC,−C6アルキル基、アリ
ール基またはへテロアリール基によって窒素において置
換されたチオカルバモイル基、・トリフルオロメチル基
、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC、−C,アルコキシカルボニ
ル基、 ・場合により置換されたC、−C,アルキルカルボニル
オキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。
またR6は下記から独立的に運ばれる。
R5に関し上記で定義されている基(R5及びR5は同
でも異っていてもよい)]を有するカルバペネム誘導体
及びその薬理上許容される塩に関するものである。
でも異っていてもよい)]を有するカルバペネム誘導体
及びその薬理上許容される塩に関するものである。
前記一般式Iにおいて、好適なカルバペネム誘導体は以
下のような置換基R+ 、 R2、R3及びR4を有す
るものである。
下のような置換基R+ 、 R2、R3及びR4を有す
るものである。
まずR1としてはヒドロキシル基を有することもあるメ
チル基、エチル基、ロープロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基等のC+ C6アルキル基または水素原
子が挙げられる。
チル基、エチル基、ロープロピル基、イソプロピル基、
n−ブチル基等のC+ C6アルキル基または水素原
子が挙げられる。
R2としては水素原子またはメチル、エチル、イソブチ
ル、第三級ブチル等の炭素数1−6個を有する直鎖状若
しくは分岐鎖状低級アルキル基、メトキシメチル、メト
キシエチル等のC,−C,アルコキシC,−C,アルキ
ル基、ピバロイルオキシメチル基等のC+ Ca脂肪
族アシルオキシメチル基、フタリジル基または本発明の
化合物の製造に際して、カルボキシル基の保護基を兼ね
、温和な条件下で容易に除去し得るエステル残基として
、例えば0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベ
ンズヒドリル若しくは2−ナフチルメチル基等のアラル
キル基、アリル基、またはトリメチルシリル等のC1−
C6アルキルシリル基等が挙げられる。
ル、第三級ブチル等の炭素数1−6個を有する直鎖状若
しくは分岐鎖状低級アルキル基、メトキシメチル、メト
キシエチル等のC,−C,アルコキシC,−C,アルキ
ル基、ピバロイルオキシメチル基等のC+ Ca脂肪
族アシルオキシメチル基、フタリジル基または本発明の
化合物の製造に際して、カルボキシル基の保護基を兼ね
、温和な条件下で容易に除去し得るエステル残基として
、例えば0−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベ
ンズヒドリル若しくは2−ナフチルメチル基等のアラル
キル基、アリル基、またはトリメチルシリル等のC1−
C6アルキルシリル基等が挙げられる。
また、C00Fhはカルボキシレートアニオンである場
合もあり、これは本発明の化合物の置換基R4の状態に
依存して、カルバペネム3位のカルボキシル基がその対
イオンとしてのカルボキシレートアニオンの形で存在す
る場合を意味する。例えばR4が四級化窒素含有複素環
である場合、カルボキシル基はその対イオンとしてのカ
ルボキシレートアニオンの形で存在し、また本発明の化
合物が強酸との塩である場合、すなわち四級化窒素の対
イオンが強酸のアニオンである場合、R2は水素原子の
状態で存在することもあり、いわゆるベタイン化合物の
特性を有しており、このような一般式■の酸付加塩は以
下の如く記載することもできる。
合もあり、これは本発明の化合物の置換基R4の状態に
依存して、カルバペネム3位のカルボキシル基がその対
イオンとしてのカルボキシレートアニオンの形で存在す
る場合を意味する。例えばR4が四級化窒素含有複素環
である場合、カルボキシル基はその対イオンとしてのカ
ルボキシレートアニオンの形で存在し、また本発明の化
合物が強酸との塩である場合、すなわち四級化窒素の対
イオンが強酸のアニオンである場合、R2は水素原子の
状態で存在することもあり、いわゆるベタイン化合物の
特性を有しており、このような一般式■の酸付加塩は以
下の如く記載することもできる。
(式中、×−は酸のアニオンを意味する。)更にR4が
塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれている環
境(pi()により、 COOR2はカルボキシル基の
場合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状
態にあり、これはいわゆるアミノ酸のような双性イオン
(Zwitter ton)構造で存在する場合を意味
し、一般式■の化合物はこのような双性イオン構造の化
合物をも包含するものである。
塩基性基である場合、本発明の化合物がおかれている環
境(pi()により、 COOR2はカルボキシル基の
場合とカルボキシレートアニオンの場合のいずれかの状
態にあり、これはいわゆるアミノ酸のような双性イオン
(Zwitter ton)構造で存在する場合を意味
し、一般式■の化合物はこのような双性イオン構造の化
合物をも包含するものである。
R3としてはメチル、エチル、プロピル等の炭素数1〜
6個を有する直鎖状若しくは分岐鎮状低級アルキル基、
メトキシメチル、メトキシエチル等C1Caアルコキシ
C+ C6アルキル基、アミノメチル基、アシルアミ
ノメチル基等が挙げられる。
6個を有する直鎖状若しくは分岐鎮状低級アルキル基、
メトキシメチル、メトキシエチル等C1Caアルコキシ
C+ C6アルキル基、アミノメチル基、アシルアミ
ノメチル基等が挙げられる。
本発明のカルバペネム誘導体において、好適な置換基R
4の例としては以下のものが包含される。
4の例としては以下のものが包含される。
置換基R4が以下の式:
(ただし、X、Y、Zは窒素または炭素であり、R5及
びR6は上記定義通りである) で示されるものから選ばれるような誘導体であり、この
場合、R5、R6としては以下の群から選ばれる一種で
あることが好ましい。
びR6は上記定義通りである) で示されるものから選ばれるような誘導体であり、この
場合、R5、R6としては以下の群から選ばれる一種で
あることが好ましい。
H,−OH,−CL、 −C2H5,−Nl2. −
CONH2゜−Co2H,−CN、 −F、 −R
1,−5CHs、 −0CON)12゜−NHCOC
82Nlb、 −Nl(COCONH2−5OCH
3゜ −CH2CONH2゜ CH2CミCH1−CH2CN CH2CONHCt13 CH2C41208゜ CI(2C82F −(:82F。
CONH2゜−Co2H,−CN、 −F、 −R
1,−5CHs、 −0CON)12゜−NHCOC
82Nlb、 −Nl(COCONH2−5OCH
3゜ −CH2CONH2゜ CH2CミCH1−CH2CN CH2CONHCt13 CH2C41208゜ CI(2C82F −(:82F。
本発明において好ましいカルバペネム誘導体は、以下に
示すような二環性複素環基(R4)を有するものである
。
示すような二環性複素環基(R4)を有するものである
。
なお、本発明においてR4が不斉炭素原子を有する場合
には立体異性体が存在する。例えば、不斉炭素原子が1
個の場合、2種の立体異性体が生ずるが、以下の記載に
おいては一方を「異性体A」他方を「異性体B」と便宜
上記述した。
には立体異性体が存在する。例えば、不斉炭素原子が1
個の場合、2種の立体異性体が生ずるが、以下の記載に
おいては一方を「異性体A」他方を「異性体B」と便宜
上記述した。
一般式Iにおいて、5位の炭素原子の立体配置は天然の
チェナマイシンに対応するR配置が好適である。すなわ
ち5位の炭素原子に結合した水素原子はα配置であるの
がよい(註、チェナマイシンは1位が水素置換であるた
め5位はS配置となる。)。また好適なR1としては水
素原子及び1−ヒドロキシエチル基が挙げられる。特に
好適な例としては1−ヒドロキシエチル基の結合する6
位炭素原子の立体配置がS配置であり、ヒドロキシル基
の置換する8位炭素原子の立体配置がR配置のものが挙
げられる。また、R3の好適なものとしては低級アルキ
ル基が挙げられ、特に好適な例としては、メチル基であ
る。この際生ずる1位の不斉炭素原子の立体配置はR配
置のものがよい。
チェナマイシンに対応するR配置が好適である。すなわ
ち5位の炭素原子に結合した水素原子はα配置であるの
がよい(註、チェナマイシンは1位が水素置換であるた
め5位はS配置となる。)。また好適なR1としては水
素原子及び1−ヒドロキシエチル基が挙げられる。特に
好適な例としては1−ヒドロキシエチル基の結合する6
位炭素原子の立体配置がS配置であり、ヒドロキシル基
の置換する8位炭素原子の立体配置がR配置のものが挙
げられる。また、R3の好適なものとしては低級アルキ
ル基が挙げられ、特に好適な例としては、メチル基であ
る。この際生ずる1位の不斉炭素原子の立体配置はR配
置のものがよい。
更に詳しく態様を示せば、特に好適なR3としては、水
素原子またはアニオン荷電であり、代謝されうるエステ
ル残基の好ましい例としてはピバロイルオキシメチル基
、フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基
が挙げられる。また、般式Iの化合物の合成に際し、カ
ルボキシル基の保護基として好適なエステル残基はp−
ニトロベンジル基、アリル基等が挙げられる。
素原子またはアニオン荷電であり、代謝されうるエステ
ル残基の好ましい例としてはピバロイルオキシメチル基
、フタリジル基、アセトキシカルボニルオキシメチル基
が挙げられる。また、般式Iの化合物の合成に際し、カ
ルボキシル基の保護基として好適なエステル残基はp−
ニトロベンジル基、アリル基等が挙げられる。
なお、本発明の化合物及び中間体のあるものは互変異性
体の構造をとることも考えられる。本明細書ではこれら
を一種類の構造式で表すが、これは限定を意味するもの
ではない。
体の構造をとることも考えられる。本明細書ではこれら
を一種類の構造式で表すが、これは限定を意味するもの
ではない。
好適なR4としては以下に例示するような二環性複素環
基を挙げることが出来る。
基を挙げることが出来る。
で示される各誘導体である。
前記した一般式Iの化合物の薬理学的に許容される塩は
、カルボン酸無毒性塩、例えば、ナトリウム、カリウム
、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、アンモニウ
ム塩及びブロカイン、トリエチルアミン、ベンジルアミ
ンとの塩及びペニシリン類、セファロスポリン類の塩形
成に用いられる他のアミン類等の無毒性のアミン類との
塩を包含する。特に好適な塩としてはナトリウム塩、カ
リウム塩を挙げることができる。
、カルボン酸無毒性塩、例えば、ナトリウム、カリウム
、アルミニウム、マグネシウム等の金属塩、アンモニウ
ム塩及びブロカイン、トリエチルアミン、ベンジルアミ
ンとの塩及びペニシリン類、セファロスポリン類の塩形
成に用いられる他のアミン類等の無毒性のアミン類との
塩を包含する。特に好適な塩としてはナトリウム塩、カ
リウム塩を挙げることができる。
本発明のカルバペネム誘導体には塩基性基が存在するの
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば塩酸、臭化
水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸
、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等有機
酸との塩類とすることもできる。
で、医薬として許容される酸付加塩、例えば塩酸、臭化
水素酸、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸
、コハク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等有機
酸との塩類とすることもできる。
特に好適な塩としては、塩酸塩、硫酸塩を挙げることが
できる。また、式■の化合物は種々の溶媒和したもので
も良く、例えば水和物も本発明の範囲に含まれる。
できる。また、式■の化合物は種々の溶媒和したもので
も良く、例えば水和物も本発明の範囲に含まれる。
本発明の化合物は慣用される製剤用担体、安定化剤、溶
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。
解補助剤、賦形剤を用いて通常の方法で製剤とすること
ができる。
投与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の経口投与あ
るいは静注、筋注剤、坐剤等の非経口投与のいずれであ
っても良い。投与量は通常成人1日250B〜3000
mgであり、これを数回に分割投与するが、年令、性別
、症状により適宜増減することができる。
るいは静注、筋注剤、坐剤等の非経口投与のいずれであ
っても良い。投与量は通常成人1日250B〜3000
mgであり、これを数回に分割投与するが、年令、性別
、症状により適宜増減することができる。
本発明の化合物Iは、下記の反応式で例示する方法によ
って製造することができる。
って製造することができる。
第1工程:
公知の方法(特開昭58−26887)及びそれに準す
る方法で合成できる一般式I+ (式中、R1は前記と
同し、R2は前記エステル残基、R7は有機基、例えば
アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル基等のアルキル基;フェニル、ナフチル
基等のアリール基;2−アシルアミノエチル基、2−ア
シルアミノビニル基:ベンジル、メチルベンジル、フェ
ネチル基等のアルキル基)で示されるカルバペネム誘導
体を、適当な溶媒中で酸化剤、例えば過安息香酸、m−
クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化セレン
、オゾン又はメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適には、
m−クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド体II
+が高収率で得られる。ここに得られるスルホキシド体
は立体異性体の混合物であるが、分離することなく好適
に次の第2工程の反応に使用することができる。
る方法で合成できる一般式I+ (式中、R1は前記と
同し、R2は前記エステル残基、R7は有機基、例えば
アルキル基、好ましくはメチル、エチル、n−プロピル
、イソプロピル基等のアルキル基;フェニル、ナフチル
基等のアリール基;2−アシルアミノエチル基、2−ア
シルアミノビニル基:ベンジル、メチルベンジル、フェ
ネチル基等のアルキル基)で示されるカルバペネム誘導
体を、適当な溶媒中で酸化剤、例えば過安息香酸、m−
クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、二酸化セレン
、オゾン又はメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適には、
m−クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド体II
+が高収率で得られる。ここに得られるスルホキシド体
は立体異性体の混合物であるが、分離することなく好適
に次の第2工程の反応に使用することができる。
本反応に用いられる反応溶媒としては、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸、ピリジン、
N、N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略記す
る)、水及びリン酸緩衝液等の反応原料や生成物に支障
をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適に用いられ
る。
、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類
、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸、ピリジン、
N、N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略記す
る)、水及びリン酸緩衝液等の反応原料や生成物に支障
をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)が好適に用いられ
る。
反応温度は一50℃〜50℃、好適には一り0℃〜室温
の緩和な温度条件が有利である。
の緩和な温度条件が有利である。
反応時間は5分〜4時間、通常は30分〜1時間で十分
である。
である。
第2工程:
本工程は、上述の如く得られたスルホキシド体IIIと
チオール体■(式中、R4は前記定義通りである)、ま
たはその酸付加塩若しくは反応性誘導体との置換反応で
ある。
チオール体■(式中、R4は前記定義通りである)、ま
たはその酸付加塩若しくは反応性誘導体との置換反応で
ある。
本反応に用いられる反応溶媒としては、メタノール、エ
タノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン等のケトン類、 DMF、アセトアミド、DMSO
、テトラヒドロフラン(以下、TIIFと略記する)、
アセトニトリル、ヘキサメチルホスホトリアミト、水等
の反応原料や生成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒
も含む)が好適に用いられる。
タノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケ
トン等のケトン類、 DMF、アセトアミド、DMSO
、テトラヒドロフラン(以下、TIIFと略記する)、
アセトニトリル、ヘキサメチルホスホトリアミト、水等
の反応原料や生成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒
も含む)が好適に用いられる。
反応温度は一り0℃〜室温、特に−30℃〜0℃が好適
である。
である。
反応時間は通常15分〜2時間、特に30分〜2時間が
好適である。
好適である。
一般式■のチオール体は塩基と共存させると反応性に富
み、良好に反応が進行するが、塩基はなくともよい。使
用可能な塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン等のアルキルアミン類、1.8−ジアザ
ビシクロ[5,4,01−7−ウンデセン(以下、DB
Uと略記する)、N−メチルモルホリン等の脂環状アミ
ン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリウム t−ブト
キサイド、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコラー
ド類、ナトリウムアミド等が挙げられ、ジイソプロピル
エチルアミン、DBUが好適に使用される。
み、良好に反応が進行するが、塩基はなくともよい。使
用可能な塩基としてはトリエチルアミン、ジイソプロピ
ルエチルアミン等のアルキルアミン類、1.8−ジアザ
ビシクロ[5,4,01−7−ウンデセン(以下、DB
Uと略記する)、N−メチルモルホリン等の脂環状アミ
ン類、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウ
ム、炭酸ナトリウム等の無機塩基、カリウム t−ブト
キサイド、ナトリウムメトキサイド等の金属アルコラー
ド類、ナトリウムアミド等が挙げられ、ジイソプロピル
エチルアミン、DBUが好適に使用される。
−1Qst式+Vのチオール化合物の反応性誘導体の例
としでは、一般式: MS−R4(式中、 Mはアルカ
リ金属であり、R4は前記定義通りである)で表される
チオレート化合物が挙げられる。この置換反応では一般
式■のチオール化合物は、通常スルホキシド体■の1〜
3当量、特に1〜2当量で使用することが好適であり、
また塩基はチオール化合物IVと当量で使用することが
好ましい。ただし、チオール化合物■が酸付加塩である
場合は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基
を更に加えることにより良好な結果を得る事ができる。
としでは、一般式: MS−R4(式中、 Mはアルカ
リ金属であり、R4は前記定義通りである)で表される
チオレート化合物が挙げられる。この置換反応では一般
式■のチオール化合物は、通常スルホキシド体■の1〜
3当量、特に1〜2当量で使用することが好適であり、
また塩基はチオール化合物IVと当量で使用することが
好ましい。ただし、チオール化合物■が酸付加塩である
場合は、付加されている酸を中和するに必要な量の塩基
を更に加えることにより良好な結果を得る事ができる。
上述の反応において生成する置換成績体は通常の後処理
により単離される。
により単離される。
第3工程:
上述の置換反応成績体に保護基がある場合は、所望によ
り保護基を除去できる。保護基の除去法としては、水素
添加による還元的分解、化学的還元、そして酸、塩基又
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
り保護基を除去できる。保護基の除去法としては、水素
添加による還元的分解、化学的還元、そして酸、塩基又
は酵素を用いた加水分解による方法等が挙げられる。
般式■において、置換基R2はエステル残基であり、p
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくは2−ナ
フチルメチル基等である場合には、パラジウム担持炭素
、酸化白金その他の公知の金属触媒を用いて接触還元し
て脱保護し、一般式1でCOO1hがカルボキシル基又
はカルボキシレートアニオンであるカルバペネム誘導体
とすることができる。
−ニトロベンジル基、ベンズヒドリル基若しくは2−ナ
フチルメチル基等である場合には、パラジウム担持炭素
、酸化白金その他の公知の金属触媒を用いて接触還元し
て脱保護し、一般式1でCOO1hがカルボキシル基又
はカルボキシレートアニオンであるカルバペネム誘導体
とすることができる。
この反応溶媒としてはジオキサン、 T)IF、水、緩
衝液(混合溶媒をも含む)を用い、好適には含水THF
、含水ジオキサン、リン酸緩衝液とTI(Fとの混合溶
媒等であり、1−4気圧の水素圧下にて、0℃〜50℃
、好適には10℃〜30℃で、30分〜16時間、好適
には10分〜1時間反応することにより、一般式■でC
OOR2がカルボキシル基又はカルボキシレートアニオ
ンである目的のカルバペネム誘導体を得ることができる
。
衝液(混合溶媒をも含む)を用い、好適には含水THF
、含水ジオキサン、リン酸緩衝液とTI(Fとの混合溶
媒等であり、1−4気圧の水素圧下にて、0℃〜50℃
、好適には10℃〜30℃で、30分〜16時間、好適
には10分〜1時間反応することにより、一般式■でC
OOR2がカルボキシル基又はカルボキシレートアニオ
ンである目的のカルバペネム誘導体を得ることができる
。
また、一般式■のR2がp−ニトロベンジル基である場
合には、TI(F、ジオキサン等の水溶性有機溶媒中で
塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させることで、
更に、R2がアリル基である場合にはTHF、メチレン
クロリド等の非プロトン性溶媒中にて、テトラキストリ
フェニルホスフィンパラジウム(0)、トリフェニルホ
スフィンおよび2−エチルヘキサン酸と反応させること
により、更に、R2が2.2.2−トリクロロエチル基
である場合には亜鉛未還元による脱保護にて、各々一般
式IのCOOR2がカルボキシル基若しくはカルボキシ
レートアニオンである目的化合物を得ることができる。
合には、TI(F、ジオキサン等の水溶性有機溶媒中で
塩化アンモニウム水溶液と鉄粉とを反応させることで、
更に、R2がアリル基である場合にはTHF、メチレン
クロリド等の非プロトン性溶媒中にて、テトラキストリ
フェニルホスフィンパラジウム(0)、トリフェニルホ
スフィンおよび2−エチルヘキサン酸と反応させること
により、更に、R2が2.2.2−トリクロロエチル基
である場合には亜鉛未還元による脱保護にて、各々一般
式IのCOOR2がカルボキシル基若しくはカルボキシ
レートアニオンである目的化合物を得ることができる。
上述の第2工程における置換成績体はその物性によって
は単離精製しにくいものがあり、一般式IのCOOR2
がカルボキシル基若しくはカルボキシレートアニオンで
ある化合物の製造を目的とする場合には、中間の置換成
績体を単離することなく同一反応容器中で、若しくは簡
単な通常の後処理を施した後、保護基を脱離することに
より良好な結果が得られる場合がある。これは、特に大
量の目的物を製造する際には、緊雑な作業もなく、収率
、品質の点でも優れた簡便な方法である。
は単離精製しにくいものがあり、一般式IのCOOR2
がカルボキシル基若しくはカルボキシレートアニオンで
ある化合物の製造を目的とする場合には、中間の置換成
績体を単離することなく同一反応容器中で、若しくは簡
単な通常の後処理を施した後、保護基を脱離することに
より良好な結果が得られる場合がある。これは、特に大
量の目的物を製造する際には、緊雑な作業もなく、収率
、品質の点でも優れた簡便な方法である。
般式■の目的化合物は通常の単離手段、即ち抽出後、濃
縮し、さらに必要により再結晶、再沈澱、クロマトグラ
フィー等によって精製することができる。また、一般式
Iの化合物は結晶化することによって高純度のものが得
られ、この目的のために塩とすることで好ましい結果が
得られる。
縮し、さらに必要により再結晶、再沈澱、クロマトグラ
フィー等によって精製することができる。また、一般式
Iの化合物は結晶化することによって高純度のものが得
られ、この目的のために塩とすることで好ましい結果が
得られる。
その際、塩としては必ずしも無毒性酸付加塩である必要
はなく、毒性のある塩として結晶化し、精製の後酸を除
去するか、若しくは薬理上許容される塩に変換して目的
化合物を純度良く得ることができる。
はなく、毒性のある塩として結晶化し、精製の後酸を除
去するか、若しくは薬理上許容される塩に変換して目的
化合物を純度良く得ることができる。
体内で代謝されるエステル類を製造するには、ペニシリ
ン類やセファロスポリン類における方法に準じ、一般式
1のCOOR2のR2としてあらかじめ入れておくか、
またはカルボキシル基あるいはカルボキシレートアニオ
ンの化合物をエステル化すればよい。
ン類やセファロスポリン類における方法に準じ、一般式
1のCOOR2のR2としてあらかじめ入れておくか、
またはカルボキシル基あるいはカルボキシレートアニオ
ンの化合物をエステル化すればよい。
実施例
以下、実施例及び参考例に従って本発明の化合物の製造
方法をより具体的に説明する。しかしながら、本発明の
範囲は以下の実施例により何等制限されない。なお、以
下の実施例及び参考例の構造式において以下の略号を使
用する。:ル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)
−1−メチルPNB ニ ーCH20NO2 実施例1 (xR,ss、6s、aR)−2−[(6,7−シヒド
ロー5H−ピロロ−(1、2−clイミダゾール−7−
イル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チル−1−カル7(ペン−2−エム−3−カルボン酸の
製造: (1)p−ニトロベンジル(IR,5S、65.8R)
−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−
C]lイミダゾール7−イ1−カルバベン−2−エム−
3−カルボキシレートの合成: p−ニトロベンジル(IR,5S、6S、8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート357mgをTHF 2mlアセトニトリル
2ml、 DMSO0,5IIllの混液に溶解し、−
35℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー7−メルカブト
ー5H−ピロロ[1、2−cl イミダゾール200m
gのTHF 2ml、 アセトニトリル2ml溶ン夜
及びジイソプロピルエチルアミン 1.6mlを加え、
同温にて120分攪拌した。反応液にヘキサンを加え、
上澄液を傾瀉して除去し、更にエーテルにて洗浄し、残
渣をシリカゲル5gを用いたカラムクロマトグラフィー
にて精製し、クロロホルム−メタノール (97:3)
の部分より標記化合物を150mg得た。
方法をより具体的に説明する。しかしながら、本発明の
範囲は以下の実施例により何等制限されない。なお、以
下の実施例及び参考例の構造式において以下の略号を使
用する。:ル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)
−1−メチルPNB ニ ーCH20NO2 実施例1 (xR,ss、6s、aR)−2−[(6,7−シヒド
ロー5H−ピロロ−(1、2−clイミダゾール−7−
イル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)−1−メ
チル−1−カル7(ペン−2−エム−3−カルボン酸の
製造: (1)p−ニトロベンジル(IR,5S、65.8R)
−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2−
C]lイミダゾール7−イ1−カルバベン−2−エム−
3−カルボキシレートの合成: p−ニトロベンジル(IR,5S、6S、8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート357mgをTHF 2mlアセトニトリル
2ml、 DMSO0,5IIllの混液に溶解し、−
35℃に冷却攪拌下6.7−シヒドロー7−メルカブト
ー5H−ピロロ[1、2−cl イミダゾール200m
gのTHF 2ml、 アセトニトリル2ml溶ン夜
及びジイソプロピルエチルアミン 1.6mlを加え、
同温にて120分攪拌した。反応液にヘキサンを加え、
上澄液を傾瀉して除去し、更にエーテルにて洗浄し、残
渣をシリカゲル5gを用いたカラムクロマトグラフィー
にて精製し、クロロホルム−メタノール (97:3)
の部分より標記化合物を150mg得た。
’ H−NMRδ(CDCl2) : 1.20−1
.44 (6H,m) 。
.44 (6H,m) 。
2.60−3.40(41(、ml、 3.90−4.
50(4H,m)。
50(4H,m)。
4.70−4.90(LH,m)、 5.20 an
d 5.52(each IH,each d、J
−15Hz)。
d 5.52(each IH,each d、J
−15Hz)。
6.92(IH,br s)、7.52(IH,s)。
7J8 and 8.24(each 2H,e
ach d、J−9Hz)(2) (IR,5S、
65,8R)−2−[(6,7−ジヒドロ−5日−ピロ
ロ[1,2−c]イミダゾール−7−イル)チオコー8
−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−1−カルバ
ベン−2−ニムー3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物230I[1gをT)IF 20m
1及び水2001の混液に溶かし、重曹28B及び10
!k Pd−C200mgを加え4 atomで15分
間、水素雰囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、
濾液及び洗液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオン)I
P−20(20x 300 mm)のカラムクロマトグ
ラフィーで精製した。水で溶出された最初の画分100
m1を除去し、次いで水及び5%F THF−水での溶
出部分を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフ
ィー()IPLC)[担体:ヌクレオシル (Nucl
eosil) 7G、、 (10x300m111)、
溶媒=396アセトニトリルー水、流速=5ml/分]
にて精製し、目的物を含む保持時間12.1分、13,
4分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾燥すると黄淡色粉
末の異性体へ、Bが得られた。収量。
ach d、J−9Hz)(2) (IR,5S、
65,8R)−2−[(6,7−ジヒドロ−5日−ピロ
ロ[1,2−c]イミダゾール−7−イル)チオコー8
−(1−ヒドロキシエチル)−1−メチル−1−カルバ
ベン−2−ニムー3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物230I[1gをT)IF 20m
1及び水2001の混液に溶かし、重曹28B及び10
!k Pd−C200mgを加え4 atomで15分
間、水素雰囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、
濾液及び洗液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオン)I
P−20(20x 300 mm)のカラムクロマトグ
ラフィーで精製した。水で溶出された最初の画分100
m1を除去し、次いで水及び5%F THF−水での溶
出部分を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラフ
ィー()IPLC)[担体:ヌクレオシル (Nucl
eosil) 7G、、 (10x300m111)、
溶媒=396アセトニトリルー水、流速=5ml/分]
にて精製し、目的物を含む保持時間12.1分、13,
4分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾燥すると黄淡色粉
末の異性体へ、Bが得られた。収量。
異性体へ14mg、異性体813mg
異性体八二
UVλmax (H2O) nm : 300’ H−
NMRδ(D20) : 1.295 (3H,d、
J−7,HIz) 。
NMRδ(D20) : 1.295 (3H,d、
J−7,HIz) 。
IJ2(3H,d、 J−6,4Hz)、 2.62−
2.66(1)1. m)。
2.66(1)1. m)。
3.11−3.1B(18,m)、 3.43−3.5
0(2H,m)。
0(2H,m)。
4.17−4.29(4H,ml、 4.80(HOD
)。
)。
4.83−4.85(LH,m)、 6.93(11(
、br s)。
、br s)。
7.73(IH,’ s)。
HPLC保持時間(分):12.1
[opt、c条件二上記に同じコ
異性体B:
UVλmax (H2O) nm : 300’ H−
NMRδ([120) :1.185 (3H,d、
J−7,21(z) 。
NMRδ([120) :1.185 (3H,d、
J−7,21(z) 。
1.325(3)1. d、 J・6.4Hz)、 2
.57−2.61DH,m)3.13−3.17(IH
,m)、 3.41−3.48(21(、m)。
.57−2.61DH,m)3.13−3.17(IH
,m)、 3.41−3.48(21(、m)。
4.18−441(4H,m)、 4.80(ROD)
。
。
6.86(IH,br s)、 7.71(IH,5)
HPLC保持時間(分):13.4 [)IPLc条件二条件上上記] 実施例2 (]R,5SJS、8R)−2−[(6,7−ジヒドロ
−5トビロロ[1,2−c] イミダゾール−6−イル
)チオコー6−(l−ヒドロキシエチル)−1−メチル
−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−二トロベンジル(IR,55,65,8R
)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2
−c]コイミダゾール6−イル)チオ]−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチル1−カルバベン−2−エ
ム−3−カルボキシレートの合成・ p−ニトロベンジル(IR,55,6S、8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート471mgをTHF 3ml、アセトニトリ
ル3m1.DMSOO15mlの混液に溶解し、−50
’Cに冷却攪拌下6,7−シヒドロー6−メルカブトー
5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール762のg
のTHF 3ml、アセトニトリル3IIll溶液を加
え、−30t〜−40tにて4時間攪拌した。
HPLC保持時間(分):13.4 [)IPLc条件二条件上上記] 実施例2 (]R,5SJS、8R)−2−[(6,7−ジヒドロ
−5トビロロ[1,2−c] イミダゾール−6−イル
)チオコー6−(l−ヒドロキシエチル)−1−メチル
−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造: (1) p−二トロベンジル(IR,55,65,8R
)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2
−c]コイミダゾール6−イル)チオ]−6−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチル1−カルバベン−2−エ
ム−3−カルボキシレートの合成・ p−ニトロベンジル(IR,55,6S、8R)−6−
(1−ヒドロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
キシレート471mgをTHF 3ml、アセトニトリ
ル3m1.DMSOO15mlの混液に溶解し、−50
’Cに冷却攪拌下6,7−シヒドロー6−メルカブトー
5H−ピロロ[1,2−c] イミダゾール762のg
のTHF 3ml、アセトニトリル3IIll溶液を加
え、−30t〜−40tにて4時間攪拌した。
反応液に石油エーテルを加え、上澄液を傾瀉して除去し
、更にイソプロピルエーテル、エーテルにて洗浄し、残
渣をシリカゲル10gを用いたカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロポルム−メタノール(92:8)の流
分より、標記化合物を得た。
、更にイソプロピルエーテル、エーテルにて洗浄し、残
渣をシリカゲル10gを用いたカラムクロマトグラフィ
ーに付し、クロロポルム−メタノール(92:8)の流
分より、標記化合物を得た。
IH−NMRδ(CDCIs) : 1.20−1.
4(6H,m) 。
4(6H,m) 。
2.7−4.6 (98,m) 。
5.27 and 5..5B(each IH,ea
ch d、 J=15Hz)。
ch d、 J=15Hz)。
6.7−6.9(IH,br s)、 7.5−7.6
(IH,br s)。
(IH,br s)。
7.86 and 8.43(each 2H,eac
h d、 J=9Hz)。
h d、 J=9Hz)。
(2) (IR,55,65,8R)−2−[(6,
7−シヒドロー58−ピロロ[1、2−cコイミダゾー
ル−6−イル)チオ]−6−(1−ヒドロキシエチル)
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
ン酸の合成: (1)で得た化合物350mgをT)IF 15m1及
び木15m1の混液に溶かし、重曹70mg及びIHP
d−C250mgを加え3.4 atomで10分間、
水素雰囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、濾液
及び洗液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオンHP−2
0(20x300mm)のカラムクロマトグラフィーで
精製した。
7−シヒドロー58−ピロロ[1、2−cコイミダゾー
ル−6−イル)チオ]−6−(1−ヒドロキシエチル)
−1−メチル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボ
ン酸の合成: (1)で得た化合物350mgをT)IF 15m1及
び木15m1の混液に溶かし、重曹70mg及びIHP
d−C250mgを加え3.4 atomで10分間、
水素雰囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、濾液
及び洗液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオンHP−2
0(20x300mm)のカラムクロマトグラフィーで
精製した。
水で溶出された最初の画分100m1を除去し、次いで
水及び5J THF−水での溶出部分を合わせ、減圧濃
縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC) [担
体:ヌクレオシル(Nucleosil) 7C+a
(IOX 300mm)、溶媒: 12!6.Zタノー
ルー水、流速: 6ml/分]にて精製し、目的物を含
む保持時間7分、9分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末の異性体A、 Bが得られた。収量
:異性体A 22mg、異性体8 29mg 異性体A: UVλmax ()120) nm : 300’ H
−NMRδ(D20) : 1.27(3H,d、 J
−7,2Hz) 。
水及び5J THF−水での溶出部分を合わせ、減圧濃
縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC) [担
体:ヌクレオシル(Nucleosil) 7C+a
(IOX 300mm)、溶媒: 12!6.Zタノー
ルー水、流速: 6ml/分]にて精製し、目的物を含
む保持時間7分、9分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末の異性体A、 Bが得られた。収量
:異性体A 22mg、異性体8 29mg 異性体A: UVλmax ()120) nm : 300’ H
−NMRδ(D20) : 1.27(3H,d、 J
−7,2Hz) 。
1.33(3H,d、 J〜5.4)1z) 、 3.
13 (1)1. dd。
13 (1)1. dd。
J−16,7,2,4Hz)。
3.45(1)1. dt、 J−IB、7. 7
.1Hz)。
.1Hz)。
3.50−3.57 (2)1. m) 、 4.
25−4.31 (2H,m) 。
25−4.31 (2H,m) 。
4.35(II、 dd、 J−12,7,3,2
Hz)。
Hz)。
4.60−4.63 (IH,m) 、 4.72−
4.75 (IH,m) 。
4.75 (IH,m) 。
4.80(HOD)、 7.21(IH,d、 J−
1,41(z)。
1,41(z)。
8.64(IH,5)
1(PLC保持時間(分)ニア
)IPLC条件:上記に同じ]
異性体B:
UVλmax (H2O) nm : 300’ H−
NMRδ(D20):1.28(3H,d、 J−7,
2Hz)。
NMRδ(D20):1.28(3H,d、 J−7,
2Hz)。
1.33(3H,d、 J・6.4)1z)。
3.05(IH,dd、 J−15,9,4,8Hz)
。
。
3.44(IH,dt、 J−16,7,7,111z
)。
)。
3.51−3.58(2)1. m)、 4.25−4
.34(28,m)。
.34(28,m)。
4.36(1)1. dd、 J−12,7,3,2)
1z)。
1z)。
4.60−4.65 (IH,m)
4.72(IH,dd、 、I’12.7.6.3t(
z)。
z)。
4.80 (HOD) 、 7.23 (IH,s)
。
。
8.62(18,s)
1(PLC保持時間(分)=9
[HPLC条件二上記に同じ]
実施例3
(IR,5S、65,8R)−2−[(6,7−シヒド
ロー5H−ピロロ[1,♀−a]イミダゾール−6−イ
ル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)−ニーメチ
ル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造
: (1) p−=トロヘンシル(IR,5S、6S、8R
)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2
−a]イミダゾール−6−イル)チオ]−8−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルl−カルバベン−2−エ
ム−3−カルボキシレートの合成・ p−=トロヘンシル(IR,5S、6S、8R1−6−
ヒF ロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル−1
−メチル−1カルバベン−2−エム−3−カルボキシレ
ート 471mgをTHF 5ml、DMSO0,5m
lの混液に溶解し、−50’Cに冷却攪拌下6.7−シ
ヒドロー6−メルカブトー5H−ピロロ[1、2−a]
イミダゾール28oIIIg及びジイソプロピルエチル
アミン0.174tn+を加え、−30”C〜−40’
Cにて30分間攪拌した。反応液に石油エーテルを加え
、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソプロピルエーテル
、エーテルにて洗浄し、残渣をシリカゲル8.5gを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−
メタノール (93ニア)の流分より、標記化合物を得
た。収量297mg’ )I−NMRδ(CDC13)
: 1.30(3H,d、 J−6Hz) 。
ロー5H−ピロロ[1,♀−a]イミダゾール−6−イ
ル)チオ]−8−(1−ヒドロキシエチル)−ニーメチ
ル−1−カルバベン−2−エム−3−カルボン酸の製造
: (1) p−=トロヘンシル(IR,5S、6S、8R
)−2−[(6,7−シヒドロー5H−ピロロ[1,2
−a]イミダゾール−6−イル)チオ]−8−(1−ヒ
ドロキシエチル)−1−メチルl−カルバベン−2−エ
ム−3−カルボキシレートの合成・ p−=トロヘンシル(IR,5S、6S、8R1−6−
ヒF ロキシエチル)−2−フェニルスルフィニル−1
−メチル−1カルバベン−2−エム−3−カルボキシレ
ート 471mgをTHF 5ml、DMSO0,5m
lの混液に溶解し、−50’Cに冷却攪拌下6.7−シ
ヒドロー6−メルカブトー5H−ピロロ[1、2−a]
イミダゾール28oIIIg及びジイソプロピルエチル
アミン0.174tn+を加え、−30”C〜−40’
Cにて30分間攪拌した。反応液に石油エーテルを加え
、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソプロピルエーテル
、エーテルにて洗浄し、残渣をシリカゲル8.5gを用
いたカラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−
メタノール (93ニア)の流分より、標記化合物を得
た。収量297mg’ )I−NMRδ(CDC13)
: 1.30(3H,d、 J−6Hz) 。
1.38(3H,d、 J−5Hz)、 2.6−3.
6(4H,m)。
6(4H,m)。
3.6−4.6(5H,m)、 5.35(2H,AB
q、 J−14)1z)6.89(LH,S)、 7
.(15(IH,S)。
q、 J−14)1z)6.89(LH,S)、 7
.(15(IH,S)。
7.61 and 8.19(each 2L eac
h d、 J−9Hz)(2) oR,55,85,
8R)−2−r(5,7−シヒドロー5H−ピロロ[1
,2−a]イミダゾール−6−イル)チオ3−6− (
1−ヒドロキシエチル)−1〜メチル−1−カルバベン
−2−エム−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物297鱈をTHF 7ml及び水1
2+nlの混液に懸濁し、重曹51mg及び10七Pd
−C120mgを加え4 atomで10分間、水素雰
囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、濾液及び洗
液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオンHP−20(2
0X200mm)のカラムクロマトグラフィーで精製し
た。水で溶出された最初の画分50m1を除去し、次い
で水及び5!k THF−水での溶出部分を合わせ、減
圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)[
担体:ヌクレオシル(Nucleo−sil) 7C+
a (20x300mm)、溶媒: 詰アセトニトリル
ー水、流速−6,5ml/分コにて精製し、目的物を含
む保持時間7分、8分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末の異性体A、Bが得られた。収量:
異性体A 22+++g、異性体826mg異性体A: UVλmax (H2O) nm : 297’ )I
−NMRδ(D20) : 1.29 (31(、d、
J−7,2Hz) 。
h d、 J−9Hz)(2) oR,55,85,
8R)−2−r(5,7−シヒドロー5H−ピロロ[1
,2−a]イミダゾール−6−イル)チオ3−6− (
1−ヒドロキシエチル)−1〜メチル−1−カルバベン
−2−エム−3−カルボン酸の合成: (1)で得た化合物297鱈をTHF 7ml及び水1
2+nlの混液に懸濁し、重曹51mg及び10七Pd
−C120mgを加え4 atomで10分間、水素雰
囲気下で還元反応に付した。触媒を濾去し、濾液及び洗
液を減圧濃縮し、濃縮液をダイヤイオンHP−20(2
0X200mm)のカラムクロマトグラフィーで精製し
た。水で溶出された最初の画分50m1を除去し、次い
で水及び5!k THF−水での溶出部分を合わせ、減
圧濃縮し、高速液体クロマトグラフィー(HPLC)[
担体:ヌクレオシル(Nucleo−sil) 7C+
a (20x300mm)、溶媒: 詰アセトニトリル
ー水、流速−6,5ml/分コにて精製し、目的物を含
む保持時間7分、8分の画分をそれぞれ分取し、凍結乾
燥すると淡黄色粉末の異性体A、Bが得られた。収量:
異性体A 22+++g、異性体826mg異性体A: UVλmax (H2O) nm : 297’ )I
−NMRδ(D20) : 1.29 (31(、d、
J−7,2Hz) 。
1.33(3H,d、 J−6,4Hz)2.92(I
H,dd、 J−4,0,17,5Hz)。
H,dd、 J−4,0,17,5Hz)。
3.35−3.45(IH,m)、 3.45−3.
55(2H,m)。
55(2H,m)。
4.12(IL dd、 J−3,2,11,1Hz
) 。
) 。
4.25−4.35(2H,m)、 4.50−4.6
5(2H,m)。
5(2H,m)。
4.80()IOD)、 7.14(LH,s)、 7
.17(IH,5)HPLC保持時間(分)ニア [HPlf:条件二上記に同しコ 異性体B: UVλmax (H2O) r+m : 299’ l
(−NMRδ(D20) : 1.27 (3H,d、
J−7,2Hz) 。
.17(IH,5)HPLC保持時間(分)ニア [HPlf:条件二上記に同しコ 異性体B: UVλmax (H2O) r+m : 299’ l
(−NMRδ(D20) : 1.27 (3H,d、
J−7,2Hz) 。
1.33(3H,d、 J−6,ulz)。
3.02(IH,dd、 J−4,0,17,5Hz)
。
。
3.35−3.45(IL m)、 3.45−3.5
5(2L m)。
5(2L m)。
4.07(IN、 dd、 J−3,2,11,1Hz
)。
)。
4.25−4.35 (2H,m) 、 4.5O−4
y65 (2H,m) 。
y65 (2H,m) 。
4.80(HOD)、 7.14(E、 s)、 7
.20(11(、s)。
.20(11(、s)。
HPLC保持時間(分)=8
[HPLC条件二上記に同じ]
実施例4
(IR,5S、65,8R)−2−[(6,7−シヒド
ロー5H−ピロロー[2,1−c]−1,2,4−トリ
アゾール−6−イル)チオ]−6−(l−ヒドロキシエ
チル)−1−メチル−1−カルバベン2−エム−3−カ
ルボン酸の製造: p−=トロヘンシル(IR,55,65,8R)−6−
[(1−ヒF ロキシエチル)−2−フェニルスルフィ
ニル−1−メチル1−カルバベン−2−エム−3−カル
ボキシレート471mgをTHF 8ml、アセトニト
リル4+nl、 DMSO4mlの混液に溶解し、−5
0t:に冷却攪拌下6ツージヒドロ−6−メルカブトー
5日−ピロロ[2,1−c]−1,2,4トリアゾール
トリフロロメタンスルホネート 545mg及びジイソ
プロピルエチルアミン0.75m1を加え、−30℃〜
−40℃にて30分間攪拌した。反応液にエーテルを加
え、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソプロピルエーテ
ル、エーテルにて洗浄し、残渣をTHF 5ml及びp
i(7のリン酸緩衝液5mlの混液に溶かし、10!k
Pd−C350mgを加え4 atom テ15分間
、水素罪囲気下で還元反応に付した。
ロー5H−ピロロー[2,1−c]−1,2,4−トリ
アゾール−6−イル)チオ]−6−(l−ヒドロキシエ
チル)−1−メチル−1−カルバベン2−エム−3−カ
ルボン酸の製造: p−=トロヘンシル(IR,55,65,8R)−6−
[(1−ヒF ロキシエチル)−2−フェニルスルフィ
ニル−1−メチル1−カルバベン−2−エム−3−カル
ボキシレート471mgをTHF 8ml、アセトニト
リル4+nl、 DMSO4mlの混液に溶解し、−5
0t:に冷却攪拌下6ツージヒドロ−6−メルカブトー
5日−ピロロ[2,1−c]−1,2,4トリアゾール
トリフロロメタンスルホネート 545mg及びジイソ
プロピルエチルアミン0.75m1を加え、−30℃〜
−40℃にて30分間攪拌した。反応液にエーテルを加
え、上澄液を傾瀉して除去し、更にイソプロピルエーテ
ル、エーテルにて洗浄し、残渣をTHF 5ml及びp
i(7のリン酸緩衝液5mlの混液に溶かし、10!k
Pd−C350mgを加え4 atom テ15分間
、水素罪囲気下で還元反応に付した。
触媒を濾去し、濾液及び洗液を減圧濃縮し、濃縮液をダ
イヤイオンHP−20(20x 200mm)のカラム
クロマトグラフィーで精製した。水で溶出された最初の
両分50m1を除去し、次いで水及び5*THF−水で
溶出部分を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラ
フィー(HPLC) [担体:ヌクレオシル(Nucl
eosil) 7[+a’ (20X 300mm)、
溶媒:xo96アセトニトリルー水、流速:12m1/
分コにて精製し、目的物を含む保持時間7分、8分の画
分を各々分取し、凍結、乾燥すると淡黄色粉末の異性体
A、Bが得られた。収量:異性体A 2[img、異性
体89mg。
イヤイオンHP−20(20x 200mm)のカラム
クロマトグラフィーで精製した。水で溶出された最初の
両分50m1を除去し、次いで水及び5*THF−水で
溶出部分を合わせ、減圧濃縮し、高速液体クロマトグラ
フィー(HPLC) [担体:ヌクレオシル(Nucl
eosil) 7[+a’ (20X 300mm)、
溶媒:xo96アセトニトリルー水、流速:12m1/
分コにて精製し、目的物を含む保持時間7分、8分の画
分を各々分取し、凍結、乾燥すると淡黄色粉末の異性体
A、Bが得られた。収量:異性体A 2[img、異性
体89mg。
異性体A:
UVλmay (H2O) nm : 298’H−N
MRδ(H2O) : 1.25 (3H,d、 J−
7,2)1z) 。
MRδ(H2O) : 1.25 (3H,d、 J−
7,2)1z) 。
1.33(3)1. d、 J−6,4Hz)、 2.
94 (1)1. dd。
94 (1)1. dd。
J−4,0,17,3Hz)、 3.38−3.45(
28,m)3.49(IH,dd、J−2,4,5,6
Hz)。
28,m)3.49(IH,dd、J−2,4,5,6
Hz)。
3.84(IH,dd、J−4,8,11,9Hz)。
4.26−4.30(2)1.m)。
4.34(IH,dd、J−8,0,11,9Hz)。
4.61−4.64(IH,m)、4.80(HOD)
)IPL[:保持時間(分)二8 [HPLC条件二上記に同しコ 異性体B: UVλmax (H2O) nm : 298’H−N
MRδ(H2O): 1.27(3H,d、 J−7,
2Hz)。
)IPL[:保持時間(分)二8 [HPLC条件二上記に同しコ 異性体B: UVλmax (H2O) nm : 298’H−N
MRδ(H2O): 1.27(3H,d、 J−7,
2Hz)。
1.33(3)1. d、 J・6.4Hz) 。
2.86(Ill、 dd、 Jシ4.7. 15
.7Hz)。
.7Hz)。
3.38−3.43 (2H,m) 。
3.51(1)!、 dd、 J−2,4,6,3)1
z)。
z)。
3.86(1)1. dd、 J−4,0,11,1)
12)4.27−4.34(3H,m)、 4.58−
4.85(1)1. m)。
12)4.27−4.34(3H,m)、 4.58−
4.85(1)1. m)。
4.80 ()IOD)
)IPLC保持時間(分):11
[HP L C条件:上記に同じ]
〈発明の効果〉
本発明のカルバペネム誘導体は、物理化学的安定性に優
れた化合物であるとともにダラム陽性菌、例えば、S2
アウレウス、S、スミス、S、エビデルミゾイス、 5
6500、 Str、ピオゲネス、 G−38、Str
、ミチス、 lID885、Str、フェカリス、 A
TにC19433等及びダラム陰性菌、例えば、E、コ
リ、 NIHJ、 S、フレキシネリ、2a 5503
、Sal 、エンテリチディス、 lID604、H,
アルベイ、 IID 978、C,フロインデイ。
れた化合物であるとともにダラム陽性菌、例えば、S2
アウレウス、S、スミス、S、エビデルミゾイス、 5
6500、 Str、ピオゲネス、 G−38、Str
、ミチス、 lID885、Str、フェカリス、 A
TにC19433等及びダラム陰性菌、例えば、E、コ
リ、 NIHJ、 S、フレキシネリ、2a 5503
、Sal 、エンテリチディス、 lID604、H,
アルベイ、 IID 978、C,フロインデイ。
11D 976、Pr、ブルガリス、 08601、P
r、ミラビリス。
r、ミラビリス。
IFO3849、K 、 ニー ユーモニエ、Type
1、Ent、クロアカニ、 03402、Ent、エ
ロゲネス、 ATCC8329、Ser。
1、Ent、クロアカニ、 03402、Ent、エ
ロゲネス、 ATCC8329、Ser。
マルセッセンス、 10100、Y、エンテロコリチカ
。
。
Te 591、A、フェカリス、 ATCC19108
、PS、 エルギノーザ、 32233等の広範囲の好
気性菌に対して強い抗菌活性を示し、更にB、フラジリ
ス、PA−2−11、F、ニュークリエイタム、 IP
P 143、C,ベルフリンジェンス、22、C,ディ
フィシル、 GAI−0547等の個性嫌気性菌に対し
ても強い抗菌活性を示し、抗菌剤として有用であり、人
及び家畜の医薬として安全に使用され、また魚類にも用
いることができる。
、PS、 エルギノーザ、 32233等の広範囲の好
気性菌に対して強い抗菌活性を示し、更にB、フラジリ
ス、PA−2−11、F、ニュークリエイタム、 IP
P 143、C,ベルフリンジェンス、22、C,ディ
フィシル、 GAI−0547等の個性嫌気性菌に対し
ても強い抗菌活性を示し、抗菌剤として有用であり、人
及び家畜の医薬として安全に使用され、また魚類にも用
いることができる。
本発明の化合物は飼料の防腐、医療用機器等の殺菌剤と
しても使用できる。
しても使用できる。
本発明によって得られる化合物のうちのいくつかのもの
の抗菌活性を次表に示す。比較化合物としてMX−07
87が表に含まれる。
の抗菌活性を次表に示す。比較化合物としてMX−07
87が表に含まれる。
最少阻止濃度(MIG。
被験菌
E、 コリ NIHJ
Ent、 クロアカニ 03400
Ser、 マルヤッtンス 10104Ps、 エ
ルギノーザ 32233 S、 ?フレウス 209P C1ディフィシル GAI−0747 μg/ml) 化合物1 化合物2 < 0.10 < 0.10<0.10<0
.10 < 0.10 < 0.10 6.25 8.25 < 0.10 < 0.103.13
1.58 化合物1 化合物2 :実施例2の化合物(異性体B) :実施例3の化合物(異性体B) MK−0787 0,20 0,78 1,56 1,56 < 0.10 50.0
ルギノーザ 32233 S、 ?フレウス 209P C1ディフィシル GAI−0747 μg/ml) 化合物1 化合物2 < 0.10 < 0.10<0.10<0
.10 < 0.10 < 0.10 6.25 8.25 < 0.10 < 0.103.13
1.58 化合物1 化合物2 :実施例2の化合物(異性体B) :実施例3の化合物(異性体B) MK−0787 0,20 0,78 1,56 1,56 < 0.10 50.0
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)次式 I の化合物、及びその塩、特に生理学上許容
される塩、並びに異性体。 ▲数式、化学式、表等があります▼ I [上記式中、 (イ)R_1は水素原子、低級アルキル基、ヒドロキシ
低級アルキル基または保護されたヒドロキシ低級アルキ
ル基、 (ロ)COOR_2はカルボキシル基、カルボキシレー
トアニオンまたは保護されたカルボキシル基、(ハ)R
_3は低級アルキル基、 (ニ)R_4は以下の一般式で示される置換または無置
換の二環性複素環基、 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、該基の部分構造である ▲数式、化学式、表等があります▼ は五員環または六員環の窒素含有複素環を意味し、該窒
素含有複素環としては酸素、硫黄及び窒素から選ばれた
1〜4個の複素原子を含有する飽和または不飽和複素環
。 ここにおいてR_5は: 水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、カルバメー
ト基、アルコキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、ウレ
イド基、アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニ
ル基、スルホンアミド基、カルバモイル基、シアノ基、
ニトロ基、アミジノ基、グアニジノ基、ヒドロキシカル
バモイル基、チオカルバモイル基、トリフルオロメチル
基、イミノ基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルキル・場合
により置換されたC_2−C_6アルケニル・場合によ
り置換されたC_2−C_6アルキニル・場合により置
換されたC_3−C_6シクロアルキル・場合により置
換されたC_3−C_6シクロアルケニル・場合により
置換されたヘテロシクリル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_1−C_6
アルキル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_2−C_6
アルケニル ・場合により置換されたヘテロシクリルC_2−C_6
アルキニル ・場合により置換されたC_3−C_6シクロアルキリ
デン ・場合により置換されたC_3−C_6ヘテロシクリリ
デン ・場合により置換されたアリール から選ばれる一種の基を表す) また、基R_5上の置換基は、独立に以下の群:・ハロ
ゲン原子、 ・ヒドロキシル基、 ・アルコキシ基、 ・カルバモイルオキシ基、 ・場合により1個または2個のC_1−C_6アルキル
基、アリール基またはヘテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基 ・アミノ基、 ・場合により1個または2個のC_1−C_6アルキル
基、アリール基またはヘテロアリール基によって窒素に
おいて置換されたカルバモイルオキシ基、 ・場合により3個のC_1−C_6アルキル基により置
換されたアルキルアンモニオ基、 ・アシルアミノ基、 ・場合により1個のC_1−C_6アルキル基、アリー
ル基またはヘテロアリール基によって窒素において置換
されたアシルアミノ基、 ・ホルミルアミノ基 ・ウレイド基、 ・場合により1個〜4個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたウレイド基、 ・アルキルチオ基、スルフェニル基、スルフィニル基、 ・スルファモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたスルファモイル基、 ・スルフィナモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたスルフィナモイル基、 ・カルバモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたカルバモイル基、 ・シアノ基、 ・ニトロ基、 ・アミジノ基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたアミジノ基、 ・グアニジノ基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によつて窒素におい
て置換されたグアニジノ基、 ・ヒドロキシカルバモイル基、 ・場合により1個のC_1−C_6アルキル基、アリー
ル基またはヘテロアリール基によって窒素において置換
されたヒドロキシカルバモイル基、 ・チオカルバモイル基、 ・場合により1個〜2個のC_1−C_6アルキル基、
アリール基またはヘテロアリール基によって窒素におい
て置換されたチオカルバモイル基、 ・トリフルオロメチル基、 ・アルコキシイミノ基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルコキシカル
ボニル基、 ・場合により置換されたC_1−C_6アルキルカルボ
ニルオキシ基、 からなる群から選ばれる一種である。 またR_6は下記から独立的に選ばれる。 R_5に関し上記で定義されている基(R_5及びR_
6は同一でも異っていてもよい)] 2)前記置換基R_1が1−ヒドロキシエチル基である
ことを特徴とする請求項1)記載の化合物。 3)(1R、5S、6S、8R)−6−(1−ヒドロキ
シエチル)−1−メチルカルバペネム誘導体である請求
項2)記載の化合物。 4)上記R_4が ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
、 ▲数式、化学式、表等があります▼and▲数式、化学
式、表等があります▼ (ただし、R_5、R_6は前記の定義の通りである。 )からなる群から選ばれる1種であることを特徴とする
請求項3)記載の化合物。 5)一般式 I a: ▲数式、化学式、表等があります▼ I a (ただし、R_2は水素原子またはCOOR_2として
カルボキシレートアニオンを表し、R_5、R_6は水
素原子、−CH_3、−CH_2OH、−CONH_2
、−CONHMeまたは−CONMe_2を表す) で示される請求項1)記載の化合物。 6)一般式 I b: ▲数式、化学式、表等があります▼ I a (ただし、R_2、R_5、R_6は前記の定義の通り
である。)で示される請求項1)記載の化合物。 7)一般式 I c: ▲数式、化学式、表等があります▼ I c (ただし、R_2、R_5、R_6は前記の定義の通り
である。)で示される請求項1)記載の化合物。 8)一般式 I d: ▲数式、化学式、表等があります▼ I d (ただし、R_2、R_5、R_6は前記の定義の通り
である。)で示される請求項1)記載の化合物。 9)一般式 I e: ▲数式、化学式、表等があります▼ I e (ただし、R_2、R_5、R_6は前記の定義の通り
である。)で示される請求項1)記載の化合物。 10)一般式 I f: ▲数式、化学式、表等があります▼ I f (ただし、R_2、R_5、R_6は前記の定義の通り
である。)で示される請求項1)記載の化合物。
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