JPH0222283A - 新規セファロスポリン化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般式 で表わされる新規セフ１０スポリン化合物および１１ｉ
理上許容されるその塩に関するものである。

〔従来の技術〕

本発明の類縁のセフェム誘導体としては、３位テトラゾ
ール！換ビニル構造（特開昭５５−１、２４７９０号お
よび５５−１．２２３８８号）、ピリジル又はピリダジ
ニル置換ビニルＩＩＩ造（特開昭５９−７６０８８号）
、フェニル、フリル又はチアゾールＷｔｆｉビニル構造
（特開昭６１１７８９９１号）のものが公知である。

〔発明が解決しようとする問題〕

本発明の化合物は、これら化合物と同様にβ置換ビニル
構造を有するが、これら既知の類縁化合物とビニル基に
′Ｍ、換する置換基が相違する新規セファ１」スポリン
化合物である０本発明者らは、これらの前記一般式（１
）で表わされる化合物がダラム陽性菌およびダラム陰性
菌を含む広範囲の病原菌に対し優れた活性を示すことを
見い出し本発明を完成したものである。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の前記一般式（１）で表わされる新規セファロス
ポリン化合物は、セフェム核７位に２−ヒドロキソイミ
ノ−２−（２−７ミノチアゾール４−イル）アセトアミ
ド基を有する。この置換基の幾何異性に基づき、本発明
化合物にはシンおよびアンチ異性体がある。またセフェ
ム核３位置換ビニル基にやはり幾何異性体に基ずく　（
Ｅ）および（Ｚ）異性体が存在し、本発明は、これらシ
ン、アンチ異性体および（Ｅ）、（Ｚ）異性体またはそ
れらの混合物をも包含するものである。

本発明化合物（１）の好適な塩類は慣用の無毒性で医薬
として許容される塩類であり、無機塩基との塩、その例
としてアルカリ金属塩（例えばナトリウム塩、カリウム
塩など）およびアルカリ土類金属塩（例えばカルシウム
塩、マグネシウム塩など）、アンモニウム塩、有機塩基
との塩（例えばトリエチルアミン塩、ピリジン塩、ピコ
リン塩、ジシクロヘキシルアミン塩、Ｎ、Ｎ−ジベンジ
ルエチレンジアミン塩など）、有機酸との塩（例えば酢
酸塩、トリフルオロ酢酸塩、マレイン酸塩、メタンスル
ホン酸塩、ギ酸塩、トルエンスルホン酸塩など）、無機
酸との（例えば塩酸塩、硫酸塩、リン酸塩など）又はア
ミノ酸との塩（例えばアルギニル塩、アスパラギン酸塩
、グルタミン酸塩等）などが含まれる。

一般式（１）中のＲ１は水素原子又はアミノ基の保護基
であり、アミノ基の保護基とは、第３級ブトキ・ジカル
ボニル、ベンジルオキシカルボニル、ホルミル、クロロ
アセチル、トリチル、アルキルシリル基など酸加水分解
または水添分解により容易に脱離できる通常アミノ基の
保護基として使用される基である。Ｒ８は水素原子、又
は水酸基の保Ｗｉ５を表わす、水酸基の保護基としては
カルバモイル基、脂肪族アシル基　芳香族アシル基、複
素環アシル基および芳香族基または複素環基で置換され
た脂肪族アンル基が挙げられる。

脂肪酸アシル基としては、例えばホルミル、アセチル、
プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ヘキサノイル等
の低級アルカノイル基、例えばメシル、エタンスルホニ
ル、プロパンスルホニル等の低級アルカンスルホニル基
、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プ
ロポキシカルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブト
キシカルボニル等の低級アルコキシカルボニル基、例え
ばアクリロイル、メタクリロイル、クロトノイル等の低
級アルケノイル基、例えばシクロヘキサンカルボニル等
の（ＣＳ〜Ｃｔ）−シクロアルカルボニル基、アミジノ
基等のような飽和または不飽和の、非環式または環式ア
シル基が挙げられる。

芳香族アシル基としては、例えばベンゾイル、トルオイ
ル、キシロイル等のアロイル基、例えばベンゼンスルホ
ニル、トシル等のアレンスルホニル基が挙げられる。

複素環アシル基としては、例えばフロイル、テノイル、
ニコチノイル、インニコチノイル、チアゾリルカルボニ
ル、チアジアゾリルカルボニル、テトラゾリルカルボニ
ル等の復素環カルボニル基等が挙げられる。

芳香族基で置換された脂肪族アシル基としては、例えば
フェニルアセチル、フェニルプロピオニル、フェニルヘ
キサノイル等のフェニル（低級）アルカノイル基のよう
なアル（低級）アルカノイル基例えばヘンシルオキシカ
ルボニル、フェネチルオキシカルボニル等のフェニル（
低級）アルコキシカルボニル基のようなアル（低級）ア
ルコキシカルボニル基、例えばフェノキシアセチル、フ
ェニルプロピオニル等のフェノキシ（低級）アルカノイ
ル基等が挙げられる。

複素環基で置換された脂肪族アシル基としては、チエニ
ルアセチル、イミダゾリルアセチル、フリルアセチル、
テトラゾリルアセチル、チアゾリルアセチル、チアジア
ゾリルアセチル、チエニルプロピオニル、チアジアゾリ
ルプロピオニル等が挙げられる。

これらのアシル基はさらに、例えばメチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル等
の低級アルキル基、例えば塩素、臭素、沃素、フン素の
ようなハロゲン、例えばメトキシ、エトキシ、プロポキ
シ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキ
シルオキシ等の低級アルコキシ基、例えばメチルチオ、
エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチル
チオ、ペンチルチす、ヘキシルチオ等の低級アルキルチ
オ基、ニトロ基等のような１個以上通当な置換基で置換
されていてもよく、そのような置換基を有する好ましい
アシル基としては、例えばクロロアセチル、ブロモアセ
チル、ジクロロアセチル、トリフルオロアセチル等のモ
ノ　（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アルカノイル
基、例えばクロロメトキシカルボニル、ジクロロメトキ
シカルボニル、２，２．２−トリクロロエトキシカルボ
ニル等のモノ　（またはジまたはトリ）ハロ（低級）ア
ルコキシカルボニル基、例えばニトロベンジルオキシカ
ルボニル、クロロベンジルオキシカルボニル、メトキシ
ヘンシルオキシカルボニル等のニトロ（またはハロまた
は低級アルコキシ）フェニル（低級）アルコキシカルボ
ニル基等が挙げられる。

さらには、水酸基の保護基としては、例えばベンジル、
トリチル等のｆ換低級アルキル基、例えばｌ−メチル−
１−メトキシエチル、メトキシプロピル等の低級アルコ
キシ（低級）アルキル基、テトラヒドロピラニル等が挙
げられる。ここで低級とは特に指示がなければ炭素原子
１〜６個を意味するものである　Ｒ３は水素原子、塩生
成カチオン又はカルボキシル基の保護基である。塩生成
カチオンである場合の塩類としては、アルカリ金属塩、
アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩が挙げられる。

保護されたカルボキシル基としてはベニシ＋Ｊ７ｔたは
セファロスポリン化合物に常用されるエステル化された
カルボキシル基が挙げられる。

エステル化されたカルボキシ基の好適なエステル部分と
しては、例えばメチルエステル、エチルエステル、プロ
ピルエステル、イソプロピルエステル、ブチルエステル
、イソブチルエステル、第三級ブチルエステル、ペンチ
ルエステル、第三級ペンチルエステル、ヘキシルエステ
ル等の低級アルキルエステル、例えばビニルエステル、
アリルエステル等の低級アルケニルエステル、例えばエ
チニルエステル、プロピルエステル等の低級アルキニル
エステル、例えばメトキシメチルエステル、エトキシメ
チルエステル、イソプロポキシメチルエステル、１−メ
トキシエチルエステル、ｌ−エトキシエチルエステル等
の低級アルコキシ（低級）アルキルエステル、例えばメ
チルチオメチルエステル、エチルチオメチルエステル、
エチル千オニチルエステル、イソプロピルチオメチルエ
ステル等の低級アルキルチオ（低級）アルキルエステル
、例えばカルボキシメチルエステル、２−カルボキンエ
チルエステル、３−カルボキシプロピルエステル等のカ
ルボキシ置換低級アルキルエステル、例えば第三級ブト
キシカルボニルメチルエステル、２−第三級ブトキシカ
ルボニルエチルエステル、３−第三級ブトキシ力ルポニ
ルブロビルエステル等の低級アルコキシカルボニル置換
（低級）アルキルエステルのような保護されたカルボキ
シ置換（低級）アルキルエステル、例えば２−ヨードエ
チルエステル、２．２．　２−）リクロロエチルエステ
ル等のモノ　（またはジまたはトリ）ハロ（低級）アル
キルエステル、例えばアセトキンメチルエステル、プロ
ピオニルオキシメチルエステル、ブチリルオキシメチル
エステル、バレリルオキシメチルエステル、ピバロイル
オキシメチルエステル、ヘキサノイルオキシメチルエス
テル、■　（または２）−アセトキシエチルエステル、
ｌ　（または２または３）−アセトキシプロピルエステ
ル、■　（または２または３または４）−アセトキシエ
チルエステル、ｌ　（または２）−プロピオニルオキシ
エチルエステル、１　（または２または３）−プロピオ
ニルオキシプロピルエステル、ｌ　（または２）−ブチ
リルオキシエチルエステル、工　（または２）−イソブ
チリルオキシエチルエステル、１　（または２）−ピバ
ロイルオキシエチルエステル、ｌ　（または２）−ヘキ
サノイルオキシエチルエステル、イソブチリルオキシメ
チルエステル、２−エチルブチリルオキシメチルエステ
ル、３゜３−ジメチルブチリルオキシメチルエステル、
ｌｌ　（または２）−ペンタノイルオキシエチルエステ
ル等の低級アルカノイルオキシ（低級）アルキルエステ
ル、例えばヘプタノイルオキシメチルエステル、オクタ
ノイルオキシメチルエステル、ノナノイルオキシメチル
エステル、デカノイルオキシメチルエステル、ウンデカ
ノイルオキシメチルエステル、ラウロイルオキシメチル
エステル、トリデカノイルオキシメチルエステル、ミリ
ストイルオキシエチルエステル、ペンタデカノイルオキ
シメチルエステル、バルミトイルオキシメチルエステル
、ヘプタデカノイルオキシメチルエステル、ステアロイ
ルオキシメチルエステル、ノナデカノイルオキシメチル
エステル、エイコサノイルオキシメチルエステル、１　
（または２）−ヘキサノイルオキシエチルエステル、■
　（または２）−オクタノイルオキシエチルエステル、
■　（または２）ノナノイルオキシエチルエステル、ｌ
　（または２）−デカノイルオキシエチルエステル、ｌ
　（または２）−ウンデカノイルオキシエチルエステル
、１　（または２）−ラウロイルオキシエチルエステル
、■　（または２）−トリデカノイルオキシエチルエス
テル、ｌ　（または２）−ミリストイルオキシエチルエ
ステル、ｌ（または２）−ペンタデカノイルオキンエチ
ルエステル、１　（または２）バルミトイルオキシエチ
ルエステル、ｌ　（または２）−ヘプタデカノイルオキ
シエチルエステル、１　（または２）−ステアロイルオ
キシエチルエステル、１　（または２）−ノナデカノイ
ルオキシエチルエステル、■　（または２）−エイコサ
ノイルオキシエチルエステル等の高級アルカノイルオキ
シ（低級）アルキルエステル、例えばメトキシカルボニ
ルオキシメチルエステル、エトキシカルボニルオキシメ
チルエステル、プロポキシカルボニルオキシメチルエス
テル、イソプロポキシカルボニルオキシメチルエステル
、第三級ブトキシカルボニルオキシメチルエステル、ｌ
　（または２）メトキシカルボニルオキシエチルエステ
ル、ｌ（または２）−エトキシカルボニルオキシエチル
エステル、１　（または２）−プロポキシカルボニルオ
キシエチルエステル、１（または２）−イソプロポキシ
カルボニルオキシエチルエステル、１（または２）−ブ
トキシカルボニルオキシエチルエステル、ｌ　（または
２）−イソブトキシカルボニルオキシエチルエステル、
ｌ　（または２）−第三級ブトキシカルボニルオキシエ
チルエステル、ｌ　（または２）−へキシルオキシカル
ボニルオキシエチルエステル、■　（または２または３
）−メトキシカルボニルオキシプロビルエステル、ｌ（
または２または３）−エトキシカルボニルオキシプロビ
ルエステル、ｌ　（または２または３）−イソブロボキ
シ力ルポニルオキシブロピルエステル、１　（または２
または３または４）−エトキシカルボニルオキシブチル
エステル、１（または２または３または４）−ブトキシ
カルボニルオキシブチルエステル、■　（または２また
は３または４または５）−ペンチルオキシカルボニルオ
キシペンチルエステル、ｌ　（または２または３または
４または５）−ネオペンチルオキシカルボニルオキシベ
ンチルエステル、ｌ　（または２または３または４また
は５または６）エトキシカルボニルオキシヘキシルエス
テル等の低級アルコキシカルボニルオキシ（低級）アル
キルエステル、例えば（５−メチル−２−オキソ−１，
３−ジオキノール４−イル）メチルエステル、（５−エ
チル−２オキソ−１，３−ジオキソ−ルー４−イル）メ
チルエステル、（５−プロピル−２−オキソ−１゜３−
ジオキソ−ルー４−イル）エチルエステル等の（５−低
級アルキルー２−オキソ−１３−ジオキソ−ルー４−イ
ル）（低級）アルキルエステル、例えばメシルメチルエ
ステル、２−メシルエチルエステル等の低級アルカンス
ルホニル（低級）アルキルエステル、例えばベンジルエ
ステル、４−メトキシベンジルエステル、４−ニトロベ
ンジルエステル、フェネチルエステル、ベンズヒドリル
エステル、トリチルエステル、ビス（メトキシフェニル
）メチルエステル、３．４−ジメトキシベンジルエステ
ル、４−ヒドロキシ−３，５ジ第三級ブチルベンジルエ
ステル等の１個以上の適当な置換基を有していてもよい
モノ　（またはジまたはトリ）フェニル（低級）アルキ
ルエステルのような１個以上の置換基を有していてもよ
いアル（ａ級）アルキルエステル、例えばフェニルエス
テル、トリルエステル、第三級ブチルフェニルエステル
、キシリルエステル、メシチルエステル、クメニルエス
テル、サリチルエステル等の１個以上の適当な１換を有
していてもよいアリールエステル、例えばフタリジルエ
ステル等の複素環エステル等が挙げられる。Ｒ４は水素
原子、ハロゲン原子又は低級アルキル基である。ハロゲ
ン原子としてはフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子が挙げられる。低級アルキル基としては、メチル
基、エチル基、ブチル基が挙げられる。ここで低級とは
特に指示がなければ炭素原子１〜６個を意味するもので
ある。

本発明化合物の製造法を以下に説明する。

もしくはそのアミノ基における反応性誘導体又はそれら
の塩類 Ｎ−０１ｔ２ またはその塩類 １−遣払」ニュ またはその塩類 ＋ｎ−０Ｒ２ またはその塩類 袈１濯ｉに土 またはその塩類 −０Ｒ２ またはその塩類 １１濯ＬＬ二ｌ またはその塩類 −０ｆ−ｉ またはその塩類 ！！ｊＬＬＬ二上 もしくはそのアミノ基における反応性誘導体又はそれら
の塩類 またはその塩類 またはその塩類 Ｒ４−αｌ またはその塩類 １１■ＬＬ二主 またはその塩類 ＬＯＩ−１ またはその塩類 １】叛主二主 １〜−〇１１ またはその塩類 〔式中、Ｒ’、Ｒ”およびＲ３は前と同じであり、Ｒ１
はアミノ基の保１Ｍ基、Ｒ８はヒドロキシ基の保護基、
Ｒ１はカルボキシル基の保ａｌｌ、そしてＸはハロゲン
を表わす、〕 本発明化合物（１）の製造法１−１から２−３までを詳
しく説明すると次の通りである。

ｉｌ＋　　製造法１−１ 化き物（［１）のアミノ基における反応性誘導体の適当
な例としては、化合物〔■〕とアルデヒド、ケトンなど
のようなカルボニル化合物との反応にて生成したシップ
塩基型のイミノ又はその互変異性であるエナミン型異性
体あるいは化合物（ＩＩ）とビス（トリメチルシリル）
アセトアミドなどのようなシリル化合物との反応によっ
て得られたシリル誘導体、あるいは化合物〔■〕と三塩
化リン又はホスゲンとの反応によって生成した誘導体な
どが挙げられる 化合物（ｎ）及び（ＩＩＩ）の適当な塩類としては有機
酸又は無機酸との塩（例えば酢酸塩、マレイン酸塩、酒
石酸塩、ヘンゼンスルホン酸塩、硫酸塩、リン酸塩など
）のような酸付加１、あるいはアルカリ金属塩又はアル
カリ土類金属塩（例えばｊトリウム塩、カリウム塩、カ
ルシウム塩、マグネう・ラム塩など）ような金属塩ある
いはアンモニウム塩又は有機アミン塩（例えばトリエチ
ルアミン塩、ジシクロヘキシルアミン塩など）などが挙
げられる。

化合物（１［［）のカルボキシル基における反応性誘導
体の適当な例としては、酸ハロゲン化合物、酸アジド、
酸無水物、活性アミド、活性エステルなど挙げられる。

さらに詳細には、酸塩化物、酸臭化物：置換リン酸（例
えばシアルアルキルリン酸、フェニルリン酸、ジフェニ
ルリン酸、ジベンジルリン、ハロゲン化リン酸など）、
ジアルキル亜リン酸、亜硫酸、チオ硫酸、硫酸、炭酸ア
ルキル（例えば炭酸メチル、炭酸エチルなど）、脂肪族
カルボン酸（例えばピバリン酸、吉草酸、イソ吉草酸、
２−エチル酢酸、トリクロロ酢酸など）又は芳香族カル
ボン酸（例えば安息香酸などの）のような酸との混合酸
無水物：対称酸無水物；イミダゾール、４−置換イミダ
ゾール、ジメチルピラゾール、トリアゾール又はテトラ
ゾールとの活性アミド：又は活性エステル（例えばンア
ノメチルエステル、メトキシメチルエステル、ジメチル
イミノメチル（（ＣＨ３）　ｔＮ　＝　ＣＨ）エステル
、ビニルエステル、プロパルギルエステル、ｐ−ニトロ
フェニル、２，４−ジニトロフェニルエステル、トリク
ロロフェニルエステル、ペンタンクロロフェニルエステ
ル、メシルフェニルエステル、フェニルアゾフェニルエ
ステル、フヱニルチオエステル、ｐ−二Ｆ口フェニルチ
オエステル、ｐ−クレジルチオエステル、カルボキシル
メチルオニステル、ピラニルエステル、ピリジルエステ
ル、ピペリジルエステル、８−キノリルチオエステルな
ど）、もしくはＮ−ヒドロキシ化合物（例えばＮ、　Ｎ
ジメチルヒドロキシルアミン、■−ヒドロキシ２−（Ｉ
Ｈ）　−ピリドン、Ｎ−ヒドロキシスクシンイミド、Ｎ
−ヒドロキシフタルイミド、１−ヒドロキシ−６−クロ
ロ−ＩＨ−ヘンシトリアゾールなど）とのエステルなど
が挙げられる。

これらの反応性誘導体は使用する化合物Ｃｌ１１）の種
類によって適宜選択される。

この化合物（ｎ）と（１）との反応は、通常、水、アセ
トン、ジオキサン、アセトニトリル、クロロホルム、塩
化メチレン、塩化エチレン、テトラヒドロフラン、酢酸
エチル、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、ピリジンのよ
うな慣用溶媒又はこの反応に悪影響を与えない他の有機
溶媒中で行われる。これらの溶媒は水と混合して使用し
てもよい。

この反応において、化合物（ＩＩ［）を遊離酸の形又は
塩の形で使用する場合、縮合剤の存在下に反応を行うの
が望ましく、このような縮合剤としては、たとえばＮ、
Ｎ’−ジシクロへキシルカルボニジイミド：Ｎ−シクロ
へキシル−Ｎ′−モルホリノエチルカルボジイミド：Ｎ
−シクロへキシル−Ｎ’−（４−ジエチルアミノシクロ
ヘキシル）カルボジイミド：Ｎ、Ｎ’−ジエチル力ルボ
ジイミド：Ｎ、Ｎ’−ジイソプロピルカルボジイミド：
Ｎ−エチル＝Ｎ′−（３−ジメチルアミノプロピル）カ
ルボジイミド：Ｎ、Ｎ’−カルボニルビス（２メチルイ
ミダゾール）：ペンタメチレンケテンーＮ−シクロへキ
シルイミン：ジフェニルケテンＮ−シクロヘキシルイミ
ン：エトキシアセチレン；１−アルコキシ−１−クロロ
エチレン：亜リン酸トリアルキル：ポリリン酸エチル：
ポリリン酸イソプロピル：オキシ塩化リン：三塩化リン
：塩化チオニル：塩化オキザリル：トリフェニルホスフ
ィン：２−エチル−７−ヒドロキシベンズイソキサゾリ
ウム塩：２−エチル−５−（ｍ−スルホフェニル）イソ
キサゾリウムヒドロキシド分子内塩：　ｔ−＜ｐ−クロ
ロヘンゼンスルホニルオキシ）６−クロロ−ＩＨ−ベン
ゾトリアゾール：ジメチルホルムアミドと塩化チオニル
、ホスゲン、オキシ塩化リンなどとの反応によってえら
れるいわゆるヴイルスマイヤー試薬などが挙げられる。

この反応は、また無機塩基又は有機塩基の存在下に行っ
てもよく、このような塩基の例としては、炭酸水素アル
カリ金ｒＩＡ（例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カ
リウムなど）、炭酸アルカリ金属（例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウムなど）、炭酸アルカリ土類金属（例え
ば炭酸カルシウムなど）、トリ　（低級）アルキルアミ
ン（例えばトリメチルアミン、トリエチルアミンなど）
、ピリジン、Ｎ−（ｍ級）アルキルモルホリン、Ｎ、　
　Ｎジ（低級）アルキルベンジルアミンなどが挙げられ
る。

反応温度は特に限定されず、通常、冷却下ないし加温下
に行われる。

（２）製造法１−２ 化合物（Ｉｂ〕又はその塩類は化合物（Ｉａ）又はその
塩類のＲ′におけるカルボキシ基の保護基を脱離反応に
付することにより製造できる。

カルボキシ基の保護基の脱離反応は加水分解、還元など
慣用される任意の方法を適用できる。酸を用いた加水分
解は一般的方法の一つであり、例えばシリル基、ｔ−ブ
トキシ基、ｐ−メトキシベンジル基、ジフェニルメチル
基等の保護基の脱離に適用される。

（３）製造法１−３ 化合物（Ｉ　ｄ）又はその塩類は化合物（Ｉｃ）又はそ
の塩類のＲ１におけるアミノ基の保護基を脱離反応に付
することにより製造できる。

アミノ基の保護基の脱離反応は加水分解および還元があ
り、任意の方法を適用できる。酸を用いた加水分解の方
法は一般的な方法の一つであり、例えばホルミル基、ト
リチル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシ
カルボニル基等の保護基の脱離に適用される。

（３）製造法１−４ 化合物（Ｉ　ｅ３又はその塩類は化合物［１ｆ）又はそ
の塩類のＲ２における水酸基の保護基を脱離反応に付す
ることにより製造できる。

水酸基の保１基の脱離反応は前記製造法１−２と同様に
して行うことができる０例えば酸を用いた加水分解はシ
リル基、トリチル基、テトラヒドロピラニル基、アセチ
ル基等の保護脱離に適用できる。

尚、化合物（Ｉ　ａ）から（Ｉ　ｆ〕における塩類は前
記化合物〔！〕で例示したものと同じものが挙（４）製
造法２−１ 化合物（Ｉ　ｇ）又はその塩は、化合物（ＩＩ）もしく
はそのアミノ基における反応性誘導体またはその塩に、
化合物（ＩＶ）もしくはそのカルボキシ基における反応
性誘導体またはその塩を反応させることにより製造でき
る。

化合物〔■〕のアミノ基における反応の性誘導体として
は、慣用の誘導体例えば、化合物（ＩＩ）と、トリメチ
ルシリルアセトアミド、ビス（トリメチルシリル）アセ
トアミド、ビス（トリメチルシリル）尿素等のようなシ
リル化合物との反応によって生成するシリル誘導体が挙
げられ、また化合物（ＩＶ）の反応性誘導体としては、
酸塩化物、酸臭化物のような酸ハロゲン化物が挙げられ
、これらの酸ハロゲン化物はジケテンとハロゲンとの反
応によって製造できる。

反応は通常、水、アセトン、ジオキサン、アセトニトリ
ル、クロロホルム、ベンゼン、塩化メチレン、塩化エチ
レン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ、Ｎ−ジメ
チルホルムアミド、ピリジン、ヘキサメチルホルムアミ
ド等のこの反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒または
それらの混合物中で行われる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし加温
下で行われる。

化合物〔！ｈ〕またはその塩は、化合物（Ｉ　ｇ）また
はその塩にニトロソ化剤を反応させることにより製造で
きる。

ニトロソ化剤としては、亜硝酸およびその誘導体、例え
ば塩化ニトロシル、臭化ニトロシル等のニトロシルハロ
ゲン化物、例えば亜硝酸ナトリウム、亜硝酸カリウム等
の亜硝酸アルカリ金属、例えば亜硝酸ブチル、亜硝酸ペ
ンチル、亜硝酸イソアミル等の亜硝酸アルキル等が挙げ
られる。

ニトロソ化剤として亜硝酸の塩、例えばそのアルカリ金
属塩を使用する場合、例えば塩酸、硫酸ぎ酸、酢酸等の
無機または有機酸の存在下で反応を行うのが好ましい。

この反応はアセチルアセトン、アセト酢酸エチル等のよ
うな活性メチレン化合物の存在下で行うことが好ましい
。

この反応は通常、水、酢酸、ベンゼン、メタノール、エ
タノール、テトラヒドロフラン、塩化メチレン等のこの
反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒またはそれらの混
合物中で行われる。

反応温度は特に限定されないが、通常冷却下ないし常温
で行われる。

化合物（Ｉ　ｆ）又はその塩は化合物（Ｉ　ｈ）又はそ
の塩に化合物（Ｖ）を反応させることにより製造できる
。

化合物（Ｖ）のＲ１は前記と同じである。反応は通常酢
酸エチル、ジクロロメタン、クロロホルム、テトラヒド
ロフラン、Ｎ、Ｎ’−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ’
−ジメチルアセトアミド、ジオキサン、水、酢酸、ギ酸
等のような反応に悪影響を及ぼさない慣用の溶媒又はそ
れらの混合物中で行われる０反応温度は特に限定されな
いが、通常は冷却下ないし加温下に反応が行われる。

製造法２−２ 化合物〔！ｊ〕又はその塩類は化合物（Ｉ　１）又はそ
の塩類のＲ３おけるカルボキシル基の保護基を脱離反応
に付することにより製造できる。

カルボキシル基の保護基の脱離反応は加水分解、還元な
どの慣用される任意の方法を適用できる。

酸を用いた加水分解は一般的方法の一つであり、例えば
シリル基、ｔ−ブトキシ基、ｐ−メトキシベンジル基、
ジフェニルメチル基等の保護基の脱離に適用される。

製造法２−３ 化合物〔１１〕又はその塩類は化合物（Ｉｋ）又はその
塩類のＲ１におけるアミノ基の保！！基を脱離反応に付
することにより製造できる。

アミノ基の保護基の脱離反応は加水分解および１元があ
り、任意の方法を通用できる。酸を用いたｊＪα水分解
の方法は−ｍ的な方法の一つであり、例えばホルミル基
、トリチル基、（−）゛トキシカルボニル基、ベンジル
オキシカルボニル基等の保ｍ基の脱離に通用される。

尚、化合物〔■）、（ＩＶ）及び（Ｉ　ｇ）から（Ｉ　
ｊ）における塩類は前記化合物（１）で例示したものと
同しものが挙げられる。

原料として用いる前記一般式（ｆ［［）で表わされるカ
ルボン酸はＪ、Ａｎｔｉｂｉｏｔｉｃｓ。

３６．１６０　（１９８１）記載の方法で合成すること
ができる。また一方の原料とし′ζ用いられる前記一般
式〔■〕で表わされる化合物は以下の図式で示される製
造方法により製造することができる。

〔式中、Ｒ３は水素原子、塩生成カチオン又はカルボキ
シル基の保護基であり、Ｒ４は水素原子、ハロゲン原子
又は炭素数１〜３の低級アルキル基であり、ＲＳはアシ
ルアミノ基である。〕工　程　　ｌ 一般式（Ｖｌ）で示されるリン−イリドに、一般式〔■
〕で示されるアルデヒドを作用させる。

般式（Ｖｌ）のリン−イリドは、Ｊ。

ＡｎｔｌｂｌｏＬｉｃｓ、３８．１７３８　（１９（１
９８５）の記載の方法で！１ｍ！！できる。一方のアル
デヒドはＪ、Ｈａｔｅｒｏｃｙｃｌ、Ｃｈａｍ、。

７．４１５　　（１９７０）の方法で合成できる。

反応は通常、テトラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メ
チレン、ジメチルホルムアミド、水またはこれらの混合
溶媒中で行われる０反応温度は特に限定しないが、室温
付近が望ましい。

工程２ 一般式Ｃ１１）の化合物またはその塩は、一般式〔■〕
の化合物を脱アシル化反応に付することによって製造す
ることができる。この脱シシル化反応は、加水分解、還
元、ルイス酸を用いる脱アシル化、化合物〔■〕にイミ
ノハロゲン化剤、続いてイミノエーテル化剤を作用させ
、必要であれば、生じた化合物を加水分解に付すことに
より脱アシル化法などの方法により行われる０反応温度
は、特に限定されず、反応は通常冷却下もしくは室温で
行われる。

本発明化合物（１）及びその塩は新規化合物であり、高
い抗菌活性によりダラム陽性菌及びダラム陰性菌の生育
を阻止し、細菌感染縫子防・治療剤として有用である。

尚、抗菌活性の結果は下記の第１表の通りであり、最小
発育阻止濃度（ＭＩＣ）（単位μｇ／ｍｌ）で表わし、
測定は日本化学療法学会最小発育阻止濃度測定法改訂委
員会（Ｃｈｍｏｔｈｅｒａｐｙ。

ｖ　ｏ　１．　２９．　ｍｌ、　　７６〜７９頁（１９
８１））に準して行った。

以下、本発明を参考例、実施例により更に詳細に説明す
る。

参 考 例 ＣＯ２１Ｃ０２ １）ホルミルアミノ−３−トリフェニルホスホラニリデ
ンメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−メトキシ
ベンジル（３ｇ）を３１化メチレン（２０ｍｌ）に溶解
し、４−ホルミル−１，２，３チアジアゾール（１ｇ、
８．８ｍｍｏ　ｌ）を加えた。

室温で終夜撹拌し、減圧下溶媒を留去後シリカゲルカラ
ムクロマトグラフィーで精製し、７−ホルミルアミノ−
３−（（Ｚ）−２−（１，２，３−チアジアゾール−４
−イル）ビニル〕−３−セフエム−４−カルボン酸ｐ−
メトキシベンジル（０，６［）を黄色粉末状として得た
。

Ｎ　Ｍ　Ｒ（Ｄ　Ｍ　Ｓ　Ｏｄ　Ｊδ　３．６８　（Ｑ
ａｓ。

Ｊ＝１８Ｈｚ、２Ｈ）、３．７８　　（ｓ３Ｈ）、５．
０３　（ｓ、２Ｈ）、５．２７（ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、ＩＨ
）、５．８６ （ｄｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、Ｊ−５８２，ＩＨ）。

６．７２　（ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、ＩＨ）。

６．９２　（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、２Ｈ）。

６．９７　（ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、ＩＨ）。

７．２８　（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、２８） ８．１８　（ｓ、ＩＨ）、９．０４　（ｓ、ＩＨ）９．
１３　（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、ＩＨ）。

上記エステル（０，６ｇ、１．３ｍｍｏ　ｌ）をメタノ
ール（１０ｍｌ）に溶解した。＋１塩酸（０，１ｍ１）
を加え、室温で２時間撹拌した。溶媒を留去後、残渣に
少量の水を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え
、ｐ　Ｈ８〜９に調整した。酢酸エチルを加えて溶解し
、有機層を分液した。有機層を乾燥、溶媒留去し、残留
物をシリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製し、黄
色粉末固形物とし、７−アミノ−３−（（Ｚ）−２−（
１゜２．３−チアジアゾール−４−イル）ビニル〕＝３
−セフェムー４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジル（０
，２１ｇ）を得た。

’ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ　３．５６　（ｑＡＩ。

Ｊ＝１８Ｈｚ、２Ｈ）、３．７７　（ｓ。

３Ｈ）、５．０３　（ｓ、２Ｈ）、５．１６（ｄ、Ｊ−
５Ｈｚ、ＩＨ）、６．６８ （ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ）、　　６．９３（ｄ、Ｊ−
９Ｈｚ、２Ｈ）、６．９６ （ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、ＩＨ）、７．２８（ｄ、Ｊ−９Ｈ
ｚ、２Ｈ）、９．０３ （ｓ、ＩＨ）。

参考例２ １Ｌ、＝ｃＩ（ｉｌｈ２ ７−アミノ−３−（（Ｚ）−２−（１，２，３チアジア
ゾール−４−イル）ビニル〕−３−七フエムー４−カル
ボン酸ジフェニルメチル（５，２０ｇ、１１ｍｍｏ　ｌ
）をＴＨＦ−塩化メチレン（１：　１．ｌｏｏｍ＋）の
混合溶媒に懸濁し、とストリメチルシリルアセトアミド
（５，８４ｇ。

２８ｍｍｏ　Ｉ）を加え、室温で撹拌した。この溶液に
塩化メチレン（５ｍｌ）中ジケテン（１，１１ｇ、１３
ｍｍｏ　Ｉ）および臭素（０，６７ｍ１゜１３ｍｍｏｌ
）から得られた臭化４−ブロモアセトアセチルを一２０
℃の冷却下で加え、反応混合物を一１０℃で１時間攪拌
した０反応液に酢酸エチル（１００ｍｌ）と水（３０ｍ
ｌ）を加えた。

有機層を分取し、水及び食塩水で洗浄した後、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物にジイ
ソプロピルエーテル（１００ｍｌ）を加え、０℃で１時
間攪拌し、黄色粉末化合物として７−（４−ブロモアセ
トアセトアミド）−３−［（Ｚ）−２−（１，２，３−
チアジアゾール４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４
−カルボン酸ジフェニルメチルを（７，０ｇ）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣＩｓ）；　３．３３　　（Ｑ
□。

Ｊ＝１８Ｈｚ、２Ｈ）３．７２〜 ３．９０　（ｍ、４Ｈ）、５．００　　（ｄＪ＝４．５
Ｈｚ、ＩＨ）、５．７６ （ｄ、ｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ、Ｊ＝９Ｈｚ。

ＩＨ）、６．６３　（ｓ、ＩＨ）６．７０（ｄ、Ｊ−１
２Ｈｚ、ＩＨ） ７．１６　　（ｍ、　　１１　Ｈ）、　　８．１０（ｓ
、ＬＨ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　；３０５０．　２９５０１７Ｂ０．
　１，７３０．　１５９０゜１５２０、　１４００．　
１３２０゜ １２１５、　１１２０．　１０００゜ ８９０、　７３０．　７００ｃｍ−’ 考例３ （Ｚ） ブロモアセトアセトアミド）−３− ２−（１，２，３−チアジアゾール−４イル）ビニルツ
ー３−セフェム−４〜カルボン酸ジフェニルメチル（２
，２２ｇ、３．４ｍｍｏｌ）の塩化メチレン−酢酸（２
０ｍ　ｌ　−１０ｍｌ）？Ｖ液を一７℃から一５℃に冷
却し亜硝酸ナトリウム（０，３２ｇ４．６ｍｍｏｌ）の
水（２ｍｌ）溶液を滴下した。

滴下後、３０分間撹拌した後、尿素（０，３ｇ）を加え
、反応液は室温に戻した０反応混合物は塩化メチレンで
抽出後、水洗（４０ｍｌＸ２）した後硫酸マグネシウム
で乾燥した。溶媒を留去すると薄黄色粉末化合物として
７−（４−ブロモ−２ヒドロキシイミノアセトアセトア
ミド）−３（（Ｚ）−２−（１，２，３−チアジアゾー
ル４−イル）ビニルツー３−セフェム−４−カルボン酸
ジフェニルメチルを（１，８５ｇ）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣＩＨ）；　３．５０　　（Ｑ
ＡＩ。

Ｊ−Ｌ８Ｈｚ、２Ｈ）４．４６　（ｓ ２Ｈ）、５．１３　　（ｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ。

ＩＨ）、５．８３　（ｄ、ｄ、Ｊ− ４，５Ｈｚ、　　Ｊ−９Ｈｚ、　　ＩＨ）。

６．６９　　（ｓ、　　ＩＨ）、６．７６　　（ｄ。

Ｊ”１　２Ｈｚ、　　ｆＨ）、　　７．２３（ｍ、　　
１　１Ｈ）、　　８．１７　　（ｓ、　　ＩＨ）９．３
３　　（ｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、　　ＩＨ）ＩＲ（ＫＢｒ）　
　；３３００．　３０５０゜１７９０、　１？３０．　
１６００゜ １５５０、１３８０．　１２２５゜ １１８０、　１０１０．　７６０゜ 実施例１ ７−（４−ブロモ−２−ヒドロキシイミノアセトアセト
アミド）−３−（（Ｚ）−２−（１，２，３チアジアゾ
ール−４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４−カルボ
ン酸ジフェニル（１，８５ｇ。

２．７ｍｍｏｌ）をＮ、Ｎ’−ジメチルアセトアミド（
６ｍｌ）に溶かしチオ尿素（０，２３ｇ。

３ｍｍｏｌ）を加えた０反応液は室温で１時間攪拌した
後、反応液を３％の炭酸水素ナトリウム水溶ｉ’ｌ［（
６５ｍｌ）中に滴下した。酢酸エチルで抽出し食塩水で
洗浄し、抽出液は硫酸マグネシウムで乾燥した。溶媒を
留去した後、残留物はイソプロピルエーテル中で粉砕し
、濾取し、ジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥して
？−（（Ｚ）２−（２−アミノチアゾール−４−イル）
−２−ヒドロキシイミノジアセトアミ）’、］−３−　
（（Ｚ）−１’１−　（１，２，３−チアジアゾール−
４−イル）ビニルツー３−セフェム−４−カルボン酸ジ
フェニルメチル（１，６ｇ）を得た。

Ｈ−ＮＭＲ（δ、　　ＣＤＣＩｓ）　ｉ　３．４３　　
（ｍ２Ｈ）、５．０７　（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ。

ＩＨ）、５．８９　（ｄ、ｄ、Ｊ冨 ４．５Ｈｚ、Ｊ＝９＋１ｚ、ＩＨ）。

６．７６　　（ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ）６．８９　（
ｓ、ＩＨ）、７．２３　（ｍ。

１３Ｈ）８．２１　　（ｓ、ＬＨ）。

９．６６　（ｄ、Ｊ−９Ｈｚ、ＩＨ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）：３３５０，３１２０゜１７８５．１７
３０，１６２０゜ １５３０、　１３７５．　１３００ １２２５、　１１８０．　１１００゜ １０１０、　８００．　７６０゜ ７００ｃｍ−’ ？−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール４−イル）
−２−ヒドロキシイミノ二アセトアζ−−３−（（Ｚ）
−２−（１，２，３−チアシアプール−４−イル）ビニ
ルツー３−セフェム−４−カルボン酸ジフェニルメチル
（１，６ｇ、２．６ｍｍｏｌ）を０℃に冷却したトリフ
ルオロ酢酸アニソール（３ｍｌ−３ｍｌ）混合液に加え
た。

反応液は５℃で１．５時間攪拌した。ジイソプロピルエ
ーテル（ｌｏＯｍｌ）中に反応液を加え、撹拌した。析
出物は濾取しジイソプロピルエーテルで洗浄し、乾燥し
て７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−
イル）−２−ヒドロキシイミノジアセトアミ＠−ｓ−（
（Ｚ）−２−（１，／宇２．３−チアジアゾール−４−
イル）ビニル〕３−セフヱムー４−カルボン酸のトリフ
ルオロ酢酸塩を（１，１３ｇ）得た。

ＮＭＲ；（δ、ＤＭＳＯｄ、）＋　３．５０　（ｒｎ。

２Ｈ）、５．２０　（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ。

ＬＨ）、５．７６　　（ｄ、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ。

Ｊ−９Ｈｚ、ＩＨ）、６．６６　（ｄ、Ｊ＝１２ｔｌｚ
、ＩＨ）、６．８３　（ｓ、ＩＨ）。

６．９２　　（ｄ、　　Ｊ＝１　２Ｈｚ、　　ＬＨ）７
．３３　　（ｂｓ、　　２Ｈ）、　　９．００　　Ｃｓ
。

ＬＨ）、　　９．５０　　（ｄ、　　Ｊ”９ＨｚｒＲ（
ＫＢｒ）　　；３３００．　３１００１７８０、　１６
８０．　１６００゜ １５４０、　１４１０．　１３６０゜ １２４０、　１２００．　１１４０゜ １０１０、　８００．　７２０ｃｍ 前述した反応で得たトリフルオロ酢酸塩（４，３７ｇ）
を炭酸水素ナトリウム水溶液に溶解しＨＰ−２０カラム
クロマトグラフイーで精製し、？−（（Ｚ）−２−（２
−アミノチアゾール−４イル）−２−ヒドロキシイミノ
ジアセトアミＦ３−　７３−　（（Ｚ）−２−（１，２
，３−チアジアゾール−４−イル）ビニル〕−３−セフ
ェムー４−カルボン酸ナトリウム（０，９４ｇ）を得た
。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、　　Ｄ、０）ｉ　３．１？、３．５
２（ｑａｍ、　　　Ｊ−１８Ｈｚ、　　　２Ｈ）　　　
５．２１１　Ｈ）。

（ｄ、　　Ｊ−５Ｈｚ、　　ＩＨ）。

（ｄ、　　Ｊ−５Ｈｚ、　　ＩＨ）　　。

（ｄ、　　Ｊ＝１２Ｈｚ、　　ＩＨ） （ｄ、　　Ｊ＝１２Ｈｚ、　　ＬＨ） （ｓ、　　ＩＨ）、　　８．６８　　（ｓ。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　；３３５０．　１？６０゜１６７０
、　１６１０．　１５３０゜ １３９０、　１３５０．　１１Ｂ５゜ １０９０、　１０５５．　９８０ｃｍ ５．７３ Ｇ、５４ 、　６．８０ 、　６．８７ ＩＨ）。

実施例３ （Ｚ）−２−（２−）ジチルアミノチアゾール−４−イ
ル’）　−２−トリチルオキシイミノ酢酸（２，０９ｇ
＋　　３．１０ｍｍｏ　＋）を塩化メチレン（４０ｍｌ
）に溶かし氷冷した。ＤＣＣ（０，９５ｇ＋　　４．６
５ｍｍｏｌ）を加え、３０分攪拌した。

この反応液に７−アミノ−３−（（Ｚ）−２−（１，２
，３−チアジアゾール−４−イル）ビニル〕−３−セフ
ェムー４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジル（１，３０
ｇ＋　　３．０ｍｍｏ　Ｉ）を加え、室温で１６時間攪
拌した０反応後、反応液は濾過した後、濾液は減圧で１
埠した。残留物はカラムクロマトグラフィーで精製し、
黄色粉末状化合物として７−　（（Ｚ）−２−（２−）
ジチルアミノチアゾール−４−イル）−２−トリチルオ
キシイミノ−アセトアミド”）−３−（（Ｚ）−２−（
１゜２．３−チアジアゾール−４−イル）ビニル）３−
セフェム−４−カルボン酸ｐ−メトキシベンジルを（０
，２８ｇ、収率９％）で得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣｌｓ）；　３．２３　（ｑ□
。

Ｊ”１６Ｈｚ、２Ｈ）、３．６３　　（ｓ。

３Ｈ）、４．９２　（ｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ。

ＬＨ）、４．８９　　（ｓ、２Ｈ）。

６．０３　（ｄ、ｄ、Ｊ−４，５Ｈ３ Ｊ−９Ｈｚ、ＩＨ）、６．４０　（ｓ。

ＩＨ）、６．７３〜７．００　（ｍ、２Ｈ）。

７．０７〜７．４３　（ｍ、３０Ｈ） ８．１６　　（ｓ、　　ＬＨ）、　　８．１６　　（ｄ
。

Ｊ−９Ｈｚ、　　ＬＨ）。

Ｉ　Ｒ（ＫＢ　ｒ）　　；３３３０．　２９３０゜１７
８０、　１？２０．　１６８０゜ １５１０、　１４４０．　１３６０゜ １３００、　１２４０．　１１７０゜ １０３０、　９６０．　８２０．　７５０゜７００、　
６３０ｃｍ−’ 上記反応で得た化合物（０，２５ｇ）をＴＨＦ（１０ｍ
ｌ）に熔かし５０％水性ぎ＃（３ｍ目を加え、５０℃で
２０分攪拌した０反応液は減圧下ｔＭ１した後、残留物
にトリフルオロ酢酸（５ｍ　ｌ　）を加え、室温で２０
分間撹拌した０反応液は減圧で濃縮後、残留物はエーテ
ルで洗浄し黄色粉末物を得た。このものは炭酸水素ナト
リウム水溶液に溶解し、ＨＰ−２０カラムクロマトグラ
フイーで精製し？−（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾ
ール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド
ゴー３−　（（Ｚ）−２−（１，２，３チアジアゾール
−４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸
ナトリウム（１０■）を得た。

実施例４ （Ｚ）−２ （２−トリチルアミノチアゾール ４−イル）−２−テトラヒドロピラニルオキシイミノ酢
酸（０，３９ｇ、０．７６ｍｍｏ　Ｉ）および７−アミ
ノ−３（（Ｚ）−２−（１，２，３−チアジアゾール−
４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸ｐ
−メトキシベンジル（０，３３ｇ＋　　０．７６ｍｍｏ
　Ｉ）を塩化メチレン（１０ｍｌ）に溶かし、ＤＣＣ（
０，１８ｇ。

０．８７ｍｍｏｌ）を加え、室温で１２時間撹拌した。

不溶物を濾過した後、濾液は減圧で濃縮した。

残留物はカラムクロマトグラフィーで精製し薄黄色粉末
化合物として？−（（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−テトラヒドロピラニルオ
キシイミノ；アセトアミ０−３−（（Ｚ）〜２−　（１
，２，３−チアジアゾール−４−イル）ビニル）−３−
セフェム−４−カルボン酸ｐ−メトシキベンジルを（０
，２５ｇ）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（δ、ＣＤＣ１，）：　１．４〜１．９（
ｍ、６Ｈ）、３．４３　（ｑＡｉ　　Ｊ−１８８２、２
Ｈ）、　　３．４３　　（ｍ。

２Ｈ）、　　５．１３　　（ｄ、　　Ｊ＝４．５Ｈｚｈ
ＩＨ）、　　５．１０　　（ｓ、　　２Ｈ）。

５．５０　　（ｍ、　　ＩＨ）、　　６．００　　（ｄ
ｄ。

Ｊ＝４．５Ｈｚ、　　Ｊ＝９Ｈｚ、　　ＩＨ）。

６．７０〜７．００　　（ｍ、　　５Ｈ）。

７．２０〜７．４０　　（ｍ、　　１７Ｈ）。

８．３０　　（ｓ、　　ＩＨ）、　　８．３６　　（ｄ
。

Ｊ＝９Ｈｚ、　　１１（）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　；３３５０．　２９３０゜２８５０
、　１？８０．　１７２０ １６８０、　１６２０．　１５１０゜ １４４０、　１３６０．　１３００゜ １２４０、　１２２０．　１１７０ １０３０、　９５０．　９０５．　８２０゜７５０．７
００ｃ＊− 上記反応で得た化合物（０，２０ｇ）をＴＨＦ（５ｍｌ
）に熔かし５０％水性ぎ酸（３ｍｌ）を加え、５０℃で
１５分間攪拌した０反応液は減圧下、濃縮した後、残留
物にトリフルオロ酢酸（５ｍｌ）を加え、室温で３０分
間攪拌した１反応液は減圧下で濃縮した後、残留物はエ
ーテルで洗浄し、黄色粉末物を得た。このものは炭酸水
素ナトリウム水溶液に溶解し、ＨＰ−２０カラムクロマ
トグラフイーで精製し？−（（Ｚ）−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノ二アセ
トアミ））−３−（（Ｚ）−２−（，１，２，３−チア
ジアゾール−４−イル）ビニル〕−３−セフェム−４−
カルボン酸ナトリウム参考例４ ７−フェニルアセトアミド−３−クロロメチル−３〜セ
フェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（１２，８ｇ、
　　２４ｍｍｏ　＋）のＤＭＦ　（３２ｍｌ）を８液に
トリフェニルホスフィン（６，９ｇ、２６．４ｍｍｏｌ
）とヨウ化ナトリウム（３，９６ｇ。

２６．４ｍｍｏ　＋）を加え、室温で３時間攪拌した。

反応液は酢酸エチル（５０９ｍｌ）中に加えた。

析出物を濾取した後、乾燥し、白色の結晶化合物（２１
，５６ｇ）を得た。この化合物（１７，７２ｇ）を塩化
メチレン（３０ｍｌ）に溶解した後、５−ホルミル−４
−メチル−１，２，３−チアジアゾール（２，４９ｇ＋
　　１９．４ｍｍｏ　ｌ）を加え、さらに飽和炭酸水素
す）　ＩＪウム水１’８ｍ（３０ｍｌ）を加え、室温で
３時間攪拌した０反応液は分液し、塩化メチレン層を水
洗した。硫酸マグネシウムで乾爆後、溶媒を留去した後
残留物をカラムクロマトグラフィーで精製し、７−フェ
ニルアセトアミド−３−（２−（４−メチル−１，２，
３−チアジアゾール−５−イル）ビニル〕−３−セフェ
ム４−カルボン酸ベンズヒドリルの３位二重結合異性体
（Ｅ／Ｚ−１／３．５，５．６９ｇ、収率４７％）を得
た。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ２．Ｅ及びＺ異性体の１１．５
ｉｉ１合物）６２．５０及び２．５６（ｓ、３Ｈ）、３
．２０　　（ＡＢｑ、Ｊ　−１８Ｈｚ、２Ｈ）、３．６
０　（ｓ、２Ｈ）。

４．９６及び５．０３　（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ。

ＩＨ）、５．８９　（ｄ、ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ。

Ｊ−９Ｈｚ、ＩＨ）、６．３３　　（ｄ、Ｊ−１２ｔ（
ｚ、ＩＨ）、６．５３　（ｄ、Ｊ−６，７６（ｓ、　　
ＩＨ）。

１５Ｈ）。

３　０　５　０゜ １６８０、　１５３０゜ １１８０、　１０９０゜ ００ｃｍ−’ １２Ｈｚ、　　ＩＨ） ７．１３〜７．２６　　（ｍ。

［Ｒ（ＫＢｒ）　　３３００゜ １７９０、　１？３０゜ １３８０、　１２２０ １００５、　７４０．　７ 五塩化リン（５，８３ｇ、２８ｍｍｏ　ｌ）を塩化メチ
レン（５０ｍ　ｌ）懸濁液とし、ピリジン（７，３９ｇ
＋　　９３ｍｍｏ　１）を５〜１０℃にて加え、４０分
間攪拌を続けた。これに７−フェニルアセトアミド−３
−（２−（４−メチル−１，２゜３−チアジアゾール−
５−イル）ビニル〕−３セフェムー４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（Ｅ／Ｚ＝　１／３．５．５．６９　ｇ、９
．３６ｍｍｏ　ｌ）を５℃で一度に加え、混合物を同温
度で３時間撹拌した０反応混合物にメタノール（３８ｍ
ｌ）を−５０℃で徐々に加え、−５０〜−３０℃で１時
間攪拌した。水（７ｍｌ）を−１０℃にて加え、反応温
度を０℃とした後、１０分間撹拌した０反応液は飽和炭
酸水素ナトリウム溶液でｐＨ６とした後、塩化メチレン
で抽出した。水洗後、塩化メチレン層は硫酸マグネシウ
ムで乾燥した。溶媒を留去した後、残留物に酢酸エチル
を加えた。析出物を濾過した後、酢酸エチルで洗浄し７
−アミノ３−　（（Ｚ）−２−（４−メチル−１，２，
３チアジアゾール−５−イル）ビニル〕−３−セフェム
ー４−カルボン酸ベンズヒドリル（２，０６ｇ。

収率４５％）を得た。

ＩＨ−ＮＭＲ（ＣＤＣＩ！−ｄ、ＤＭｓｏ）６２．５０
　　（ｓ、　　３Ｈ）、　　２．８０　　（ｂｓ。

２Ｈ）、３．４６　　（ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ２Ｈ）、
４．８９　　（ｄ、Ｊ＝３Ｈｚ、　　ＩＨ）。

５．１０　　（ｄ、　　Ｊ＝３Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　
６．３６（ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、　　ＬＨ）、６．５９（
ｄ、　　　Ｊ＝１　２Ｈｚ、　　　ＩＨ）　　、　　　
６．７６（ｓ、　Ｉ　Ｈ）、　　７．１７〜７．２６　
　（ｍ１０Ｈ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）３４２５．　２９６０ １７６５、　１？２０．　１６００．　１３９０゜１３
７０、　１２９０．　１２２０．　１１００１００５、
　７６０．　７００ｃｍ−’２．３−チアジアゾール−
５−イル）ビニル〕Ｊ−セフェムー４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（０，９８ｇ、２．０ｍｍａ　ｌ）を加え、
５°Ｃで２２時間攪拌した。反＋＝液は濃縮した後、濃
縮物をカラムクロマトグラフィーで精製し、黄色粉末状
化合物として７−　（（Ｚ）−２−（１１リチルアミノ
チアゾール−４−イル）−２−トリチルオキソ１１ノア
セトアくド）　−３−Ｃ（Ｚ）　−２（４−ノナルー１
．２．３−チアジアゾール−５イル）ビニル〕−３−セ
フェムー４−カルボン酸・・ンズヒドリルを（１，３８
ｇ、収率６０．５％）で得た。

ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ）　　δ、　　２．５０　　（ｓ
３Ｈ）、３．１０　　（ＡＢＱ、Ｊ＝１８Ｈｚ。

２１４）、５．１３　　（ｄ、Ｊ”４．５Ｈｚ。

ＩＨ）　、６．１６　　（ｄ、（１，Ｊ−４，５Ｈ２゜
Ｊ−９Ｈｚ、ＩＨ）、６．３９　　Ｃｓ、ＩＨ）。

６．４３　　（ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、ＩＨ）実施例５ （Ｚ）−：ｌ’−（２−トリチルアミノチアゾール４−
イル）−２−トリチルオキシイミノ酢酸（１，５８ｇ、
２．３５ｍｍｏ　Ｉ）をＴＨＦ−塩化メチレン（２０ｍ
ｌ−１０ｍｌ）の混合溶媒に溶かし、５℃に冷却した。

この反応液にＨＯＢ　Ｔ（０，３２ｇ、２．４ｍｍｏ　
ｌ）を加え、次いでＤＣＣ（０，５０ｇ、２．４ｍｍｏ
　ｌ）を加え、同温度で２時間攪拌した０反応液は濾過
した後、濾液に７アミノー３−　（（Ｚ）−２−（４−
メチル−１゜６．８０　　（ｓ、　　ＩＨ）、　　？。

１０〜７．４０（ｍ、４０Ｈ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　３４００．　３０７５゜３０２５、
　１７９０．　１？３０．　１５３０１５００、　１４
４０．　１２２０．　９６０゜７５０、　７００ｃｍ−
’ 実施例６ ７−　（（Ｚ）−２−（２−１リチルアミノチアプール
−４−イル）−２−）リナルオキシイミノアセトアミド
）−３−［（Ｚ）−２−（４−メチル−１，２，３−チ
アジアゾール−５−イル）ビニル）−３−セフェム−４
−カルボン酸ベンズヒドリル（１，３８ｇ、１．２ｍｍ
ｏ　Ｉ）にギ酸（１４ｍｌ）を加え、室温で１時間攪拌
した０反応液に濃塩酸（０，１１ｍ１）を加え室温で１
時間攪拌した０反応液は減圧で濃縮した後、残留物をエ
ーテルで洗浄し黄色粉末物を得た。このものは炭酸水素
ナトリウム水溶液に溶解し、ＨＰ−２０カラムクロマト
グラフイーで精製し、７−（（Ｚ）−２−（２−アミノ
チアゾール−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセト
アミド）−３−（（Ｚ）２−（４−メチル−１，２，３
−チアジアゾール５−イル）ビニル）−３−セフェム−
４−カルボン酸ナトリウム（７９■）を得た。

Ｈ−ＮＭＲ（Ｄ＊Ｏ）　　δ２．５５’（ｓ、３Ｈ）。

３．３９　　（ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ、２Ｈ）。

５．３６　　（ｄ、Ｊ−５Ｈｚ、ＬＨ）５．８４（ｄ、
　　Ｊ＝５Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　６．５７　（ｄ。

Ｊ−１１Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　６．６１　　（ｄ。

Ｊ＝１　１Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　６．９１　　（ｓＬ
Ｈ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　３４２５．　１７６５゜１６６５、
　１６００．　１５４０．　１３９０゜１３６０ｃｍ−
’ 参考例６ ツーフェニルアセトアミド−３−クロロメチル３−セフ
ェム−４−カルボン酸ベンズヒドリル（４０ｇ、　　７
５ｍｍｏ　＋）のＤＭＦ（１００ｍｌ）溶液にトリフェ
ニルホスフィン（２１，７ｇ。

８３ｍｍｏｌ）とヨウ化ナトリウム（１２，４ｇ８３ｍ
ｍｏｌ）を加え、室温で２．５時間撹拌した。

反応液は酢酸エチル中に加え、析出物を濾取した。

析出物は酢酸エチルで洗浄後乾燥し、白色の結晶化合物
を（７４，６２ｇ）得た。この化合物（２９，３Ｉ１．
　３３ｃｓｍｏ　ｌ）を塩化メチレン（７０ｍｌ）に？
３解し、４−ホルミル−ル−１．２．３−チアジゾール
（４．２３　ｇ．　　３　３ｍｍｏｌ）を加え、さらに
飽和炭酸水素ナトリウム水溶液（４９．５ｍｌ）を加え
、室温で１時間１０分攪拌した。反応液は分液し、塩化
メチレン層を水洗した．硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去し残留物を得た．カラムク１】マドグラフィー
で精製し、７−フ瓜ニルアセトアミド−３（２−（５−
メチル−１．２．３−チアジアゾール−４−イル）ビニ
ル〕ー３ーセフェムー４ーカルボン酸ヘンズヒドリルの
３位二重結合異性体（Ｅ／Ｚ−１／２．３，６．２１ｇ
，収率４５％）。

’Ｈ　　ＮＭＲ　（ＣＤＣ　Ｉｓ，Ｅ及びＺ異性体の１
：２．３混合物）δ２．５ｏ及び２．５５（ｓ，３Ｈ）
、３．５７　　（ＡＢｑ．Ｊ−１　８Ｈｚ，　　ＩＨ）
、３．７３　　（ｓ．２Ｈ）。

５、１８　　（ｄ，　　Ｊ−４．５Ｈｚ．　　ＩＨ）５
、９０　　（ｄ，ｄ，　　Ｊ＝４．５Ｈｚ，　　Ｊ　−
９Ｈｚ．　　ＩＨ）、　　６．４５　　（ｄ，　　Ｊ−
１　２Ｈｚ，　　ＩＨ）、　　６．９２　　（ｓ，　　
ＩＨ）７、０５　　（ｄ，　　Ｊ＝１２Ｈ３　　１Ｈ）
。

７、２８〜７．６０　　（ｍ，　　１　５Ｈ）。

ＩＲ　　（ＫＢｒ）３３００，　　１７８０，　　１７
２５１６７０、　　１５３０．　　１５００．　　１３
７０１３１０、　　１２９５，　　１２４０．　　１２
１５１１７５、　　１０８５，　　１００５，　　７５
５７　４　０、　　７　０　０ｃｓ−’ 公に−一一 参考例７ 八４ｅ 五塩化リン（４，２３ｇ、２０．３ｍｍｏ　ｌ）を塩化
メチレン（３８ｍｌ）！Ｑ、濁液としピリジン（５，３
５ｇ、６７．７ｍｍｏ　Ｉ）を５〜１０℃にて加え、１
時間攪拌した。これに７−フェニルアセトアミド−３−
（２−（５−メチル−１，２，３−チアジアゾール−４
−イル）ビニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸ベン
ズヒドリル （Ｅ／Ｚ−１／２．３．４．１２　ｇ、６．８ｍｍｏ　
ｌ）を５℃で一度に加え、混合物を同温度で２時間攪拌
した０反応液は一７８℃に冷却後、メタノール（２８ｍ
ｌ）を加えた後、反応温度を一３０℃に戻し１時間攪拌
した。さらに反応温度を一１０℃に戻した後、水（５ｍ
ｌ）を加え、２０分間撹拌した０反応液は飽和炭酸水素
ナトリウム水溶液でｐＨ７とした後、塩化メチレンで抽
出した。水洗後、塩化メチレン層は硫酸マグネシウムで
乾燥した。溶媒を留去した後、残留物をカラムクロマト
グラフィーで精製し、７−アミノ−３−（（Ｚ）２−（
５−メチル−１，２，３−チアジアゾール−４−イル）
ビニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸ベンズヒドリ
ル（１，５ｇ、収率４５％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣｌｘ）　　６１．７５　　（ｓ。

２Ｈ）、２．３１　　（ｓ、３Ｈ）、３．５２（ｄ、Ｊ
＝１６Ｈｚ、２Ｈ）、４．８０（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ、
ＩＨ）、５．１０（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ、ＩＨ）、６．
３８（ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ）、６．８５（ｄ、Ｊ−
１２Ｈｚ、ＩＨ）、６．９３＜ｓ、　　Ｉ　Ｈ）、　　
７．１０〜７．６０　　（ｍ。

１０Ｈ） ＩＲ（ＫＢｒ）　　３４１５．　１７６５゜１７２０、
　１３６５．　１２４０．　１２１５１１７０、　１０
８０．　７４０．　６９５ｃｍ−’実施例７ （Ｚ） （２−トリチルアミノチアゾール ４−イル） （１１７ｇ ２−トリチルオキシイミノ酢酸 １．７ｍｍｏ＋）をＴＨＦ（１５ｍｌ）に溶かし、５℃
に冷却した。この反応液にＨＯＢＴ（０，２７ｇ、１．
９ｍｍｏ　ｌ）を加え、次いでＤＣＣ（０，３６ｇ、１
．７ｍｍｏ　ｌ）を加え、同温度で２時間撹拌した６反
応液は濾過した後、濾液に７アミノー３−　（（Ｚ）−
２−（５−メチル−１２，３−チアジアゾール−４−イ
ル）ビニル）３−セフェム−４−カルボン酸ベンズヒド
リル（０，８５ｇ、１．７ｍｍｏ　ｌ）を加え、５℃で
２日間攪拌した０反応液はｔＩＩ縮した後、濃縮物をカ
ラムクロマトグラフィーで精製し、黄色粉末状化合物と
して？−（（Ｚ）−２−（２−）ジチルアミノチアゾー
ル−４−イル）−１−１−リチルオキシイミノアセトア
ミド）−３−（（Ｚ）−２−（５メチル−１，２，３−
チアジアゾール−４−イル）ビニル〕−３−セフェムー
４−カルボン酸ベンズヒドリルを（１，１７ｇ、収率５
９％）得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ５）６２．４３　（ｓ。

３Ｈ）、３．４１　　（ＡＢｑ、Ｊ＝１８Ｈｚ２）１）
、　　５．２２　　（ｄ。

ＩＨ）、　　６．１２　　（ｄ Ｊ−９Ｈｚ、　　ＬＨ）。

１　２Ｈｚ、　　ＩＨ）。

１２Ｈｚ、　　ＩＨ）。

７．１５〜７．５０　　（ｍ。

実施例８ Ｊ−４，５Ｈｚ ｄ、　　Ｊ＝４．５Ｈｚ ６．４２　　（ｄ、　　Ｊ＝ ６．８２　　（ｄ、　　Ｊ− ６，８９（ｓ、　　ＩＨ） ４０Ｈ）。

７−　（（Ｚ）−２−（２−トリチルアミノチアプール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド
）−３−（（Ｚ）−２−（５−メチル−１，２，３−チ
アジアゾール−４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４
−カルボン酸ヘンズヒドリル（０，５ｇ、０．４ｍｍｏ
　ｌ）にギ酸（５ｍｌ）を加え、室温で２時間攪拌した
６反応液に濃塩酸（４０μりを加え、室温で１時間撹拌
した。反応液は減圧で４１１した後、残留物をエーテル
で洗浄し粉末状物を得た。このものは炭酸水素ナトリウ
ム水溶液に溶解し、ＨＰ−２０カラムクロマトグラフイ
ーで精製し７−　［（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾー
ル−４−イル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド）
−３−（（Ｚ）−２−（５メチル−１，２，３−チアジ
アゾール−４−イル）ビニルツー３−セフェム−４−カ
ルボン酸ナトリウム（０，１３ｇ＞を得た。

’Ｈ−ＮＭＲ（（ＤｆｆｉＯ）　δ２゜４６　（ｓ、３
Ｈ）３．２７　（ＡＢｑ、Ｊ＝１７Ｈｚ、２Ｈ）５．１
７　（ｄ、Ｊ−４，５Ｈｚ、ＩＨ）。

５．７１　　（ｄ、Ｊ＝４．５Ｈｚ、ＩＨ）。

６．５２　　（ｄ、　　Ｊ＝１　２Ｈｚ、　　ＩＨ）６
．６５　　（ｄ、　　Ｊ＝１２Ｈｚ、　　ＩＨ）。

６．８０　　（ｓ、　　ＩＨ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　３４００．　１７６０１６６５、　
１６１０．　１５３５　　１３９０１３５５ｃＩｍ 実 施 例 （Ｊ ７−　（（Ｚ）−２−（２−アミノチアゾール−４−イ
ル）−２−ヒドロキシイミノアセトアミド〕３−　（（
Ｚ）−２−（１，２，３−チアジアゾール−４−イル）
ビニル〕−３−セフェムー４カルボン酸ナトリウム（０
，２０ｇ、０．３９ｍｍｏ　ｌ）をＤＭＦ（２ｍｌ）に
溶かし、ピバリン酸ヨードメチル（０，１９ｇ＋　　０
．８ｍｍｏ　ｌ）を水冷下に加えた６反応液は水冷下で
１５分撹拌した後、水（３０ｍｌ）を加え、酢酸エチル
（３０ｍｌ）で抽出した。有機層は水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。

溶媒を留去した後、残渣をジエチルエーテル中で粉砕し
、？−（（Ｚ）−２−アミノチアゾール４−イル）−２
−ヒドロキシイミノアセトアミド〕３−　（（Ｚ）　−
２−（１，２，３−チアジアゾール−４−イル）ビニル
〕−３−セフェムー４カルボン酸ピバロイルオキシメチ
ル（０，０８ｇ）を得た。

ＨＮＭＲ（ＣＤ　ＣＩ　３）６１．１８　（ｓ９Ｈ）、
３．４２と３．６２　（ＡＢｑ、　Ｊ＝１８Ｈｚ、２Ｈ
）、５．２１　　（ｄ、Ｊ−５Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　
５．４５　　（ｂｓ、　　２ｔ（）５．８０　　（ｄ、
　　Ｊ＝５Ｈｚ、　　ＩＨ）、　　５．９１（ｄ、　　
Ｊ＝５Ｈｚ、　　１１４）、　　５．９８　　（ｄｄ　
　　Ｊ＝５Ｈｚ　　　Ｊ＝９Ｈｚ、　　ＬＨ）。

６．００　　（ｄ、　　Ｊ＝１　２Ｈｚ、　　ＩＨ）。

６．８４　　（ｄ、　　Ｊ＝１２Ｈｚ、　　ＩＨ）。

７．１４（ｓ、ＩＨ）、８．４０（ｓ、ｌ夏（）１　１
．０６　　（ｂｓ、　　ＬＨ）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　　３３３０．　２９８０゜１７８０、
　１７５０．　１７１０．　１６６０゜１５２０、　１
３６０．　１２２０．　１１２０９　８　０、　８　０
０ｃｍ−’ 参考例日 ７−ホルミルアミノ−３−トリフェニルホスホラニリデ
ンメチル−３−セフェム−４−カルボン酸ｐ−メトキシ
ベンジル（２，８ｇ、４．５ｍｍｏ　ｌ）の塩化メチレ
ン（４２ｍｌ）溶液に５−ホルミル−１，２，３−チア
ジアゾール（０，４７ｇ、４．１ｍｍｏｌ）を加え、室
温で１．５時間撹拌した０反応液は減圧で１縮し、残渣
をカラムクロマトグラフィーで精製し、７−ホルミルア
ミノ−３−（（Ｚ）−２−（１，２，３−チアジアゾー
ル４−イル）ビニル〕−３−セフェムー４−カルボン酸
ｐ−メトキシベンジル（０，３７ｇ、収率２０％）を得
た。

’　Ｈ−Ｎ　Ｍ　Ｒ（ＣＤ　ＣＩ　ｘ　）　　６３．２
５　　（ＡＢｑＪ−１８Ｈｚ、２Ｈ）、３．７０　　（
ｓ。

３Ｈ）、５．０７　　（ｓ、２Ｈ）、５．１３（ｄ、Ｊ
＝５Ｈｚ、ＩＨ）、５．９７　　（ｄ。

ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ＝１０Ｈｚ）、６．５０（ｄ、Ｊ＝
１２Ｈｚ、ＬＨ）、６．７６（ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ
）、６．７９（ｄ、Ｊ−１０Ｈｚ、２Ｈ）、７．２１（
ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ、２Ｈ）、８．２９（ｓ、ＩＨ）、８
．５０　　（ｓ、ＩＨ）。

８．８１　　（ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ、ＩＨ）上記エステル
（１，３５ｇ、２．９ｍｍｏ　１）をメタノール（２５
ｍｌ）に溶かし製塩＃（０，２５ｍ１）を加え、水冷下
で６時間そして室温で１時間攪拌した０反応液は減圧で
１１１Ｗｉシた後、残渣に飽和炭酸水素ナトリウム溶液
を加え、塩化メチレンで抽出した。水洗後、硫酸マグネ
シウムで乾燥した。

溶媒を留去し、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製
し、７−アミノ−３−（（Ｚ）−２−（１゜２．３−チ
アジアゾール−４−・イル）ビニル〕３−セフェムー４
−カルボン酸ｐ−メトキシヘンシル（０，５８ｇ、収率
４５％）を得た。

Ｈ−ＮＭＲ（ＤＭＳＯ−ｄ、）δ３．７４　（ｓ。

３Ｈ）、４．９７　（ｓ、２Ｈ）、５．００（ｄ、Ｊ＝
５Ｈｚ、ＬＨ）、５．２６　（ｄＪ−５Ｈｚ、ＩＨ）、
６．５０　（ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ）、６．７６　（
ｄ、Ｊ−１２Ｈｚ、ＩＨ）、６．８２　（ｄ、Ｊ−１０
Ｈｚ２Ｈ）、７．１３　（ｄ、Ｊ＝１０Ｈｚ。

２Ｈ）、８．８４　（ｓ、ＩＨ）。

実施例ｌ０ ７−　（（Ｚ）−１−（２−）グチルアミノチアゾール
−４−イル）−２−トリチルオキシイミノアセトアミド
）−３−（（）リフェニルホスホラニリデン）メチル〕
−３−セフェムー４−カルボン酸ジフェニルメナル〔特
開昭６２−４９１）（３，１ｇ、２．９ｍｍｏ　ｌ）を
酢酸工ｆ）Ｌ、ニ溶かし、５−ホルミル−１，２，３−
チアジアゾール（０，３５ｇ、３．１ｍｍｏ　ｌ＞を加
え、室温て２．５時間攪拌した９反応液は減圧で濃縮し
た後、残渣をカラムクロマトグラフィーで精製し、７−
（（Ｚ）−２−（２−）リチルアミノチアプールー４−
イル）−２−１−リチルオキシイミノアセトアミド）−
３−〔（２）−２−（１，２，３−チアジアゾール−５
−イル）ビニルゴー３−セフェム−４−カルボン酸ベン
ズヒドリル（０，６７ｇ、収率２６％）を得た。

’ＨＮＭＲ（ＣＤＣＩ３）　　６３．４４（ｍ。

２［（）、５．０４　（ｄ、Ｊ−５Ｈｚ、ＩＨ）。

６．０５　（ｄ、ｄ、Ｊ＝５Ｈｚ、Ｊ−９ＨｚＩＨ）、
６．４８　（ｓ、ＬＨ）、６．９１（ｓ、ＩＨ）、６．
９４　（ｄ、Ｊ＝１２Ｈｚ、ＩＨ）、７．１〜７．７　
（ｍ、４１Ｈ）。

８．３３　＜Ｓ、ＩＨ）。

上記エステル（０，６７ｇ、０．７４ｍｍｏ　ｌ）にギ
酸（８，５ｍ１）を加え、室温で１時間攪拌した後、反
応液に濃塩酸（０，７５ｍ１）を加え室温で４時間撹拌
した０反応液は減圧下で濃縮した後、残渣に炭酸水素ナ
トリウムを加え、ｐＨ７，４に調整した後、溶液をＨＰ
−２０カラムクロマトグラフイーで精製し、？−（（Ｚ
）−２−＜２−アミノチアゾール−４−イル）−２−ヒ
ドロキシイミノアセトアミド）　−３−［（Ｚ）　−２
−（１，２３−チアジアゾール−５−イル）ビニル〕−
３セフェムー４−カルボン酸ナトリウム（１４ｑ）を得
た。

Ｈ−ＮＭＲ（ＤｆｆｉＯ）　　δ３．２７　　（ｄ　　
Ｊ＝１８Ｈｚ、　　ＩＨ） １８Ｈｚ、ＩＨ） ５Ｈｚ、　　ＬＨ）。

５Ｈｚ、１．Ｈ）。

１１Ｈｚ、　　ＩＨ）。

１１Ｈｚ、ＩＨ）。

８．６７　　（ｓ、　　ＬＨ） ３．５５　　（ｄ。

５．３８　　（ｄ。

５．８５　　（ｄ。

６．５８　　（ｄ ６．７７　　（ｄ ６．９０　　（ｓ。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔一般式中、Ｒ＾１は水素原子又はアミノ基の保護基を
   表わし、Ｒ＾２は水素原子又は水酸基の保護基を表わし
   、Ｒ＾３は水素原子、塩生成カチオン又はカルボキシル
   基の保護基を表わし、Ｒ＾４は水素原子、ハロゲン原子
   又は低級アルキル基を表す。〕で表わされるセファロス
   ポリン化合物および薬理上許容されるその塩。