JPH0222079B2 - - Google Patents

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JPH0222079B2
JPH0222079B2 JP55091269A JP9126980A JPH0222079B2 JP H0222079 B2 JPH0222079 B2 JP H0222079B2 JP 55091269 A JP55091269 A JP 55091269A JP 9126980 A JP9126980 A JP 9126980A JP H0222079 B2 JPH0222079 B2 JP H0222079B2
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JP
Japan
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containing organic
organic base
tertiary nitrogen
lower alkyl
recovering
Prior art date
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JP55091269A
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English (en)
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JPS5716893A (en
Inventor
Noboru Hasegawa
Kazuhisa Nakajima
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Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Nippon Synthetic Chemical Industry Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5716893A publication Critical patent/JPS5716893A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
本発明は工業的有利にオルガノイミノオキシシ
ランを製造する方法を提供するものである。 ハロゲノシランとオキシムとを第3級窒素含有
有機塩基、例えばピリジンやトリアルキルアミン
等の存在下に反応させて相当するオルガノイミノ
オキシシランを製造する方法は公知である。上記
方法において第3級窒素含有有機塩基は反応時に
発生するハロゲン化水素を捕捉するための酸受容
体として使用され、反応終了時にはハロゲン化水
素酸塩の形で存在しているのであるが、該第3級
窒素含有有機塩基は量論量使用されるので副生し
たハロゲン化水素酸塩を中和して遊離する第3級
窒素含有有機塩基を回収し、それを反応に再使用
することは工業的規模でのオルガノイミノオキシ
シランの製造に当つては極めて重要である。しか
もオルガノイミノオキシシランの生成反応に際し
ては系内に水やアルコール等が混入すると原料の
ハロゲノシラン及び生成オルガノイミノオキシシ
ランを分解させ、目的物の収量および品質を著し
く低下させる恐れがあり、回収、再使用する第3
級窒素含有有機塩基中にも水、アルコールの混入
は許されないので、上記塩基の中和、回収時にそ
れらの混入を防止する条件を選ぶことによつて、
抽出あるいは蒸留等の精製負担の増大を極力避け
ることが実用上必要である。 しかるに、本発明者等はかかる要求を満足すべ
く第3級窒素含有有機塩基のハロゲン化水素酸塩
の中和、回収工程において水、アルコールの混入
のない有利な条件を見出すことを中心にして、オ
ルガノイミノオキシシランの工業的有利な製造法
について鋭意研究を重ねた結果、 (1) 一般式R1mSiX4―m(但しR1は低級アルキル
基、Xはハロゲン、mは1〜3の整数)で示さ
れるハロゲノシランと一般式
【式】 (但しR2、R3は低級アルキル基又はいずれか一
方が水素で他方が低級アルキル基)で示される
オキシムとを、第3級窒素含有有機塩基の存在
下に炭化水素溶媒中で反応させる工程、 (2) 得られた反応混合物から副生した第3級窒素
含有有機塩基のハロゲン化水素酸塩を別し、
液から一般式
【式】(但 し、R1、R2、R3、mは前記と同様)で示され
るオルガノイミノオキシシランを回収する工
程、 (3) 上記の第3級窒素含有有機塩基のハロゲン化
水素酸塩を炭化水素溶媒中でアンモニアガスで
中和する工程、 (4) 遊離した第3級窒素含有有機塩基を回収し、
(1)の工程に再使用する工程、 を組合せる場合、容易に前記要請を満足させ得る
ことを見出し本発明を完成するに到つた。 以下、各工程について具体に説明する。 (1) 工程 ハロゲノシランR1mSiX4―mとオキシム
【式】とを第3級窒素含有有機塩基 の存在下に炭化水素溶媒中で反応させる。 R1はメチル基、エチル基、プロピル基、ブ
チル基等の低級アルキル基を、R2、R3は上記
の如き低級アルキル基を、又はいずれか一方は
水素で他方は低級アルキル基、mは1〜3の整
数をそれぞれ示し、本発明ではR1、R2、R3
mのいかなる組合せでも実施可能であるが、有
利にはメチルトリクロルシランとメチルエチル
ケトオキシムとが反応させられる。 第3級窒素含有有機塩基としてはトリアルキ
ルアミン、ピリジン、ピコリン等が挙げられ、
トリエチルアミンやピリジンが好適に使用され
る。 炭化水素溶媒中としてはベンゼン、トルエ
ン、キシレン、n―ヘキサン等が用いられる。 ハロゲノシランに対しオキシム及び第3級窒
素含有有機塩基はそれぞれ量論量又はややそれ
より過剰に用い、炭化水素溶媒はハロゲノシラ
ンの重量に対し通常10倍以上用いて反応を実施
する。 反応温度は30〜100℃、反応時間は2〜6時
間の範囲が実用的である。 (2) 工程 かかる反応によつてオルガノイミノオキシシ
ラン
【式】が生成する。反 応終了液を冷却し、副生した第3級窒素含有有
機塩基のハロゲン化水素酸塩を別する。液
から目的物を収得するには、液から溶剤を留
去して缶残を回収する方法、あるいは液を蒸
留して目的物の留分を捕集する方法等任意の手
段が可能である。前者の場合、液を活性炭処
理すると微量の不純物が除去され、品質の良好
な製品が得られるので有利である。 (3) 工程 別された第3級窒素含有有機塩基のハロゲ
ン化水素酸塩のウエツトケーキを炭化水素溶媒
に分散させ、アンモニアガスを導入して中和を
行なう。この場合炭化水素溶媒は(1)の工程で使
用した溶媒と同一種類のものを使用するのが、
有利である。 中和反応はスラリー系で進行する。重量増加
が量論量以上に達した時点で終点を判断する。
中和終了液は遊離した第3級窒素含有有機塩基
及びハロゲン化アンモニウムを含みスラリー状
である。ハロゲン化アンモニウムを別して第
3級窒素含有有機塩基の炭化水素溶液を得る。
アンモニアガスでの中和であるので該液中には
水は全く副生していないため、次工程が有利に
実施出来る。 (4) 工程 得られた炭化水素溶液はそのままでも(1)の工
程へ再使用可能であるが、蒸留等により適宜濃
度調整を実施出来る。前記した如く中和終了液
には水の副生は全くないので、水の除去のため
に抽出や蒸留等の特別の精製操作は不必要であ
る。アンモニアガス以外のか性アルカリや炭酸
アルカリによる中和では水の生成がおこるので
本発明の如き上記メリツトは得られない。しか
し、中和操作時に空気中から微量の水分の混入
が問題となる場合は、モレキユラーシープ等の
適当な脱水剤あるいは蒸留等の簡単な脱水処理
を実施することは勿論可能である。 かくして回収される遊離の第3級窒素含有有
機塩基は(1)の工程へ原料として再使用される。 次に実施を挙げて本発明の方法を具体的に説明
する。 実施例 1 温度計、滴下管、冷却管及び撹拌器を備えた1
の丸底フラスコにメチルエチルケトオキシム
52.4g(0.60モル)、トリエチルアミン61.6g
(0.61モル)及びトルエン450gを仕込み、内温を
40〜45℃に保ちながら30分にわたつて撹拌下にメ
チルトリクロルシラン29.9g(0.20モル)を滴下
した。滴下終了後、温度を80℃まであげ5時間反
応をつづけた。反応終了液を冷却し、析出してい
るトリエチルアミン塩酸塩を別した。液を減
圧濃縮した後、更に60℃で、5mmHgまで濃縮を
行ない黄色、油状物56.8gを得た。これに0.5g
の活性炭を添加して精製を行ない無色のメチルト
リス(メチルエチルイミノオキシ)シラン55.7g
(収率92.5%)を得た。 一方、別したトリエチルアミン塩酸塩ケーキ
133gをトルエン360g中に分散させ、アンモニア
ガスを系に導入した。重量増加が理論量以上であ
ることを確認後、副生した塩化アンモニウムを
別、トルエン洗浄した。洗液をフラツシユ蒸留
し留出液にモレキユラーシーブ(5A)10gを添
加、脱水処理をしてトリエチルアミン含量が13.5
%のトルエン溶液409gを得た。 該トリエチルアミントルエン溶液及び更に6.5
gのトリエチルアミンを使用して、前段と同一の
反応を実施した。メチルトリス(メチルエチルイ
ミノオキシ)シラン58.3g(収率96.8%)が得ら
れた。 実施例 2 温度計、滴下管、冷却管及び撹拌器を備えた1
の丸底フラスコにメチルエチルケトオキシム
78.5g(0.90モル)、ピリジン72.2g(0.91モル)
及びトルエン670gを仕込み、内温を30〜40℃に
保ちながら30分にわたつて撹拌下にメチルトリク
ロルシラン44.8g(0.30モル)を滴下した。滴下
終了後、温度を45℃まであげ5時間反応をつづけ
た。反応終了液を冷却し、析出しているピリジン
塩酸塩を別した。液を減圧濃縮した後、更に
60℃で、5mmHgまで濃縮を行ない黄色、油状物
を得た。これに0.5gの活性炭を添加して精製を
行ない無色のメチルトリス(メチルエチルイミノ
オキシ)シラン90.0g(収率99.7%)を得た。 一方、別したピリジン塩酸塩ケーキ133gを
トルエン267g中に分散させ、アンモニアガスを
系に導入した。重量増加が理論量以上であること
を確認後、副生した塩化アンモニウムを別、ト
ルエンを洗浄した。液をフラツシユ蒸留し留出
液にモレキユラーシーブ(5A)10gを添加、脱
水処理をしてピリジン含量が13.2%のトルエン溶
液500gを得た。 該ピリジントルエン溶液及び更に6.1gのピリ
ジンを使用して、前段と同一の反応を実施した。
メチルトリス(メチルエチルイミノオキシ)シラ
ン86.0g(収率95.2%)が得られた。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 (1) 一般式R1mSiX4―m(但しR1は低級アル
    キル基、Xはハロゲン、mは1〜3の整数)で
    示されるハロゲノシランと一般式
    【式】(但しR2、R3は低級アルキル 基又はいずれか一方が水素で他方が低級アルキ
    ル基)で示されるオキシムとを、第3級窒素含
    有有機塩基の存在下に炭化水素溶媒中で反応さ
    せる工程、 (2) 得られた反応混合物から副生した第3級窒素
    含有有機塩基のハロゲン化水素酸塩を別し、
    液から一般式【式】(但 し、R1、R2、R3、mは前記と同様)で示され
    るオルガノイミノオキシシランを回収する工
    程、 (3) 上記の第3級窒素含有有機塩基のハロゲン化
    水素酸塩を炭化水素溶媒中でアンモニアガスで
    中和する工程、 (4) 遊離した第3級窒素含有有機塩基を回収し、
    (1)の工程に再使用する工程、 の結合よりなるオルガノイミノオキシシランの製
    造方法。 2 第3級窒素含有有機塩基がピリジン又はトリ
    エチルアミンである特許請求の範囲第1項記載の
    製造方法。 3 メチルトリクロルシランとメチルエチルケト
    オキシムとからメチルトリス(メチルエチルイミ
    ノオキシ)シランを製造することを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載の製造方法。
JP9126980A 1980-07-03 1980-07-03 Production of organoiminoxysilane Granted JPS5716893A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4705877A (en) * 1987-02-25 1987-11-10 Dow Corning Corporation Novel aminohydrocarbyl-substituted ketoximosilanes
US4705878A (en) * 1987-02-25 1987-11-10 Dow Corning Corporation Method for preparing aminohydrocarbyl-substituted ketoximosilanes
JPH06106657A (ja) * 1992-09-04 1994-04-19 Futagami Tekkosho:Kk テーパ函製函機

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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1ND1AN JOURNAL OF CHEM1STRY *

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