JPH0469391A - ジアルキルホスファイトの製造方法 - Google Patents

ジアルキルホスファイトの製造方法

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JPH0469391A
JPH0469391A JP18065490A JP18065490A JPH0469391A JP H0469391 A JPH0469391 A JP H0469391A JP 18065490 A JP18065490 A JP 18065490A JP 18065490 A JP18065490 A JP 18065490A JP H0469391 A JPH0469391 A JP H0469391A
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JP
Japan
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reaction solution
phosphite
water
phosphorus trichloride
formula
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JP18065490A
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English (en)
Inventor
Tatsuo Katayama
竜雄 片山
Hideyuki Iwasaki
秀行 岩崎
Masayuki Umeno
正行 梅野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hokko Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Hokko Chemical Industry Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は農薬、可塑剤、難燃剤などの原料として工業的
に有用なジアルキルホスファイトの製造方法に関する。
(従来の技術) 従来、ジアルキルホスファイトの製造方法としてはいく
つか知られている。それらの概略は下記のとおりである
(a)下記式で示されるとおり、1モルの三塩化リンに
3モルのアルコールを作用させる方法(ジャーナル オ
フ ケミカル ソサイエティー第380頁(1954年
)、有機合成化学協会誌第26巻(2)第173頁(1
968年))。
:1ROH+ PCI l、−f(RO)2POH+ 
RC又+ 2HC文(Rは、エチル基、イソプロピル基
、n−プロピル基、n−ツチル基を示す。) (b)上記(a)の反応の副反応を防止し、目的物の収
率を向上させるためにフタン等の低沸点溶媒を使用して
副生ずる塩化水素を除去する方法(米国特許第2570
512号明細書)。
(C)上記(a)の反応においてアルコールと三塩化リ
ンを減圧下に噴射する方法(米国特註第2794820
号明細書)。
(発明か解決しようとする課題) 前記方法のうち、(a)の方法によれば、副生ずるモノ
アルキルホスファイト、亜リン酸等を除去するために蒸
留等の操作を必要とするか、蒸留のために加熱すると副
生成物か増え、目的物の収率も低下する。
また、前記(b) 、 (c)の方法によれば、操作か
簡便てなく、特殊な装置を用いなければならない。した
かって、従来の方法は必ずしも工業的製法としては実用
的ではない。そのため、これらの従来方法に代わり、ジ
アルキルホスファイトを工業的に有利に製造する方法の
開発か要望されている。したかって、本発明は工業的な
ジアルキルホスファイトの製造方法を提供することにあ
る。
本発明者らは、かかる問題点を解決するために鋭意努力
を重ねた。その結果、蒸留操作をすることなく、極めて
容易な操作て高収率て高純度のジアルキルホスファイト
を製造する方法を見いたした。
すなわち、本発明によると、次の一般式%式%() (たたし1式中、Rは炭素数4〜8のアルキル基を示す
。)て示されるアルコールと三塩化リンを不活性溶媒中
で反応させ、該反応溶液を水に加えるか、または該反応
溶液を塩基て中和後、これを水に加えることを特徴とす
る、 一般式 %式%() (たたし、式中、Rは前記と回し。)て示されるジアル
キルホスファイトの製造方法か提供される。
本発明て有効に利用てきる式(II)化合物としては、
Rとしてはn−フチル基、イソブチル基5ec−フチル
基、ペンチル基、インペンチル基、ヘキシル基、ヘプチ
ル基、オクチル基などの化合物か挙げられる。
本発明の製造方法における反応式は次のとおりである。
3ROH+ PCす。−一−ラ(RO)2  POH+
RC文+ 2HC文不活性 溶  媒 以下、本発明の方法について具体的に説明する。
まず1式(n)のアルコールを、これらのアルコール、
三塩化リンおよび目的物と反応しない溶媒、すなわち不
活性溶媒に溶解してフラスコに入れ、攪拌しながら三塩
化リンを30分〜3時間、好ましくは30分〜1時間て
滴下する。この滴下順序はこれと逆にしてもよく、不活
性溶媒に三塩化リンを溶解しておき、そこに式(II)
のアルコールを滴下してもよい。−船釣にはこの方法か
エーテル等の副生成物の量か少なくなる傾向にある。
ここて使用される不活性溶媒としては、この反応を円滑
に進める上ても、また反応の進行により副生じて目的物
の分解の原因と考えられる塩酸ガスを溶解しないか、あ
まり溶解しない有機溶媒か好ましい、その例としては1
例えば、n−ペンタン、n−ヘキサン n−ヘプタン、
n−オクタン等の炭化水素系の溶媒か有効てあつ、また
この反応て生成する塩化アルキル、例えば、塩化ブチル
、塩化ペンチル、塩化ヘキシル、塩化ヘプチル、塩化オ
クチル等も有効であるため、回収して用いてもよい。
滴下終了後は、さらに同温度て30分から1時間攪拌し
て反応を完結させる。この場合、必要に応して、減圧下
にするか、あるいは窒素等の不活性ガスを吹き込んて塩
酸ガスを流出させることも行い得る。
反応終了後は、速やかに反応溶液を水に加えて不純物と
ともに塩酸を水層に分液除去し、水洗することか重要で
ある。この場合、反応溶液の入った容器に水を注入して
もよいか1反応溶液を水に加えるほうかやや収率かよい
。またあらかしめ反応溶液に溶存する塩酸ガスをアンモ
ニアガス等の塩基で中和して水を加えるなどにより生成
した式(I)のジアルキルホスファイトを副生じた塩酸
ガスによる分解から保護することかてきる。
これまては、生成したジアルキルホスファイトを水と接
触させると加水分解を受けるとされ、避けられてきた。
事実、ジメチルホスファイト、ジエチルホスファイト、
シーn−プロピルホスファイト、ジイソプロピルホスフ
ァイトは容易に加水分解される。また、これらのジアル
キル(C+〜C3)ホスファイトは塩酸ガスによっても
分解する。しかしなから、本発明により得られる式(I
)のジアルキルホスファイトのアルキル基の炭素数か4
〜8の化合物は、反応により副生ずる塩酸ガスの存在下
ても分解の速度か遅く、有機溶媒を含む反応液を水中に
入れても安定に取扱うことかできる。
本発明ては上記方法により得た式(I)のジアルキルホ
スファイトを含む有機層は、芒硝脱水して、そのまま減
圧下に溶媒を留去すれば、残液液としてほとんど純品の
式(1)化合物を得ることかできる。したかって、本発
明の方法によれば蒸留操作をしなくても高純度、高収率
て目的物を得ることかてきる。
なお、本発明の方法にしたかって1式(II)のアルコ
ールと三塩化リンを反応させて、この反応溶液を水に加
えることなく、または水に反応溶液を加えることなく溶
媒を留去すると1式(I)化合物は、加熱によって分解
を伴って不純物を生成して収率の低下をきたすとともに
、目的とする式CI)のジアルキルホスファイトの蒸留
操作か不可欠となる。
以下、具体的な実施例をあげて本発明の詳細な説明する
実施例1 シーn−ブチルホスファイトの製 方法 三塩化リン 109.9g (0,8モル)とnヘキサ
ン 200m文を窒素置換した1文容量の40フラスコ
に仕込み、攪拌しなか60℃まで冷却した。この反応溶
液を0〜10°Cに保ちなからn−ブタノール 177
.9g (2,4モル)を1時間で滴下した。滴下終了
後、さらに同温度て30分間攪拌して反応を完結させた
。そして、この反応溶液を水中に往ぎ込み、有機層を分
離した。これを水洗後、無水芒硝て脱水して減圧下に有
機溶媒を留去して濃縮し、目的とするシ〜nフチルホス
ファイト 154.0gを得た。このものをガスクロマ
ドクラフィーにより標品を用いて内挿分析したところ、
純度99,0%、1t198.1%てあった。
実施例2 シーn−ブチルホスファイトの製造方法 三塩化リン 109.9g (0,8モル)とnヘキサ
ン 200 m lを窒素置換したl又容量の40フラ
スコに仕込み、攪拌しなから0°Cまて冷却した。この
反応溶液を0〜10℃に保ちなからn−ツタノール 1
77.9g (2,4モル)を1時間て滴下した。滴下
終了後、さらに同温度て30分間攪拌して反応を完結さ
せた。そして同温度に保ちなからアンモニアガス1.6
モルを吹き込み中和した後、これを水中に注ぎ込み、有
機層を分離した。これを水洗後、無水芒硝で脱水して減
圧下に有機溶媒を留去して濃縮し、目的とするシーn−
ブチルホスファイト 153.6gを得た。このものを
ガスクロマドクラフィーにより標品を用いて内挿分析し
たところ、純度98.1%、収率97.0%であった。
実施例3 シーn−へキシルホスファイトの智造亙諧 三塩化リン 68.7g (0,5モル)とnヘキシル
クロライド 150mJ1を窒素置換した500mff
1容量の40フラスコに仕込み、攪拌しなから0°Cま
て冷却した。この反応溶液を0〜10℃に保ちなからn
−ヘキサノール 153゜3g (1,5モル)を1時
間て滴下した。滴下終了後、窒素ガスを吹き込みなから
、さらに同温度て30分間撹拌して反応を完結させた。
そしてこの反応溶液を水の中に注ぎ込み、有機層を分離
し、これを水洗後、無水芒硝て脱水して減圧下に有機溶
媒を留去して濃縮し、目的とするシーn−へキシルホス
ファイト 125.5gを得た。このものをガスクロマ
トグラフィーにより標品を用いて内挿分析したところ、
純度98.0%、収率97.9%であった。
実施例4 ジーn−へキシルホスファイトの製造亙君 n−ヘキサノール 153.3g (1,5モル)とn
−ヘキサン 150m文を窒素置換した500mJ1容
量の40フラスコに仕込み、攪拌しなから0℃まて冷却
した。この反応溶液を0〜10℃に保ちなから三塩化リ
ン 68.7g (0゜5モル)を1時間で滴下した。
滴下終了後、実施例1と同様の操作をして目的とするシ
ーn−へキシルホスファイト 125.2gを得た。こ
のものをガスクロマトグラフィーにより標品を用いて内
挿分析したところ、純度97.2%、収率97.2%て
あった。
実施例5 シーn−オクチルホスファイトの製裏君 三塩化リン 68.7g (0,5モル)とヘキサン 
150m文を窒素置換した500m文容量の40フラス
コに仕込み、攪拌しながら0℃まで冷却した。この反応
溶液に0〜10℃に保ちなからn−オクタノール 19
5.0g (1,5(ル)を1時間て滴下した0滴下終
了後、実施例1と同様の操作をして目的とするシーn−
オクチルホスファイト 151.0gを得た。このもの
をクロマトクラフィーにより標品を用いて内挿分析した
ところ、純度98.8%、収率97.4%てあった。
参考例1 シーハーフチルホスファイトの製造方法 三塩化リン 109.9g (0,8モル)とn−ヘキ
サン 200m!Qを窒素M#した500m文容量の4
0フラスコに仕込み、攪拌しなから0℃まて冷却した。
この溶液を0〜lO°Cに保ちなからn−フタノール 
177.9g (2,44ニル)を1時間て滴下した。
滴下終了後、さらに同温度て30分間攪拌して反応を完
結させた。そして、減圧下、塩酸ガスを脱気しなから濃
縮し、シーハーフチルホスファイト 155.Ogを得
た。このものをガスクロマドクラフィーにより標品を用
いて内挿分析したところ、純度89.9%、収率89.
7%てあった。
これを減圧蒸留して沸点87〜88°(/lmmHgと
してシーハーフチルホスファイト1387gを得た。こ
のものをガスクロマトグラフィーにより分析したところ
、純度99.9%、収率89.2%てあった。
参考例2 ジメチルホスファイトの製造方法三塩化リン
 41.2g (0,3モル)とn−ヘキサン 100
m文を窒素置換した300m文容量の40フラスコに仕
込み、攪拌しなから0°Cまて冷却した。この溶液を0
〜10℃に保ちなからメタノール 28.8g(0,9
モル)を1時間て滴下した0滴下終了後、さらに同温度
て30分間攪拌して反応を完結させた。そして、この反
応溶液を水の中に注ぎ込み、有機層を分離した。
この有機層をガスクロマトグラフィーにより分析したと
ころ、ジメチルホスファイトのピークはなかった。
(ハ)発明の効果 本発明の製法によると、従来の製法に比べて極めて容易
な操作て農薬、可塑剤、難燃剤などの原料として有用な
ジアルキル(C4〜8)ホスファイトの高純度品を高収
率て得ることかてきる。
したかって1本発明の方法はジアルキルホスファイトの
T末的な製造方法として有用である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 一般式 ROH(II) (ただし、式中、Rは炭素数4〜8のアルキル基を示す
    。)で示されるアルコールと三塩化リンとを不活性溶媒
    中で反応させ、得られた反応溶液を水に加えるか、また
    は該反応溶液を塩基で中和後、これを水に加えることを
    特徴とする、 一般式 (RO)_2POH( I ) (ただし、式中、Rは前記と同じ。)で示されるジアル
    キルホスファイトの製造方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2012528122A (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ストレイトマーク・ホールディング・アーゲー 亜リン酸ジアルキルの製造のための方法
JP2012528123A (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ストレイトマーク・ホールディング・アーゲー 亜リン酸ジアルキルの製造のための方法
CN109422772A (zh) * 2017-08-31 2019-03-05 双键化工股份有限公司 磷系极压耐磨剂的制备方法

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JP2012528122A (ja) * 2009-05-28 2012-11-12 ストレイトマーク・ホールディング・アーゲー 亜リン酸ジアルキルの製造のための方法
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