JPH02216810A - 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 - Google Patents

電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法

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JPH02216810A
JPH02216810A JP3752489A JP3752489A JPH02216810A JP H02216810 A JPH02216810 A JP H02216810A JP 3752489 A JP3752489 A JP 3752489A JP 3752489 A JP3752489 A JP 3752489A JP H02216810 A JPH02216810 A JP H02216810A
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JP
Japan
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aluminum foil
treatment
amine
hot water
foil
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JP3752489A
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Kazuyuki Adachi
安達 和幸
Noboru Haga
羽賀 昇
Manabu Kazuhara
学 数原
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Elna Co Ltd
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Elna Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法
に関し、さらに詳しく言えば、アルミニウム箔を化成す
るに先立って行われる水和処理に関するものである。
(従来の技術〕 電解コンデンサの陽極として使用される電極箔、例えば
平滑なアルミニウム箔やエツチングにより表面積が拡大
されたアルミニウム箔は、これに陽極酸化皮膜を形成す
る化成処理に先立って水和処理が施される。
水和処理は、アルミニウム箔の表面に水酸化皮膜を形成
させることを目的とするものであるが。
通常はアルミニウム箔を高温の純水中に浸漬することに
よって行われる。
〔発明が解決しようとするa題〕
これによれば、化成時の使用電気量が節約され、また、
静電容量も増大される。しかしながら、耐電圧が低い場
合には良好な結果が得られず、約150■以上の場合に
のみ有用であるという制約があった。
そこで、純水中に微黛の硅酸アルカリ土類金属て水和処
理することが提案された(例えば、特公昭57−625
0号公報参照)、この方法によると、使用電圧の低いも
のに対してまでも水和処理が有用とされるが、tanδ
(損失角の正接)、漏れ電流については特に改善されな
い。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題を解決するため、この発明においては、アル
ミニウム箔に酸化皮膜を形成する化成処理を行うに先立
って、同アルミニウム箔をアミンを添加した水溶液中に
おいてホイル処理することを特徴としている。
これによれば、使用電圧の低いものまでに対しても、化
成時の使用電気斌の節約、静電容量の増大はもとより、
tanδおよび漏れ電流が低下される。
なお、アミン濃度は0.005〜0.1■O1/1であ
ることが好ましい。また、使用し得るアミンとしては。
エチルアミン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン
、プロピルアミン、ジプロピルアミン、ブチルアミンな
どが挙げられる。
〔実 施 例〕
(実施例1) (A)前処理;アルミニウム箔を0.01s+ol/l
のエチルアミン水溶液(液温98℃以上)に9分間浸漬
してホイル処理した。
(B)化成処理;硼酸17%、硫安0.05%を含む化
成液(液温85℃)中において、電流密度10■A/a
d、 380Vの化成電圧を40分印加した。
(C)減極処理;P)19のアンモニア水(液温70℃
)中に3分間浸漬した。
(L))熱処理;500℃の加熱雰囲気中に2分間放置
した。
(E)再化成:上記(B)と同じ、ただし、印加時間は
13分。
(ド)減極処理:上記(C)と同じ。
(G)熱処理;上記(I))と同じ。
(H)再化成:上記(E)と同じ。
(I)後処理; p86.5のリン酸、アンモニア混合
水溶液(液温30℃)中に4分間浸漬した。
(実施例2) (A)前処理;アルミニウム箔を0.01■of/lの
ジエチルアミン水溶液(液温98℃以上)に9分間浸漬
してホイル処理した。以後の(B)〜(I)までの工程
は上記実施例1と同じ。
(実施例3) (A)前処理;アルミニウム箔を0.01腸。l/lの
トリエタノールアミン水溶液(液温98℃以上)に9分
間浸漬してホイル処理した。以後の(B)〜(1)まで
の工程は上記実施例1と同じ。
(実施例4) (A)前処理;アルミニウム箔を0.01mol/lの
ジー1so−プロピルアミン水溶液(液温98℃以上)
に9分間浸漬してホイル処理した。以後の(B)〜(I
)までの工程は上記実施例1と同じ。
〈比較例1〉 (A)前処理;アルミニウム箔を純水(液温98℃以上
)中に9分間浸漬してホイル処理した。以後の(B)〜
(I)までの工程は上記実施例1と同じ。
〈比較例2〉 (A)前処理;アルミニウム箔を硅酸アルカリを硅#濃
度にして0.1%含む熱水(液?!!98℃以上)中に
9分間浸漬してホイル処理した。以後の(H)〜(1)
までの工程は上記実施例1と同じ。
上記実施例1〜4および比較例1,2にて得られたアル
ミニウム化成M (15X 270■)を陽極として、
定格250V、30μFの電解コンデンサを試作し、そ
の静電容量、tanδおよび漏れ電流−を測定した結果
を次表に示す。
(表) この表から明らかなように、この発明によれば、静電容
量、tanδおよび漏れ電流いずれにおいても従来法に
したがった比較例に比べて良好な値を示している。
手 続 補 JE 書(自 発) 〔発明の効果〕 以上説明したように、この発明によれば、アルミニウム
箔をアミンを添加した水溶液中においてホイル処理する
ことにより、その後に行われる化成処理時における使用
電気量の節約、静電容量の増大、tanδ(電気損失角
)および漏れ電流の低下が達成される。
特許出願人  工ルナー株式会社 代理人 弁理士   大 原  拓 也特許庁長官 吉
 1)文 毅 殿 1、事件の表示 平成元年特許願第37524号 2、発明の名称 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法3、補正を
する者 事件との関係  特許出願人 工ルナー株式会社 年 月 日(発送臼:同年 月 日) 7、補正の内容 (1)特許請求の範囲を別紙のように補正する。
(2)明#l害、第3頁第10行「ホイル処理ノの記載
を1熱水処理、Dと訂正する。
(3)同書、同頁第11行[特徴としている。」の記載
の後にrこの場合、熱水の温度としては90℃以」二が
好ましい、」を加入する。
(4)同書、第4頁第5行「ホイル処理」の記載を「熱
水処理」と訂正する。
(5) 1ijl得、第5頁第3行、第8行、第13行
および第17行「ホイル処理」の記載をそれぞれV熱水
処理Jと訂正する。
(6)同書、第6頁第3行「ホイル処理」の記載を「熱
水処理」と訂正する。
(7)同書、第7頁第5行「ホイル処理」の記載をr熱
水処理」と訂正する。
別紙(特願平1−37524号) !i’2、特許請求の範囲 (1)アルミニウム箔に酸化皮膜を形成する化成処理を
行うに先立って、同アルミニウム箔をアミンを添加した
水溶液中において良木処理することを特徴とする電解コ
ンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
(2)」−配水溶液中におけるアミンの濃度は、0.0
05〜O,1mol/lである請求項1記載の電解コン
デンサ用アルミニウム箔の製造方法。
(3)上記水溶液中に添加されるアミンは、エチルアミ
ン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、プロピル
アミン、ジプロピルアミン、ブチルアミンから選ばれる
請求項1または2記載の電解コンデンサ用アルミニウム
済の製造方法。」以  −辷

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)アルミニウム箔に酸化皮膜を形成する化成処理を
    行うに先立って、同アルミニウム箔をアミンを添加した
    水溶液中においてホイル処理することを特徴とする電解
    コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法。
  2. (2)上記水溶液中におけるアミンの濃度は、0.00
    5〜0.1mol/lである請求項1記載の電解コンデ
    ンサ用アルミニウム箔の製造方法。
  3. (3)上記水溶液中に添加されるアミンは、エチルアミ
    ン、ジエチルアミン、トリエタノールアミン、プロピル
    アミン,ジプロピルアミン、ブチルアミンから選ばれる
    請求項1または2記載の電解コンデンサ用アルミニウム
    箔の製造方法。
JP3752489A 1989-02-17 1989-02-17 電解コンデンサ用アルミニウム箔の製造方法 Granted JPH02216810A (ja)

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JPH0566004B2 JPH0566004B2 (ja) 1993-09-20

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JP2001155713A (ja) * 1999-09-16 2001-06-08 Fujimori Kogyo Co Ltd 電極リード部材及び電池

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