JPH022152A - 半導体記憶装置 - Google Patents

半導体記憶装置

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Publication number
JPH022152A
JPH022152A JP63146186A JP14618688A JPH022152A JP H022152 A JPH022152 A JP H022152A JP 63146186 A JP63146186 A JP 63146186A JP 14618688 A JP14618688 A JP 14618688A JP H022152 A JPH022152 A JP H022152A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
memory cell
substrate potential
generation circuit
potential generation
memory
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63146186A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeji Tonishi
遠西 繁治
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
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Publication of JPH022152A publication Critical patent/JPH022152A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10BELECTRONIC MEMORY DEVICES
    • H10B12/00Dynamic random access memory [DRAM] devices
    • H10B12/30DRAM devices comprising one-transistor - one-capacitor [1T-1C] memory cells

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Semiconductor Memories (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に関し、特にダイナミックメモ
リにおける基板電位発生回路とメモリセルのレイアウト
に関する。
〔従来の技術〕
従来のダイナミックメモリでは、基板電位発生回路から
のメモリセルへの電子の注入量が、メモリセルへの書き
迷電荷量に対して無視できる程度であった為、この種の
レイアウトについては考慮されていなかった。
〔発明が解決しようとする課題〕
ダイナミックメモリは、高集積化に伴い、1メモリセル
の1コンデンサーに書き込むことのできる電荷量の最大
値が次第に減少していく。従って1メガビット以上のダ
イナミックメモリにおいては、基板電位発生回路からの
メモリセルへの電子の注入が無視できない値となり、し
ばしば基板電位発生回路近傍のメモリセルにおいて、書
き込みデーターの逆転がおこるという問題が発生する。
〔課題を解決するための手段〕
本発明のダイナミックメモリは、基板電位発生回路とメ
モリセルを有し、レイアウトにおいて、この2者の最短
距離が1mm以上離れているということを特徴としてい
る。
〔実施例〕
本発明について第1図を参照して説明する。1−1はダ
イナミックメモリの1デバイスを示し、1−2はメモリ
セル部、1−3は基板電位発生回路が配置される場所を
示す。本発明においては、1−2のメモリセル部と1−
3の基板電位発生回路の最短距離が1mm以上となって
いる。
第2図は本発明の実施例2を示す。2−1はダイナミッ
クメモリの1デバイスを示し、2−2はメモリセル部で
第1図とは異なりデバイスの中央部を境として大きく2
つに分割されている。2−3は基板電位発生回路の位置
を示す。本件の例では基板電位発生回路はデバイスの中
央でかつ、メモリセル部2つの中央に位置する為、第1
図の場合に比べて、デバイスの基板電位がより均一にな
るという利点も有する。2−3の基板電位発生回路とそ
の両側に位置する2−2のメモリセル部は最短距離が1
mm以上となっている。
〔発明の効果〕
以上説明したように本発明は、メモリセルと基板電位発
生回路を1mm以上離すことにより、メモリセルへの基
板電位発生回路からの電子の注入量を減少させ、メモリ
セルの誤動作を防ぐという効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の1実施例を示し、第2図は本発明の実
施例2を示す図である。 2−1・・・・・・ダイナミックメモリの1デバイス、
2−2・・・・・・メモリセル部が配置される場所、2
−3・・・・・・基板電位発生回路が配置される場所。 代理人 弁理士  内 原   晋

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  基板電位発生回路を有するダイナミックメモリにおい
    て、基板電位発生回路と該基板電位発生回路に最も近い
    メモリセルとの距離が1mm以上離れていることを特徴
    とする半導体記憶装置。
JP63146186A 1988-06-13 1988-06-13 半導体記憶装置 Pending JPH022152A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58209788A (ja) * 1982-05-31 1983-12-06 ヤマハ株式会社 自動演奏装置
US5618863A (en) * 1996-03-25 1997-04-08 Monsanto Company UV stable polyvinyl butyral sheet

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58209788A (ja) * 1982-05-31 1983-12-06 ヤマハ株式会社 自動演奏装置
JPH0432396B2 (ja) * 1982-05-31 1992-05-29
US5618863A (en) * 1996-03-25 1997-04-08 Monsanto Company UV stable polyvinyl butyral sheet

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