JPH0221061B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0221061B2 JPH0221061B2 JP56146252A JP14625281A JPH0221061B2 JP H0221061 B2 JPH0221061 B2 JP H0221061B2 JP 56146252 A JP56146252 A JP 56146252A JP 14625281 A JP14625281 A JP 14625281A JP H0221061 B2 JPH0221061 B2 JP H0221061B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- recording
- disk
- center
- track
- thin film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 28
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 17
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims description 7
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 8
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000593 degrading effect Effects 0.000 description 1
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B7/00—Recording or reproducing by optical means, e.g. recording using a thermal beam of optical radiation by modifying optical properties or the physical structure, reproducing using an optical beam at lower power by sensing optical properties; Record carriers therefor
- G11B7/24—Record carriers characterised by shape, structure or physical properties, or by the selection of the material
- G11B7/26—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture of record carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、加工ビーム照射で記録用部材に孔を
形成することなどによつて記録を行なう、デイジ
タル光デイスク等の高密度記録デイスクに関する
ものである。
形成することなどによつて記録を行なう、デイジ
タル光デイスク等の高密度記録デイスクに関する
ものである。
記録再生デイスクの回転中心に対するトラツク
の偏心は、記録再生装置のトラツク追従性能の点
からできるだけ小さくしなければならないが、そ
のためには、トラツクの中心と、記録再生デイス
クの中心穴との偏心を小さくおさえなければなら
ない。
の偏心は、記録再生装置のトラツク追従性能の点
からできるだけ小さくしなければならないが、そ
のためには、トラツクの中心と、記録再生デイス
クの中心穴との偏心を小さくおさえなければなら
ない。
従来、記録再生デイスクの中心穴部５は、第１
図に示すようにスペーサー１に設けられている。
しかし、この構造だと、接着の際にトラツクと中
心穴の位置合せを行なくか、または、接着後に中
心穴を加工するという方法をとらなければならな
い。接着の際に位置合せを行なうという方法をと
ると、前記薄膜への影響の少ない接着剤、例えば
熱硬化性の接着剤を用いて接着した場合には、接
着剤の硬化中に位置ずれが生じる危険がある。ま
た、接着後に中心穴を加工する方法をとる場合に
は、加工中に基板面を傷つけるおそれがあるし、
また加工時間もかかる。
図に示すようにスペーサー１に設けられている。
しかし、この構造だと、接着の際にトラツクと中
心穴の位置合せを行なくか、または、接着後に中
心穴を加工するという方法をとらなければならな
い。接着の際に位置合せを行なうという方法をと
ると、前記薄膜への影響の少ない接着剤、例えば
熱硬化性の接着剤を用いて接着した場合には、接
着剤の硬化中に位置ずれが生じる危険がある。ま
た、接着後に中心穴を加工する方法をとる場合に
は、加工中に基板面を傷つけるおそれがあるし、
また加工時間もかかる。
本発明の目的は、薄膜や基板の性能を低下させ
ることなく、トラツクの中心と中心孔との偏心を
小さくした記録再生デイスクを提供することにあ
る。
ることなく、トラツクの中心と中心孔との偏心を
小さくした記録再生デイスクを提供することにあ
る。
本発明の特徴は、それぞれ中心孔を有し、一方
の面には情報を記録するための薄膜が形成され、
かつこの薄膜にはあらかじめトラツクが規定され
ている第１及び第２のデイスク状基板を、前記薄
膜の形成された面がお互いに対向するように所定
の間隔を保つてほぼ同心的に配置した記録再生デ
イスクにおいて、第１及び第２のデイスク状基板
の中心孔に、それぞれのトラツクの中心位置を決
定する中心位置決め用部材を独立的に装着して固
定することにある。
の面には情報を記録するための薄膜が形成され、
かつこの薄膜にはあらかじめトラツクが規定され
ている第１及び第２のデイスク状基板を、前記薄
膜の形成された面がお互いに対向するように所定
の間隔を保つてほぼ同心的に配置した記録再生デ
イスクにおいて、第１及び第２のデイスク状基板
の中心孔に、それぞれのトラツクの中心位置を決
定する中心位置決め用部材を独立的に装着して固
定することにある。
次に本発明の実施例につき図面を用いて詳細に
説明する。
説明する。
第２図は本発明の一実施例である記録再生デイ
スクの断面斜視図を示すものである。
スクの断面斜視図を示すものである。
基板２および基板３上には薄膜６が形成されて
おり薄膜６上にはトラツク７が形成されている。
基板２および基板３は、接着用部材のスペーサー
８および外周スペーサー４を介して互いに接着さ
れている。接着には薄膜６への影響の少ない接着
剤、例えば、熱硬化性の接着剤を用いて行なわれ
ている。この時、基板２上のトラツクの中心と基
板３上のトラツクの中心のずれは、ある範囲内に
収まつていることが望ましい。本実施例では
100μｍ以内に収まつている。基板２には中心位
置決め用のリング９が接着されている。リング９
の接着は、２枚の基板２，３の接着後に行なわ
れ、接着には、薄膜６への影響を考えずに硬化の
速い接着剤を用いることができる。この時、リン
グ９の中心と基板２上のトラツクとの中心のずれ
は小さいほどよい。本実施例では、このずれは
15μｍ以内である。基板３にも上記と同様にして
リング１０が接着されている。リング９とリング
１０の中心のずれは、ある範囲内に収まつていれ
ばよく、本実施例では200μｍ以内である。
おり薄膜６上にはトラツク７が形成されている。
基板２および基板３は、接着用部材のスペーサー
８および外周スペーサー４を介して互いに接着さ
れている。接着には薄膜６への影響の少ない接着
剤、例えば、熱硬化性の接着剤を用いて行なわれ
ている。この時、基板２上のトラツクの中心と基
板３上のトラツクの中心のずれは、ある範囲内に
収まつていることが望ましい。本実施例では
100μｍ以内に収まつている。基板２には中心位
置決め用のリング９が接着されている。リング９
の接着は、２枚の基板２，３の接着後に行なわ
れ、接着には、薄膜６への影響を考えずに硬化の
速い接着剤を用いることができる。この時、リン
グ９の中心と基板２上のトラツクとの中心のずれ
は小さいほどよい。本実施例では、このずれは
15μｍ以内である。基板３にも上記と同様にして
リング１０が接着されている。リング９とリング
１０の中心のずれは、ある範囲内に収まつていれ
ばよく、本実施例では200μｍ以内である。
第３図は、第２図に示した記録再生デイスクを
記録再生装置に取付けた状態を示す断面図であ
る。
記録再生装置に取付けた状態を示す断面図であ
る。
記録再生デイスクは、スピンドル１１のセンタ
ーポール１２とリング１０のはめ合せによつて半
径方向の位置決めを行ない、クランプ１３によつ
て締め付けられ、スピンドル１１とともに回転す
る。記録再生用ヘツド１４によつて基板３上の薄
膜６に記録再生が行なわれるが、この時、基板２
上の薄膜には記録再生は行なわれないので、基板
２上のトラツクの回転中心に対する偏心は制約す
る必要がない。たとえリング９とリング１０の中
心がずれていたとしても、スピンドルとの装着
は、記録再生を行なう側の基板３に取付けられた
リング１０だけで行なうため、基板２と基板３と
のずれは考慮する必要がない。リング１０と基板
３のトラツクとの偏心が小さいので、記録再生の
際の回転中心１５とトラツクとの偏心も小さくお
さえることができる。本実施例では、回転中心と
トラツクとの偏心は50μｍ以内である。また、本
実施例によれば、中心位置決め用部材は、２枚の
基板の接着後に、基板に接着するので、薄膜への
接着剤等の影響を考えずに任意の接着手段をとる
ことができる。
ーポール１２とリング１０のはめ合せによつて半
径方向の位置決めを行ない、クランプ１３によつ
て締め付けられ、スピンドル１１とともに回転す
る。記録再生用ヘツド１４によつて基板３上の薄
膜６に記録再生が行なわれるが、この時、基板２
上の薄膜には記録再生は行なわれないので、基板
２上のトラツクの回転中心に対する偏心は制約す
る必要がない。たとえリング９とリング１０の中
心がずれていたとしても、スピンドルとの装着
は、記録再生を行なう側の基板３に取付けられた
リング１０だけで行なうため、基板２と基板３と
のずれは考慮する必要がない。リング１０と基板
３のトラツクとの偏心が小さいので、記録再生の
際の回転中心１５とトラツクとの偏心も小さくお
さえることができる。本実施例では、回転中心と
トラツクとの偏心は50μｍ以内である。また、本
実施例によれば、中心位置決め用部材は、２枚の
基板の接着後に、基板に接着するので、薄膜への
接着剤等の影響を考えずに任意の接着手段をとる
ことができる。
以上述べた如き構成であるから本発明にあつて
は、２枚のデイスク状基板に対して各々独立に、
トラツクの中心位置を決定する中心位置決め用部
材を装着することにより、デイスク状基板の各々
の薄膜に情報を記録、または再生する時のトラツ
クの偏心を小さくすることができる。
は、２枚のデイスク状基板に対して各々独立に、
トラツクの中心位置を決定する中心位置決め用部
材を装着することにより、デイスク状基板の各々
の薄膜に情報を記録、または再生する時のトラツ
クの偏心を小さくすることができる。
第１図は従来の記録再生デイスクの断面図。第
２図は本発明の一実施例を示す記録再生デイスク
の断面斜視図。第３図は第２図に示した記録再生
デイスクを記録再生装置に取り付けた状態を示す
断面図。 符号の説明 １，８……スペーサー、２，３…
…基板、４……外周スペーサー、５……中心穴、
６……薄膜、７……トラツク、９，１０……リン
グ、１１……スピンドル、１２……センターポー
ル、１３……クランプ、１４……記録再生用ヘツ
ド、１５…回転中心。
２図は本発明の一実施例を示す記録再生デイスク
の断面斜視図。第３図は第２図に示した記録再生
デイスクを記録再生装置に取り付けた状態を示す
断面図。 符号の説明 １，８……スペーサー、２，３…
…基板、４……外周スペーサー、５……中心穴、
６……薄膜、７……トラツク、９，１０……リン
グ、１１……スピンドル、１２……センターポー
ル、１３……クランプ、１４……記録再生用ヘツ
ド、１５…回転中心。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ それぞれ、中心孔を有すると共に、一方の面
には情報を記録するための薄膜が形成され、かつ
前記薄膜にはあらかじめトラツクが規定されてい
る第１及び第２のデイスク状基板を、前記薄膜の
形成された面がお互いに対向するように所定の間
隔を保つてほぼ同心的に配置した記録再生デイス
クにおいて、前記第１及び第２のデイスク状基板
の中心孔に、それぞれのトラツクの中心位置を決
定する中心位置決め用部材を独立的に装着して固
定したことを特徴とする記録再生デイスク。 ２ 第１及び第２のデイスク状基板の間隔を所定
に保つために、第１及び第２のデイスク状基板の
中心孔の近傍に介在される第１のスペーサと、第
１及び第２のデイスク状基板の外周近傍に介在さ
れる第２のスペーサーを有することを特徴とする
特許請求の範囲第１項記載の記録再生デイスク。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56146252A JPS5850636A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 記録再生デイスク |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP56146252A JPS5850636A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 記録再生デイスク |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3151457A Division JPH04263168A (ja) | 1991-06-24 | 1991-06-24 | 記録再生装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5850636A JPS5850636A (ja) | 1983-03-25 |
| JPH0221061B2 true JPH0221061B2 (ja) | 1990-05-11 |
Family
ID=15403531
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP56146252A Granted JPS5850636A (ja) | 1981-09-18 | 1981-09-18 | 記録再生デイスク |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5850636A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0636253B2 (ja) * | 1983-08-18 | 1994-05-11 | シャープ株式会社 | 光メモリ円板 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS531002A (en) * | 1976-05-13 | 1978-01-07 | Philips Corp | Radiation sensitive record |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5446515U (ja) * | 1977-09-07 | 1979-03-31 |
-
1981
- 1981-09-18 JP JP56146252A patent/JPS5850636A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS531002A (en) * | 1976-05-13 | 1978-01-07 | Philips Corp | Radiation sensitive record |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5850636A (ja) | 1983-03-25 |
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