JPH02207547A - 処理方法 - Google Patents
処理方法Info
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- JPH02207547A JPH02207547A JP1027797A JP2779789A JPH02207547A JP H02207547 A JPH02207547 A JP H02207547A JP 1027797 A JP1027797 A JP 1027797A JP 2779789 A JP2779789 A JP 2779789A JP H02207547 A JPH02207547 A JP H02207547A
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Links
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Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の目的〕
(産業上の利用分野)
本発明は、処理方法に関する。
(従来の技術)
一般に半導体製造工程では、被処理体例えば半導体ウェ
ハにレジスト塗布、露光、現像、エツチング、成膜等の
複数の工程を繰り返すことにより、上記ウェハ表面にパ
ターンが形成される。
ハにレジスト塗布、露光、現像、エツチング、成膜等の
複数の工程を繰り返すことにより、上記ウェハ表面にパ
ターンが形成される。
このような工程のうち、エツチング工程等では、上記ウ
ェハを複数枚例えば25枚収納したカセットから、順次
ウェハを取出してエツチング処理室内にロードし、エツ
チング処理を終えると、上記エツチング処理室からアン
ロードし、アンローダーに設置されたカセット内に順次
収納している。このような枚葉式エツチング技術は、例
えば特公昭63−25500号、特開昭61−2340
37号、特開昭61−236122号、特開昭61−2
36137号、特開昭61−263127号公報等に開
示されている。
ェハを複数枚例えば25枚収納したカセットから、順次
ウェハを取出してエツチング処理室内にロードし、エツ
チング処理を終えると、上記エツチング処理室からアン
ロードし、アンローダーに設置されたカセット内に順次
収納している。このような枚葉式エツチング技術は、例
えば特公昭63−25500号、特開昭61−2340
37号、特開昭61−236122号、特開昭61−2
36137号、特開昭61−263127号公報等に開
示されている。
(発明が解決しようとする課題)
しかしながら上記従来の技術では、ローダーに設置した
カセットから搬送ベルトの駆動によりウェハを1枚ずつ
取出す。即ち、カセットの下側のウェハから順次取出さ
れ、処理室にロードする。
カセットから搬送ベルトの駆動によりウェハを1枚ずつ
取出す。即ち、カセットの下側のウェハから順次取出さ
れ、処理室にロードする。
そして、処理室内でエツチング処理され、その後、搬送
ベルトの駆動によりアンローダに設置されたカセットの
上側から順次収納される。そのため、ローダに設置した
カセットに収納されているウェハの配列順と、エツチン
グ処理後にアンロー・ダのカセットに収納されるウェハ
の配列順とは、逆となっていた。即ち、ローダのカセッ
トの最上段に収納されていたウェハは、アンローダのカ
セットの最下段に収納されていた。このように、処理前
と処理後ではカセットに収納されるウェハの位置が異な
ってしまうため、ウェハ毎の管理が困難となっていた。
ベルトの駆動によりアンローダに設置されたカセットの
上側から順次収納される。そのため、ローダに設置した
カセットに収納されているウェハの配列順と、エツチン
グ処理後にアンロー・ダのカセットに収納されるウェハ
の配列順とは、逆となっていた。即ち、ローダのカセッ
トの最上段に収納されていたウェハは、アンローダのカ
セットの最下段に収納されていた。このように、処理前
と処理後ではカセットに収納されるウェハの位置が異な
ってしまうため、ウェハ毎の管理が困難となっていた。
特に、多品種少量生産の場合の対応が困難となっていた
。
。
また、処理前のウェハを収納したカセットをローダに設
置し、且つ空のカセットをアンローダに設置して処理を
実行すると、処理前と処理後では。
置し、且つ空のカセットをアンローダに設置して処理を
実行すると、処理前と処理後では。
ウェハを収納するカセットが変わってしまう。すると、
カセット単位でウェハの管理を行なう如く上記カセット
にIDコードやバーコード等の管理コードを付しても、
処理前と処理後でカセットが変わってしまうため、カセ
ット単位でのウェハの管理も困難となる問題があった。
カセット単位でウェハの管理を行なう如く上記カセット
にIDコードやバーコード等の管理コードを付しても、
処理前と処理後でカセットが変わってしまうため、カセ
ット単位でのウェハの管理も困難となる問題があった。
本発明は上記点に対処してなされたもので、多品種少量
生産に対応するように、被処理体毎或いはこの被処理体
の収納容器毎の管理を可能とする処理方法を提供しよう
とするものである。
生産に対応するように、被処理体毎或いはこの被処理体
の収納容器毎の管理を可能とする処理方法を提供しよう
とするものである。
(課題を解決するための手段)
本発明は、収納容器内に整列収納された被処理体の配列
順を反転させて処理室に搬入し、この処理室内で上記被
処理体を処理し、この処理後の被処理体を収納容器に基
の配列順に整列収納することを特徴とする処理方法を得
るものである。
順を反転させて処理室に搬入し、この処理室内で上記被
処理体を処理し、この処理後の被処理体を収納容器に基
の配列順に整列収納することを特徴とする処理方法を得
るものである。
(作用効果)
即ち1本発明は、収納容器内に整列収納された被処理体
の配列順を反転させて処理室に搬入し、この処理室内で
上記被処理体を処理し、この処理後の被処理体を収納容
器に基の配列順に整列収納することにより、処理前と処
理後の収納容器内における上記被処理体の配列順を同一
状態とし、これにより被処理体毎の管理を容易にするこ
とができる。そのため、被処理体の多品種少量生産に対
応することが可能となる。
の配列順を反転させて処理室に搬入し、この処理室内で
上記被処理体を処理し、この処理後の被処理体を収納容
器に基の配列順に整列収納することにより、処理前と処
理後の収納容器内における上記被処理体の配列順を同一
状態とし、これにより被処理体毎の管理を容易にするこ
とができる。そのため、被処理体の多品種少量生産に対
応することが可能となる。
(実 施 例)
以下、本発明方法を半導体製造工程におけるエツチング
工程に適用した一実施例につき、図面を参照して説明す
る。
工程に適用した一実施例につき、図面を参照して説明す
る。
まず、エツチング装置の構成を説明する。
被処理体例えば半導体ウェハ■をエツチング処理する装
置例えばプラズマエツチング装置は、第1図及び第2図
に示すように、上記ウェハ■を送り出すローダ(2ζ、
このローダ■により搬送されたウェハωを処理する処理
部■と、処理後のウェハ■を受は取るアンローダ(へ)
と、エツチング装置の動作制御及び設定制御を行なう制
御部0から成っている。
置例えばプラズマエツチング装置は、第1図及び第2図
に示すように、上記ウェハ■を送り出すローダ(2ζ、
このローダ■により搬送されたウェハωを処理する処理
部■と、処理後のウェハ■を受は取るアンローダ(へ)
と、エツチング装置の動作制御及び設定制御を行なう制
御部0から成っている。
上記ローダ■には、上記ウェハωを複数枚例えば25枚
収納可能な収納容器例えばウェハカセット0を設置し昇
降が可能とされたインデクサ−■が、複数個例えば4個
設けられている。このインデクサ−■には、上記ウェハ
カセット■を上面に設置して昇降するプラットホーム■
が設けられており、このプラットホーム(ハ)の下部に
接続された昇降機構により上記プラットホーム■が所定
の高さ位置に制御可能とされている。このプラットホー
ム(8)を昇降させる場合、上面に設置するウェハカセ
ット0に収納したウェハ■が常に水平状態を保持するよ
うに、図示はしないが昇降ガイド例えばLMガイド(商
品名)を併用することが好ましい。更に、このインデク
サ−■には水平搬送機構例えば直流モータ等により回転
駆動される搬送ベルト(9)が設けられており、この搬
送ベルト■に対して、上記プラットホーム(へ)が昇降
可能となっている。
収納可能な収納容器例えばウェハカセット0を設置し昇
降が可能とされたインデクサ−■が、複数個例えば4個
設けられている。このインデクサ−■には、上記ウェハ
カセット■を上面に設置して昇降するプラットホーム■
が設けられており、このプラットホーム(ハ)の下部に
接続された昇降機構により上記プラットホーム■が所定
の高さ位置に制御可能とされている。このプラットホー
ム(8)を昇降させる場合、上面に設置するウェハカセ
ット0に収納したウェハ■が常に水平状態を保持するよ
うに、図示はしないが昇降ガイド例えばLMガイド(商
品名)を併用することが好ましい。更に、このインデク
サ−■には水平搬送機構例えば直流モータ等により回転
駆動される搬送ベルト(9)が設けられており、この搬
送ベルト■に対して、上記プラットホーム(へ)が昇降
可能となっている。
このような構造のインデクサ−■がウェハ(ト)搬送方
向に対して直列状態に2個即ちインデクサ−(7a)
(7b)が、ウェハω送り出し用として配置されている
。このウェハ■送り出し用のインデクサ−(7a) (
7b)と並設し、且つ互いのウェハ■搬送方向が直列状
態に配置されたバッファー用インデクサ(7c) (7
d)が2個設けられ、計4個のインデクサ(7a) (
7b) (7c) (7d)がローダ■に設けられてい
る。
向に対して直列状態に2個即ちインデクサ−(7a)
(7b)が、ウェハω送り出し用として配置されている
。このウェハ■送り出し用のインデクサ−(7a) (
7b)と並設し、且つ互いのウェハ■搬送方向が直列状
態に配置されたバッファー用インデクサ(7c) (7
d)が2個設けられ、計4個のインデクサ(7a) (
7b) (7c) (7d)がローダ■に設けられてい
る。
上記ウェハ■送り出し用インデクサ−(7a) (7b
)から搬出されるウェハ■を方向変換機構(10)へ搬
送するベルト搬送機構(11)が設けられている。この
ベルト搬送機構(11)は、例えば上記インデクサ−(
7a) (7b)のウェハ■搬送方向に対して直交する
方向に、ウェハ■が搬送される如くしターン機能を有し
ている。また、このベルト搬送機構(11)に横設され
、このベルト搬送機構(11)から搬送されたウェハ■
を、上記バッファー用インデクサ−(7c) (7d)
或いは処理部■に搬送を切換え可能とされた上記方向変
換機構(10)が設けられている。この方向変換機構(
10)はウェハ■をLターンさせる如くL型の搬送ベル
ト(12)が設けられている。更に方向変換機構(10
)には、図示しないが上記搬送ベルト(12)を方向変
換する如く回転させる手段例えばロータリーソレノイド
、エアシリンダー、モータ等が設けられている。
)から搬出されるウェハ■を方向変換機構(10)へ搬
送するベルト搬送機構(11)が設けられている。この
ベルト搬送機構(11)は、例えば上記インデクサ−(
7a) (7b)のウェハ■搬送方向に対して直交する
方向に、ウェハ■が搬送される如くしターン機能を有し
ている。また、このベルト搬送機構(11)に横設され
、このベルト搬送機構(11)から搬送されたウェハ■
を、上記バッファー用インデクサ−(7c) (7d)
或いは処理部■に搬送を切換え可能とされた上記方向変
換機構(10)が設けられている。この方向変換機構(
10)はウェハ■をLターンさせる如くL型の搬送ベル
ト(12)が設けられている。更に方向変換機構(10
)には、図示しないが上記搬送ベルト(12)を方向変
換する如く回転させる手段例えばロータリーソレノイド
、エアシリンダー、モータ等が設けられている。
上記処理部■は、上記ローダ■から搬送されたウェハ■
を処理例えばエツチング処理するもので、第3図及び第
4図に示すように、処理室(13)及びその出入口にロ
ードロック室即ち予備室(14a)(14b)が設けら
れている。 この予備室(14a) (14b)は、上
記処理室(13)に気密を保ちなからウェハ■を搬入、
或いは処理室(13)から搬出が可能な搬送機構例えば
ハンドリングアーム(15a) (15b)が夫々設け
られている。 このハンドリングアーム(15a)(1
5b)によりウェハ■を搬送するに際し、上記予備室(
14a) (14b)内の気密を解除する如く開閉ドア
(16a) (16b) (17a) (17b)が設
けられている。このような予備室(14a) (14b
)内は、夫々減圧が可能な如く図示しない真空機構が接
続し、更に不活性ガス例えばN2(窒素)ガスを導入す
ることにより内部のガス・パージを可能としている。
を処理例えばエツチング処理するもので、第3図及び第
4図に示すように、処理室(13)及びその出入口にロ
ードロック室即ち予備室(14a)(14b)が設けら
れている。 この予備室(14a) (14b)は、上
記処理室(13)に気密を保ちなからウェハ■を搬入、
或いは処理室(13)から搬出が可能な搬送機構例えば
ハンドリングアーム(15a) (15b)が夫々設け
られている。 このハンドリングアーム(15a)(1
5b)によりウェハ■を搬送するに際し、上記予備室(
14a) (14b)内の気密を解除する如く開閉ドア
(16a) (16b) (17a) (17b)が設
けられている。このような予備室(14a) (14b
)内は、夫々減圧が可能な如く図示しない真空機構が接
続し、更に不活性ガス例えばN2(窒素)ガスを導入す
ることにより内部のガス・パージを可能としている。
また、上記処理室(13)には、上記ウェハ■を設置す
る設置台を兼ねた電極(18)と、この電極(18)に
対向配置され、処理ガス例えばエツチングガスを上記ウ
ェハ■に供給する複数の開孔を備えた対向電極(19)
が設けられている。この電極(1g) (19)間にR
F電力を印加する図示しない電源が接続されている。こ
れにより上記電極(18) (19)間に放電の発生を
可能としている。
る設置台を兼ねた電極(18)と、この電極(18)に
対向配置され、処理ガス例えばエツチングガスを上記ウ
ェハ■に供給する複数の開孔を備えた対向電極(19)
が設けられている。この電極(1g) (19)間にR
F電力を印加する図示しない電源が接続されている。こ
れにより上記電極(18) (19)間に放電の発生を
可能としている。
また、上記処理部■で処理されたウェハ■を搬送し収納
するアンローダ(イ)には、ウェハ■受は取り用収納容
器例えばインデクサ−(20a) (20b)が2個配
設されている。このインデクサ−(20a) (20b
)は、上記ローダ■に設けられているインデクサ−■と
同一構造で、昇降可能なプラットホーム(21)及び搬
送ベルト(22)で夫々設けられている。このインデク
サ−(20a) (20b)は、ウェハ■搬送方向に対
して直列状態に配置されており、このインデクサ−(2
0b)及び上記処理部■の間にベルト搬送機構(23)
が設けられ、上記処理部■からのウェハ■を上記インデ
クサ−(20a) (20b)に搬送可能とされている
。
するアンローダ(イ)には、ウェハ■受は取り用収納容
器例えばインデクサ−(20a) (20b)が2個配
設されている。このインデクサ−(20a) (20b
)は、上記ローダ■に設けられているインデクサ−■と
同一構造で、昇降可能なプラットホーム(21)及び搬
送ベルト(22)で夫々設けられている。このインデク
サ−(20a) (20b)は、ウェハ■搬送方向に対
して直列状態に配置されており、このインデクサ−(2
0b)及び上記処理部■の間にベルト搬送機構(23)
が設けられ、上記処理部■からのウェハ■を上記インデ
クサ−(20a) (20b)に搬送可能とされている
。
また、上記制御部■は、装置の動作制御や設定制御が可
能な構造で1図示はしないが設定用キーボード及びTV
モニターが設けられている。更に。
能な構造で1図示はしないが設定用キーボード及びTV
モニターが設けられている。更に。
この制御部(ハ)にメンテナンス用のパーソナルコンピ
ュータ(図示せず)を接続可能とされている。
ュータ(図示せず)を接続可能とされている。
このようにしてエツチング装置が構成されている。
次に、上述したエツチング装置の動作作用及び半導体ウ
ェハのエツチング方法を説明する。
ェハのエツチング方法を説明する。
まず、複数枚例えば25枚のウェハ■が整列収納された
収納容器例えばウェハカセット0を2個、搬送ロボット
或いは人手によりローダ■のインデクサ−(7a) (
7b)上に設置する。更に、バッファー用インデクサ−
(7c) (7d)上に、空の収納容器例えばウェハカ
セット0を各1個設置する。そして、方向変換機構(1
0)を駆動させて、第1図に示すようにL型搬送ベルト
(12)を回転させ、ベルト搬送機構(11)及びバッ
ファー用インデクサ−(7c) (7d)間でウェハ■
を搬送可能とする向きに、上記搬送ベルト(12)を設
定する。
収納容器例えばウェハカセット0を2個、搬送ロボット
或いは人手によりローダ■のインデクサ−(7a) (
7b)上に設置する。更に、バッファー用インデクサ−
(7c) (7d)上に、空の収納容器例えばウェハカ
セット0を各1個設置する。そして、方向変換機構(1
0)を駆動させて、第1図に示すようにL型搬送ベルト
(12)を回転させ、ベルト搬送機構(11)及びバッ
ファー用インデクサ−(7c) (7d)間でウェハ■
を搬送可能とする向きに、上記搬送ベルト(12)を設
定する。
そして、ウェハカセット■内に収納されたウェハ■の並
び即ち配列順を反転させる操作を実行する。この反転操
作は、先ず、送り出し用インデクサ−(7a) (7b
)をスタートさせる順番及びこの送り出されたウェハ■
を受は取るバッファー用インデクサ−(7a) (7b
)をスタートさせる順番を決定する。
び即ち配列順を反転させる操作を実行する。この反転操
作は、先ず、送り出し用インデクサ−(7a) (7b
)をスタートさせる順番及びこの送り出されたウェハ■
を受は取るバッファー用インデクサ−(7a) (7b
)をスタートさせる順番を決定する。
例えば送り出し用としてインデクサ−(7b)を1番目
、インデクサ−(7a)を2番目とし、更にバッファー
用としてインデクサ−(7c)を1番目、インデクサ−
(7d)を2番目と設定し、上記反転操作部ちウェハ■
の移し換えを開始する。即ち、先ず送り出し用インデク
サ−(7b)上のウェハカセット(0に収納されたウェ
ハ搬送ベルト■)、ベルト搬送機構(11)、搬送ベル
ト(12)を夫々駆動させ、バッファー用インデクサ−
(7c)上のウェハカセット■内に順次収納する。この
時、ウェハカセット0から搬出されるウェハωは、第5
図に示すように、ウェハカセット■内のウェハ(支)が
搬送ベルト■上面に位置させるようにプラットホーム(
ハ)をステップ送りで下降させることにより、最下段の
ウェハ■から順番に送り出され、バッファー用インデク
サ−(7c)上のウェハカセット■の最上段から順番に
収納される工この操作を連続的に実行し、インデクサ−
(7b)上のウェハカセット0内に収納されたウェハω
総てが送り出されると、2番目の送り出し用インデクサ
−(7a)がスタートし、且つ2番目のバッファー用イ
ンデクサ−(7d)がスタートする。
、インデクサ−(7a)を2番目とし、更にバッファー
用としてインデクサ−(7c)を1番目、インデクサ−
(7d)を2番目と設定し、上記反転操作部ちウェハ■
の移し換えを開始する。即ち、先ず送り出し用インデク
サ−(7b)上のウェハカセット(0に収納されたウェ
ハ搬送ベルト■)、ベルト搬送機構(11)、搬送ベル
ト(12)を夫々駆動させ、バッファー用インデクサ−
(7c)上のウェハカセット■内に順次収納する。この
時、ウェハカセット0から搬出されるウェハωは、第5
図に示すように、ウェハカセット■内のウェハ(支)が
搬送ベルト■上面に位置させるようにプラットホーム(
ハ)をステップ送りで下降させることにより、最下段の
ウェハ■から順番に送り出され、バッファー用インデク
サ−(7c)上のウェハカセット■の最上段から順番に
収納される工この操作を連続的に実行し、インデクサ−
(7b)上のウェハカセット0内に収納されたウェハω
総てが送り出されると、2番目の送り出し用インデクサ
−(7a)がスタートし、且つ2番目のバッファー用イ
ンデクサ−(7d)がスタートする。
そして、上記と同様にインデクサ−(7a)上のウェハ
カセット■に収納されているウェハ■が順次送り出され
、インデクサ−(7d)上のウェハカセット(0内に収
納されるにの時、インデクサ−(7a)上のウェハカセ
ット0に収納されていたウェハ■は。
カセット■に収納されているウェハ■が順次送り出され
、インデクサ−(7d)上のウェハカセット(0内に収
納されるにの時、インデクサ−(7a)上のウェハカセ
ット0に収納されていたウェハ■は。
インデクサ−(7b)の搬送ベルト■上を通過するため
、この通過を妨げないように、例えば上記インデクサ−
(7b)のプラットホーム■を搬送ベルト0上面より高
い位置に設定させておく、このようにインデクサ−(7
b)のウェハカセット0からインデクサ−(7c)のウ
ェハカセット(0、及びインデクサ−(7a)のウェハ
カセット0からインデクサ−(7d)のウェハカセット
0内に、夫々ウェハωの配列順が上下逆即ち反転された
状態で収納される。
、この通過を妨げないように、例えば上記インデクサ−
(7b)のプラットホーム■を搬送ベルト0上面より高
い位置に設定させておく、このようにインデクサ−(7
b)のウェハカセット0からインデクサ−(7c)のウ
ェハカセット(0、及びインデクサ−(7a)のウェハ
カセット0からインデクサ−(7d)のウェハカセット
0内に、夫々ウェハωの配列順が上下逆即ち反転された
状態で収納される。
次に、方向変換機構(10)を駆動して搬送ベルト(1
2)を回転させ、バッファー用インデクサ−(7C)(
7d)及び処理部0間でウェハ■を搬送できる向きに上
記搬送ベルト(12)を設定する。更に、搬送ロボット
(図示せず)或いは人手により、インデクサ−(7a)
(7b)上の空となったウェハカセット0を受は取り
用インデクサ−(20a) (20b)上に移し換える
。即ち、インデクサ−(7a)上のウェハカセット■を
インデクサ−(20a)上に、且つインデクサ−(7b
)上のウェハカセット■をインデクサ−(20b)上に
夫々設置する。
2)を回転させ、バッファー用インデクサ−(7C)(
7d)及び処理部0間でウェハ■を搬送できる向きに上
記搬送ベルト(12)を設定する。更に、搬送ロボット
(図示せず)或いは人手により、インデクサ−(7a)
(7b)上の空となったウェハカセット0を受は取り
用インデクサ−(20a) (20b)上に移し換える
。即ち、インデクサ−(7a)上のウェハカセット■を
インデクサ−(20a)上に、且つインデクサ−(7b
)上のウェハカセット■をインデクサ−(20b)上に
夫々設置する。
そして、バッファー用インデクサ−(7c) (7d)
上のウェハカセット■から順次ウェハ■を搬送ベルト(
12)を介して処理部■に搬入され、処理例えばエツチ
ング処理が施される。
上のウェハカセット■から順次ウェハ■を搬送ベルト(
12)を介して処理部■に搬入され、処理例えばエツチ
ング処理が施される。
このエツチング処理は、減圧状態とした処理室(13)
内で実行するため、この処理室(13)内にウェハ■を
搬入量する場合には、真空予備室(14a)(14b)
即ちロードロック室を介して搬入量される。
内で実行するため、この処理室(13)内にウェハ■を
搬入量する場合には、真空予備室(14a)(14b)
即ちロードロック室を介して搬入量される。
即ち、インデクサ−(17c) (17d)から搬送さ
れて搬送ベルト(12)上の所定の位置例えば予備室(
14a)側部に停止させ、予備室(14a)の開閉ドア
(16a)を開けた後に、ハンドリングアーム(15a
)でウェハ■を支持して予備室(14a)内に搬入させ
て上記開閉ドア(16a)を閉じる。そして、この予備
室(14a)内を減圧し、開閉ドア(16b)を開けて
上記ハンドリングアーム(15a)でウェハωを処理室
(13)内に搬入し、設置台を兼ねた電極(18)上に
ウェハ■をi[する。 この時、ハンドリングアーム(
15a)は再び予備室(14a)内に戻り、開閉ドア(
16b)が閉じられる。そして、上記処理室(13)内
を所望の減圧状態に保ち、上記ウェハ■のエツチング処
理を実行する。このエツチング処理は1例えば対向電極
(19)に設けられた複数の開孔からエツチングガスを
上記ウェハ■上に供給し、同時に、電極(18)(19
)間にRF電力を印加することにより放電を発生させ、
この放電により上記エツチングガスをプラズマ化し、こ
のプラズマ化したエツチングガスにより上記ウェハ■の
エツチング処理を行なう。
れて搬送ベルト(12)上の所定の位置例えば予備室(
14a)側部に停止させ、予備室(14a)の開閉ドア
(16a)を開けた後に、ハンドリングアーム(15a
)でウェハ■を支持して予備室(14a)内に搬入させ
て上記開閉ドア(16a)を閉じる。そして、この予備
室(14a)内を減圧し、開閉ドア(16b)を開けて
上記ハンドリングアーム(15a)でウェハωを処理室
(13)内に搬入し、設置台を兼ねた電極(18)上に
ウェハ■をi[する。 この時、ハンドリングアーム(
15a)は再び予備室(14a)内に戻り、開閉ドア(
16b)が閉じられる。そして、上記処理室(13)内
を所望の減圧状態に保ち、上記ウェハ■のエツチング処
理を実行する。このエツチング処理は1例えば対向電極
(19)に設けられた複数の開孔からエツチングガスを
上記ウェハ■上に供給し、同時に、電極(18)(19
)間にRF電力を印加することにより放電を発生させ、
この放電により上記エツチングガスをプラズマ化し、こ
のプラズマ化したエツチングガスにより上記ウェハ■の
エツチング処理を行なう。
そして、エツチング処理後には、開閉ドア(17a)を
開いて減圧状態に設定されている予備室(14b)内の
ハンドリングアーム(15b)により、電極(18)上
に設けられているウェハ■を予備室(14b)内に搬送
し、開閉ドア(17a)を閉じる。そして、この予備室
(14b)内を常圧に復帰させて開閉ドア(17b)を
開き、ハンドリングアーム(15b)により処理部■か
ら搬出され、ベルト搬送機構(23)を介して受は取り
用インデクサ−(20a) (20b)に搬入される。
開いて減圧状態に設定されている予備室(14b)内の
ハンドリングアーム(15b)により、電極(18)上
に設けられているウェハ■を予備室(14b)内に搬送
し、開閉ドア(17a)を閉じる。そして、この予備室
(14b)内を常圧に復帰させて開閉ドア(17b)を
開き、ハンドリングアーム(15b)により処理部■か
ら搬出され、ベルト搬送機構(23)を介して受は取り
用インデクサ−(20a) (20b)に搬入される。
このように、インデクサ−(7d)から送り出されたウ
ェハωは処理部■で処理された後にインデクサ−(20
a)上のウェハカセット0内に順次収納され、また、イ
ンデクサ−(7c)から送り出されたつエバ■は処理部
■で処理された後にインデクサ−(20b)上のウェハ
カセット0内に順次収納される。
ェハωは処理部■で処理された後にインデクサ−(20
a)上のウェハカセット0内に順次収納され、また、イ
ンデクサ−(7c)から送り出されたつエバ■は処理部
■で処理された後にインデクサ−(20b)上のウェハ
カセット0内に順次収納される。
この時のウェハ■の送り出し及び受は取りも、上記ウェ
ハ■移し換え操作と同様に実行されるためウェハ■の上
下の配列順が逆即ち反転されて収納される。このため、
送り出し用インデクサ−(7a)(7b)に設置したウ
ェハカセット■と同じウェハ■の配列順となり、且つ同
一のウェハカセット0内に再びウェハ■が収納される。
ハ■移し換え操作と同様に実行されるためウェハ■の上
下の配列順が逆即ち反転されて収納される。このため、
送り出し用インデクサ−(7a)(7b)に設置したウ
ェハカセット■と同じウェハ■の配列順となり、且つ同
一のウェハカセット0内に再びウェハ■が収納される。
このように、処理前と処理後のウェハカセット0内にお
けるウェハ■の位置を同一とすることができるため、ウ
ェハ■単位の管理ができ、多品種少量生産に対応するこ
とができる。更に、処理前のウェハ■を収納していたウ
ェハカセット0に、ウェハ■を処理した後再び同一のウ
ェハカセット0内に収納することができるため、ウェハ
カセット0単位でウェハωの管理を行なう如<IDコー
ドやバーコード等の管理コードを付して管理することが
できる。
けるウェハ■の位置を同一とすることができるため、ウ
ェハ■単位の管理ができ、多品種少量生産に対応するこ
とができる。更に、処理前のウェハ■を収納していたウ
ェハカセット0に、ウェハ■を処理した後再び同一のウ
ェハカセット0内に収納することができるため、ウェハ
カセット0単位でウェハωの管理を行なう如<IDコー
ドやバーコード等の管理コードを付して管理することが
できる。
上記実施例では、送り出し用インデクサ−を2個、バッ
ファー用インデクサ−を2個、受は取り用インデクサ−
を2個設けた例について説明したが、個数は自由に設定
することができる。また、各インデクサ−をスタートさ
せる順番も、自由に選択することができる。
ファー用インデクサ−を2個、受は取り用インデクサ−
を2個設けた例について説明したが、個数は自由に設定
することができる。また、各インデクサ−をスタートさ
せる順番も、自由に選択することができる。
また、上記実施例では、方向変換機構を回転させてウェ
ハの搬送方向を換える例について説明したが、これに限
定するものではなく、例えば直進搬送ベルト・右Lター
ン搬送ベルト、左Lターン搬送ベルト等を高さをかえて
配置する多層n造とし、これらを上下動させることによ
り切り換えるように構成しても同様な効果を得ることが
できる。
ハの搬送方向を換える例について説明したが、これに限
定するものではなく、例えば直進搬送ベルト・右Lター
ン搬送ベルト、左Lターン搬送ベルト等を高さをかえて
配置する多層n造とし、これらを上下動させることによ
り切り換えるように構成しても同様な効果を得ることが
できる。
更にまた、上記実施例では、エツチング処理に適用した
例について説明したが、これに限定するものではなく、
塗布・現像処理装置、アッシング装置、検査装置、成膜
装置等被処理体を枚葉式に処理する装ぼであれば、同様
な効果を得ることができる。また、被処理体として半導
体ウェハについて説明したが、これに限定するものでは
なく、液晶TVなどの画面表示装置に用いられるLCD
基板、プリント基板等でも同様な効果を得ることができ
る。
例について説明したが、これに限定するものではなく、
塗布・現像処理装置、アッシング装置、検査装置、成膜
装置等被処理体を枚葉式に処理する装ぼであれば、同様
な効果を得ることができる。また、被処理体として半導
体ウェハについて説明したが、これに限定するものでは
なく、液晶TVなどの画面表示装置に用いられるLCD
基板、プリント基板等でも同様な効果を得ることができ
る。
以上述べたようにこの実施例によれば、収納容器内に整
列収納された被処理体の配列順を反転させて処理室に搬
入し、この処理室内で上記被処理体を処理し、この処理
後の被処理体を収納容器に基の配列順に整列収納するこ
とにより、処理前と処理後の収納容器内における上記被
処理体の配列順を同一状態とし、これにより被処理体毎
の管理を容易にすることができる。そのため、被処理体
の多品種少量生産に対応することが可能となる。
列収納された被処理体の配列順を反転させて処理室に搬
入し、この処理室内で上記被処理体を処理し、この処理
後の被処理体を収納容器に基の配列順に整列収納するこ
とにより、処理前と処理後の収納容器内における上記被
処理体の配列順を同一状態とし、これにより被処理体毎
の管理を容易にすることができる。そのため、被処理体
の多品種少量生産に対応することが可能となる。
第1図は本発明方法の一実施例を説明するためのエツチ
ング装置の構成図、第2図は第1図のローダ−説明図、
第3図及び第4図は第1図の処理部説明図、第5図は第
1図のインデクサ−によるウェハ反転操作の説明図であ
る。 1・・・ウェハ 2・・・ローダ4・・・ア
ンローダ 6・・・ウェハカセット7.20・・
・インデクサ− 10・・・方向変換機構 第2図 第3図
ング装置の構成図、第2図は第1図のローダ−説明図、
第3図及び第4図は第1図の処理部説明図、第5図は第
1図のインデクサ−によるウェハ反転操作の説明図であ
る。 1・・・ウェハ 2・・・ローダ4・・・ア
ンローダ 6・・・ウェハカセット7.20・・
・インデクサ− 10・・・方向変換機構 第2図 第3図
Claims (1)
- 収納容器内に整列収納された被処理体の配列順を反転さ
せて処理室に搬入し、この処理室内で上記被処理体を処
理し、この処理後の被処理体を収納容器に基の配列順に
整列収納することを特徴とする処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1027797A JPH02207547A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1027797A JPH02207547A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 処理方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02207547A true JPH02207547A (ja) | 1990-08-17 |
Family
ID=12230967
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1027797A Pending JPH02207547A (ja) | 1989-02-07 | 1989-02-07 | 処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02207547A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006137407A1 (ja) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Shinko Electric Co., Ltd. | ワーク収納装置及びワーク収納方法 |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61287636A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-18 | Canon Inc | ウエハ插入・取出装置 |
-
1989
- 1989-02-07 JP JP1027797A patent/JPH02207547A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS61287636A (ja) * | 1985-06-12 | 1986-12-18 | Canon Inc | ウエハ插入・取出装置 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006137407A1 (ja) * | 2005-06-23 | 2006-12-28 | Shinko Electric Co., Ltd. | ワーク収納装置及びワーク収納方法 |
JP2007001716A (ja) * | 2005-06-23 | 2007-01-11 | Shinko Electric Co Ltd | ワーク収納装置及びワーク収納方法 |
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