JPH0220041A - 半導体ウエハの係合方法および装置 - Google Patents
半導体ウエハの係合方法および装置Info
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- JPH0220041A JPH0220041A JP1121673A JP12167389A JPH0220041A JP H0220041 A JPH0220041 A JP H0220041A JP 1121673 A JP1121673 A JP 1121673A JP 12167389 A JP12167389 A JP 12167389A JP H0220041 A JPH0220041 A JP H0220041A
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- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title description 13
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 80
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
- H01L21/68707—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a robot blade, or gripped by a gripper for conveyance
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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-
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- Y10S414/135—Associated with semiconductor wafer handling
- Y10S414/141—Associated with semiconductor wafer handling includes means for gripping wafer
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明はおおむね、半導体ウェハのような平坦なディス
ク形状の物品を搬送する方法に関する。
ク形状の物品を搬送する方法に関する。
[従来の技術]
今日、半導体デバイスは一般的に単結晶半導体材料(例
えば、シリコン)の薄いウェハから製造されている。半
導体デバイスを製造するために、各ウェハを一連の製造
工程にかけなければならない。この一連の製造工程は通
常、製造プラントの別々の場所に配置された異なる加工
機により行われる。大多数の製造装置では、ウェハはウ
ェハカセット治具に収納された状態で装置間を搬送され
る。ウェハカセット治具はウェハを一枚づつ収容するサ
イズに各々区切られた複数のポケットを有する。−殻内
に、各カセット治具は1バッチ25枚のウェハを収容す
る。カセットが装置の所に到着したら、通常、加工のた
めにウェハをカセ−/ ト治具から一枚づつ取り出さな
ければならない。この作業を行うために人手をあてにす
るよりも、現在では、殆どの半導体製造装置に自動ウェ
ハロード/アンロード装置が設けられている。
えば、シリコン)の薄いウェハから製造されている。半
導体デバイスを製造するために、各ウェハを一連の製造
工程にかけなければならない。この一連の製造工程は通
常、製造プラントの別々の場所に配置された異なる加工
機により行われる。大多数の製造装置では、ウェハはウ
ェハカセット治具に収納された状態で装置間を搬送され
る。ウェハカセット治具はウェハを一枚づつ収容するサ
イズに各々区切られた複数のポケットを有する。−殻内
に、各カセット治具は1バッチ25枚のウェハを収容す
る。カセットが装置の所に到着したら、通常、加工のた
めにウェハをカセ−/ ト治具から一枚づつ取り出さな
ければならない。この作業を行うために人手をあてにす
るよりも、現在では、殆どの半導体製造装置に自動ウェ
ハロード/アンロード装置が設けられている。
殆どのウェハロード/アンロード装置は、ウェハをカセ
ット治具から取出して製造装置の加工位置に搬送するた
めに、2種類の別々の機構を使用している。2種類の機
構のうち最初の機構は、通常、へらの形状をしている。
ット治具から取出して製造装置の加工位置に搬送するた
めに、2種類の別々の機構を使用している。2種類の機
構のうち最初の機構は、通常、へらの形状をしている。
このへらはカセット治具の所定のポケット内に挿入し、
そこからウェハを取り出したり、あるいは、該ポケット
内にウェハを収容したりすることができる。別の機構は
、−殻内に、移動可能な真空ピックアップ装置の形をし
ている。この装置はへらと加工位置との間でウェハを搬
送することができる。
そこからウェハを取り出したり、あるいは、該ポケット
内にウェハを収容したりすることができる。別の機構は
、−殻内に、移動可能な真空ピックアップ装置の形をし
ている。この装置はへらと加工位置との間でウェハを搬
送することができる。
[発明が解決しようとする課題]
カセット治具と製造装置の加工位置の間でウェハを搬送
するために、2種類の別々の機構を使用しなければなら
ないと、ウェハのロード/アンロードシステムが機械的
に複雑になるばかりか、非効率である。その結果、この
ようなシステムは搬送速度が比較的に遅く、しかも、高
価である。従って、半導体ウェハの搬送用の簡単な技術
の開発が熱望されている。
するために、2種類の別々の機構を使用しなければなら
ないと、ウェハのロード/アンロードシステムが機械的
に複雑になるばかりか、非効率である。その結果、この
ようなシステムは搬送速度が比較的に遅く、しかも、高
価である。従って、半導体ウェハの搬送用の簡単な技術
の開発が熱望されている。
[課題を解決するための手段]
要するに、本発明によれば、半導体ウェハ(特に、ウェ
ハカセット治具のポケットに収容されている半導体ウェ
ハ)を開放可能に係合する装置が提供される。本発明の
装置は、−殻内に、自動制御で運動するようにプログラ
ムされたロボットにより保合できるようにされたフレー
ムを有する。
ハカセット治具のポケットに収容されている半導体ウェ
ハ)を開放可能に係合する装置が提供される。本発明の
装置は、−殻内に、自動制御で運動するようにプログラ
ムされたロボットにより保合できるようにされたフレー
ムを有する。
ウェハカセット治具のポケット内に収まる大きさのi手
アームがフレームに配設されていて、フレームから遠方
に延びる。このアームは、ウェハのエツジ部分を係合す
るための顎(あご)を有する。
アームがフレームに配設されていて、フレームから遠方
に延びる。このアームは、ウェハのエツジ部分を係合す
るための顎(あご)を有する。
この顎はフレームから離れた一端から垂下している。第
2の顎がアームの下面に滑動可能に配設されている。こ
の第2の顎は、第1の顎により係合されたウェハエツジ
部分と反対側のウェハエツジ部分を係合するために、第
1の顎に対して接近したり、遠ざかるように運動する。
2の顎がアームの下面に滑動可能に配設されている。こ
の第2の顎は、第1の顎により係合されたウェハエツジ
部分と反対側のウェハエツジ部分を係合するために、第
1の顎に対して接近したり、遠ざかるように運動する。
第2の顎を第1の顎に接近させたり、遠ざけたりするこ
とにより、両顎間にウェハを開放可能に保持させること
ができるようにするため、−殻内にエアーシリンダのよ
うな装置がフレームに配設される。第1および第2の顎
は各々、ウェハの厚さ程度分だけアームから垂下してい
る。これにより、装置は例えば、スパッタリングトレー
のような平坦な表面からウェハをピックアンプしたり、
°あるいは、平坦な表面上にウェハを載置することがで
きる。
とにより、両顎間にウェハを開放可能に保持させること
ができるようにするため、−殻内にエアーシリンダのよ
うな装置がフレームに配設される。第1および第2の顎
は各々、ウェハの厚さ程度分だけアームから垂下してい
る。これにより、装置は例えば、スパッタリングトレー
のような平坦な表面からウェハをピックアンプしたり、
°あるいは、平坦な表面上にウェハを載置することがで
きる。
本発明の別の目的は、半導体ウェハ(特に、ウェハカセ
ット治具のポケットに収容されている半導体ウェハ)を
開放可能に係合する方法を提供することである。この方
法は、最初に、第1の垂下顎を有するアームをウェハの
近傍に配置し、顎をウェハのエツジの外側に、エツジと
対峙するように位置させることにより行われる。ウェハ
がカセット治具のポケットの一つに収容されたら、アー
ムをポケット内に挿入することによりアームの位置決め
工程も同時に行い、ウェハ上に覆い被せ、次いで、アー
ムを僅かに下降させ、第1の顎をウェハのエツジと対峙
させる。アームが前記のように配置されたら、アームの
下面に沿って摺動可能に配設された第2の顎を第1の顎
に向かって移動させる。−膜内に、両方の顎とも、ウェ
ハの厚さ程度分だけアームの下部に垂下している。
ット治具のポケットに収容されている半導体ウェハ)を
開放可能に係合する方法を提供することである。この方
法は、最初に、第1の垂下顎を有するアームをウェハの
近傍に配置し、顎をウェハのエツジの外側に、エツジと
対峙するように位置させることにより行われる。ウェハ
がカセット治具のポケットの一つに収容されたら、アー
ムをポケット内に挿入することによりアームの位置決め
工程も同時に行い、ウェハ上に覆い被せ、次いで、アー
ムを僅かに下降させ、第1の顎をウェハのエツジと対峙
させる。アームが前記のように配置されたら、アームの
下面に沿って摺動可能に配設された第2の顎を第1の顎
に向かって移動させる。−膜内に、両方の顎とも、ウェ
ハの厚さ程度分だけアームの下部に垂下している。
前記の説明から明らかなように、アームが適正に配置さ
れ、そしてその後、第2の顎が第1の顎に向かって移動
することにより、ウェハはそのエツジに沿って互いに対
峙する箇所で係合されるようになる。このようにして、
ウェハ(特に、カセ、ト治具のポケット内に収容されて
いるウェハまたは平坦な表面に載置されたウェハ)を、
その主要な表面のいかなる形状にも全く損傷を与えるこ
となく、シっかりと保持することができる。ウェハを保
持した後、フレーム(アームおよび両方の顎も一緒に)
をロボットまたは同様な構造体により移動させ、ウェハ
を搬送することができる。このようにして、ウェハの係
合と搬送を簡単で効率的な方法により行うことができる
。
れ、そしてその後、第2の顎が第1の顎に向かって移動
することにより、ウェハはそのエツジに沿って互いに対
峙する箇所で係合されるようになる。このようにして、
ウェハ(特に、カセ、ト治具のポケット内に収容されて
いるウェハまたは平坦な表面に載置されたウェハ)を、
その主要な表面のいかなる形状にも全く損傷を与えるこ
となく、シっかりと保持することができる。ウェハを保
持した後、フレーム(アームおよび両方の顎も一緒に)
をロボットまたは同様な構造体により移動させ、ウェハ
を搬送することができる。このようにして、ウェハの係
合と搬送を簡単で効率的な方法により行うことができる
。
[実施例コ
以ド、図面を参照しながら本発明を更に詳細に説明する
。
。
第1図および第2図は、それぞれ、半導体ウェハ12(
特に、カセット治具16の一連のポケット14の一つに
収容されたウェハ)を開放可能に係合し、搬送する装置
10の平面図と断面図である。第2図に明示されている
ように、装置10は、中空状のフレーム18、円筒形の
工具チャック20を有する。工具チャック20は、その
端部のうちの一方の端部に、チャックの主軸に対して直
交するように、一体止されたプレート22を有する。
特に、カセット治具16の一連のポケット14の一つに
収容されたウェハ)を開放可能に係合し、搬送する装置
10の平面図と断面図である。第2図に明示されている
ように、装置10は、中空状のフレーム18、円筒形の
工具チャック20を有する。工具チャック20は、その
端部のうちの一方の端部に、チャックの主軸に対して直
交するように、一体止されたプレート22を有する。
工具チャック20は、プレート22の反対側に第2の端
部を有する。この端部はロボットアーム26の端部のソ
ケット24内に収まる大きさである。
部を有する。この端部はロボットアーム26の端部のソ
ケット24内に収まる大きさである。
ロボットアーム26は周知の方法で自動制御されながら
移動可能に構成されている。工具チャック20の第2の
端部よりも下側の、工具チャック20の外周にショルダ
ー27が配設されており、このショルダーにより、工具
チャックのソケット24内への進入深度を側限している
。ソケット内に収容されている工具チャック部分の周面
に埋設されたO−リング28により、工具チャック20
の外面とソケット24の壁面との間は高度な気密シール
が形成されている。
移動可能に構成されている。工具チャック20の第2の
端部よりも下側の、工具チャック20の外周にショルダ
ー27が配設されており、このショルダーにより、工具
チャックのソケット24内への進入深度を側限している
。ソケット内に収容されている工具チャック部分の周面
に埋設されたO−リング28により、工具チャック20
の外面とソケット24の壁面との間は高度な気密シール
が形成されている。
装置10はまた、−組みのボルト32によりプレート2
2の下面に固着された第1の端部を有するアーム30を
有し、アームはプレートと平行に、プレートよりも長く
延びている。アーム30の長さは、装置10により係合
すべき最大のウェハ12の直径よりも若干大きくなるよ
うに選択する。
2の下面に固着された第1の端部を有するアーム30を
有し、アームはプレートと平行に、プレートよりも長く
延びている。アーム30の長さは、装置10により係合
すべき最大のウェハ12の直径よりも若干大きくなるよ
うに選択する。
第2図に明示されているように、アーム30をプレート
22に固着するボルト32は、各々、アーム中の別々の
−組みの細長開口部33を通される。
22に固着するボルト32は、各々、アーム中の別々の
−組みの細長開口部33を通される。
細長開口部33により、アーム30の端部からフレーム
18までの距離を調節することができる。
18までの距離を調節することができる。
このような構成により、以下の説明により一層明らかに
なるように、装置10により保持すべきウェハのサイズ
を変化させることができる。
なるように、装置10により保持すべきウェハのサイズ
を変化させることができる。
プレート22に固着された端部の反対側のアーム30の
端部に顎34が存在する。−膜内に、顎34はアーム3
0と一体になっており、アームからウェハ12の厚さ程
度分だけ垂下している。アーム30と顎34との合計厚
さはdであり、カセット治具16の各ポケット14の開
口部の高さhよりも若干小さい値を選択する。このよう
にして、アーム30は何の障害もなしにポケット14内
に挿入することができる。
端部に顎34が存在する。−膜内に、顎34はアーム3
0と一体になっており、アームからウェハ12の厚さ程
度分だけ垂下している。アーム30と顎34との合計厚
さはdであり、カセット治具16の各ポケット14の開
口部の高さhよりも若干小さい値を選択する。このよう
にして、アーム30は何の障害もなしにポケット14内
に挿入することができる。
第1図を参照する。アーム30には一般的に、矩形のス
ロット36が配設されている。このスロットはプレート
22の端部から顎34に向かって滑動する。スロット3
6の一部に覆い被さっているのはブロック38である。
ロット36が配設されている。このスロットはプレート
22の端部から顎34に向かって滑動する。スロット3
6の一部に覆い被さっているのはブロック38である。
第2図に示されているように、ブロック38は、スロッ
ト中を運動するように、スロット中に延びる大きさの垂
下顎40を有する。顎34と同様に、顎40も、ウエノ
1の厚さ程度分だけアーム30の下部に垂下している。
ト中を運動するように、スロット中に延びる大きさの垂
下顎40を有する。顎34と同様に、顎40も、ウエノ
1の厚さ程度分だけアーム30の下部に垂下している。
顎40には、ウェハ係合面42が配設されている。この
ウェハ係合面42は顎34に配設されたウェハ係合面4
4と真向かいの位置にある。顎38および顎34のウェ
ハ係合面42および44はそれぞれ、ウェハ12の互い
に正反対の向きのエツジ部分を係合するように設計され
ている。
ウェハ係合面42は顎34に配設されたウェハ係合面4
4と真向かいの位置にある。顎38および顎34のウェ
ハ係合面42および44はそれぞれ、ウェハ12の互い
に正反対の向きのエツジ部分を係合するように設計され
ている。
ブロック38はシャフト46の端部に固着されている。
シャフト46は、プレート22の上面に配設されたスプ
リング復帰式のアクチュエータ(−膜内には、エアシリ
ンダ)により駆動される。
リング復帰式のアクチュエータ(−膜内には、エアシリ
ンダ)により駆動される。
圧縮空気が例えば、ロボットアーム26および工具チャ
ック20からエアシリンダ48内に送入されると、シャ
フト46がアーム30の主軸と車行に、シリンダから外
方へ移動する。その結果、顎40は顎34の方に向かっ
て移動し、顎と顎の間にウェハ12を保持する。圧縮空
気の送入が中断されると、エアシリンダ48のスプリン
グアクションにより、シャフト46はシリンダ内に引っ
込められ、それにより、係合ウェハ12が開放される。
ック20からエアシリンダ48内に送入されると、シャ
フト46がアーム30の主軸と車行に、シリンダから外
方へ移動する。その結果、顎40は顎34の方に向かっ
て移動し、顎と顎の間にウェハ12を保持する。圧縮空
気の送入が中断されると、エアシリンダ48のスプリン
グアクションにより、シャフト46はシリンダ内に引っ
込められ、それにより、係合ウェハ12が開放される。
エアシリンダ48を使用する代わりに、電磁セレノイド
のようなそのイ也のタイプのスプリング復帰式アクチュ
エータも使用可能である。
のようなそのイ也のタイプのスプリング復帰式アクチュ
エータも使用可能である。
カセット治具16の所定のポケット14からウェハ12
を取り出すには、先ず、ロボットアーム26が装置10
を移動させてアーム30をポケット内に挿入し、ウェハ
が顎34と40の間に完全に覆い波されるようにアーム
を位置決めする。この時点で、顎30と40の両方をウ
ェハ12の外周の外側に位置させる。次に、ロボットア
ーム26を移動させてアーム30を下降させ、顎34と
40をウェハと大体同じ平面に位置させる。その後、圧
縮空気を工具チャック20からエアシリンダ48内に送
入し、エアシリンダにより顎40を顎34に向かって移
動させる。その結果、顎40と34の端面42と44は
各々、他の顎の他の端面により係合されるウェハのエツ
ジ部分と正反対の位置のウェハエツジ部分を係合する。
を取り出すには、先ず、ロボットアーム26が装置10
を移動させてアーム30をポケット内に挿入し、ウェハ
が顎34と40の間に完全に覆い波されるようにアーム
を位置決めする。この時点で、顎30と40の両方をウ
ェハ12の外周の外側に位置させる。次に、ロボットア
ーム26を移動させてアーム30を下降させ、顎34と
40をウェハと大体同じ平面に位置させる。その後、圧
縮空気を工具チャック20からエアシリンダ48内に送
入し、エアシリンダにより顎40を顎34に向かって移
動させる。その結果、顎40と34の端面42と44は
各々、他の顎の他の端面により係合されるウェハのエツ
ジ部分と正反対の位置のウェハエツジ部分を係合する。
エアシリンダ48が加圧状態に維持されている間、ウェ
ハ12は顎34と40との間に係合されたままの状態に
あり、ロボットアームはアーム30をポケット14から
抜脱することができ、これにより、ウェハはカセット治
具16から取り出される。カセット治具16からのウェ
ハ12の取出に続いて、ロボットアーム26が移動し、
係合ウェハをアンロードすべき所定の位置にまで搬送す
る。ウェハ12を別のカセット治具(図示されていない
)のポケット内にアンロードすることもできる。この場
合、ロボットアーム26はアーム30をウェハが収容さ
れるカセットポケットに挿入するように移動される。ウ
ェハ12がアンロードすべき位置にまで搬送されたら、
エアシリンダ48への圧縮空気の送入を中断し、顎40
を顎34から離れるように移動させ、ウェハを開放する
。
ハ12は顎34と40との間に係合されたままの状態に
あり、ロボットアームはアーム30をポケット14から
抜脱することができ、これにより、ウェハはカセット治
具16から取り出される。カセット治具16からのウェ
ハ12の取出に続いて、ロボットアーム26が移動し、
係合ウェハをアンロードすべき所定の位置にまで搬送す
る。ウェハ12を別のカセット治具(図示されていない
)のポケット内にアンロードすることもできる。この場
合、ロボットアーム26はアーム30をウェハが収容さ
れるカセットポケットに挿入するように移動される。ウ
ェハ12がアンロードすべき位置にまで搬送されたら、
エアシリンダ48への圧縮空気の送入を中断し、顎40
を顎34から離れるように移動させ、ウェハを開放する
。
装置10の明確な利点は、カセット治具16のボケ、ト
14の一つに進入し、ウェハの表面(これらのうちの能
動面にはデリケートな造作が施されている)のいずれに
も接触することな(ウェハ12を開放可能に係合するこ
とができることである。装置lOによ衣ウェハ12の係
合は、ウェハの脱落を起こす危険なしに、ロボットアー
ム26により装置を殆どあらゆる方向に移動させること
ができるほど十分に強固である。従って、例えば、装置
10をロボットアーム26により移動させ、カセット治
具16内に水平に保存されたウェハ12を取出し、その
後、ウェハをサセプタ(図示されていない)の垂直壁面
のポケットにアンロードすることもできる。
14の一つに進入し、ウェハの表面(これらのうちの能
動面にはデリケートな造作が施されている)のいずれに
も接触することな(ウェハ12を開放可能に係合するこ
とができることである。装置lOによ衣ウェハ12の係
合は、ウェハの脱落を起こす危険なしに、ロボットアー
ム26により装置を殆どあらゆる方向に移動させること
ができるほど十分に強固である。従って、例えば、装置
10をロボットアーム26により移動させ、カセット治
具16内に水平に保存されたウェハ12を取出し、その
後、ウェハをサセプタ(図示されていない)の垂直壁面
のポケットにアンロードすることもできる。
装置10の別の明確な利点は、平坦な表面に載置された
ウェハ12をピックアップすることができ、また、アー
ムにより係合されたウェハを平坦な表面に配置すること
ができることである。装置10がこれらの作業をやって
のける能力は、主に、ウェハの厚さ程度分だけ顎34お
よび40がアーム30の下部に垂下していることによる
。
ウェハ12をピックアップすることができ、また、アー
ムにより係合されたウェハを平坦な表面に配置すること
ができることである。装置10がこれらの作業をやって
のける能力は、主に、ウェハの厚さ程度分だけ顎34お
よび40がアーム30の下部に垂下していることによる
。
前記の具体的な実施例は単に本発明を例証する目的で開
示しただけである。従って、当業者ならば、本発明にも
とることなく、本発明を様々に変更あるいは改良するこ
とができるであろう。
示しただけである。従って、当業者ならば、本発明にも
とることなく、本発明を様々に変更あるいは改良するこ
とができるであろう。
[発明の効果コ
以上、説明したように、本発明によれば、単一の装置で
ウェハの保合と搬送の両方の作業を実施することができ
る。
ウェハの保合と搬送の両方の作業を実施することができ
る。
第1図は半導体ウェハを開放可能に係合するための、本
発明に従って構成された装置の平面図である。 第2図は第1図の装置の断面図である。
発明に従って構成された装置の平面図である。 第2図は第1図の装置の断面図である。
Claims (7)
- (1)第1の垂下顎(34)を有する長手アーム(30
)をウェハ(12)上に配置し、該第1の顎をウェハの
エッジの外側に位置させ; 該アームを下降させて第1の顎をウェハのエッジの一部
分と対峙させ;そして、 アームの下面に沿って滑動可能に配設された第2の顎(
40)を第1の顎に向かって移動させて両方の顎でウェ
ハを係合し、そして、両顎間にウェハを保持する; ことを特徴とするウェハを開放可能に係合する方法。 - (2)ウェハ(12)はウェハカセット治具(18)の
ポケット(14)内に収蔵され;そして、アーム(30
)をウェハが収蔵されているカセット治具のポケット内
に挿入することにより、アームをウェハ上に位置させる
; ことを特徴とする請求項1記載の方法。 - (3)係合されたウェハ(12)はアーム(30)を移
動させることにより搬送し;そして、その後、第2の顎
(40)を第1の顎(34)から離すように移動させる
ことによりウェハを開放する;ことを特徴とする請求項
1記載の方法。 - (4)フレーム(18); 前記フレームに配設され、該フレームから外方へ延びる
長手アーム(30); 前記フレームから離れた位置で前記フレームから垂下す
る第1の顎(34)、前記第1の顎はウェハのエッジの
一部分を係合することができる;前記第1の顎により係
合されたウェハエッジ部分と反対側のウェハエッジ部分
を係合するために、アームの下面に沿って第1の顎に向
かって、および第1の顎から滑動可能に配設された第2
の顎(42);および、 第1の顎と第2の顎の間にウェハを保持するために、第
2の顎を第1の顎に向かって移動させる手段(48); とからなることを特徴とするウェハを開放可能に係合す
る装置。 - (5)前記アーム(30)は係合すべきウェハ(12)
を有するカセット(16)のポケット(14)内に挿入
できる大きさであることを特徴とする請求項4記載の装
置。 - (6)前記フレームは、 第1の端部と第2の端部を有する円筒状工具チャック(
20)、前記第1の端部はロボットにより係合させるの
に必要な大きさであり;そして、アームを調節可能に配
設するための、工具チャックの第2の端部に固着された
プレート(22);を有することを特徴とする請求項4
記載の装置。 - (7)第2の顎を移動させるための前記手段はエアシリ
ンダ(48)からなることを特徴とする請求項4記載の
装置。
Applications Claiming Priority (2)
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JPH0220041A true JPH0220041A (ja) | 1990-01-23 |
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JP1990111168U Pending JPH0371641U (ja) | 1988-05-25 | 1990-10-25 |
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