JPH02198838A - 回路用基板 - Google Patents
回路用基板Info
- Publication number
- JPH02198838A JPH02198838A JP1848889A JP1848889A JPH02198838A JP H02198838 A JPH02198838 A JP H02198838A JP 1848889 A JP1848889 A JP 1848889A JP 1848889 A JP1848889 A JP 1848889A JP H02198838 A JPH02198838 A JP H02198838A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- circuit
- sealing
- insulator layer
- face
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 31
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 239000011888 foil Substances 0.000 claims abstract description 12
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 13
- 238000007789 sealing Methods 0.000 abstract description 11
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 239000010931 gold Substances 0.000 abstract description 7
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 6
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000012528 membrane Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 3
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 abstract description 3
- 229910001369 Brass Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910000906 Bronze Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000010951 brass Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010974 bronze Substances 0.000 abstract description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 abstract description 2
- KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N copper tin Chemical compound [Cu].[Sn] KUNSUQLRTQLHQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000006260 foam Substances 0.000 abstract description 2
- 238000010030 laminating Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 abstract description 2
- 238000000465 moulding Methods 0.000 abstract 1
- -1 polyethylene Polymers 0.000 description 10
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 6
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 6
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 5
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 description 4
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 3
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 3
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 3
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 2
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 2
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 2
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEZAKNMHFDIGLJ-UHFFFAOYSA-N 2-fluorohexa-1,5-diene Chemical group FC(=C)CCC=C ZEZAKNMHFDIGLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 6-phenyl-1,3,5-triazine-2,4-diamine Chemical compound NC1=NC(N)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 GZVHEAJQGPRDLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000008708 Morus alba Nutrition 0.000 description 1
- 240000000249 Morus alba Species 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004952 Polyamide Substances 0.000 description 1
- 239000005062 Polybutadiene Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001807 Urea-formaldehyde Polymers 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001252 acrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001893 acrylonitrile styrene Polymers 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005538 encapsulation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 125000002573 ethenylidene group Chemical group [*]=C=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 210000004907 gland Anatomy 0.000 description 1
- PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N hexa-1,5-diene Chemical group C=CCCC=C PYGSKMBEVAICCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008595 infiltration Effects 0.000 description 1
- 238000001764 infiltration Methods 0.000 description 1
- 238000003475 lamination Methods 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920006287 phenoxy resin Polymers 0.000 description 1
- 239000013034 phenoxy resin Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002647 polyamide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920002857 polybutadiene Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 1
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N prop-2-enenitrile;styrene Chemical compound C=CC#N.C=CC1=CC=CC=C1 SCUZVMOVTVSBLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012779 reinforcing material Substances 0.000 description 1
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 1
- 239000012173 sealing wax Substances 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000002893 slag Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
- 239000011800 void material Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、衛星放送のマイクa吸受信用平面アンテナを
製造する時等忙使用される高周波領域での使用好適な回
路用基板に関する。
製造する時等忙使用される高周波領域での使用好適な回
路用基板に関する。
最近の電子工業、通信工業の各分野におりて使用される
周波数は次第に高周波領域へ移行し、従来多用されたキ
ーヘルツの領域からメガヘルツやギガヘルツの領域の方
にxl!性が移行している。
周波数は次第に高周波領域へ移行し、従来多用されたキ
ーヘルツの領域からメガヘルツやギガヘルツの領域の方
にxl!性が移行している。
これらの高周波領域では伝送のエネルギ損失が大きくな
りやすいので比誘電率や誘電正接のより小さな材料が望
まれてきた。
りやすいので比誘電率や誘電正接のより小さな材料が望
まれてきた。
そのため基板の絶縁層にをエポリテトラ2ルオロエチレ
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポ
リイソブチレン、ポリメチルペンテン−1等のような比
誘電率、誘電正接の低い材料を用い、ガラス繊維や紙な
どの補強材は比誘電率や誘電正接が高いため出来るだけ
少なくするかあるいは使用しないで対処されている。
ン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポ
リイソブチレン、ポリメチルペンテン−1等のような比
誘電率、誘電正接の低い材料を用い、ガラス繊維や紙な
どの補強材は比誘電率や誘電正接が高いため出来るだけ
少なくするかあるいは使用しないで対処されている。
また微小中空球を絶縁層に混入する方法(%囲昭60−
167394号公@)、1杓に合成樹脂を含浸し加熱加
圧する積層板の1羽であるガラス繊維に石英ガラス線維
を混合させる方法(%開開59−109347号会報)
が提案されている。
167394号公@)、1杓に合成樹脂を含浸し加熱加
圧する積層板の1羽であるガラス繊維に石英ガラス線維
を混合させる方法(%開開59−109347号会報)
が提案されている。
しかしながら、誘電率、誘電正接の小さいポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリエチレン等の基板を用いたものは
製造工程が複雑となるはかりでなく、用いても伝送損失
を低下することに限界カーあり満足できる基板を得てい
ない。
ルオロエチレン、ポリエチレン等の基板を用いたものは
製造工程が複雑となるはかりでなく、用いても伝送損失
を低下することに限界カーあり満足できる基板を得てい
ない。
また微小中空球を絶縁層に混入する方法は工程が多く、
絶縁層中で微小中空球が均一に分触しないとその回路用
基板上で誘t%性の偏りを生じる。
絶縁層中で微小中空球が均一に分触しないとその回路用
基板上で誘t%性の偏りを生じる。
fた微小中空球と絶縁層との接着が悪いと水が侵入し比
誘電率や誘電正接が高くなる。さらに微小中全球にはそ
の材質罠比籾電皐や誘電圧切の比戟的高いものを用いて
いる揚台が多いので混入m’r多くしてもそれはど比誘
電率や誘電圧切が低下しない。
誘電率や誘電正接が高くなる。さらに微小中全球にはそ
の材質罠比籾電皐や誘電圧切の比戟的高いものを用いて
いる揚台が多いので混入m’r多くしてもそれはど比誘
電率や誘電圧切が低下しない。
更忙、基材であるガラス繊維に石英ガラスを使用した積
層板は高価である上に、比誘電率や誘電正接の低下に限
界がある。
層板は高価である上に、比誘電率や誘電正接の低下に限
界がある。
本発明は、比誘電率、誘電正接が低く、基板表面から中
部への水分の侵入がなく、基板の全体にわたって均一な
誘電特性を有する回路用基板を提供することを目的とす
る。
部への水分の侵入がなく、基板の全体にわたって均一な
誘電特性を有する回路用基板を提供することを目的とす
る。
〔課題を解決するための手段〕
本発明は、多孔債な絶縁体層の少なくとも片面に水分不
透過性Pst介して金II4箔里た信金属板を積層し、
かつ板周囲の1面を樹脂で封止して成る回路用基板であ
る。
透過性Pst介して金II4箔里た信金属板を積層し、
かつ板周囲の1面を樹脂で封止して成る回路用基板であ
る。
第1囚は本発明の*mカを示す、多孔質絶縁体層1の両
面に水分不透過性Ji@12を介して金II4冷6全張
り、端部を封止用樹脂4で封止する。
面に水分不透過性Ji@12を介して金II4冷6全張
り、端部を封止用樹脂4で封止する。
水分不透過性1mを絶縁体層の最外層に設けることによ
つて、回路加工時の各at桑液が絶縁体層内部に侵入す
ることを防ぐ。この膜として、プラスチックフィルム、
接着剤を利用する。
つて、回路加工時の各at桑液が絶縁体層内部に侵入す
ることを防ぐ。この膜として、プラスチックフィルム、
接着剤を利用する。
絶縁体層は、樹脂発泡体あるいは樹脂粒子′を接着また
は融着すると同時に8子光填の空隙を残すように成形す
る。用いる樹脂は、熱可塑性及び熱硬化性樹脂の何れも
可能である。この方法によつて、回路加工時に薬液が1
面から侵入することがない。
は融着すると同時に8子光填の空隙を残すように成形す
る。用いる樹脂は、熱可塑性及び熱硬化性樹脂の何れも
可能である。この方法によつて、回路加工時に薬液が1
面から侵入することがない。
上記に用いる熱可塑性樹脂を例示すると、ポリエチレン
、ポリエチレン、ホ17−1−フテン、ホ13−4−メ
チル−1−ペンテン、エチレン−プロピレン共重合体、
エチレン−1−ブテン共X曾L プロピレン−1−ブテ
ン共Jk酋体、エチレン酢酸ビニル共重合体のようなポ
リオレフィン糸樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、テ
トラフルオロエチレン−へキサフルオロエチレン共重合
体、テトラフルオロエチレン−パー2ルオロアルコ中ジ
エチレン共重合体、トリフルオCI / CIルエテレ
ン−テトラフルオロエチレン共N酋体、フッ化ビニリデ
ン−7ツ化ビニル共重合体等のフッ素糸樹脂、ポリスチ
レン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリa
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート等の各梅アクリレ
ート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリイゼド、ポリアミド、ボリアずドイゼド、ポリ2工
二レンサル2アイド、ポリエーテルチルホン、ポリサル
ホン、ボリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリアエニレンオキサイド、ポリエステルアイド、ポリ
エステルイゼド、ポリイソブチレン、ポリオ中シベンジ
レン、ポリブテレンテレアタレート、ポリブタジェン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリブン等
?:便用する。
、ポリエチレン、ホ17−1−フテン、ホ13−4−メ
チル−1−ペンテン、エチレン−プロピレン共重合体、
エチレン−1−ブテン共X曾L プロピレン−1−ブテ
ン共Jk酋体、エチレン酢酸ビニル共重合体のようなポ
リオレフィン糸樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、テ
トラフルオロエチレン−へキサフルオロエチレン共重合
体、テトラフルオロエチレン−パー2ルオロアルコ中ジ
エチレン共重合体、トリフルオCI / CIルエテレ
ン−テトラフルオロエチレン共N酋体、フッ化ビニリデ
ン−7ツ化ビニル共重合体等のフッ素糸樹脂、ポリスチ
レン、アクリロニトリル−スチレン共重合体、アクリa
ニトリル−ブタジェン−スチレン共重合体、ポリカーボ
ネート、ポリメチルメタアクリレート等の各梅アクリレ
ート、ポリビニルブチラール、ポリビニルホルマール、
ポリイゼド、ポリアミド、ボリアずドイゼド、ポリ2工
二レンサル2アイド、ポリエーテルチルホン、ポリサル
ホン、ボリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、
ポリアエニレンオキサイド、ポリエステルアイド、ポリ
エステルイゼド、ポリイソブチレン、ポリオ中シベンジ
レン、ポリブテレンテレアタレート、ポリブタジェン、
ポリエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリブン等
?:便用する。
熱硬化性樹脂としては、尿素樹脂、メラずン樹脂、ベン
ゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、エポキン樹脂、シ
リコーン樹脂、ホルマリン樹脂、午シレン樹脂、2ラン
樹脂、ジアリル2タレート樹脂、ポリイソシアネート樹
脂、フェノキシ樹脂等を使用することができろ。
ゾグアナミン樹脂、フェノール樹脂、エポキン樹脂、シ
リコーン樹脂、ホルマリン樹脂、午シレン樹脂、2ラン
樹脂、ジアリル2タレート樹脂、ポリイソシアネート樹
脂、フェノキシ樹脂等を使用することができろ。
金属箔または金属板・工、銅、白鍋、青銅、黄銅、アル
ξニウム、ニッケル、鉄、ステンレス鋼、金、釧、白金
等の陥または板を使用し得る。金属箔としては、−IR
1’cは印刷回路用のfI4箔が好ましく、特に高純度
の無#素鋼陥は高周波の伝送損失が少ないので好ましい
。金属板は、接地導体としての役割及び基板の反りを防
止する。fた、金属板に取付は用治具を設けると基板を
枠組に取付は易(なる。金属板としては、アルξニウム
、鉄、ステンレス鋼が好適であり、高周波電力の伝送損
失を少なくするためにその表1flK鋼めっき、銀めっ
き、金めつきを施すことも良−0 このようにIN成した回路用基板を回路加工するに先だ
って、裁板肩部の回路として用いない部分を固化、硬化
可能な液状樹脂を用いて封止する(以下この部分を封止
部という)。封止の方法は、同形同大の回路用基板を数
枚重ね、その端部t/(ット状容器に入れた樹脂液に浸
漬し、あるいは樹脂液を造布し固化し、硬化する。使用
する樹脂液の粘度及び表面張力は端部の気孔の大きさに
応じて選択する。選択が不適当であると、4!1脂液が
絶縁体層内IIK深く浸入し、回路加工終了後も残って
電気時性に悪影*1及ぼす可能性がある。
ξニウム、ニッケル、鉄、ステンレス鋼、金、釧、白金
等の陥または板を使用し得る。金属箔としては、−IR
1’cは印刷回路用のfI4箔が好ましく、特に高純度
の無#素鋼陥は高周波の伝送損失が少ないので好ましい
。金属板は、接地導体としての役割及び基板の反りを防
止する。fた、金属板に取付は用治具を設けると基板を
枠組に取付は易(なる。金属板としては、アルξニウム
、鉄、ステンレス鋼が好適であり、高周波電力の伝送損
失を少なくするためにその表1flK鋼めっき、銀めっ
き、金めつきを施すことも良−0 このようにIN成した回路用基板を回路加工するに先だ
って、裁板肩部の回路として用いない部分を固化、硬化
可能な液状樹脂を用いて封止する(以下この部分を封止
部という)。封止の方法は、同形同大の回路用基板を数
枚重ね、その端部t/(ット状容器に入れた樹脂液に浸
漬し、あるいは樹脂液を造布し固化し、硬化する。使用
する樹脂液の粘度及び表面張力は端部の気孔の大きさに
応じて選択する。選択が不適当であると、4!1脂液が
絶縁体層内IIK深く浸入し、回路加工終了後も残って
電気時性に悪影*1及ぼす可能性がある。
この刺止用樹脂液を工、できるだけ室温で速動化、速硬
化性のものが好ましい。完全硬化しなくても、密着し質
密性を僚ち基板端Sを完全に封止することができれば、
粘着しない程度であれは良い。ポリオレアイン系ワック
スは好適な働である。
化性のものが好ましい。完全硬化しなくても、密着し質
密性を僚ち基板端Sを完全に封止することができれば、
粘着しない程度であれは良い。ポリオレアイン系ワック
スは好適な働である。
以上述べた処理り彼、回路加工(スクリーン印刷、感光
性フィルムラミネート、露光、現像、エツチング、剥離
など)を行う。
性フィルムラミネート、露光、現像、エツチング、剥離
など)を行う。
本発明のP#体層・1多孔質である力為ら、回路加工の
時罠エツチング液、感光フィルムの机像液やばくり液、
洗浄水などが?縁体層内に侵入(7、回路加工後もその
全部または溶質のみが残留して特性劣化をおこす。した
がって、水分不透過性課の効果は大きめ。
時罠エツチング液、感光フィルムの机像液やばくり液、
洗浄水などが?縁体層内に侵入(7、回路加工後もその
全部または溶質のみが残留して特性劣化をおこす。した
がって、水分不透過性課の効果は大きめ。
fた、回路加工時の楽液は基板の端面からも―透し易い
。従来から粘着テープ等の防止対策を工あるが、極めて
不十分である。これに反して、本発明の樹脂封止は非常
圧能率的かつ有効である。
。従来から粘着テープ等の防止対策を工あるが、極めて
不十分である。これに反して、本発明の樹脂封止は非常
圧能率的かつ有効である。
1、 回路用基板の両面を淳さ35μmの鋼箔とし、絶
縁体層の両面鋼箔と接する両側外層に厚さ60μmのポ
リエチレンフィルムを配し、残部をポリエチレン粉末を
@曾した層とした。この回路用基板は、回路加工の際に
鋼箔を除去した跡の溶液や溶媒の侵入はおきないが、湖
面からを工侵入し易い。
縁体層の両面鋼箔と接する両側外層に厚さ60μmのポ
リエチレンフィルムを配し、残部をポリエチレン粉末を
@曾した層とした。この回路用基板は、回路加工の際に
鋼箔を除去した跡の溶液や溶媒の侵入はおきないが、湖
面からを工侵入し易い。
この回路基板の4辺端部奢、深さ約5IIIlにポリオ
レアイン系ワックス金満たしたバット中に!潰して風乾
し、固化させた。出来上がった回路基板の大きさは、冥
際に回路として使用する部分の周辺部saml!を封止
ワックスによる封止部とした。
レアイン系ワックス金満たしたバット中に!潰して風乾
し、固化させた。出来上がった回路基板の大きさは、冥
際に回路として使用する部分の周辺部saml!を封止
ワックスによる封止部とした。
板厚は21!−であった。
2、実施例1と同じ条件で回路用基板を作りだ。
4辺端部は、101III1幅のマイラーテープ(ポリ
エステルフィルム粘着テープ、日東電工社i)を侵り付
けて刺止した。
エステルフィルム粘着テープ、日東電工社i)を侵り付
けて刺止した。
実施例1と同じ条件で回路用基板を作った。4辺端部’
X% I Qag幅のマイラーテープ(ポリエステルフ
ィルム粘着テープ、日東電工社製)を張り付けて封止し
た。
X% I Qag幅のマイラーテープ(ポリエステルフ
ィルム粘着テープ、日東電工社製)を張り付けて封止し
た。
以上の実施例1,2及び比較例で得た回路基板を、回路
加工における諸条件に相当すると考えられる次の試験を
行った。すなわち、水(20℃)→トリクロルエタン→
(19℃)→水(20℃)→塩化第二調水溶液(40℃
)→水(20℃)→塩化メチレン(15℃)−+水(2
0℃)に5分間ずつ順次浸漬して各液の一路用基板内部
への侵入の有無′を請べた。その結果、実施例1,2で
は液の侵入を認めず、比較例では最初の水の侵入を工な
かつたが、他の液の侵入を認めた。
加工における諸条件に相当すると考えられる次の試験を
行った。すなわち、水(20℃)→トリクロルエタン→
(19℃)→水(20℃)→塩化第二調水溶液(40℃
)→水(20℃)→塩化メチレン(15℃)−+水(2
0℃)に5分間ずつ順次浸漬して各液の一路用基板内部
への侵入の有無′を請べた。その結果、実施例1,2で
は液の侵入を認めず、比較例では最初の水の侵入を工な
かつたが、他の液の侵入を認めた。
本発明の回路用基板は、端部や穴あけ都の内壁からの溶
液や溶媒の侵入を気にすることなく、従来の回路用基板
と同様の方法で一路加工をすることができる。
液や溶媒の侵入を気にすることなく、従来の回路用基板
と同様の方法で一路加工をすることができる。
また、98際に回路用基板を使用する際、端部を封止す
ることによって吸湿による特性劣化1最少限に抑えるこ
とができる。
ることによって吸湿による特性劣化1最少限に抑えるこ
とができる。
筐た、必要ならば回路加工終了後に本発明の封止部の−
Sまたは全部を取り除いて使用することもできる。
Sまたは全部を取り除いて使用することもできる。
第1図は本発明の実施例である回路用基板の断面図を示
す。 1・・・・・・絶縁体層、2・・・・・・水分不透過性
腺、3・・・・・・金lF4陥、 4・・・・・・封止
用樹脂。
す。 1・・・・・・絶縁体層、2・・・・・・水分不透過性
腺、3・・・・・・金lF4陥、 4・・・・・・封止
用樹脂。
Claims (1)
- 1.多孔質な絶縁体層の少なくとも片面に水分不透過性
膜を介して金属箔または金属板を積層し、かつ板周囲の
端面を樹脂で封止して成る街回路用基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1848889A JPH02198838A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 回路用基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1848889A JPH02198838A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 回路用基板 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH02198838A true JPH02198838A (ja) | 1990-08-07 |
Family
ID=11973023
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1848889A Pending JPH02198838A (ja) | 1989-01-27 | 1989-01-27 | 回路用基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH02198838A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0642412A1 (en) * | 1992-05-29 | 1995-03-15 | M-Rad Electromagnetic Technology Ltd. | Printed circuit substrates |
EP1410906A1 (en) * | 2002-10-17 | 2004-04-21 | Arlon | Laminate structures, methods for production thereof and uses thereof |
-
1989
- 1989-01-27 JP JP1848889A patent/JPH02198838A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0642412A1 (en) * | 1992-05-29 | 1995-03-15 | M-Rad Electromagnetic Technology Ltd. | Printed circuit substrates |
EP0642412A4 (en) * | 1992-05-29 | 1995-06-21 | M Rad Electromagnetic Technolo | SUBSTRATE FOR PRINTED CIRCUIT. |
EP1410906A1 (en) * | 2002-10-17 | 2004-04-21 | Arlon | Laminate structures, methods for production thereof and uses thereof |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US4916017A (en) | Sheet material | |
US3972755A (en) | Dielectric circuit board bonding | |
EP0257657B1 (en) | Substrate for high-frequency circuit and process for making the same | |
TWI292290B (ja) | ||
JPH02198838A (ja) | 回路用基板 | |
US5789279A (en) | Method and apparatus for electrically insulating heat sinks in electronic power devices | |
CN110519917B (zh) | 一种通孔的制造方法 | |
US20110229709A1 (en) | Circuit laminates, and method of manufacture thereof | |
JP4433531B2 (ja) | 導電性バンプを備えたプリント基板の製造方法 | |
US3862875A (en) | Filler masking of small apertures | |
JPH0746751B2 (ja) | 回路用基板の加工方法 | |
JPS6358986A (ja) | 平面アンテナ用基板 | |
JPH11307904A (ja) | 成形回路部品およびその製造方法 | |
GB2216435A (en) | Prepreg sheet | |
JPH02151496A (ja) | 集積回路装置の製造方法 | |
JPH0337986A (ja) | コネクタ用ハウジングブロックの製造方法 | |
CN220290480U (zh) | 复合导电膜 | |
CN109246925B (zh) | 软硬板的制作方法 | |
JPH06232517A (ja) | 電気回路基板用誘電体シートの製造方法およびそれを用いた電気回路基板の製造方法 | |
JPH02187334A (ja) | 高周波回路用基板 | |
JPH0685410A (ja) | 高周波回路基板用シート及び高周波回路用基板 | |
JPH0685413A (ja) | 高周波回路用積層板 | |
JPH01300585A (ja) | 高周波回路用基板 | |
JPH0756910B2 (ja) | スルーホール付配線板の製造方法 | |
CN117998744A (zh) | 印刷电路板塞孔的制作方法 |