JPH02198016A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH02198016A JPH02198016A JP1901689A JP1901689A JPH02198016A JP H02198016 A JPH02198016 A JP H02198016A JP 1901689 A JP1901689 A JP 1901689A JP 1901689 A JP1901689 A JP 1901689A JP H02198016 A JPH02198016 A JP H02198016A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- electrode
- soft
- current shunt
- head
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims abstract description 24
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 5
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 238000003486 chemical etching Methods 0.000 abstract description 2
- 238000000992 sputter etching Methods 0.000 abstract description 2
- 229910001030 Iron–nickel alloy Inorganic materials 0.000 abstract 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 230000002159 abnormal effect Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003302 ferromagnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 1
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置や磁気テープ装置やフロッピ
ィディスク装置等に用いる磁気抵抗効果素子を用いた磁
気ヘッドに関する。
ィディスク装置等に用いる磁気抵抗効果素子を用いた磁
気ヘッドに関する。
磁気ディスク装置や磁気テープ装置やフロッピィディス
ク装置に用いる磁気抵抗効果素子を用いた従来の磁気抵
抗効果ヘッド（以下ＭＲヘッドと云う）は、強磁性体の
異常磁気抵抗効果、すなわち磁化の向きと電流の方向と
のなす角度によって抵抗値が変化する性質を利用した磁
気ヘッドである。ＭＲヘッドは、再生専用の磁気ヘッド
であるが、再生出力が磁気ヘッドと磁気記録媒体との間
の相対速度に依存せず、また極めて高感度であることか
ら、磁気記録装置の小型化や高密度化に対して有効な手
段である。
ク装置に用いる磁気抵抗効果素子を用いた従来の磁気抵
抗効果ヘッド（以下ＭＲヘッドと云う）は、強磁性体の
異常磁気抵抗効果、すなわち磁化の向きと電流の方向と
のなす角度によって抵抗値が変化する性質を利用した磁
気ヘッドである。ＭＲヘッドは、再生専用の磁気ヘッド
であるが、再生出力が磁気ヘッドと磁気記録媒体との間
の相対速度に依存せず、また極めて高感度であることか
ら、磁気記録装置の小型化や高密度化に対して有効な手
段である。
上述したようなＭＲヘッドにおいては、磁気抵抗効果を
有するＮＩ Ｆ、やＣ６Ｎ１等の強磁性膜を矩形状に形
成した磁気抵抗効果素子（以下ＭＲ素子と云う）の両端
にＣｕやＡＩなどの良導電体膜からなる電極を接続して
いる。電極として用いる良導電体膜は、磁気ヘッドを構
成する他の材料と比較して極めて軟かい、従って、電極
が記憶媒体（媒体）との対抗面に露出していると、電極
の損傷や変形が生じやすいため、短絡や断線の原因とな
る。
有するＮＩ Ｆ、やＣ６Ｎ１等の強磁性膜を矩形状に形
成した磁気抵抗効果素子（以下ＭＲ素子と云う）の両端
にＣｕやＡＩなどの良導電体膜からなる電極を接続して
いる。電極として用いる良導電体膜は、磁気ヘッドを構
成する他の材料と比較して極めて軟かい、従って、電極
が記憶媒体（媒体）との対抗面に露出していると、電極
の損傷や変形が生じやすいため、短絡や断線の原因とな
る。
第２図は、このような従来のＭＲヘッドの例の媒体対向
面の近傍の形状を示す断面図である。第２図において、
ＭＲ素子１１および２１および３１の両端に接続された
電極１２および２２および３２は、媒体対向面１３およ
び２３および３３に対して露出する面積を極力少くする
ため、ＭＲ素子１１および１２および３１から離れるほ
ど媒体対向面から後退するように配設されている。
面の近傍の形状を示す断面図である。第２図において、
ＭＲ素子１１および２１および３１の両端に接続された
電極１２および２２および３２は、媒体対向面１３およ
び２３および３３に対して露出する面積を極力少くする
ため、ＭＲ素子１１および１２および３１から離れるほ
ど媒体対向面から後退するように配設されている。
第２図（ａ）は媒体対向面１３の加工が理想的に行なわ
れた例であり、電極１２は、ＭＲ素子１１との接続点に
おいてのみ、その一端が媒体対向面１３に接している。
れた例であり、電極１２は、ＭＲ素子１１との接続点に
おいてのみ、その一端が媒体対向面１３に接している。
このような形状においては、電極１２が媒体対向面１３
に対して殆ど露出していないため、信頼性の高いＭＲヘ
ッドを得ることができる。
に対して殆ど露出していないため、信頼性の高いＭＲヘ
ッドを得ることができる。
第２図（ｂ）は媒体対向面の加工が深く行なわれた例で
あり、ＭＲ素子２１の両端で電極２２が媒体対向面に大
きく露出している。このような形状においては、上述の
ように、電極２２の損傷や変形が生じやすいために信頼
性が低下する。
あり、ＭＲ素子２１の両端で電極２２が媒体対向面に大
きく露出している。このような形状においては、上述の
ように、電極２２の損傷や変形が生じやすいために信頼
性が低下する。
第２図（ｃ）は媒体対向面３３の加工が浅く行なわれた
例であり、ＭＲ素子３１が媒体対向面３３に対して全く
露出していない。この場合は、電極３２は、媒体対向面
３３に対して露出しないが、ＭＲ素子３１ち磁気記録媒
体との間隔（スペーシング）が大きくなり、ＭＲヘッド
の再生出力が減少し、また分解能も低下する。
例であり、ＭＲ素子３１が媒体対向面３３に対して全く
露出していない。この場合は、電極３２は、媒体対向面
３３に対して露出しないが、ＭＲ素子３１ち磁気記録媒
体との間隔（スペーシング）が大きくなり、ＭＲヘッド
の再生出力が減少し、また分解能も低下する。
上述のように、従来のＭＲヘッドにおいては、信頼性が
高くしかも再生出力の減少が少ない形状を得るための媒
体対向面の加工マージンが極めて狭く、このため量産性
に劣っている。また、量産性を上げるためには、電極が
媒体対向面に対して露出するような構成を採用せざるを
得ないため、信頼性が大幅に低くなっている。
高くしかも再生出力の減少が少ない形状を得るための媒
体対向面の加工マージンが極めて狭く、このため量産性
に劣っている。また、量産性を上げるためには、電極が
媒体対向面に対して露出するような構成を採用せざるを
得ないため、信頼性が大幅に低くなっている。
本発明の目的は、このような従来のＭＲヘッドの欠点を
除去し、信頼性が高く、しかも量産性にも優れたＭＲヘ
ッドを提供することにある。
除去し、信頼性が高く、しかも量産性にも優れたＭＲヘ
ッドを提供することにある。
本発明は磁気ヘッドは、セラミック基板上に絶縁層を介
して磁気抵抗効果膜を形成し、前記磁気抵抗効果膜上に
電流シャントを形成し、前記電流シャント膜の上にソフ
トフィルムと電極とを形成し、磁気抵抗素子となる部分
の前記電極を除去したものである。
して磁気抵抗効果膜を形成し、前記磁気抵抗効果膜上に
電流シャントを形成し、前記電流シャント膜の上にソフ
トフィルムと電極とを形成し、磁気抵抗素子となる部分
の前記電極を除去したものである。
次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
。
。
第１図は本発明の一実施例を示す斜視図である。第１図
において、４はＭＲ膜、５は電流シャント膜、６はソフ
トフィルム、７は媒体対向面の加工限界線である０ＭＲ
素子１は、ＭＲ膜４と電流シャント膜４とソフトフィル
ム６との３層の構造を有しており、電極２は、ＭＲ素子
１との境界において、媒体対向面３から後退した位置に
配設されている。すなわち、媒体対向面の加工のとき、
ＭＲ素子１が露出してから加工限界線７までの間は、電
Ｖｉ！２は露出してない。従って、ＭＲ素子１のみを媒
体に対して露出させ、電極２を露出させないための加工
上のマージンを大きくとることができ、信頼性が高く量
産性の優れたＭＲヘッドを得ることができる。
において、４はＭＲ膜、５は電流シャント膜、６はソフ
トフィルム、７は媒体対向面の加工限界線である０ＭＲ
素子１は、ＭＲ膜４と電流シャント膜４とソフトフィル
ム６との３層の構造を有しており、電極２は、ＭＲ素子
１との境界において、媒体対向面３から後退した位置に
配設されている。すなわち、媒体対向面の加工のとき、
ＭＲ素子１が露出してから加工限界線７までの間は、電
Ｖｉ！２は露出してない。従って、ＭＲ素子１のみを媒
体に対して露出させ、電極２を露出させないための加工
上のマージンを大きくとることができ、信頼性が高く量
産性の優れたＭＲヘッドを得ることができる。
本実施例においては、電極２からＭＲ素子に供給するセ
ンス電流は、ＭＲ素子１全体に広がって流れる。また、
ＭＲ素子１のみが媒体に対して露出しているため、磁気
記録媒体との間隔が増加することがなく、従って再生出
力や分解能の低下は生じない。このため再生能力の高い
ＭＲヘッドを得ることがきる。
ンス電流は、ＭＲ素子１全体に広がって流れる。また、
ＭＲ素子１のみが媒体に対して露出しているため、磁気
記録媒体との間隔が増加することがなく、従って再生出
力や分解能の低下は生じない。このため再生能力の高い
ＭＲヘッドを得ることがきる。
次に第１図の実施例の製造方法について説明する。
まず、セラミック基板８上に絶縁層を介してＮ、Ｆ、か
らなるＭＲ膜４を形成し、次にＴＩからなる電流シャン
ト膜５を形成し、次にＣ０Ｚ、Ｍ、アモルファス膜から
なるソフトフィルム６およびＡ、Ｃ０合金からなる電極
２を順次成膜する。成膜方法として、スパッタリング法
および真空蒸着法およびイオンビーム成膜法などを用い
ることができる。次に、イオンミリング法を用いて、Ｍ
Ｒ膜４と電流シャント膜５とソフトフィルムロおよび電
極２とを一括して加工する。次に、化学エツチング法を
用いてＭＲ素子１となる部分の電極２を除去する。
らなるＭＲ膜４を形成し、次にＴＩからなる電流シャン
ト膜５を形成し、次にＣ０Ｚ、Ｍ、アモルファス膜から
なるソフトフィルム６およびＡ、Ｃ０合金からなる電極
２を順次成膜する。成膜方法として、スパッタリング法
および真空蒸着法およびイオンビーム成膜法などを用い
ることができる。次に、イオンミリング法を用いて、Ｍ
Ｒ膜４と電流シャント膜５とソフトフィルムロおよび電
極２とを一括して加工する。次に、化学エツチング法を
用いてＭＲ素子１となる部分の電極２を除去する。
以上のように形成したＭＲ素子１は、電極２から供給さ
れて、ＭＲ素子１の中を流れるセンス電流によってソフ
トフィルム６が磁化され、ソフトフィルム６の発生する
磁界がＭＲ膜４のバイアス磁界となり、ＭＲ膜４にバイ
アスが与えられる。
れて、ＭＲ素子１の中を流れるセンス電流によってソフ
トフィルム６が磁化され、ソフトフィルム６の発生する
磁界がＭＲ膜４のバイアス磁界となり、ＭＲ膜４にバイ
アスが与えられる。
このバイアスにより、ＭＲ素子１からなる直線性の良い
応答が得られる。
応答が得られる。
なお、第１図の実施例においては、ＭＲ膜４としてＮＩ
Ｆ、を、電流シャフト膜５としてＴ。
Ｆ、を、電流シャフト膜５としてＴ。
を、ソフトフィルム６としてＣｏＺｒＭ０アモルファス
膜を用いたが、ＭＲＭとしてＮｔＣ’、を、電流シャフ
ト膜５としてＴ、またはＷまたはＣを、ソフトフィルム
としてＣ９ＺｒＮｂ等のＣ６系アモルファス膜を用いる
ことができる。またバイアス法として、バーバーポール
バイアス法や永久磁石バイアス法等の他の手段を用いる
こともできる。さらに、ＭＲ素子１の上下に絶縁膜を介
して磁気シールドを配設したシールド系ＭＲヘッドとす
ることもできる。
膜を用いたが、ＭＲＭとしてＮｔＣ’、を、電流シャフ
ト膜５としてＴ、またはＷまたはＣを、ソフトフィルム
としてＣ９ＺｒＮｂ等のＣ６系アモルファス膜を用いる
ことができる。またバイアス法として、バーバーポール
バイアス法や永久磁石バイアス法等の他の手段を用いる
こともできる。さらに、ＭＲ素子１の上下に絶縁膜を介
して磁気シールドを配設したシールド系ＭＲヘッドとす
ることもできる。
以上説明したように、本発明の磁気ヘッドは、電極を媒
体対向面から後退させ、ＭＲ素子のみを媒体対向面に露
出させることにより、信頼性が高くしかも再生能力に優
れかつ量産性のよいＭＲヘッドを得ることができるとい
う効果がある。
体対向面から後退させ、ＭＲ素子のみを媒体対向面に露
出させることにより、信頼性が高くしかも再生能力に優
れかつ量産性のよいＭＲヘッドを得ることができるとい
う効果がある。
第１図は、本発明の一実施例を示す斜視図、第２図は従
来のＭＲヘッドの例を示す断面図である。 １・１１・２１・３１・・・・・・ＭＲ素子、２・１２
・２２・３２・・・・・・電極、３・１３・２３・３３
・・・・・・媒体対向面、４・・・・・・ＭＲ膜、５・
・・・・・電流シャント膜、６・・・・・・ソフトフィ
ルム、７・・・・・・加工限界線、８・・・・・・セラ
ミック基板。
来のＭＲヘッドの例を示す断面図である。 １・１１・２１・３１・・・・・・ＭＲ素子、２・１２
・２２・３２・・・・・・電極、３・１３・２３・３３
・・・・・・媒体対向面、４・・・・・・ＭＲ膜、５・
・・・・・電流シャント膜、６・・・・・・ソフトフィ
ルム、７・・・・・・加工限界線、８・・・・・・セラ
ミック基板。
Claims (1)
- セラミック基板上に絶縁層を介して磁気抵抗効果膜を形
成し、前記磁気抵抗効果膜上に電流シャントを形成し、
前記電流シャント膜の上にソフトフィルムと電極とを形
成し、磁気抵抗素子となる部分の前記電極を除去したこ
とを特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1019016A JP2702210B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1019016A JP2702210B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02198016A true JPH02198016A (ja) | 1990-08-06 |
| JP2702210B2 JP2702210B2 (ja) | 1998-01-21 |
Family
ID=11987691
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1019016A Expired - Fee Related JP2702210B2 (ja) | 1989-01-26 | 1989-01-26 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2702210B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03244170A (ja) * | 1990-02-22 | 1991-10-30 | Nec Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気抵抗効果ヘッド |
| JPH04252088A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-08 | Nec Corp | 磁気抵抗素子 |
| JPH04284443A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ヘッド |
| WO1992020637A1 (en) * | 1991-05-23 | 1992-11-26 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Ceramic board having glaze, manufacturing method therefor, and electronic device using the ceramic board |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5945629A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-14 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS61296522A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-27 | Nec Corp | 磁気抵抗効果ヘツド |
-
1989
- 1989-01-26 JP JP1019016A patent/JP2702210B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5945629A (ja) * | 1982-09-07 | 1984-03-14 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS61296522A (ja) * | 1985-06-24 | 1986-12-27 | Nec Corp | 磁気抵抗効果ヘツド |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03244170A (ja) * | 1990-02-22 | 1991-10-30 | Nec Corp | 磁気抵抗効果素子及び磁気抵抗効果ヘッド |
| JPH04252088A (ja) * | 1991-01-28 | 1992-09-08 | Nec Corp | 磁気抵抗素子 |
| JPH04284443A (ja) * | 1991-03-14 | 1992-10-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気ヘッド |
| WO1992020637A1 (en) * | 1991-05-23 | 1992-11-26 | Asahi Kasei Kogyo Kabushiki Kaisha | Ceramic board having glaze, manufacturing method therefor, and electronic device using the ceramic board |
| GB2273292A (en) * | 1991-05-23 | 1994-06-15 | Asahi Chemical Ind | Ceramic board having glaze,manufacture method therefor,and electronic device using the ceramic board |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2702210B2 (ja) | 1998-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6112402A (en) | Method for manufacturing magnetoresistive sensor | |
| US4195323A (en) | Thin film magnetic recording heads | |
| JP2694806B2 (ja) | 磁気抵抗効果素子およびその製造方法 | |
| EP0269129B1 (en) | Thin film magnetic head | |
| US4321641A (en) | Thin film magnetic recording heads | |
| US4489484A (en) | Method of making thin film magnetic recording heads | |
| US4623867A (en) | Permanent magnet biased narrow track magnetoresistive transducer | |
| US5761010A (en) | Magnetoresistive head, manufacturing method of the head and magnetic recording/reproducing drive | |
| JP2001155313A (ja) | 薄膜磁気ヘッド及びその製造方法 | |
| US6424508B1 (en) | Magnetic tunnel junction magnetoresistive head | |
| JPH02198016A (ja) | 磁気ヘッド | |
| JPH0589435A (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘツド | |
| JPH06349031A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JP2718242B2 (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| JPS58100216A (ja) | 磁気抵抗効果ヘツド | |
| JPH0375926B2 (ja) | ||
| JPS61253620A (ja) | 磁気抵抗効果ヘツド | |
| JPH09115112A (ja) | 磁気抵抗効果素子およびその製造方法ならびに磁気ヘッド | |
| JPH0227383Y2 (ja) | ||
| JPH08249617A (ja) | スピンバルブ磁気抵抗効果素子 | |
| JP2780483B2 (ja) | 磁気抵抗効果型磁気ヘッド | |
| JPH04123307A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド | |
| JPH0444323B2 (ja) | ||
| JPH0375928B2 (ja) | ||
| JPH0863716A (ja) | 磁気抵抗効果型ヘッド |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071003 Year of fee payment: 10 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081003 Year of fee payment: 11 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |