JPH02196758A - N―置換―1,5―ジデオキシ―1,5―イミノ―l―フシトール誘導体の合成法 - Google Patents
N―置換―1,5―ジデオキシ―1,5―イミノ―l―フシトール誘導体の合成法Info
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D491/00—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00
- C07D491/02—Heterocyclic compounds containing in the condensed ring system both one or more rings having oxygen atoms as the only ring hetero atoms and one or more rings having nitrogen atoms as the only ring hetero atoms, not provided for by groups C07D451/00 - C07D459/00, C07D463/00, C07D477/00 or C07D489/00 in which the condensed system contains two hetero rings
- C07D491/04—Ortho-condensed systems
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
- C07D211/00—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings
- C07D211/04—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
- C07D211/06—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
- C07D211/36—Heterocyclic compounds containing hydrogenated pyridine rings, not condensed with other rings with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having no double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hetero atoms or with carbon atoms having three bonds to hetero atoms with at the most one bond to halogen, e.g. ester or nitrile radicals, directly attached to ring carbon atoms
- C07D211/40—Oxygen atoms
- C07D211/44—Oxygen atoms attached in position 4
- C07D211/46—Oxygen atoms attached in position 4 having a hydrogen atom as the second substituent in position 4
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
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- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
N−置換1.5−ジデオキシ−1,5−イミノL−フコ
シダーぜの強力な競争的阻害剤であるが、このものは一
連の他のグリコシダーゼに対しては阻害作用を示さない
。市販メチルα−D−グルコtラノシドからの1,5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−L−フシトールの合成は
Fleet 等、J、 Chem、 8oc、 13
% 841 ”842 (1985)によって記述され
ている。ま九このものは米国特許第4.849.430
号明細書記載のようにヒト免疫欠損ウィルス(HIV
)の抑制剤の製造にも有用である。一つのこのよりなH
IM抑制剤は下記の1.5−ジデオキシ−1,5−イミ
ノ−L−フシトールのN−置換誘導体: 本発明iN−置換1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ
−L−7シト一ル誘導体の化学的合成の次めの新規中間
体および方法に関する。
シダーぜの強力な競争的阻害剤であるが、このものは一
連の他のグリコシダーゼに対しては阻害作用を示さない
。市販メチルα−D−グルコtラノシドからの1,5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−L−フシトールの合成は
Fleet 等、J、 Chem、 8oc、 13
% 841 ”842 (1985)によって記述され
ている。ま九このものは米国特許第4.849.430
号明細書記載のようにヒト免疫欠損ウィルス(HIV
)の抑制剤の製造にも有用である。一つのこのよりなH
IM抑制剤は下記の1.5−ジデオキシ−1,5−イミ
ノ−L−フシトールのN−置換誘導体: 本発明iN−置換1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ
−L−7シト一ル誘導体の化学的合成の次めの新規中間
体および方法に関する。
ポリヒドロキシル化tベリジン、1,5−ジデオキシ−
1,5−イミノ−L−フシトールはα−■ (CH2)3CO2Me 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−[N−ω−メチ
ルカプロエート)]−]L−フシトー ルある。
1,5−イミノ−L−フシトールはα−■ (CH2)3CO2Me 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−[N−ω−メチ
ルカプロエート)]−]L−フシトー ルある。
この誘導体はメタノール溶媒の媒質中で1,5−ジデオ
キシ−1,5−イミノ−L−フシトールを6−オキシヘ
キサノエートと反応させることによりつくられる。
キシ−1,5−イミノ−L−フシトールを6−オキシヘ
キサノエートと反応させることによりつくられる。
発明の記述
本発明は、N−置換1,5−ジデオキシ−15−イミノ
−L−フシトール誘導体の化学的合成のための新規中間
体および方法を提供するものである。このような中間体
の特に適当なものは15−ジデオキシ−1,5−イミノ
−3,4−0−イソプロf IJ テンーL−フシトー
ルで、これはHIV抑制剤1,5−ジデオキシ−1,5
−イミノ−〔N−ω−メチルカプロエート〕−L−フシ
トールの製造に使用できる。
−L−フシトール誘導体の化学的合成のための新規中間
体および方法を提供するものである。このような中間体
の特に適当なものは15−ジデオキシ−1,5−イミノ
−3,4−0−イソプロf IJ テンーL−フシトー
ルで、これはHIV抑制剤1,5−ジデオキシ−1,5
−イミノ−〔N−ω−メチルカプロエート〕−L−フシ
トールの製造に使用できる。
拳法は、公知の化合物である2 、3−0−インプロピ
リデン−D−リキソノ−1,4−ラクトンからの短工程
合成あるいは安価な市販糖D−が2クトースからの多段
階合成からなる。
リデン−D−リキソノ−1,4−ラクトンからの短工程
合成あるいは安価な市販糖D−が2クトースからの多段
階合成からなる。
公知の化合物である2 、3−O−イソプロピリデン−
D−リキノノー1.4−ラクトンからの短工程合成法祉
前記ラクトンを未保護c−5wドロキシル基のところで
エステル化し、続いてc−5にアジド基を導入し、ラク
トンを還元してメチルケタールとし、次に接触水素化に
よりアジド基を還元して新規環状第2級アミン1.5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−O−イソプロピ
リデン−L−フシトールを得ることからなる。次に後者
の化合物を接触水素化を伴なって6−オキソヘキサン酸
メチルと反応させることにより新規中間体化合物である
1、5−ジデオキシ−1,5−イミノ−314−O−イ
ソプロピリデン−[N−ω−メチルカプロエート:1−
L−フシトールを得ることができる。イソプロピリデン
保護基を除去すると活性なHIV抑制剤化合物1.5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−[N−ω−メチルカプロ
エート) ]−L−フシトールが得られる。
D−リキノノー1.4−ラクトンからの短工程合成法祉
前記ラクトンを未保護c−5wドロキシル基のところで
エステル化し、続いてc−5にアジド基を導入し、ラク
トンを還元してメチルケタールとし、次に接触水素化に
よりアジド基を還元して新規環状第2級アミン1.5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−O−イソプロピ
リデン−L−フシトールを得ることからなる。次に後者
の化合物を接触水素化を伴なって6−オキソヘキサン酸
メチルと反応させることにより新規中間体化合物である
1、5−ジデオキシ−1,5−イミノ−314−O−イ
ソプロピリデン−[N−ω−メチルカプロエート:1−
L−フシトールを得ることができる。イソプロピリデン
保護基を除去すると活性なHIV抑制剤化合物1.5−
ジデオキシ−1,5−イミノ−[N−ω−メチルカプロ
エート) ]−L−フシトールが得られる。
D−がラクトースからの多段階合成法はD−ガラクトー
スY KOH溶液中で酸化してぎラノース環を開いてD
−リキソン醸カリウムZつ<V、後者の化合物を酸性条
件下でアルコール溶液として72ノース環を閉じること
によりD−リキソノ−1゜4−ラクトンを生成せしめ、
次に脱水剤存在下でケトンとの反応によりC−2および
c−3に保護基を導入することからなる。後者の工程で
ケトンとしてアセトンを使用すると化合物2.3−O−
イソプロピリデン−D−リキソノ−1.4−ラクトンが
得られる。多段階方式におけるこの点から先は上記短工
程合成法の一般的反応段階を含む。
スY KOH溶液中で酸化してぎラノース環を開いてD
−リキソン醸カリウムZつ<V、後者の化合物を酸性条
件下でアルコール溶液として72ノース環を閉じること
によりD−リキソノ−1゜4−ラクトンを生成せしめ、
次に脱水剤存在下でケトンとの反応によりC−2および
c−3に保護基を導入することからなる。後者の工程で
ケトンとしてアセトンを使用すると化合物2.3−O−
イソプロピリデン−D−リキソノ−1.4−ラクトンが
得られる。多段階方式におけるこの点から先は上記短工
程合成法の一般的反応段階を含む。
公知の化合物2.3−0−イソプロピリデン−D−リキ
ソノ−1,4−ラクトンから出発する短工程合成法は下
記の工程: (イ) ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いて
C’−5のところでエステル化してトリフレートエステ
ルを得、次にC−5にアジド基を導入臥(ロ) ラクト
ンをテトラヒドロフラン溶媒の媒質中メチルリチウムを
用いて還元し、そして(/) アジド基を接触水素化
により還元して6員環第2級アミン1,5−ジデオキシ
−1,5−イミノ−3,4−0−インプロピリデン−L
−フシトールを得る からなるのがよい。
ソノ−1,4−ラクトンから出発する短工程合成法は下
記の工程: (イ) ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いて
C’−5のところでエステル化してトリフレートエステ
ルを得、次にC−5にアジド基を導入臥(ロ) ラクト
ンをテトラヒドロフラン溶媒の媒質中メチルリチウムを
用いて還元し、そして(/) アジド基を接触水素化
により還元して6員環第2級アミン1,5−ジデオキシ
−1,5−イミノ−3,4−0−インプロピリデン−L
−フシトールを得る からなるのがよい。
D−ガラクトースから出発する多段階合成法は、(イ)
D−ガラクトースをアルコール性KOH中で酸化して
ピラノース環を開いてD−リキソン酸カリウムを生g−
%!ニジめ、 (ロ) アルコール溶液中でD−リキソン酸カリウムな
EICjガスと反応させることによフフラノース環を閉
環してD−リキソノ−1s4−−yケトンtりくり、 (ハ) ラクトンをケトンおよびCu804と反応させ
ることによ!DC−2とc−5のところに保護基を導入
し、 に) ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いc−
5のところでエステル化してトリフレートエステルを得
、次いでC−5にアジド基を導入し、(ホ) ラクトン
タテトラヒドロンラン溶媒の媒質中メチルリチウムで還
元し、 (ハ) アジド基を接触水素化により還元して六員環第
2級アミンを得、 (ト)第2級アミンを6−オキソヘキサン酸メチルと接
触水素化を伴ない反応させてN−置換誘導体をりくり、 (ハ)醗加水分解により保護基を除去することからなる
のがよい。
D−ガラクトースをアルコール性KOH中で酸化して
ピラノース環を開いてD−リキソン酸カリウムを生g−
%!ニジめ、 (ロ) アルコール溶液中でD−リキソン酸カリウムな
EICjガスと反応させることによフフラノース環を閉
環してD−リキソノ−1s4−−yケトンtりくり、 (ハ) ラクトンをケトンおよびCu804と反応させ
ることによ!DC−2とc−5のところに保護基を導入
し、 に) ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いc−
5のところでエステル化してトリフレートエステルを得
、次いでC−5にアジド基を導入し、(ホ) ラクトン
タテトラヒドロンラン溶媒の媒質中メチルリチウムで還
元し、 (ハ) アジド基を接触水素化により還元して六員環第
2級アミンを得、 (ト)第2級アミンを6−オキソヘキサン酸メチルと接
触水素化を伴ない反応させてN−置換誘導体をりくり、 (ハ)醗加水分解により保護基を除去することからなる
のがよい。
上記多段階合成法の工程(イ)、(→および(ハ)でつ
くられる化合物は公知である。このようにしてD−リキ
ソyllカリウムはHumplett、 Carbo
hyd、 Res。
くられる化合物は公知である。このようにしてD−リキ
ソyllカリウムはHumplett、 Carbo
hyd、 Res。
4.157(1967)により記述され、D−リキソノ
−1,4−ラクトンはThompaonと発し几1,5
−ジデオキシー1,5−イミノ−〔N−ω−メチルカプ
ロエート]−L−フシトールの前記多段階合成法を説明
するものである。
−1,4−ラクトンはThompaonと発し几1,5
−ジデオキシー1,5−イミノ−〔N−ω−メチルカプ
ロエート]−L−フシトールの前記多段階合成法を説明
するものである。
れている。2.3−0−イソプロピリデンで保咳され几
り−リキソノ−1.4−ラクトンはMorgenlie
、 Acta Chem、 8cand、 B
29 。
り−リキソノ−1.4−ラクトンはMorgenlie
、 Acta Chem、 8cand、 B
29 。
367(1975)および8chaffar 、 J、
Res。
Res。
Natl、 Bur、 8tds、 5ect、 A、
65 、507(1961)Kより開示されている
。
65 、507(1961)Kより開示されている
。
下記の反応スキームはD−ガラクトースから出畳
上記反応スキー五において、R1とR2はそれぞれ1か
ら約6炭素原子を有するアルキル基、あるいは連結炭素
と一緒にして考えた場合には5から約8炭素原子を有す
るシクロアルキルである。
ら約6炭素原子を有するアルキル基、あるいは連結炭素
と一緒にして考えた場合には5から約8炭素原子を有す
るシクロアルキルである。
N−置換1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−L−7
シト一ル誘導体の製造中間体である化合物見および2は
新規化合物である。これら中間体は安定な結晶性固体で
あり、大規模で容易に単離、精製できる。
シト一ル誘導体の製造中間体である化合物見および2は
新規化合物である。これら中間体は安定な結晶性固体で
あり、大規模で容易に単離、精製できる。
構造1の特に適当な化合物は1.5−ジデオキシ−1,
5−イミノ−3,4−0−イソプロピリデン−L−フシ
トールである。構造9の特に適当な化合物は1.5−ジ
デオキシ−1,5−イミノ−3s 4−0−イソプロぜ
リデンー(N−ω−メチルカプロエート)−L−フシト
ールである。
5−イミノ−3,4−0−イソプロピリデン−L−フシ
トールである。構造9の特に適当な化合物は1.5−ジ
デオキシ−1,5−イミノ−3s 4−0−イソプロぜ
リデンー(N−ω−メチルカプロエート)−L−フシト
ールである。
N−置換1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−L−フ
シトール誘導体および中間体化合物をつくるために特定
の反応体がここに記述されているが、上記合成に適した
他のこのような反応体も本明細書を読めば当業者にとっ
て明白となろう。これら反応体は上記反応工程の化学量
論を満足させるような割合で使用される。
シトール誘導体および中間体化合物をつくるために特定
の反応体がここに記述されているが、上記合成に適した
他のこのような反応体も本明細書を読めば当業者にとっ
て明白となろう。これら反応体は上記反応工程の化学量
論を満足させるような割合で使用される。
D−ガラクトースをKOH溶液中で酸化してD−リキソ
ン酸カリウA1をりくるには、酸素を使用できるが、約
30から120ポンド/平方インチ(206,85〜8
27.4X103パスカル)の中圧下で空気を用いるの
がよい。水溶液中でKOHな使用できるが、アルコール
性KOHが特によい。約20°から70℃の温度での反
応が適当であり、約35℃が特によい。
ン酸カリウA1をりくるには、酸素を使用できるが、約
30から120ポンド/平方インチ(206,85〜8
27.4X103パスカル)の中圧下で空気を用いるの
がよい。水溶液中でKOHな使用できるが、アルコール
性KOHが特によい。約20°から70℃の温度での反
応が適当であり、約35℃が特によい。
酸性にし几アルコール溶液中でのラクトン2の生成はイ
ソプロピルアルコール(IPA )以外のアルコール、
例エバエタノール、フロパノール、tert−ブタノー
ルなどを使用できる。メタノールは望む生成物、化合物
1のメチルエステル、オルト−エステル(類)およびそ
れらの加溶媒分解生成物の混合物を生ずる傾向があるの
で望ましくない。水が存在しても妨害とならない。この
工程に使用できる他の酸は鉱酸、例えば臭化水素、硫酸
およびリン酸、有機酸、例えばトルエンスルホン酸、シ
ョウノウスルホン酸、トリフルオロ酢駿、クロロ置換酢
酸、ニトロ置換酸などである。イソプロぎルアルコール
のようなプロトン性溶媒と混合したとき酸性条件なりく
シ出丁試薬、例えば塩化アセナル、塩化ホスホリル、臭
化チオニルおよび塩化チオニルも使用できる。約−20
°から15℃の温度での反応が適当であり、約0℃が特
によい。
ソプロピルアルコール(IPA )以外のアルコール、
例エバエタノール、フロパノール、tert−ブタノー
ルなどを使用できる。メタノールは望む生成物、化合物
1のメチルエステル、オルト−エステル(類)およびそ
れらの加溶媒分解生成物の混合物を生ずる傾向があるの
で望ましくない。水が存在しても妨害とならない。この
工程に使用できる他の酸は鉱酸、例えば臭化水素、硫酸
およびリン酸、有機酸、例えばトルエンスルホン酸、シ
ョウノウスルホン酸、トリフルオロ酢駿、クロロ置換酢
酸、ニトロ置換酸などである。イソプロぎルアルコール
のようなプロトン性溶媒と混合したとき酸性条件なりく
シ出丁試薬、例えば塩化アセナル、塩化ホスホリル、臭
化チオニルおよび塩化チオニルも使用できる。約−20
°から15℃の温度での反応が適当であり、約0℃が特
によい。
C−2とC−3への保護基の導入はR1とR2が前記条
件を満足するよりなケトンのジアルキルケタールおよび
ケトンを使用できる。対照ケトン、例えばアセトンが特
によい。非対照ケトンを用いると異性体を生成しうる。
件を満足するよりなケトンのジアルキルケタールおよび
ケトンを使用できる。対照ケトン、例えばアセトンが特
によい。非対照ケトンを用いると異性体を生成しうる。
R1とR2がC1〜6アルキルとカるような保護基を与
える他の適当なケトンは、例えば3−ペンタノン、4−
ヘプタノン、5−ノナノン、6−ウンデカノン、および
7−ドリデカノン(ジへキシルケトン)である。同様に
、C−2およびC’−3における連結炭素とR1および
R2とンー緒にして考え文ときに、C5〜8シクロアル
キル保護基を満足するように1環状ケトン、例エバシク
ロペンタノン、シクロヘプタノン、クロロオクタノン、
およびなるべくはシクロヘキサノンを使用できる。無水
CuSO4より外の脱水剤、例えばモレキュラーシープ
、陽イオン交換樹脂などを使用できる。約45°から6
0℃の温度での反応が一般に適当である。より高沸点の
ケトンに対しては、テトラヒドロフラン(THF )と
いった共溶媒を反応温度維持の助剤として使用できる。
える他の適当なケトンは、例えば3−ペンタノン、4−
ヘプタノン、5−ノナノン、6−ウンデカノン、および
7−ドリデカノン(ジへキシルケトン)である。同様に
、C−2およびC’−3における連結炭素とR1および
R2とンー緒にして考え文ときに、C5〜8シクロアル
キル保護基を満足するように1環状ケトン、例エバシク
ロペンタノン、シクロヘプタノン、クロロオクタノン、
およびなるべくはシクロヘキサノンを使用できる。無水
CuSO4より外の脱水剤、例えばモレキュラーシープ
、陽イオン交換樹脂などを使用できる。約45°から6
0℃の温度での反応が一般に適当である。より高沸点の
ケトンに対しては、テトラヒドロフラン(THF )と
いった共溶媒を反応温度維持の助剤として使用できる。
副生成物である化合物4は再び前の反応段階にかけるこ
とによって化合物3に再循環させることができる。
とによって化合物3に再循環させることができる。
化合物5tつくる友めのエステル化段階においてハ、ト
リフルオロメチルスルホニルアンヒドリド(トリフリッ
クアンヒドリド)が特に適当な求電子試薬であるが、塩
化トシル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化メシルなども
使用できる。ピリジン塩基および塩化メチレン溶媒中の
反応が特に適百であるが、他の塩基、例えばルチジン、
テトラメチルピペリジン、トリエチルアミンナト、およ
び他の溶媒、例えばクロロホルム、テトラヒドロフラン
、エーテル、トルエン、および同様な溶媒あるいは溶媒
混合物も使用できる。約−120゜から−20°0の温
度での反応が適当であり、約−78°から一50℃が特
によい。
リフルオロメチルスルホニルアンヒドリド(トリフリッ
クアンヒドリド)が特に適当な求電子試薬であるが、塩
化トシル、塩化ベンゼンスルホニル、塩化メシルなども
使用できる。ピリジン塩基および塩化メチレン溶媒中の
反応が特に適百であるが、他の塩基、例えばルチジン、
テトラメチルピペリジン、トリエチルアミンナト、およ
び他の溶媒、例えばクロロホルム、テトラヒドロフラン
、エーテル、トルエン、および同様な溶媒あるいは溶媒
混合物も使用できる。約−120゜から−20°0の温
度での反応が適当であり、約−78°から一50℃が特
によい。
化合物6をつくる友めのc−5へのアジド基の導入は、
例示された手順によシ容易かつ安価に行なわれる。別の
アジ化物陽イオンはカリウム、テトラブチルアンモニウ
ム、リチウムなどである。
例示された手順によシ容易かつ安価に行なわれる。別の
アジ化物陽イオンはカリウム、テトラブチルアンモニウ
ム、リチウムなどである。
アジ化トリメチルシリルも使用できる。例示され7j
DMFに代る他の溶媒として双極性非プロトン溶媒、テ
トラメチル尿素、N−メチルピロリジン、ジメチルアセ
トアミド、アセトニトリル、ホス7アーおよびリン酸ト
リアミド類(適当な安全手段を用いて)、DMSOおよ
びテトラメチレンスルホンおよびスルホキシドがある。
DMFに代る他の溶媒として双極性非プロトン溶媒、テ
トラメチル尿素、N−メチルピロリジン、ジメチルアセ
トアミド、アセトニトリル、ホス7アーおよびリン酸ト
リアミド類(適当な安全手段を用いて)、DMSOおよ
びテトラメチレンスルホンおよびスルホキシドがある。
置換反応温度は約−40°から28℃が適当であシ、約
−15°から10℃が特によい。
−15°から10℃が特によい。
ラクトンからメチルケタール7への還元VcFX、、グ
リニヤール試薬、例えば臭化メチルマグネシウム、ヨウ
化メチルマグネシウムなどを使用できるが、メチルリチ
ウムが特によい。特に適当な溶媒はTHF ’″Cある
が、他のもの、例えばジメトキシエタン(DM]lii
) 、グリム類およびジエチルエーテルも適当である
。トルエンなどの芳香族溶媒ならびに反応体が可溶のア
ルカン類も使用でき、また溶媒混合物、例えばエーテル
/シクロヘキサン、THF /ヘキサンおよびエーテル
/トルエンも使用できる。約−120°から一15℃の
温度での反応が適当であり、約−78°から一50℃が
%によい。
リニヤール試薬、例えば臭化メチルマグネシウム、ヨウ
化メチルマグネシウムなどを使用できるが、メチルリチ
ウムが特によい。特に適当な溶媒はTHF ’″Cある
が、他のもの、例えばジメトキシエタン(DM]lii
) 、グリム類およびジエチルエーテルも適当である
。トルエンなどの芳香族溶媒ならびに反応体が可溶のア
ルカン類も使用でき、また溶媒混合物、例えばエーテル
/シクロヘキサン、THF /ヘキサンおよびエーテル
/トルエンも使用できる。約−120°から一15℃の
温度での反応が適当であり、約−78°から一50℃が
%によい。
化合物7から化合物8の合成は還元過程であり、エタノ
ール溶媒中でバ2ジウム黒Z使用し、かつ水素気流に続
いである時間低圧下で水素を用いて行なうのがよい。中
間体として化合物8を用いる化合物9の製造は、約5ボ
ンド/平方インチ14.475X103パスカル)水素
圧でメタノール中Pdtt用いて行なうのがよい。7か
ら9への直接変換はTHF中で行なう。これらに代る溶
媒ハ低級アルコール、’I’FIF、 )ルエンおよ
び酢酸エテルである。溶媒の選択は、生成物、例えば化
合物10におけるエステル交換を調節する必要性により
影響ン受ける。もしメチルエステルZ望むなら、非アル
コール性溶媒かメタノール溶媒を用いる。もしエステル
交換を望むなら、あるいは例えば、後の加水分解工程か
らみて問題とならないなら、低級アルコールteは低級
アルコール混合物を使用できる。他の適当な触媒は5
fi Pd /炭、Pt20、Ni (ラネー)、Pt
/炭、Pt/アルミナ、P(1/アルミナ、およびR
h/炭である。特に適当な反応温度はほぼ室温であるが
、0°から40°が適当である。
ール溶媒中でバ2ジウム黒Z使用し、かつ水素気流に続
いである時間低圧下で水素を用いて行なうのがよい。中
間体として化合物8を用いる化合物9の製造は、約5ボ
ンド/平方インチ14.475X103パスカル)水素
圧でメタノール中Pdtt用いて行なうのがよい。7か
ら9への直接変換はTHF中で行なう。これらに代る溶
媒ハ低級アルコール、’I’FIF、 )ルエンおよ
び酢酸エテルである。溶媒の選択は、生成物、例えば化
合物10におけるエステル交換を調節する必要性により
影響ン受ける。もしメチルエステルZ望むなら、非アル
コール性溶媒かメタノール溶媒を用いる。もしエステル
交換を望むなら、あるいは例えば、後の加水分解工程か
らみて問題とならないなら、低級アルコールteは低級
アルコール混合物を使用できる。他の適当な触媒は5
fi Pd /炭、Pt20、Ni (ラネー)、Pt
/炭、Pt/アルミナ、P(1/アルミナ、およびR
h/炭である。特に適当な反応温度はほぼ室温であるが
、0°から40°が適当である。
下記の詳細な例は本発明を更に詳しく説明するものであ
るが、本発明はこれら特定の例に限定されないことは言
うまでもない。
るが、本発明はこれら特定の例に限定されないことは言
うまでもない。
例 1
ガラクトースからのD−リキソン酸カリウム1の製造
Parrボンベ(1〕)中でメタノール/水(3751
117/1801Flj)の混合物中水酸化カリウム(
41,9,9,65,5ミリモル)およびD−ガラクト
ース(45,0!i、 25.0ミリモル)の迅速にか
きまぜた溶液中に空気’a’60ポンド/平方インチ(
413,7X 103パスカル)の圧力で1001/分
の速さで散布した。この反応中ずつと温度tt35〜3
6℃に保つ穴。24時間(h)通気後、メタノール(5
011!j)y!−加え、通気を計45時間続は友。反
応混合物を冷却し、外気を通し次。ボンベを開放し、淡
黄色混合物を濾過して少量の固体を除去し几。ボンベと
濾過器を水(5プ)でテアぎ、固形分の大部分を溶かし
た。濾液をかきまぜ、メタノール(850PR1)で希
釈した。約500Mのメタノールを加え終った後に結晶
化が起こった。4時間かきまぜた後、結晶を濾集し、真
空乾燥して29.3g(収率57es)のD−リキソン
醗カリウム1を白色固体、DSC融点171.25℃と
シテ得fCo分析、C’、H,O,Kに対する計算値:
C,29,41; H,4,44゜実測値:Cl
28.86 ; E!、 4.16゜この白色固体物
質をそれ以上精製せずに例2で用いた。
117/1801Flj)の混合物中水酸化カリウム(
41,9,9,65,5ミリモル)およびD−ガラクト
ース(45,0!i、 25.0ミリモル)の迅速にか
きまぜた溶液中に空気’a’60ポンド/平方インチ(
413,7X 103パスカル)の圧力で1001/分
の速さで散布した。この反応中ずつと温度tt35〜3
6℃に保つ穴。24時間(h)通気後、メタノール(5
011!j)y!−加え、通気を計45時間続は友。反
応混合物を冷却し、外気を通し次。ボンベを開放し、淡
黄色混合物を濾過して少量の固体を除去し几。ボンベと
濾過器を水(5プ)でテアぎ、固形分の大部分を溶かし
た。濾液をかきまぜ、メタノール(850PR1)で希
釈した。約500Mのメタノールを加え終った後に結晶
化が起こった。4時間かきまぜた後、結晶を濾集し、真
空乾燥して29.3g(収率57es)のD−リキソン
醗カリウム1を白色固体、DSC融点171.25℃と
シテ得fCo分析、C’、H,O,Kに対する計算値:
C,29,41; H,4,44゜実測値:Cl
28.86 ; E!、 4.16゜この白色固体物
質をそれ以上精製せずに例2で用いた。
例 2
D−リキソノ−1,4−ラクトン2の製造水/水浴、機
械かきまぜ機を装置し、水酸化カリウム水溶液な含むト
ラップに通じ几3頚フラスコ(2))へ、(D)−リキ
ソン酸カリウム(177,18!!、 0.87モル)
とインプロパツール(1,2J)Y加え九〇冷却し激し
くかきまぜtこのスラリーへ、I’IClガスを散布’
71−通して温度が40℃を越えない速度で導入した。
械かきまぜ機を装置し、水酸化カリウム水溶液な含むト
ラップに通じ几3頚フラスコ(2))へ、(D)−リキ
ソン酸カリウム(177,18!!、 0.87モル)
とインプロパツール(1,2J)Y加え九〇冷却し激し
くかきまぜtこのスラリーへ、I’IClガスを散布’
71−通して温度が40℃を越えない速度で導入した。
H(J散布を40分続けると、この時間にF((J煙が
アルカリトラップのところで検出されそして内部温度が
下がり始めた。導入を打切り、混合物を徐々に加熱して
還流させfc(注意:混合物が還流温度に近づくとEI
Cjの煙が激しく追出される)。10分間還流後、混合
物を冷却し、減圧下で約250Mの体積まで濃縮した。
アルカリトラップのところで検出されそして内部温度が
下がり始めた。導入を打切り、混合物を徐々に加熱して
還流させfc(注意:混合物が還流温度に近づくとEI
Cjの煙が激しく追出される)。10分間還流後、混合
物を冷却し、減圧下で約250Mの体積まで濃縮した。
残留物を加熱して溶解し、室温までゆっくり冷却すると
その時間中に結晶化が起こつ几。この高度に結晶性の生
成物を濾過し、冷イソプロパツール(75d)で洗浄し
、1時間風乾し、次に一晩真空乾燥して望む化合物29
0.91を得几。母液と洗液を75m1の体積に濃縮し
、結晶化させ、濾過し、上記のように乾燥することによ
り更に9.74#の2を得た。最初の生成物と二番目の
ものとン合わせ100.649のD−リキソノ−1.4
−ラクトン2 (77,6%) : DSC融点112
.51℃〔文献(1)、(2)融点110〜112およ
び114°C〕:分析: C,HeOs K対する計算
値:C!、40.54;a、5.44゜実測値:C94
0,38;J 5.51係。
その時間中に結晶化が起こつ几。この高度に結晶性の生
成物を濾過し、冷イソプロパツール(75d)で洗浄し
、1時間風乾し、次に一晩真空乾燥して望む化合物29
0.91を得几。母液と洗液を75m1の体積に濃縮し
、結晶化させ、濾過し、上記のように乾燥することによ
り更に9.74#の2を得た。最初の生成物と二番目の
ものとン合わせ100.649のD−リキソノ−1.4
−ラクトン2 (77,6%) : DSC融点112
.51℃〔文献(1)、(2)融点110〜112およ
び114°C〕:分析: C,HeOs K対する計算
値:C!、40.54;a、5.44゜実測値:C94
0,38;J 5.51係。
1、 ThompaonおよびWol、from、
J、 Amer、 Chem。
J、 Amer、 Chem。
800.68.1509(1946)−2、l5bel
l、 J、 Re5earch Natl、 Bur。
l、 J、 Re5earch Natl、 Bur。
印憇笠牲ら Lヱ、227(1942)。
例 3
2.3−0−イソプロピリデンー〇−り印ソノ−1,4
−ラクトン3の製造 機械かきまぜ機および還流コンデンサーな具えた3頚M
OrtOnフラスコ(5j)へ、D−リキソノ−1.4
−ラクトン2(85g、0.57モル)、アセトン(3
,4))および無水Cu804 (17011,1,0
7七ル)を加えた。激しくか1!!まぜたこの不均一混
合物を48時間還流し、室温まで冷却し、Ce工、、、
oヶイツウォパッ)”?!−通L−C濾過1、濃縮して
粗製灰色固体117gを得た。この粗製混合物を分取り
ロマトグラフイー(シリカゲル、アセトン/ヘキサン:
20/80から50150)により精製し、四つの7
ラクシヨン(イ)−に)ヲ得り。
−ラクトン3の製造 機械かきまぜ機および還流コンデンサーな具えた3頚M
OrtOnフラスコ(5j)へ、D−リキソノ−1.4
−ラクトン2(85g、0.57モル)、アセトン(3
,4))および無水Cu804 (17011,1,0
7七ル)を加えた。激しくか1!!まぜたこの不均一混
合物を48時間還流し、室温まで冷却し、Ce工、、、
oヶイツウォパッ)”?!−通L−C濾過1、濃縮して
粗製灰色固体117gを得た。この粗製混合物を分取り
ロマトグラフイー(シリカゲル、アセトン/ヘキサン:
20/80から50150)により精製し、四つの7
ラクシヨン(イ)−に)ヲ得り。
(イ)2,3−0−イソプロピリデン−D−リキソノ−
1,417トン3,41.3#(381):融点96〜
97°〔文献(3)% (4)融点88〜93および9
9〜b 算値: at sl、C6; at 6.03゜実測値
:C950,86;ill、 6.41゜(ロ)混合
物3/4 : 9515.10.84g(10n);r
/1混合物3/4:40/60,25.(1(23優)
;に)純粋な3゜5−イソプロピリデン−D−リキソノ
−1.4−ラクドン4,10.7#(10チ):融点1
40〜141℃(酢酸エテル/ヘキサンから再結晶)〔
文献(3) 157〜b タノールでフラッシュすることによ!+11.4.9(
13Is)の2を回収した。別法として、3線粗製反応
混合物をインプロパツールを用いて結晶化させることK
よシ951J:り高い純度で単離できる。ま几、4tt
再び上記反応条件にさら丁ことKより、3と4の混合物
(比75/25)K変換できる。
1,417トン3,41.3#(381):融点96〜
97°〔文献(3)% (4)融点88〜93および9
9〜b 算値: at sl、C6; at 6.03゜実測値
:C950,86;ill、 6.41゜(ロ)混合
物3/4 : 9515.10.84g(10n);r
/1混合物3/4:40/60,25.(1(23優)
;に)純粋な3゜5−イソプロピリデン−D−リキソノ
−1.4−ラクドン4,10.7#(10チ):融点1
40〜141℃(酢酸エテル/ヘキサンから再結晶)〔
文献(3) 157〜b タノールでフラッシュすることによ!+11.4.9(
13Is)の2を回収した。別法として、3線粗製反応
混合物をインプロパツールを用いて結晶化させることK
よシ951J:り高い純度で単離できる。ま几、4tt
再び上記反応条件にさら丁ことKより、3と4の混合物
(比75/25)K変換できる。
3、 Morgenlie 、 Acta Chew
、 8cand、 B 29e367(1975)。
、 8cand、 B 29e367(1975)。
例 4
5−アジド−5−デオキシ−2,3−0−イソプロピリ
デン−D−リキソノ−1,4−ラクトン6の製造 cIIsct雪(125MJ)中2*3−o−イソプロ
ピリデン−D−リキソノ−1,4−ツクトン3(10,
O11,53,2ミリモル)およびtリジン(8,38
II、 8.561+4.106.4ミリモル)の冷
却した(−25℃)溶液へ、注射器を通してトリフリッ
クアンヒドリド(16,5L 9.82d、58.5ミ
リモル)!反応温度が一18℃を越えないような速度で
滴加した。添加終了後、反応物を1.5時間にわたり徐
々KO℃まで加温した。’1’LC!(シリカ、酢酸エ
テル/ヘキサン:1/1)は3が残って−ないことおよ
び単一の新しい生成物(Rf−0,45)の存在を示し
友。反応混合物を氷/水(25014)中に注ぎ、分配
し、水層をCH,C2= (2x 50 ml )で抽
出した。有機層を合わせ、冷惣和CuSO4水溶液<3
×5orttt)、水(50rrLt)、塩水(501
nt)で洗浄し、乾燥しく Mg5O4)、濾過し、濃
縮することKよ)明春−橙色がラス状固体(UfS シ
リカ−0,12、テトラヒドロフラン(THP ) /
^キサン:30/70)を得t0このものはなお溶媒を
含んでい九。粗製トリフレート5をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(ol、y ) (100mA )に溶かし
、氷−水浴で冷却し、アジ化ナトリウム(6,929,
106,4ミリモル)をゆっくり加えた。添加終了後、
冷却浴を取り除き、混合物を室温で2.5時間かきまぜ
た。
デン−D−リキソノ−1,4−ラクトン6の製造 cIIsct雪(125MJ)中2*3−o−イソプロ
ピリデン−D−リキソノ−1,4−ツクトン3(10,
O11,53,2ミリモル)およびtリジン(8,38
II、 8.561+4.106.4ミリモル)の冷
却した(−25℃)溶液へ、注射器を通してトリフリッ
クアンヒドリド(16,5L 9.82d、58.5ミ
リモル)!反応温度が一18℃を越えないような速度で
滴加した。添加終了後、反応物を1.5時間にわたり徐
々KO℃まで加温した。’1’LC!(シリカ、酢酸エ
テル/ヘキサン:1/1)は3が残って−ないことおよ
び単一の新しい生成物(Rf−0,45)の存在を示し
友。反応混合物を氷/水(25014)中に注ぎ、分配
し、水層をCH,C2= (2x 50 ml )で抽
出した。有機層を合わせ、冷惣和CuSO4水溶液<3
×5orttt)、水(50rrLt)、塩水(501
nt)で洗浄し、乾燥しく Mg5O4)、濾過し、濃
縮することKよ)明春−橙色がラス状固体(UfS シ
リカ−0,12、テトラヒドロフラン(THP ) /
^キサン:30/70)を得t0このものはなお溶媒を
含んでい九。粗製トリフレート5をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(ol、y ) (100mA )に溶かし
、氷−水浴で冷却し、アジ化ナトリウム(6,929,
106,4ミリモル)をゆっくり加えた。添加終了後、
冷却浴を取り除き、混合物を室温で2.5時間かきまぜ
た。
DMFを真空下達球蒸留により除去し7iC(31℃1
0.7 mmHg )。受器の球部をドライアイス/ア
セトン浴で冷却して蒸留効率を高めm0得られた濃いペ
ースト状残留物をCH2Cl、 (15Qu ) ic
?!!かし、濾過して無機塩を除去し几。フィルターケ
ーキftCH2CAg (150m )で洗浄し、合わ
せ九iiv真空下で濃縮しt6必!IK応じ、ここに得
られた不完全精製品を化合物7の合成に直接使用できる
。本例においては、この残留物を上記の速球蒸留技fr
(最後の痕跡量のDMFを除去するため)K対して更に
精製し15.5.9の粗製赤色一体ケ得、これをフラッ
シュクロマトグラフィー〔シリカゾル(100g)、酢
酸エテル/ヘキサン:1/1:1により精製して10.
091収率89%)の6を淡黄色固体: (Rft シ
リカ=0.21.THF/へキサン:30/70)、D
sc融点59.7℃として得た。分析: CeHxxN
sO4に対する計算値:C945,07;FI、 5.
20;N、 19.71゜実測値:c、 44.98
;Fl、 5.28 ;Nt 19.28゜例 5 6−アジド−1,6−シデオキシー3.4−0−インプ
ロtリデンーD−リキンーへキソケト−2,5−7ラノ
ース70羨造 窒素の不活性雰囲気下で、THF (1,2)、ナトリ
ウム/ベンゾフェノンから新しく蒸留しtもの)中5−
アジドー5−デオキシ−2,5−O−イソプロピリデン
−D−リキソノ−1.4−ラクトン6(58,IL 0
.27モル)の冷溶液(−78℃)へ、メチルリチウム
(200117、エーテル中1.5M% O”3モル)
を加え九。反応混合物t−78℃で30分間か′@まぜ
、次に水(1,2)中)塩化アンモニウム(71g、1
.33モル) のWtK注<”ことKよシ失活させ穴。
0.7 mmHg )。受器の球部をドライアイス/ア
セトン浴で冷却して蒸留効率を高めm0得られた濃いペ
ースト状残留物をCH2Cl、 (15Qu ) ic
?!!かし、濾過して無機塩を除去し几。フィルターケ
ーキftCH2CAg (150m )で洗浄し、合わ
せ九iiv真空下で濃縮しt6必!IK応じ、ここに得
られた不完全精製品を化合物7の合成に直接使用できる
。本例においては、この残留物を上記の速球蒸留技fr
(最後の痕跡量のDMFを除去するため)K対して更に
精製し15.5.9の粗製赤色一体ケ得、これをフラッ
シュクロマトグラフィー〔シリカゾル(100g)、酢
酸エテル/ヘキサン:1/1:1により精製して10.
091収率89%)の6を淡黄色固体: (Rft シ
リカ=0.21.THF/へキサン:30/70)、D
sc融点59.7℃として得た。分析: CeHxxN
sO4に対する計算値:C945,07;FI、 5.
20;N、 19.71゜実測値:c、 44.98
;Fl、 5.28 ;Nt 19.28゜例 5 6−アジド−1,6−シデオキシー3.4−0−インプ
ロtリデンーD−リキンーへキソケト−2,5−7ラノ
ース70羨造 窒素の不活性雰囲気下で、THF (1,2)、ナトリ
ウム/ベンゾフェノンから新しく蒸留しtもの)中5−
アジドー5−デオキシ−2,5−O−イソプロピリデン
−D−リキソノ−1.4−ラクトン6(58,IL 0
.27モル)の冷溶液(−78℃)へ、メチルリチウム
(200117、エーテル中1.5M% O”3モル)
を加え九。反応混合物t−78℃で30分間か′@まぜ
、次に水(1,2)中)塩化アンモニウム(71g、1
.33モル) のWtK注<”ことKよシ失活させ穴。
層を分け、水層なCH,CLm(2X250R1)で抽
出した。合わせ危有機抽出液を水(1j)で洗浄し、乾
燥しく Mg804)、濾過し、濃縮して60g(収率
97%)の7’e白色結晶性固体、D8C融点86.2
℃として得た。分析: C1)J405N5 K対する
計算値: c、 47.16 us6.41 ; N
、 18.3゜実測値:Ct 47−37;Fis6
.53;N、17.41゜ 例 6 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−〇−イ
ンプロピリデンーL−フシトール8の製造et 無水エタノール(1,7J)中、6−アジド−1,6−
シデオキシー!1.4−O−イソプロピリデン−D−リ
キソ−へキノケト−2,5−フラノース7(30,9#
、0.14モル)の溶液を、パラジウム黒とエタノール
(50ml)とを含むParrボンベ(21)K加えた
。触媒はアルタ下界囲気下にエタノール(50ml)で
あらかじめ濡らし、スラリーとしてボンベに移した。ボ
ンベを封じ、窒素で掃気し、次に水素100IIIe/
分で1.0時間導入してアジドを還元し比。この反応は
穏やかに発熱するので、温度を25〜30℃に保つため
に内部冷却コイルを必要とし次。1時間後導入を打切り
、水素の陽圧(5ポンド/平方インチ)(34,475
X103パスカル)下に反応を24時間保つfe−6P
arrボンベに通気し、窒素で掃気しく3回)、開放し
、触媒を濾別し几。濾液を真空下で濃縮して23.89
(収率911)の8を淡黄色固体として得友。この物
質は普通には粗製の状態で処理するが、クロマトグラフ
ィー〔シリカゲル(6Q Q 9 ) 、MeOH/
CFIC23: 87.92から40/601によ〕?
W製して20.5.9の白色固体: DEC融点184
℃を得ることができる。分析: C,H1フNo3に、
対する計算値:Ct57.76;a。
出した。合わせ危有機抽出液を水(1j)で洗浄し、乾
燥しく Mg804)、濾過し、濃縮して60g(収率
97%)の7’e白色結晶性固体、D8C融点86.2
℃として得た。分析: C1)J405N5 K対する
計算値: c、 47.16 us6.41 ; N
、 18.3゜実測値:Ct 47−37;Fis6
.53;N、17.41゜ 例 6 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−〇−イ
ンプロピリデンーL−フシトール8の製造et 無水エタノール(1,7J)中、6−アジド−1,6−
シデオキシー!1.4−O−イソプロピリデン−D−リ
キソ−へキノケト−2,5−フラノース7(30,9#
、0.14モル)の溶液を、パラジウム黒とエタノール
(50ml)とを含むParrボンベ(21)K加えた
。触媒はアルタ下界囲気下にエタノール(50ml)で
あらかじめ濡らし、スラリーとしてボンベに移した。ボ
ンベを封じ、窒素で掃気し、次に水素100IIIe/
分で1.0時間導入してアジドを還元し比。この反応は
穏やかに発熱するので、温度を25〜30℃に保つため
に内部冷却コイルを必要とし次。1時間後導入を打切り
、水素の陽圧(5ポンド/平方インチ)(34,475
X103パスカル)下に反応を24時間保つfe−6P
arrボンベに通気し、窒素で掃気しく3回)、開放し
、触媒を濾別し几。濾液を真空下で濃縮して23.89
(収率911)の8を淡黄色固体として得友。この物
質は普通には粗製の状態で処理するが、クロマトグラフ
ィー〔シリカゲル(6Q Q 9 ) 、MeOH/
CFIC23: 87.92から40/601によ〕?
W製して20.5.9の白色固体: DEC融点184
℃を得ることができる。分析: C,H1フNo3に、
対する計算値:Ct57.76;a。
9.15 : N、 7.48゜実測値:c、s7.
03;He 9−18 : N t L43,例
7 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−6,4−O−イ
ソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエート)−L
−フシトール9の製造 窒素雰囲気下でParrびん(2,24?)へ、メタノ
ール(2501M、アルデヒドを含まず)中パラジウム
黒(10,5Ii)のスラリーを加え、続いてメタノー
ル(7501d)および6−オキソヘキサン蒙メチル(
14,2L 98.6ミリモル)中15−ジデオキシ
ー1.5−イミノ−3,4−O−イソプロピリデン−L
−フシトール8(15,4g、82.1ミリモル)の溶
液を加える。Parrびんを振盪機上に置き、封じ、窒
素で掃気しく3回)、水素を詰めN(5ボンド/平方イ
ンチ)(、34,475X 10’パスカル)。混合物
を室温で24時間か1!まぜるとこの時間中に理論量の
水素が吸収された。Parrびんに通気し、窒素で掃気
しく3回)、開放し、触媒を濾別した。濾液を真空下で
濃縮して24gの黄色油状物を得、これをクロマトグラ
フィー(シリカゲル、432#。
03;He 9−18 : N t L43,例
7 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−6,4−O−イ
ソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエート)−L
−フシトール9の製造 窒素雰囲気下でParrびん(2,24?)へ、メタノ
ール(2501M、アルデヒドを含まず)中パラジウム
黒(10,5Ii)のスラリーを加え、続いてメタノー
ル(7501d)および6−オキソヘキサン蒙メチル(
14,2L 98.6ミリモル)中15−ジデオキシ
ー1.5−イミノ−3,4−O−イソプロピリデン−L
−フシトール8(15,4g、82.1ミリモル)の溶
液を加える。Parrびんを振盪機上に置き、封じ、窒
素で掃気しく3回)、水素を詰めN(5ボンド/平方イ
ンチ)(、34,475X 10’パスカル)。混合物
を室温で24時間か1!まぜるとこの時間中に理論量の
水素が吸収された。Parrびんに通気し、窒素で掃気
しく3回)、開放し、触媒を濾別した。濾液を真空下で
濃縮して24gの黄色油状物を得、これをクロマトグラ
フィー(シリカゲル、432#。
アセトン/ヘキサン:30/70から50150)によ
り精製した。17.0.9(66%)の9を無色粘稠油
として得几。分析: C1,H,、N0sK対する計算
値: Ce 60.92;Ht 9.28;N、4.
43゜実測値:ct 60.56;H,9,45;N、
4.42゜例 8 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−〇−イ
ンプロぎリデンー(N−ω−メチルカプロエート)−L
−フシトール9の別の製造この別手順は、水素化触媒と
して炭素上5チパラジウムなま几溶媒としてテトラヒド
ロフランを用い几最初の還元的アミノ化生成物8を単離
することなく、7から9を直接つくるものである。アル
♂ン雰囲気下で炭素上5チパラジウム(2,I F)お
よび6−アジド−1,6−シデオキシー3,4−O−イ
ソプロピリデン−D−リキソーヘキソケ)−2,5−フ
ラノース7 (10,0g、0.04モル)を入れたP
arrボンベ(11)へ、乾燥テトラヒドロ7ラン(5
0011u)を加え友。Parrボンベを封じ、窒素で
掃気し、次に水素’に1001M1分で1.0時間通じ
ることによりアジドを還元し次。この反応は穏やかに発
熱するので、温度ン25〜30℃に保り几め内部冷却コ
イルを必要とし次。1時間後、水素導入を打ち切り、反
応を水素の陽圧(60ポンド/平方インチ) (413
,7×103パスカル)下に18時間保った。Parr
ボンベに通気し、真空下K[lテトラヒドロフラン(4
011t)中6−オキソヘキサン酸メチル(7,59、
li’、 0.05モル)ya−導入しfe。ボンベを
窒素で掃気しく3回)、水素で交換しく3回)、次に6
0ボンド/平方インチ(413,7X 10’パスカル
)まで圧入した。混合物を25〜30℃、60ポンド/
平方インチ(413,7X 103パスカル)で24時
間かきまぜ九〇かきまぜを止め、Parrボンベに通気
し、窒素で掃気しく3回)、開放し、触媒を濾別し皮。
り精製した。17.0.9(66%)の9を無色粘稠油
として得几。分析: C1,H,、N0sK対する計算
値: Ce 60.92;Ht 9.28;N、4.
43゜実測値:ct 60.56;H,9,45;N、
4.42゜例 8 1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−〇−イ
ンプロぎリデンー(N−ω−メチルカプロエート)−L
−フシトール9の別の製造この別手順は、水素化触媒と
して炭素上5チパラジウムなま几溶媒としてテトラヒド
ロフランを用い几最初の還元的アミノ化生成物8を単離
することなく、7から9を直接つくるものである。アル
♂ン雰囲気下で炭素上5チパラジウム(2,I F)お
よび6−アジド−1,6−シデオキシー3,4−O−イ
ソプロピリデン−D−リキソーヘキソケ)−2,5−フ
ラノース7 (10,0g、0.04モル)を入れたP
arrボンベ(11)へ、乾燥テトラヒドロ7ラン(5
0011u)を加え友。Parrボンベを封じ、窒素で
掃気し、次に水素’に1001M1分で1.0時間通じ
ることによりアジドを還元し次。この反応は穏やかに発
熱するので、温度ン25〜30℃に保り几め内部冷却コ
イルを必要とし次。1時間後、水素導入を打ち切り、反
応を水素の陽圧(60ポンド/平方インチ) (413
,7×103パスカル)下に18時間保った。Parr
ボンベに通気し、真空下K[lテトラヒドロフラン(4
011t)中6−オキソヘキサン酸メチル(7,59、
li’、 0.05モル)ya−導入しfe。ボンベを
窒素で掃気しく3回)、水素で交換しく3回)、次に6
0ボンド/平方インチ(413,7X 10’パスカル
)まで圧入した。混合物を25〜30℃、60ポンド/
平方インチ(413,7X 103パスカル)で24時
間かきまぜ九〇かきまぜを止め、Parrボンベに通気
し、窒素で掃気しく3回)、開放し、触媒を濾別し皮。
濾液を真空下に濃縮して13.311の9′%:淡黄色
の油として得、このものをクロマトグラフィー〔シリカ
ゲル(250g)、アセトン/ヘキサン:30/70か
ら50150)によル精製した。10.79(収率85
チ)の9’?l−無色粘稠油として得几。このものは例
7で得几物質と同一であった。
の油として得、このものをクロマトグラフィー〔シリカ
ゲル(250g)、アセトン/ヘキサン:30/70か
ら50150)によル精製した。10.79(収率85
チ)の9’?l−無色粘稠油として得几。このものは例
7で得几物質と同一であった。
例 9
1.5−ジデオキシ−1,5−イミノ−(N−ω−メチ
ルカプロエート)L−フシトール」の製造 マグネテツクスターラ−Dean −5tark )ラ
ップ、および還流コンデンサーを装置しt3頚丸底フラ
スコへ、無水メタノール(250111j、窒素雰囲気
下でMgから新しく蒸留)中1.5−ジデオキシー1,
5−イミノ−3,4−0−イソプロピリデン−(N−ω
−メチルカプロエート)−L−フシトール9(44,6
,9,0,14モル)の溶液を加え、続いて冷却し几(
06G)メタノール性HC1溶液(400Rj、無水メ
タノールに0℃で塩化アセチル(12,2g、0.15
モル)yal−加えることにより新しく調製〕を加え友
。この混合物を3時間還流し、次にメタノールをDea
n −5tarktrapの底をあけることにより徐々
に2時間除去し几。必要に応じ、更に無水メタノールを
追加してフラスコ内に約50 Qtji維持し友。TL
C分析(シリカ、クロロホルム/メタノール/水酸化ア
ンモニウム:27/77/3)は加溶媒分解が完全であ
ることを示し友。溶媒を減圧下に除去して42gの10
”k塩酸塩として得、これを次のように中和した。無水
メタノール(200M+4)中粗製アミン塩酸塩の冷却
(0°C)溶液へ、アルイン雰囲気下で、注射器からN
aOCH3(143−0”%0.143モル、メタノー
ル中で新しく調製し次1M溶液)を反応温度が添加中2
℃を起えないような速度で滴下した。混合物を06から
2℃で30分かきまぜ、真空で濃縮した。油状残留物な
エーテル/塩化メチレン1/1(300114)の溶液
と丁りまぜ、次に焼結ガラスロートを通して濾過して無
機塩を除去し友。フラスコとフィルターケーキをエーテ
ル/塩化メチレン1/1(200+11t)で丁すぎ、
合わせた濾液を減圧下で濃縮して黄褐色の油状9Jヲ得
、これtクロマトグラフィー(シリカゾル(60011
)、ca3oH/cucz、 : 10/90から40
/60 )Kより精製し、表題化合物10 29.03
1i(収率75係)ン粘稠淡黄色油状物として得た。こ
のものは放置すると固化した: D8C融点59.5℃
、分析” C14H+asNO5に対する計算値: c
、 55.71 ; H,9,15;N、 5.09゜
実測値:c、56.58;H,9,41;N、5.07
゜例10 前記例1から9で用いた方法と実質的に同様な方法で、
几だし、例3で用い次アセトン当量の代りに他のケトン
を用いることによりイソプロピリデン以外の保護基を用
いて上記合成を行ない、化合物8および9と類似の下記
の代表的中間体化合物tつくる: ケ ト ン 化 合
物3−ペンタノン(ジ 1,5−ジデオキシ−1゜
エチルケトン) 5−イミノ−3、4−0−3−
ペンチリデン−L −フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −3−ペンチリデン− (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル 7−トリデカノン (ジヘキシルケトン) 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −7−ドリデシリデンー L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −7−ドリデシリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル シクロオクタノン 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−5,4−0 一シクロヘキシリデンー シクロオクタノン L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロヘキシリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロオクチリデンー L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロオクチリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル◎ 本開示を読めば、種々な他の例が本発明の主旨と範囲か
ら離れることなく当業者には明白となろう。このような
あらゆる他の例な特許請求の範囲内に包含されるものと
する。
ルカプロエート)L−フシトール」の製造 マグネテツクスターラ−Dean −5tark )ラ
ップ、および還流コンデンサーを装置しt3頚丸底フラ
スコへ、無水メタノール(250111j、窒素雰囲気
下でMgから新しく蒸留)中1.5−ジデオキシー1,
5−イミノ−3,4−0−イソプロピリデン−(N−ω
−メチルカプロエート)−L−フシトール9(44,6
,9,0,14モル)の溶液を加え、続いて冷却し几(
06G)メタノール性HC1溶液(400Rj、無水メ
タノールに0℃で塩化アセチル(12,2g、0.15
モル)yal−加えることにより新しく調製〕を加え友
。この混合物を3時間還流し、次にメタノールをDea
n −5tarktrapの底をあけることにより徐々
に2時間除去し几。必要に応じ、更に無水メタノールを
追加してフラスコ内に約50 Qtji維持し友。TL
C分析(シリカ、クロロホルム/メタノール/水酸化ア
ンモニウム:27/77/3)は加溶媒分解が完全であ
ることを示し友。溶媒を減圧下に除去して42gの10
”k塩酸塩として得、これを次のように中和した。無水
メタノール(200M+4)中粗製アミン塩酸塩の冷却
(0°C)溶液へ、アルイン雰囲気下で、注射器からN
aOCH3(143−0”%0.143モル、メタノー
ル中で新しく調製し次1M溶液)を反応温度が添加中2
℃を起えないような速度で滴下した。混合物を06から
2℃で30分かきまぜ、真空で濃縮した。油状残留物な
エーテル/塩化メチレン1/1(300114)の溶液
と丁りまぜ、次に焼結ガラスロートを通して濾過して無
機塩を除去し友。フラスコとフィルターケーキをエーテ
ル/塩化メチレン1/1(200+11t)で丁すぎ、
合わせた濾液を減圧下で濃縮して黄褐色の油状9Jヲ得
、これtクロマトグラフィー(シリカゾル(60011
)、ca3oH/cucz、 : 10/90から40
/60 )Kより精製し、表題化合物10 29.03
1i(収率75係)ン粘稠淡黄色油状物として得た。こ
のものは放置すると固化した: D8C融点59.5℃
、分析” C14H+asNO5に対する計算値: c
、 55.71 ; H,9,15;N、 5.09゜
実測値:c、56.58;H,9,41;N、5.07
゜例10 前記例1から9で用いた方法と実質的に同様な方法で、
几だし、例3で用い次アセトン当量の代りに他のケトン
を用いることによりイソプロピリデン以外の保護基を用
いて上記合成を行ない、化合物8および9と類似の下記
の代表的中間体化合物tつくる: ケ ト ン 化 合
物3−ペンタノン(ジ 1,5−ジデオキシ−1゜
エチルケトン) 5−イミノ−3、4−0−3−
ペンチリデン−L −フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −3−ペンチリデン− (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル 7−トリデカノン (ジヘキシルケトン) 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −7−ドリデシリデンー L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 −7−ドリデシリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル シクロオクタノン 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−5,4−0 一シクロヘキシリデンー シクロオクタノン L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロヘキシリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロオクチリデンー L−フシトール および 1.5−ジデオキシ−1゜ 5−イミノ−3,4−0 一シクロオクチリデンー (N−ω−メチルカプロ エート)−L−7シトー ル◎ 本開示を読めば、種々な他の例が本発明の主旨と範囲か
ら離れることなく当業者には明白となろう。このような
あらゆる他の例な特許請求の範囲内に包含されるものと
する。
Claims (13)
- (1)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−L−フシトールを2,3−O−
イソプロピリデン−D−リキソノ−1,4−ラクトンか
ら化学的に合成する方法において、前記ラクトンを未保
護C−5ヒドロキシル基のところでエステル化し、続い
てC−5にアジド基を導入し、ラクトンを還元してメチ
ルケタールとし、次に接触水素化によりアジド基を還元
して環状第2級アミン1,5−ジデオキシ−15−イミ
ノ−3,4−O−イソプロピリデン−L−フシトールを
得ることからなる上記方法。 - (2)次の工程: (イ)ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いてC
−5のところでエステル化してトリフレートエステルを
得、次にC−5にアジド基を導入し、(ロ)ラクトンを
テトラヒドロフラン溶媒の媒質中メチルリチウムを用い
て還元し、そして (ハ)アジド基を接触水素化により還元して6員環第2
級アミン1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4
−O−イソプロピリデン−L−フシトールを得る ことからなる特許請求の範囲第1項記載の方法。 - (3)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−L−フシトール。 - (4)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエート
)−L−フシトールの化学的合成法において、特許請求
の範囲第3項記載の化合物を6−オキソヘキサン酸メチ
ルと接触水素化を伴ない反応させることからなる上記方
法。 - (5)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエート
)−L−フシトール。 - (6)特許請求の範囲第5項記載の化合物から酸加水分
解によりイソプロピリデン保護基を除去することからな
る、1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−(N−ω−
メチルカプロエート)−L−フシトールの化学的合成法
。 - (7)D−ガラクト−スから1,5−ジデオキシ−1,
5−イミノ−3,4−O−イソプロピリデン−L−フシ
トールを化学的に合成する方法において、前記D−ガラ
クト−スをKOH溶液中で酸化してピラノース環を開い
てD−リキソン酸カリウムを生成せしめ、後者の化合物
を酸性条件下でアルコール溶液としてフラノース環を閉
環させ、D−リキソノ−1,4−ラクトンをつくり、脱
水剤存在下ケトンと反応させることによりC−2とC−
3に保護基を導入し、未保護C−5ヒドロキシル基をエ
ステル化し、続いてC−5にアジド基を導入し、ラクト
ンをメチルケタールに還元し、次にアジド基を接触水素
化により還元して環状第2級アミン1,5−ジデオキシ
−1,5−イミノ−3,4−O−イソプロピリデン−L
−フシトールを得ることからなる上記方法。 - (8)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−L−フシトールを接触水素化を
伴ない6−オキソヘキサン酸メチルと反応させて1,5
−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−O−イソプロ
ピリデン−(N−ω−メチルカプロエート)−L−フシ
トールをつくるという追加工程を含む特許請求の範囲第
7項記載の方法。 - (9)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4−
O−イソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエート
)−L−フシトールから酸加水分解によりイソプロピリ
デン保護基を除去して1,5−ジデオキシ−1,5−イ
ミノ−(N−ω−メチルカプロエート)−L−フシトー
ルをつくるという追加工程を含む、特許請求の範囲第8
項記載の方法。 - (10)次の工程: (イ)D−ガラクトースをアルコール性KOH中で酸化
してピラノース環を開いてD−リキソン酸カリウムを生
成せしめ、 (ロ)アルコール溶液中でD−リキソン酸カリウムをH
Clガスと反応させることによりフラノース環を閉環し
てD−リキソノ−1,4−ラクトンをつくり、 (ハ)ラクトンをケトンおよびCuSO_4と反応させ
ることによりC−2とC−3のところに保護基を導入し
、 (ニ)ラクトンをトリフリックアンヒドリドを用いC−
5のところでエステル化してトリフレートエステルを得
、次いでC−5にアジド基を導入し、(ホ)ラクトンを
テトラヒドロフラン溶媒の媒質中メチルリチウムで還元
し、 (ヘ)アジド基を接触水素化により還元して六員環第2
級アミンを得、 (ト)第2級アミンを6−オキソヘキサン酸メチルと接
触水素化を伴ない反応させてN−置換誘導体をつくり、 (チ)酸加水分解により保護基を除去する ことからなる、特許請求の範囲第9項記載の方法。 - (11)1,5−ジデオキシ−1,5−イミノ−3,4
−O−イソプロピリデン−(N−ω−メチルカプロエー
ト)−L−フシトールの化学的合成法において、6−ア
ジド−1,6−ジデオキシ−3,4−O−イソプロピリ
デン−D−リキソヘキソケト−2,5−フラノースと6
−オキソヘキサン酸メチルとを反応させ、テトラヒドロ
フラン溶媒の媒質中で接触水素化を行なうことからなる
上記方法。 - (12)構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2はそれぞれ1から約6炭素
原子を有するアルキル基であり、あるいは連結炭素と一
緒にして考えた場合には5から約8炭素原子を有するシ
クロアルキルである)を有する化合物。 - (13)構造: ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中、R_1およびR_2はそれぞれ1から約6炭素
原子を有するアルキル基であり、あるいは連結炭素と一
緒にして考えた場合には5から約8炭素原子を有するシ
クロアルキルである)を有する化合物。
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-
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